KR20090108606A

KR20090108606A - 폴리머 필름

Info

Publication number: KR20090108606A
Application number: KR1020097015578A
Authority: KR
Inventors: 겐지 가토; 가츠시게 하야시; 준 요코야마; 미츠오 미우라; 츠토무 나라
Original assignee: 엠지시 휠시트 가부시키가이샤; 미츠비시 가스 가가쿠 가부시키가이샤
Priority date: 2006-12-28
Filing date: 2007-12-21
Publication date: 2009-10-15
Also published as: TWI417610B; EP2098357A4; CN101622120A; WO2008081953A1; JP5261193B2; EP2098357A1; TW200844573A; KR101441714B1; US20100136287A1; EP2098357B1; JPWO2008081953A1; CN101622120B; US8790766B2

Abstract

본 발명에 의하면, Ra(산술평균조도)가 0.5 ㎛~2.5 ㎛이고, Ry(최대 높이)가 3 ㎛~11 ㎛이며, Rz(십점평균높이)가 3 ㎛~8 ㎛이고, 광선 투과율이 85% 이상인 폴리머 필름을 제공할 수 있다. 본 발명의 바람직한 태양은, 종래에 없는 광확산기능과 휘도 향상, 투과율 등을 동시에 만족할 수 있다. 또한 Sm(요철의 평균간격)이 90 ㎛~160 ㎛이고, 국부산정(局部山頂)의 평균간격(S)이 5 ㎛~15 ㎛인 태양이 바람직하다.

Description

폴리머 필름{Polymer film}

본 발명은 액정디스플레이장치(LCD)를 비롯한 디스플레이 및 광학기기분야에 사용되는 폴리머 필름에 관한 것이다. 더욱 상세하게는 액정디스플레이의 휘도, 콘트라스트 향상에 적합한 필름에 관한 것이다.

종래, 발광 다이오드 등의 점광원, 또는 형광등, 음극관 등의 선상 광원을 사용하여, 숫자나 문자의 표시 또는 면 발광 등을 행하는 표시소자에 있어서, 상기의 점상 또는 선상 광원을, 마치 면광원인 것처럼 투과광을 산란시키는 광확산성 필름이 사용되고 있다.

마찬가지로 플랫 패널 디스플레이(FPD)에 있어서도 표시 성능으로서 휘도 불균일의 개선, 휘도의 향상이 요망되고 있다.

액정디스플레이의 일반적인 백라이트 유닛은, 이면(裏面)에 광확산용 도트가 인쇄된 도광판과, 이 도광판의 한쪽 또는 양쪽에 배치된 광원(냉음극관 등)과, 이 도광판 위에 겹쳐진 광확산 시트와, 이 광확산 시트의 위 또는 위아래에 필요에 따라 렌즈 필름(프리즘 시트) 등이 놓여져 구성되고 있다.

이와 같은 백라이트 유닛에 삽입되는 광확산 시트는, 도광판으로부터의 빛을 균일하게 확산하여, 표시 화면에서 도트가 보이는 것을 방지하거나, 광 손실을 억 제하여 확산광을 액정 패널면으로 균일하게 방출하는 역할을 하는 것이다.

이와 같은 광확산 시트로서는, 종래부터 몇 가지의 것이 제안되어 있다. 예를 들면 일본국 특허공개 평11-337711호 공보에서는 상기 목적을 달성하기 위해, 고(高)광확산제로서, PMMA(폴리메틸메타아크릴레이트), 폴리아크릴로니트릴, 폴리에스테르, 실리콘, 폴리에틸렌, 에폭시, 멜라민·포름알데히드 축합물, 벤조구아나민·포름알데히드 축합물, 벤조구아나민·멜라민·포름알데히드 축합물 등의 유기재료로부터 선택되는 적어도 1종 이상의 재료로 되고, 또한 입자경이 1~20 ㎛인 구형상 또는 진구(眞球)형상의 입자로 되는 확산제를 사용하는 재료를 제안하고 있다.

일본국 특허공개 제2003-107214호 공보에서는, 바인더 수지 및 수지 입자를 함유하고 요철 표면을 갖는 광확산층을 투명 지지체 상에 적층해서 되는 광확산성 시트를 제안하고 있으며, 시트의 전광선 투과율이 70.0% 이상, 헤이즈가 80.0% 이상, 투과의 상(像) 선명도가 21.0% 이상 25.0% 미만인 것을 보고하고 있다.

그러나 일본국 특허공개 평11-337711호 공보, 일본국 특허공개 제2003-107214호 공보에 개시되는 바와 같은 광확산 시트는, 광확산층의 표면으로부터 돌출되는 폴리머 비즈나 무기 미립자가, 그 위에 겹쳐지는 렌즈 필름을 흠집내거나, 충격 등에 의해 광확산층으로부터 탈락하기 쉽기 때문에, 선명도가 불충분하거나, 표시의 품위가 저하되거나, 수율이 나빠 제조비용이 높아지는 등의 문제가 있었다. 또한 광확산기능을 충분한 값으로 하기 위해 헤이즈값을 올리기 위해서는 첨가하는 분산제의 함유량이 커져, 이들 분산제에 의한 빛의 손실도 무시할 수 없었다.

이 때문에 일본국 특허공개 제2002-357706호 공보에서는 상기 과제를 해결하기 위해 엠보스 가공으로 광확산성을 발현하고자 하여, 투명한 합성 수지제의 기재층과, 이 기재층의 표면측에 형성된 광학적 기능층을 구비하고, 이 기재층이 100℃ 이상 180℃ 이하인 유리전이온도의 합성 수지를 포함하며, 추가적으로 기재층의 이면에 엠보스 가공에 의해 미세 요철이 형성되어 있는 광학 시트를 제안하고 있다. 또한 본 제안에서는 이면의 미세 요철을 엠보스 가공에 의해 형성하기 때문에, 미세 요철의 형상, 표면조도 등의 조정이 용이하고 또한 정확하게 행할 수 있어, 도광판 등의 표면으로의 흠집 방지를 위해 효과적인 표면조도나 요철의 형상 등으로 하는 것이 비교적 용이하다 하여, 이면의 표면조도(Rz)로서는 30 이상 60 ㎛ 이하를 추천·장려하고 있다. 그러나 최근의 확산 필름에 요구되는 확산기능과 휘도 향상기능의 요구는 매년 높아지고 있어, 광학적으로 설계되어 구조가 제어된 확산 필름이 필요해, Rz만으로 규정하는 것만으로는 불충분하며, 더 나아가서는 30 ㎛ 이상에서는 지나치게 커 휘도 불균일이 완전히 해소되지 않을 가능성이 있다.

일본국 특허공개 제2002-202508호 공보는, 표측면과 이측면에 확산부가 형성되는 동시에 이 두 확산부 중 어느 한쪽이 엠보스형상으로 형성된 확산 필름을 제안하고 있다. 또한, 종래와 같이 인쇄를 행함으로써 발광 다이오드를 출사(出射)한 광선의 광량 자체를 감소시킬 필요가 없기 때문에, 액정화면의 전체에 걸쳐 조도(照度)를 저하시키는 경우가 없어, 액정화면을 효율적으로 조명하는 것이 가능해진다고 보고하고 있다. 또한, 엠보스 가공으로 제조하기 때문에 광확산 시트의 형성을 비교적 용이하게 할 수 있어, 그 제조비용이 높아지지 않는다고 보고하고 있다.

더 나아가서는 엠보스형상으로 형성하는 경우에는, 그 표면의 조도를 Rz가 5 ㎛ 이상 50 ㎛ 이하로 하면, 보다 현저하게 광선을 확산할 수 있다고 하나, Rz를 규정하는 것만으로는 광확산기능과 휘도 향상, 투과율 등을 동시에 모두 만족시키는 것은 어렵다.

일본국 특허공개 제2003-329812호 공보의 제안은 투명 고분자 필름의 한쪽 면에 광확산층을 가지고, 다른쪽 면에 산술평균조도가 0.5 ㎛ 이하이며 요철의 평균간격(Sm)이 80 ㎛ 이하인 요철면을 형성한 것을 특징으로 하는 것이다. 이와 같은 형상의 요철면은, 투명 고분자 필름에 직접 형성해도 되고, 투명 고분자 필름의 광확산층과는 반대 면에 백코트층을 형성하고, 이 백코트층에 요철면을 형성해도 된다고 보고되어 있다.

이 발명은 상기에서 규정된 엠보스면만으로의 광확산기능으로는 부족하기 때문에, 별도의 광확산층이 필요해, 제조방법이 번잡한 것이나 광 손실, 비용 증가의 문제가 남는다.

일본국 특허공개 제2004-4417호 공보는, 투명기판의 적어도 편면에, 표면에 미세 요철형상이 형성되어 있는 투명 수지층이 설치되어 있는 광확산성 시트에 있어서, 당해 광확산성 시트의 헤이즈값이 30% 이상이고, 중심선 평균 표면조도(Ra: ㎛)와 평균산곡간격(平均山谷間隔)(Sm: ㎛)의 비(Ra/Sm)가 0.005 이하, 또한, 0.1≤Ra≤0.4를 만족하는 것을 특징으로 하는 광확산성 시트를 제안하고 있다. 그러나, 이와 같이 Ra가 작은 요철면에서는 충분한 확산기능이 얻어지지 않아, 일본국 특허공개 제2003-329812호 공보와 동일한 문제를 내포하고 있다.

발명의 개시

이상과 같이, 광확산성 필름으로서 종래 제안되고 있는 것은, 바인더 수지 및 수지 입자를 분산시킨 것으로 표시의 품위가 낮고, 광 손실을 무시할 수 없는 것으로, 요철면에서 광확산기능을 발현하는 엠보스면을 시행한 필름도, 광확산기능과 휘도 향상, 투과율 등을 동시에 만족시키는 것은 아니었다.

본 발명자들은 상기 과제를 해결하기 위해 예의 검토한 결과, Ra(산술평균조도)가 0.5 ㎛~2.5 ㎛이고, Ry(최대 높이)가 3 ㎛~11 ㎛이며, Rz(십점평균높이)가 3 ㎛ 이상~8 ㎛이고, 광선 투과율이 85% 이상인 폴리머 필름이, 종래에 없는 광확산기능과 휘도 향상, 투과율 등을 동시에 만족하는 것을 발견하여 본 발명에 이르렀다. 더 나아가서는 Sm(요철의 평균간격)이 90 ㎛~160 ㎛이고, 국부산정(局部山頂)의 평균간격(S)이 5 ㎛~15 ㎛인 경우는 특히 바람직한 성능을 나타내는 것을 발견하였다. 또한, 본 발명의 폴리머 필름은 용융압출법으로 제조하는 것이 가능하다.

도면의 간단한 설명

도 1은 산술평균조도(Ra)의 산출방법을 나타낸 도면이다.

도 2는 십점평균조도(Rz)의 산출방법을 나타낸 도면이다.

도 3은 요철의 평균간격(Sm)의 산출방법을 나타낸 도면이다.

발명을 실시하기 위한 최선의 형태

이하, 본 발명에 대해 더욱 상세하게 설명한다.

본 발명의 폴리머 필름은, 산술평균조도(Ra)가 0.5 ㎛~2.5 ㎛이다. 본 발명에 있어서 산술평균조도(Ra)의 측정방법은, 이하의 실시예에 기재되어 있다. 본 발명에 있어서 산술평균조도(Ra)의 값은, 바람직하게는 1.0 ㎛~2.0 ㎛이다.

본 발명의 폴리머 필름은, 최대 높이(Ry)가 3 ㎛~11 ㎛이다. 본 발명에 있어서 최대 높이(Ry)의 측정방법은, 이하의 실시예에 기재되어 있다. 본 발명에 있어서 최대 높이(Ry)의 값은, 바람직하게는 5 ㎛~10 ㎛이다.

본 발명의 폴리머 필름은, 십점평균높이(Rz)가 3 ㎛~8 ㎛이다. 본 발명에 있어서 십점평균높이(Rz)의 측정방법은, 이하의 실시예에 기재되어 있다. 본 발명에 있어서 십점평균높이(Rz)의 값은, 바람직하게는 4 ㎛~7 ㎛이다.

본 발명의 폴리머 필름은, 광선 투과율이 85% 이상이다. 본 발명에 있어서 광선 투과율의 측정방법은, 이하의 실시예에 기재되어 있다. 광선 투과율을 85% 이상으로 하면, 빛의 손실이 낮게 억제되어 휘도의 저감이 적어져 바람직하다.

본 발명의 폴리머 필름은, 바람직하게는, 요철의 평균간격(Sm)이 90 ㎛~160㎛이다. 본 발명에 있어서 요철의 평균간격(Sm)의 측정방법은, 이하의 실시예에 기재되어 있다. 보다 바람직한 요철의 평균간격(Sm)의 값은, 100 ㎛~150 ㎛이다.

본 발명의 폴리머 필름은, 바람직하게는, 국부산정의 평균간격(S)이 5 ㎛~15 ㎛이다. 본 발명에 있어서 국부산정의 평균간격(S)의 측정방법은, 이하의 실시예에 기재되어 있다. 보다 바람직한 국부산정의 평균간격(S)의 값은, 7 ㎛~12 ㎛이다.

본 발명의 폴리머 필름은, 바람직하게는, 헤이즈가 50% 이상이다. 본 발명에 있어서 헤이즈의 측정방법은, 이하의 실시예에 기재되어 있다. 헤이즈를 50% 이상으로 하면, 확산효과가 커져 바람직하다.

표면조도가 지나치게 작으면, 광선 투과율은 유지되지만 광확산기능과 휘도 향상효과가 작아져 바람직하지 않은 한편, 표면조도가 지나치게 크면, 미세한 휘도 불균일이 해소되지 않고 남기 때문에 바람직하지 않다. 또한, 표면조도에 대해서는 Rz만으로 규정하는 것은 불충분하고, Ra나 Ry로도 규정하는 것이 바람직하다. 또한, 요철의 간격에 대해서는, 지나치게 크면 요철의 단위 면적당 개수가 작아져, 확산 및 휘도 향상효과가 작아져 바람직하지 않다.

본 발명에 있어서 표면조도를 달성하기 위해서는, 엠보스 가공한 금속제 냉각 롤의 표면조도가 가장 중요하고, 더 나아가서는 롤 속도나 온도로 규정된다.

위상차 필름으로서는, 광투과성이 우수한 필름을 사용할 수 있고, 특별히 한정은 없다. 광투과율이 85% 이상이고 배향 불균일이 적은 필름이 바람직하게 사용된다. 재질로서는, 예를 들면, 폴리카보네이트나 폴리아릴레이트, 폴리설폰, PET, 폴리에틸렌나프탈레이트와 같은 폴리에스테르, 폴리에테르설폰이나 폴리비닐알코올, 폴리에틸렌이나 폴리프로필렌과 같은 폴리올레핀이나 셀룰로오스계 폴리머, 폴리스티렌이나 폴리메틸메타크릴레이트, 폴리염화비닐이나 폴리염화비닐리덴, 폴리아미드나 노르보르넨계 폴리머 등을 사용할 수 있다. 상기 중에서도 폴리카보네이트는 특히 바람직하게 사용된다.

폴리카보네이트의 제조방법은, 비스페놀류와 탄산에스테르 형성 화합물을 사용하는 공지의 방법이다. 예를 들면 비스페놀류와 포스겐의 직접반응(포스겐법), 또는 비스페놀류와 비스아릴카보네이트의 에스테르 교환반응(에스테르 교환법) 등의 방법으로 제조할 수 있다.

상기 비스페놀류로서는, 2,2-비스(4-히드록시페닐)프로판(통칭, 비스페놀 A), 비스(4-히드록시페닐)메탄, 1,1-비스(4-히드록시페닐)에탄; 2,2-비스(4-히드록시페닐)부탄; 2,2-비스(4-히드록시페닐)옥탄; 2,2-비스(4-히드록시페닐)페닐메탄; 2,2-비스(4-히드록시-1-메틸페닐)프로판, 2,2-비스(3-메틸-4-히드록시페닐)프로판, 2,2-비스(3,5-디메틸-4-히드록시페닐)프로판, 비스(4-히드록시페닐)나프틸메탄, 1,1-비스(4-히드록시-t-부틸페닐)프로판, 2,2-비스(4-히드록시-3-브로모페닐)프로판, 2,2-비스(4-히드록시-3,5-테트라메틸페닐)프로판, 2,2-비스(4-히드록시-3-클로로페닐)프로판, 2,2-비스(4-히드록시-3,5-테트라클로로페닐)프로판, 2,2-비스(4-히드록시-3,5-테트라브로모페닐)프로판 등의 비스(히드록시아릴)알칸류, 1,1-비스(4-히드록시페닐)시클로펜탄, 1,1-비스(4-히드록시페닐)시클로헥산(통칭, 비스페놀 Z), 1,1-비스(4-히드록시페닐)-3,5,5-트리메틸시클로헥산 등의 비스(히드록시아릴)시클로알칸류, 비스(4-히드록시페닐)설파이드 등의 비스(히드록시아릴)설파이드류, 비스(4-히드록시페닐)설폰 등의 비스(히드록시아릴)설폰류 등을 들 수 있다.

특히 2,2-비스(4-히드록시페닐)프로판(통칭, 비스페놀 A)이 바람직하다.

한편, 탄산에스테르 형성 화합물로서는, 예를 들면 포스겐, 트리포스겐이나 디페닐카보네이트, 디-p-톨릴카보네이트, 페닐-p-톨릴카보네이트, 디-p-클로로페닐카보네이트, 디나프틸카보네이트 등의 비스아릴카보네이트를 들 수 있다. 이들의 화합물은 2종류 이상 병용하는 것도 가능하다.

또한, 본 발명 목적의 범위 내에서, 트리시클로[5.2.1.02,6]데칸디메탄올, 시클로헥산-1,4-디메탄올, 데칼린-2,6-디메탄올, 노르보르난디메탄올, 펜타시클로펜타데칸디메탄올, 시클로펜탄-1,3-디메탄올, 1,4-부탄디올, 1,6-헥산디올, 스피로글리콜, 이소소르비드, 이소만니드 등을 상기 비스페놀류와 병용하는 것도 가능하다.

본 발명의 폴리머 필름은, 적어도 한 면의 표면에 요철형상의 모양을 가짐으로써 헤이즈 50% 이상의 기능을 갖는 것이 바람직하다. 그 표면형상은 광확산성이 우수한 엠보스 모양, V홈 모양, 이랑형상 모양 등이 바람직하고, 특히 엠보스 모양이 바람직하다. 필름 표면에 요철형상의 모양을 가짐으로써 광선 투과율 및 헤이즈가 상승하여 광확산성능이 우수한 것이 된다.

본 발명의 수지제 필름의 제조방법으로서는, 통상의 용융압출 성형장치를 사용하여 형성할 수 있다. 압출기에서 용융되어 T 다이로부터 나오는 용융수지 필름을, 고무 탄성을 갖는 제1 냉각 롤과 표면을 엠보스 가공한 금속제 제2 냉각 롤로 니핑하여 필름 표면에 요철형상을 부형(賦型)하고, 하류측에 배치한 금속제 제3 냉각 롤과 인취(引取) 롤로 필름을 인취한다.

이하에 실시예를 들어 본 발명을 설명하지만, 본 발명은 이들의 실시예에 조금도 제한되는 것은 아니다. 특성의 평가는 하기와 같다.

(1) 전광선 투과율, 헤이즈

주식회사 무라카미 색채기술연구소제의 헤이즈 미터 HM-150형으로 측정하였다.

(2) 정면 휘도

7 cm×9 cm 사이즈의 백라이트 유닛의 발광면으로부터 30 cm 떨어진 위치에 휘도계(미놀타제 LS-110)를 설치하여, 광원의 정면 휘도를 측정하였다.

6.5 cm×8.5 cm의 크기로 컷팅한 확산 필름을, 요철면을 광원측으로 향하는 방향에서, 백라이트 발광면 상에 장착하고 테이프로 고정한 후, 휘도계로 정면 휘도를 측정하였다.

(3) 필름 표면조도의 측정

측정장치는 주식회사 키엔스제의 초심도 형상 측정현미경 VK-8500을 사용하였다. 측정설정: 대물렌즈×50, 셔터 오토, 게인 오토로 하였다. PITCH는 0.1 ㎛로 측정하였다.

<산술평균조도(Ra)>

산술평균조도는, 조도 곡선에서 그 평균선의 방향으로 기준 길이(1)만큼 뽑아내어, 이 뽑아낸 부분의 평균선 방향에 X축을, X축과 직교하는 방향에 Y축을 잡고, 조도 곡선을 y=f(x)로 나타내었을 때, 다음의 식에 의해 구해지는 값을 마이크로미터(㎛)로 구하였다. Ra의 산출방법을 도면으로 나타내면 도 1과 같이 된다.

<최대 높이(Ry)>

최대 높이는, 조도 곡선에서 그 평균선의 방향으로 기준 길이만큼 뽑아내어, 이 뽑아낸 부분의 산정선(山頂線)과 곡저선(谷底線)의 간격을 조도 곡선과 직교하는 방향으로 측정하고, 이값을 마이크로미터(㎛)로 나타내었다.

<십점평균조도(Rz)>

십점평균조도는, 조도 곡선에서 그 평균선의 방향으로 기준 길이(1)만큼 뽑아내어, 이 뽑아낸 부분의 평균선과 직교하는 방향으로 측정한, 가장 높은 산정에서부터 5번째의 산정까지의 표고(Yp) 절대값의 평균값과, 가장 낮은 곡저에서부터 5번째까지의 곡저의 표고(Yv) 절대값의 평균값의 합을 구해, 이값을 마이크로미터(㎛)로 나타내었다. 즉, Rz는 이하의 식에 의해 구해진다. 또한, Rz의 산출방법을 도면으로 나타내면 도 2와 같이 된다.

Yp1+Yp2+Yp3+Yp4+Yp5: 기준 길이(1)에 대한 뽑아낸 부분의 가장 높은 산정에서부터 5번째까지의 산정의 표고

Yv1+Yv2+Yv3+Yv4+Yv5: 기준 길이(1)에 대한 뽑아낸 부분의 가장 낮은 곡저에서부터 5번째까지의 곡저의 표고

<요철의 평균간격(Sm)>

요철의 평균간격은, 조도 곡선에서 그 평균선의 방향으로 기준 길이(1)만큼 뽑아내어, 이 뽑아낸 부분에 있어서 하나의 산(山) 및 그에 이웃하는 하나의 골짜기(谷)에 대응하는 평균선 길이의 합(이하, 요철의 간격이라고 한다.)을 구하고, 이 다수의 요철의 간격의 산술평균값을 나타내었다. 규격 상은 밀리미터(mm)를 단위로 하고 있으나, 본 기계에서는 대상 범위가 좁기 때문에 마이크로미터(㎛)를 단 위로 하였다. 즉, Sm은 이하의 식에 의해 구해진다. 또한, Sm의 산출방법을 도면으로 나타내면 도 3과 같이 된다.

<국부산정의 평균간격(S)>

국부산정의 평균간격은, 조도 곡선에서 그 평균선의 방향으로 기준 길이만큼 뽑아내어, 이 뽑아낸 부분에 있어서 이웃하는 국부산정간에 대응하는 평균선의 길이(이하, 국부산정의 간격이라고 한다.)를 구하여, 이 다수의 국부산정의 간격의 산술평균값을 나타내었다.

[실시예 1]

폴리카보네이트 수지(미쓰비시 엔지니어링 플라스틱스 주식회사제 유피런 E-2000)의 펠릿을, 열풍건조기를 사용하여 120℃에서 3시간 건조하였다. 이 펠릿을 90 mm 단축(單軸) 압출기와 T 다이에 의해 270℃에서 용융압출하고, 압출된 용융 필름을 직경 220 mm의 실리콘 고무제의 제1 냉각 롤과 표면의 산술평균조도가 2.4 ㎛인 엠보스 가공한 직경 450 mm의 금속제 제2 냉각 롤로 니핑하였다. 다음으로, 엠보스 무늬를 필름 표면에 부형하여 냉각하고, 추가적으로 표면이 경면인 금속제 제3 냉각 롤에 통과시켜, 인취 롤로 인취하면서 두께 130 ㎛의 편면 엠보스 필름을 성형하였다. 이때, 제1 냉각 롤의 온도를 50℃, 제2 냉각 롤의 온도를 130℃, 제3 냉각 롤의 온도를 130℃로 설정하고, 냉각 롤의 속도를 9.9 m/min으로 하였다. 얻 어진 필름의 특성 평가결과를 표 1에 나타내었다. 휘도 측정에 있어서 본 실시예의 폴리카보네이트 수지제 필름을 장착함으로써 휘도는 현저하게 향상되었다.

[실시예 2]

폴리카보네이트 수지(미쓰비시 엔지니어링 플라스틱스 주식회사제 유피런 E-2000)의 펠릿을, 열풍건조기를 사용하여 120℃에서 3시간 건조하였다. 이 펠릿을 90 mm 단축 압출기와 T 다이에 의해 270℃에서 용융압출하고, 압출된 용융 필름을 직경 220 mm의 실리콘 고무제의 제1 냉각 롤과 표면의 산술평균조도가 2.4 ㎛인 엠보스 가공한 직경 450 mm의 금속제 제2 냉각 롤로 니핑하였다. 다음으로, 엠보스 무늬를 필름 표면에 부형하여 냉각하고, 추가적으로 표면이 경면인 금속제 제3 냉각 롤에 통과시켜, 인취 롤로 인취하면서 두께 75 ㎛의 편면 엠보스 필름을 성형하였다. 이때, 제1 냉각 롤의 온도를 60℃, 제2 냉각 롤의 온도를 135℃, 제3 냉각 롤의 온도를 135℃로 설정하고, 냉각 롤의 속도를 17.0 m/min으로 하였다. 얻어진 필름의 특성 평가결과를 표 1에 나타내었다. 휘도 측정에 있어서 본 실시예의 폴리카보네이트 수지제 필름을 장착함으로써 휘도는 현저하게 향상되었다.

[비교예 1]

폴리카보네이트 수지(미쓰비시 엔지니어링 플라스틱스 주식회사제 유피런 E-2000)의 펠릿을, 열풍건조기를 사용하여 120℃에서 3시간 건조하였다. 이 펠릿을 90 mm 단축 압출기와 T 다이에 의해 270℃에서 용융압출하고, 압출된 용융 필름을 직경 220 mm의 실리콘 고무제의 제1 냉각 롤과 표면의 산술평균조도가 0.8 ㎛인 엠보스 가공한 직경 450 mm의 금속제 제2 냉각 롤로 니핑하였다. 다음으로, 엠보스 무늬를 필름 표면에 부형하여 냉각하고, 추가적으로 표면이 경면인 금속제 제3 냉각 롤에 통과시켜, 인취 롤로 인취하면서 두께 130 ㎛의 편면 엠보스 필름을 성형하였다. 이때, 제1 냉각 롤의 온도를 50℃, 제2 냉각 롤의 온도를 130℃, 제3 냉각 롤의 온도를 130℃로 설정하고, 냉각 롤의 속도를 9.9 m/min으로 하였다. 얻어진 필름의 특성 평가결과를 표 1에 나타내었다. 휘도 측정에 있어서 본 비교예의 폴리카보네이트 수지제 필름을 장착함으로써 휘도는 현저하게 향상되지는 않았다.

[비교예 2]

츠츠나카 플라스틱공업사제 폴리카보네이트 필름 ECG100-80을 사용하여, 실시예 1, 2와 동일하게 측정을 행하였다. 얻어진 필름의 특성 평가결과를 표 1에 나타내었다.

[비교예 3]

츠츠나카 플라스틱공업사제 폴리카보네이트 필름 ECG100S를 사용하여, 실시예 1, 2와 동일하게 측정을 행하였다. 얻어진 필름의 특성 평가결과를 표 1에 나타내었다.

Claims

산술평균조도(Ra)가 0.5 ㎛~2.5 ㎛이고, 최대 높이(Ry)가 3 ㎛~11 ㎛이며, 십점평균높이(Rz)가 3 ㎛~8 ㎛이고, 광선 투과율이 85% 이상인 폴리머 필름.
제1항에 있어서,

요철의 평균간격(Sm)이 90 ㎛~160 ㎛이고, 국부산정(局部山頂)의 평균간격(S)이 5 ㎛~15 ㎛인 폴리머 필름.
제1항 또는 제2항에 있어서,

헤이즈가 50% 이상인 폴리머 필름.
제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,

용융압출법으로 만들어지는 폴리머 필름.
제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,

폴리카보네이트 수지를 포함하는 폴리머 필름.