KR20080099404A - 광확산 필름의 제조방법 - Google Patents

Abstract

본 발명은 투명한 기재시트, 상기 기재시트의 일측면에 적층되고 광확산 수지와 수지 내 분산된 광확산 입자로 구성되는 광확산층, 및 상기 기재시트의 타측면에 적층되고 블로킹 방지 수지와 수지 내 분산된 블로킹 방지 입자로 구성되는 블로킹 방지층으로 구성되되, 상기 기재시트는 둘 이상의 상이한 굴절율을 가지는 층으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 광확산 필름의 제조방법을 제공한다.

이를 통해 본 발명의 광확산 필름은 휘도특성이 매우 우수하여 박막트랜지스터 액정디스플레이(TFT-LCD)의 백라이트 유니트의 휘도값을 향상시키는 광학 재료로서 사용될 수 있다.

광확산 필름, 기재시트, 굴절율

Description

광확산 필름의 제조방법{MANUFACTURING METHOD OF LIGHT-DIFFUSING FILM}

도 1은 본 발명 광확산 필름의 단면 모식도이다.

<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명>

1: 광확산 필름 2: 기재시트

3: 광확산층 4: 블로킹 방지층

5: 광확산 수지 6: 블로킹 방지 수지

7: 광확산 입자 8. 블로킹 방지 입자

본 발명은 박막트랜지스터 액정디스플레이(TFT-LCD) 백라이트 유니트(back light unit)용 광확산 필름의 제조방법에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 종래의 광확산 필름의 기재시트에 사용되던 단일 굴절율을 갖는 투명시트를 대체하여 서로 다른 굴절율을 갖는 복합층으로 구성되는 기재시트를 사용하여 빛의 굴절이 최적화 되어 휘도가 향상된 광확산 필름의 제조방법에 관한 것이다.

최근 LCD의 사용분야는 노트북 컴퓨터용 모니터는 물론 데스크탑 컴퓨터용 대형 모니터, TV용 모니터 등으로 확산되고 있는 추세이며, 이러한 LCD의 광원을 만드는 백라이트 유니트의 대화면화 및 고휘도화의 필요성이 증대되고 있다. 한편 백라이트 유니트에서 확산 시트의 역할은 한쪽 측면 또는 후면으로부터의 광원의 빛을 화면전체에 확산시키고, 상기 빛을 굴절시켜 전면 방향으로의 균일한 빛으로 바꾸는 역할을 수행하는 것이다. 상기 백라이트 방식은 디스플레이 소자의 뒷면에 부착된 백라이트 유니트의 광원으로부터 발생되는 빛을 도광판을 통하여 반대편에까지 이르게 하고, 금속 증착판 또는 불투명 백색판과 같은 반사판에 반사시켜 전면으로 광이 출사되도록 하여 디스플레이 화면의 밝기를 향상시키는 간접 조명방식으로서, 상기한 프론트 라이트 방식에서의 문제점을 해소할 수 있는 발광방식이다. 이러한 백라이트 방식에 있어서, 화상의 밝기 증대를 위한 백라이트 유니트 광원 수의 증가는, 곧 소비전력과 발열량의 증대로 이어지므로, 최소의 소비전력으로 최대의 광효율을 구현할 필요가 있으며, 이와 관련한 공지의 기술로서 가장 주목 받고 있는 것은 기재시트의 적어도 일면에 광확산층을 형성시킨 광확산 시트를 제조하여, 광원으로부터 발산된 빛을 액정구동부로 전달하는 방식을 들 수 있다. 따라서 광확산 시트에 있어서 기재시트 표면에 형성시킨 광확산층의 효율적 설계와 그로 인한 기능 향상이 관건이 되어왔다.

그의 일례로서, 일본특허출원 제2002-104820호는 투명 필름의 적어도 일면에, 표면에 미세 요철 형상을 갖는 수지 피막층으로 이루어지는 광확산층이 형성되어 있다. 상기 투명필름은, 측쇄에 치환 및/또는 비치환 이미도 기를 갖는 열가소성 수지와, 측쇄에 치환 및/또는 비치환 페닐기 그리고 니트릴기를 갖는 열가소성 수지를 함유하는 것을 특징으로 한다. 대한민국 특허출원 제1996-38912호는 광 효율성 및 휘도 향상을 위하여 투명 플라스틱 시트 기재상에 유기 입자를 투명한 수지로 형성하는 방식이 개시되어 있다.

그러나 상술한 종래의 기술과 같이, 광확산층에 적용 가능한 수지와 입자의 조합을 변경하는 방법만으로는, 지속적 향상이 요구되는 액정표시장치의 고휘도 및 고차폐성 즉, 향상된 전광선투과율, 높은 헤이즈치 및 고휘도의 달성에는 한계가 있었다.

본 발명은 상술한 문제점을 극복하기 위하여 안출된 것으로, 본 발명의 목적은 종래의 광확산 필름의 기재시트에 사용되던 단일 굴절율을 갖는 투명시트를 대체하여 서로 다른 굴절율을 갖는 복합층으로 구성되는 기재시트를 사용하여 빛의 굴절이 최적화되어 휘도가 향상된 광확산 필름의 제조방법을 제공하는 것이다.

상술한 기술적 과제를 달성하기 위한 본 발명의 광확산 필름의 제조방법은, 투명한 기재시트, 상기 기재시트의 일측면에 적층되고 광확산 수지와 수지 내 분산된 광확산 입자로 구성되는 광확산층 및 상기 기재시트의 타측면에 적층되고 블로킹 방지 수지와 수지 내 분산된 블로킹 방지 입자로 구성되는 블로킹 방지층으로 구성되되, 상기 기재시트는 둘 이상의 상이한 굴절율을 가지는 층으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 광확산 필름을 제공한다.

상기 기재시트의 굴절율은 바람직하게는 1.0 ~ 2.5의 범위를 가진다.

상기 기재시트는 바람직하게는 5개의 상이한 굴절율을 가지는 층으로 이루어질 수 있다.

상기 광확산 입자는 바람직하게는 상기 광확산 입자는 최대 평균입경이 10 ~ 50 ㎛인 단분산 입자이다. 또한 상기 광확산 입자는 상기 최대 평균입경이 10 ~ 50 ㎛인 단분산 입자보다 최대 평균입경이 작은 2종류의 입자를 더 포함할 수 있으며, 이 때 상기 2종류의 입자는 최대 평균입경이 3 ~ 7 ㎛인 입자와 1 ~ 3 ㎛인 입자를 사용할 수 있다.

상기 광확산 수지 또는 블로킹 방지 수지는 바람직하게는 열경화형 수지이며 상기 광확산 입자 또는 블로킹 방지 입자는 아크릴, 폴리우레탄, 폴리염화비닐, 폴 리스티렌, 폴리아크릴로니트릴, 폴리아미드 및 폴리메틸메타아크릴레이트의 군으로부터 선택되는 적어도 하나 이상의 입자이다.

상기 광확산 수지 100 중량부에 대하여 바람직하게는 상기 광확산 입자가 0.1 ~ 1000 중량부가 배합되며, 상기 광확산층의 두께는 0.2 ~ 500㎛를 유지한다.

상기 블로킹 방지 수지 100중량부에 대하여 바람직하게는 상기 블로킹 방지층 입자가 0.01 ~ 500중량부가 배합되며, 상기 블로킹 방지층의 두께는 0.1 ~ 100㎛를 유지한다.

본 명세서에서 사용된 용어에 대해 간단히 설명한다.

용어 "호수면"은 광확산 입자를 포함하는 광확산 층에 있어서 상기 광확산 입자로서 입경이 큰 입자를 사용하는 경우, 습식도포방식으로 광확산층을 형성 시 광확산층에 광확산 입자가 도포되지 않아 평면형상으로 남아있는 부분을 의미한다.

용어 "입경분포"는 전체 입자 중 입경의 크기별로 어떠한 비율로 포함되어 있는가를 의미하는 것으로 콜터사의 입경분포 측정기(LS PARTICLE SIZE ANALYZER)를 통해 측정한다.

용어 "단분산 입자"는 입경분포가 평균입경의 ±20% 내에서 80% 이상 존재하 는 입자를 의미한다.

용어 "반단분산 입자"는 입경분포가 평균입경의 ±30% 내에서 70% 이상 존재하는 입자를 의미한다.

용어 "다분산 입자"는 입경분포가 평균입경의 ±500% 내에서 90% 이상 존재하는 입자를 의미한다

용어 "최대 평균입경"은 입경분포가 평균입경의 100 ~ 500%인 입자의 평균입경을 의미한다.

이하에서 본 발명을 도 1을 참조하여 보다 구체적으로 설명한다.

본 발명은 투명한 기재시트(2), 상기 기재시트의 일측면에 적층되고 광확산 수지(5)와 수지 내 분산된 광확산 입자(7)로 구성되는 광확산층(3) 및 상기 기재시트(2)의 타측면에 적층되고 블로킹 방지 수지(6)와 수지 내 분산된 블로킹 방지 입자(8)로 구성되는 블로킹 방지층(4)으로 구성되되, 상기 기재시트(2)는 둘 이상의 상이한 굴절율을 가지는 층으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 광확산 필름(1)을 제공한다.

먼저 기재시트(2)에 대해 설명한다.

본 발명에서 사용되는 기재시트(2)는 광선을 투과시킬 수 있는 무색투명한 재질이라면 모두 사용가능하며, 바람직하게는 폴리카보네이트, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 에폭시, 폴리에틸렌나프탈레이트 등을 포함하며 더욱 바람직하게는 폴리에틸렌테레프탈레이트가 사용된다.

상기 기재시트(2)는 광투과시 광 손실을 막기 위해, 우수한 광투과도를 가져야하며, 광확산층(3) 및 블로킹 방지층(4)과의 접착력이 우수하여야 한다.

한편, 종래의 기재시트는 투명재질의 굴절율이 단일한 소재를 사용하였다. 이 경우, 기재시트의 굴절율이 동일하므로 빛의 난반사 등이 거의 일어나지 않는 장점이 있는 반면에, 광확산 필름의 휘도를 향상시키는데에는 한계가 있었다.

이에, 본 발명에서는 둘 이상의 상이한 굴절율을 가지는 층들이 적층된 기재시트를 사용하여 광확산 필름의 휘도를 향상시켰다. 다시 말해, 굴절율이 상이한 2 이상의 층으로 이루어지는 기재시트를 구비하고 상기 굴절율이 상이한 각각의 층들을 통상의 방법으로 적층하여 기재시트를 완성하였다. 이를 통해 기재시트의 굴절율을 최적화하여 제조된 광확산 필름의 휘도를 극대화시킨다. 보다 구체적으로 광확산 필름의 광 집광 기능은 액정 디스플레이의 주요구성인 광원 즉 CCFL에서 발생된 광이 확산필름의 확산층의 굴곡에 의해서 광 경로의 변화로 구현된다. 즉, 광확산층을 구성하는 매질의 굴절률과 공기의 굴절률의 차이를 통해 광의 경로는 변화하게 되는데, 광확산층의 절절한 굴곡은 광의 경로는 수직광 해 주는 기능을 한다. 액정 디스플레이의 가장 중요한 정면 광 즉 휘도를 구현하기 위해서 많은 기술이 제시되는 있는데, 본 발명에서는 액정 디스플레이의 휘도 향상을 위해 광확산 필름의 광확산 층의 굴곡면에 이르는 광의 양을 최대화하여 휘도 향상을 달성하였다. 광확산 층의 굴곡면에 이르는 광의 양을 최대화하는 방법으로서 광확산 필름에 사용된 기재필름을 굴절율이 다른 층의 적층을 통한 복층화를 통해 이를 달성할 수 있으며, 이때, 사용가능한 적층방법은 통상의 층간 적층방법을 사용할 수 있다.

한편, 본 발명에서 상기 기재필름은 굴절율이 상이한 2 이상의 투명층으로 구성되면 족하나, 바람직하게는 5개층의 굴절율이 상이한 투명층으로 구획되는 기재필름을 사용할 수 있으며, 더욱 바람직하게는 블로킹 방지층(4)에 가까운 기재필름의 굴절율이 가장 낮고, 그 위로 적층되는 기재필름의 굴절율이 순차적으로 높아지는 형태가 가장 바람직하다. 예를 들어 도 1에 기재된 바와 같이, 블로킹 방지층(4)에 인접하는 기재필름의 굴절율이 2.1 이라면, 2.2, 2.3, 2.4의 굴절율을 가지는 층들이 순차적으로 적층되고 광확산층(3)에 인접하는 부분의 기재필름의 굴절율은 2.5를 가지게 되는 것이다. 한편, 기재필름을 구성하는 각 층의 두께는 전체 기재시트의 두께범위 내에서 적절한 범위로 조절될 수 있다.

본 발명에 사용되는 기재시트를 구성하는 각각의 층의 굴절율은 1.0 ~ 2.5의 굴절율을 가지며, 만일 굴절율이 1.0 미만이면 상용품으로 제조가 불가능하며, 2.5를 초과하여도 상용품으로 제조가 불가능하다.

상기 기재시트(2)의 두께는 특별히 한정되지는 않으나, 10 ~ 500㎛가 바람직하고, 더욱 바람직하게는 75~250㎛이다. 이때, 상기 기재시트(2)의 두께가 10㎛ 미만이면, 광확산층(3)을 형성하는 수지 조성물에 의하여 컬(CURL)이 발생하기 쉬 우며, 상기 기재시트(2)의 두께가 500㎛를 초과하면, 액정표시장치의 휘도가 저하되고, 백라이트 유니트의 두께가 커져서 액정표시장치의 박형화의 요구에 부적합하다.

다음으로 광확산층(3)에 대해 설명한다.

본 발명의 광확산층은(3) 광확산 수지(5) 및 수지 내 분산된 광확산 입자(7)로 구성되어 있다. 먼저 광확산 수지(5)로는 취급 및 입수가 용이한 열경화성 수지를 사용하는 것이 좋다. 상기 열경화성 수지의 일례로는 요소수지, 멜라민 수지, 페놀 수지, 에폭시 수지, 불포화 폴리에스테르 수지, 알키드 수지, 우레탄 수지, 아크릴계 수지, 폴리우레탄, 불소계 수지, 실리콘계 수지 및 폴리아미드이미드로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나를 사용하는 것이 바람직하나 이에 한정되는 것은 아니다. 더욱 바람직하게는 광선을 투과시켜야 하므로 무색 투명한 것이 좋다. 상기 광확산 수지 이외에, 필요에 따라 가소제, 안정화제, 열화 방지제, 분산제, 소포제 또는 발포제가 추가로 배합될 수 있다.

광확산층(3)에 사용되는 광확산 입자(7)는 아크릴 수지, 폴리우레탄, 폴리염화비닐, 폴리스틸렌, 폴리아크릴로니트릴, 폴리아미드 및 폴리메틸메타크릴레이트로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상이 사용되며, 구형 또는 비구형의 형태 모두 사용가능하다. 바람직하게는 상기 광확산 입자(7)가 광확산 시트를 투과하는 광선량을 최대화하기 위해 무색 투명한 것이 좋다.

한편 광확산층(3)의 광학적 기능은 첨가되는 광확산 입자(7)에 의해 형성된 표면의 렌즈 형상 또는 굴곡 형상에 의해 결정되는데, 표면의 렌즈 형상 또는 굴곡 형상을 많이 가질수록 확산 필름의 차폐기능과 확산 기능이 커지게 된다. 이를 위해 비교적 큰 입자만으로 광확산 입자(7)를 구성하는 경우 경우 습식 도포 방식상 확산층에 입자가 도포 되지 않아 호수면이 발생하며 이러한 호수면으로 인해 확산 기능 저하가 발생할 수 있다.

한편 입경 분포가 넓은 다분산 입자를 사용하는 경우에는 상기 호수면을 덮는 효과는 있으나 균일한 표면 구조 및 균일한 확산층 두께를 얻기 어렵다. 특히 후면에 여러개의 램프를 배열하여 발광량을 크게 하여 TV용도로 사용하는 직하형 LAMP 방식에 의한 백라이트 유닛에 있어서 확산 기능의 극대화를 통한 휘도 향상과 램프의 휘선을 지우는 역할에 있어서 호수면으로 인한 굴절 및 산란 없이 직접적으로 통과 된 빛은 휘선을 만들어 빛의 품위를 떨어뜨린다. 표면의 호수면을 최소화하여 표면 렌즈 형상 면적을 크게 함으로써 확산 기능 및 은폐력을 올리는 동시에 그에 따른 휘도 상승 효과를 얻기 위하여 바람직하게는 광확산 입자(7)의 최대 평균입경은 클수록 유리하며 7㎛ 이상, 더욱 바람직하게는 10 ~ 50㎛ 의 단분산 입자인 것이 좋다. 만일 광확산 입자의 최대 평균입경이 50㎛를 초과하면 습식 도포가 어렵고 도포액 분산에도 어려움이 있으며, 7㎛ 미만이면 휘도 상승효과를 유발하기 어렵다. 또한 차폐 기능을 최대화하기 위하여 상기 광확산 입자(7)는 상기 최대평균입경 입자 보다 입경이 작은 2종 이상의 입자를 혼용하는 것도 좋다. 바람직하게는 상기 광확산 수지(5)의 최대 평균입경은 각각 3 ~ 7㎛와 1 ~ 3㎛인 것이 바람직 하다.

본 발명의 광확산층(3)의 광학특성을 제어하여 85 ~ 95%의 전광선 투과율을 갖는 광확산 시트를 제조하기 위해서는, 상기 광확산 수지(5)와 광확산 입자(7)의 비율로 제어할 수 있다. 즉, 광확산층(3)은 상기 광확산 수지(5) 100 중량부에 대하여, 상기 광확산 입자(7) 0.1~1000 중량부가 포함되어 제조되는 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 10~500 중량부이다. 광확산 입자(7)의 양이 0.1중량부 미만이면, 광확산 효과가 저하되는 문제점이 있고, 1000중량부를 초과하면, 광확산층을 형성하는 광확산 수지 조성물의 도포가 곤란한 문제점이 있다.

또한, 본 발명의 광확산 필름(1)은 광확산층(3)의 도포층의 두께를 조절함으로써, 광투과율을 제어할 수 있다. 특히, 85~95%의 전광선 투과율을 갖는 광확산 시트를 제조하기 위해서는, 광확산층(3)의 도포층 두께가 0.2~500㎛가 바람직하고, 더욱 바람직하게는 2~200㎛인 것이 좋다. 만약 도포층의 두께가 0.2㎛ 미만이면, 코팅 시, 필름과의 접착력이 낮아지고, 적층 후 입자의 탈락이 발생하고, 500㎛를 초과하면, 전광선 투과율이 84% 이하가 되어 원하는 확산 시트를 제조할 수 없다.

또한, 본 발명의 광확산 필름(1)은 블로킹 방지 수지(6) 및 블로킹 방지 입자(8)로 이루어진 블로킹 방지층(4)을 구비한다.

블로킹 방지층(4)에 사용될 수 있는 블로킹 방지 수지(6)는 상기 광확산 수지(5)와 동일하게 열경화성 수지를 사용하는 것이 바람직하며, 그의 일례로서, 요 소수지, 멜라민 수지, 페놀 수지, 에폭시 수지, 불포화 폴리에스테르 수지, 알키드 수지, 우레탄 수지, 아크릴계 수지, 폴리우레탄, 불소계 수지, 실리콘계 수지 및 폴리아미드이미드로 이루어지는 군에서 선택된 어느 하나를 사용한다. 또한, 블로킹 방지 수지(6)는 광선을 투과시켜야 하므로 무색투명한 것이 바람직하다.

이외에, 가소제, 안정화제, 열화 방지제, 분산제, 소포제, 발포제 또는 왁스제를 사용할 수 있다.

또한, 블로킹 방지층(4)에 사용되는 블로킹 방지 입자(8) 역시 상기 광확산 입자(7)와 동일한 것으로, 아크릴 수지, 폴리우레탄, 폴리염화비닐, 폴리스틸렌, 폴리아크릴로니트릴, 폴리아미드 및 폴리메틸메타아크릴레이트로 이루어지는 군에서 선택된 어느 하나를 사용하고, 구형의 형태를 띠는 것이 바람직하다. 블로킹 방지 입자(8) 역시 광확산 시트를 투과하는 광선량을 최대화 시키기 위해 무색 투명한 것이 바람직하며, 블로킹 방지 입자(8)의 입경 역시 0.1 ~ 100㎛, 더욱 바람직하게는 1 ~ 50㎛의 범위를 사용한다. 이때, 상기 블로킹 방지 입자(8) 입경이 0.1㎛ 미만이면, 공정 중, 필름 주행성을 저해하는 블로킹 현상이 발생하며, 100㎛를 초과하면, 블로킹 방지층을 형성하는 블로킹 방지 수지 조성물의 코팅이 곤란하고, 블로킹 방지층의 적층 후 입자가 탈락되는 문제가 있다.

이때, 블로킹 방지층(4)에 사용되는 블로킹 방지 입자(8)의 사용량이 블로킹 방지층(4)에 사용되는 블로킹 방지 수지(6) 100 중량부에 대하여, 0.01~500 중량부가 포함되며, 보다 바람직하게는 0.1~100 중량부인 것이 좋다. 이때, 블로킹 방지 입자(8)의 사용량이 0.01중량부 미만이면, 공정 중 필름 주행성을 저해하는 블로킹 현상이 발생하고, 500중량부를 초과하면, 블로킹 방지층(4)을 형성하는 수지 조성물의 코팅이 곤란해진다.

또한, 높은 광투과율 및 블로킹 방지기능을 확보하고, 85~95%의 전광선 투과율을 얻기 위해서, 블로킹 방지층(4)의 도포층 두께를 조절할 수 있는데, 바람직하게는 0.1~100㎛이고, 더욱 바람직하게는 1 ~ 50㎛ 범위이다. 이때, 블로킹 방지층(4)의 두께가 0.1㎛ 미만이면, 코팅 시 기재시트와의 접착력이 낮아지고, 적층 후 입자가 탈락하는 문제점이 있고, 100㎛를 초과하면, 전광선 투과율이 84% 이하로 떨어져 원하는 광확산 시트를 제조할 수 없다.

이하, 본 발명을 실시예에 의하여 상세히 설명한다. 하기 실시예는 본 발명을 예시하는 것일 뿐, 본 발명의 범위가 하기 실시예에 한정되는 것은 아니다.

< 실시예 1>

단계 1: 기재시트의 제조

하기 표 1과 같이, 굴절율이 상이한 폴리에틸렌 재질(도레이새한 주식회사 XG533)의 기재필름 층을 각각 제조한 후 이를 공압출하여 기재시트를 제조하였다.

[표 1]

굴절율	두께(㎛)
1.49(블로킹 방지층에 인접)	40
1.52	40
1.61	40
1.69	40
1.71(광확산층에 인접)	40

단계 2: 광확산층의 형성

제조된 기재시트 중 굴절율이 가장 높은 층에 하기 표 2 조헝으로 이루어진 조성물을 도포한 후, 110℃에서 60초간 건조하여 두께 30㎛의 광확산층을 형성하였다.

[표 2]

	종류	중량%
광확산 수지	애경화학화학: A-811(최대평균입경 6㎛)	20
광확산 입자	소켄케미칼: MX-1500 단분산 평균입경 15㎛) 소켄케미칼: MX-200(최대평균입경 5 ㎛)	20 20
용매	MEK	20
	톨루엔	18.5
경화제	애경화학화학 :DN980S	1.5

단계 3: 블로킹 방지층의 형성

상기 단계 1에서 제조된 광확산층이 도포된 기재시트의 이면에 하기 표 2의 조성으로 이루어진 블로킹 방지층 도포액을 도포한 후, 110℃에서 40초간 건조하여 두께가 5㎛의 블로킹 방지층을 형성하여 최종 광확산 필름을 제조하였다.

[표 3]

	종류	중량%
수지	애경화학 A-811	28
입자	SOKEN MX300	0.5
용매	MEK	70
대전방지제	음이온성 대전방지제	1.5
총량		100

<실시예 2>

굴절율 1.49(두께 : 100㎛) 및 굴절율 1.71(두께 : 100㎛)의 2개층으로 이루어진 기재시트를 사용하는 것을 제외하고는 실시예 1과 동일하게 실시하여 광확산 필름을 제조하였다.

<비교예 1>

굴절률(1.49)이 단일층인 기재필름(두께 : 200㎛)을 사용하는 것을 제외하고는 실시예 1과 동일하게 실시하여 광확산 필름을 제조하였다.

< 실험예 >

상기 실시예 1 ~ 2 및 비교예 1에서 제조된 광확산 필름의 물성을 하기와 같은 방법으로 수행한 후, 그 결과를 표 3에 나타내었다.

1. 전광선 투과율 및 헤이즈값 측정

상기 실시예 1에서 제조된 광확산 필름의 빛 투과능 및 빛 분산능을 검정하기 위하여 하기와 같이 수행하였다. 일본 니폰덴소쿠사의 헤이즈 측정기(AUTOMATIC DIGITAL HAZEMETER)를 사용하여 10cm × 10cm 크기로 샘플링한 광확산 시트 1매를 수직으로 놓고, 수직으로 놓여진 시료의 직각 방향으로 550nm의 파장을 갖는 빛을 투과시켜 나타난 값을 측정하였다. 이때 헤이즈 값은 하기 수학식 1을 이용하여 산출하였다.

Haze(%) = (1- P / TT) * 100

단, P : 직진 광량, TT : 광의 총 투과량 및 IT : 입사 광량을 의미한다.

2. 휘도 측정

상기 제조된 광확산 필름의 휘도를 측정하기 위하여 하기와 같이 수행하였다. 32" 직하형 백라이트 유니트를 이용하여 광확산 필름을 재단하여 광확산판 위에 장착하였다. 그 뒤 탑콘사의 BM-7 측정기를 이용하여 측정각도 0.2도, BM-7과 백라이크 유니트와의 간격을 25cm로하여 백라이트 유니트에 있는 램프13개의 위치와 램프사이의 공간 12개 지점의 휘도를 측정하여 평균치를 나타내었다.

[표 4]

	헤이즈(%)	휘도(㏅/㎡)
실시예 1	88.12	5200
실시예 2	87.32	4900
비교예 1	85.78	4600

표 4에서 알 수 있듯이, 본 발명의 실시예 1 ~ 2의 광확산 필름이 비교예 1의 광확산 필름에 비하여 휘도 값이 우수한 것을 확인할 수 있었다.

본 발명의 광확산 필름은 휘도특성이 매우 우수하여 박막트랜지스터 액정디 스플레이(TFT-LCD)의 백라이트 유니트의 휘도값을 향상시키는 광학 재료로서 사용될 수 있는 화학공업상 매우 유용한 발명이다.

이상에서 본 발명은 기재된 구체 예에 대해서만 상세히 기술되었지만, 본 발명의 기술상 범위 내에서 다양한 변형 및 수정이 가능함은 당업자에게 있어서 명백한 것이며, 이러한 변형 및 수정이 첨부된 특허청구범위에 속함은 당연하다.

Claims (12)

1. 투명한 기재시트; 상기 기재시트의 일측면에 적층되고 광확산 수지와 수지 내 분산된 광확산 입자로 구성되는 광확산층; 및 상기 기재시트의 타측면에 적층되고 블로킹 방지 수지와 수지 내 분산된 블로킹 방지 입자로 구성되는 블로킹 방지층으로 구성되되, 상기 기재시트가 굴절율이 상이한 2 이상의 층으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 광확산 필름의 제조방법.
2. 제1항에 있어서,

   상기 기재필름의 굴절율은 1.0 ~ 2.5의 범위를 가지는 것을 특징으로 하는 상기 광확산 필름의 제조방법.
3. 제1항에 있어서,

   상기 기재시트는 굴절율이 상이한 5개의 층으로 이루어지며, 상기 블로킹 방지층과 인접한 기재시트 층의 굴절율이 가장 낮고 그 위로 적층되는 기재시트 층의 굴절율이 순차적으로 높아지는 것을 특징으로 하는 상기 광확산 필름의 제조방법.
4. 제1항에 있어서,

   상기 광확산 입자는 최대 평균입경이 10 ~ 50 ㎛인 단분산 입자인 것을 특징으로 하는 상기 광확산 필름의 제조방법.
5. 제4항에 있어서,

   상기 광확산 입자보다 작은 평균입경을 가진 적어도 2종의 입자를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 상기 광확산 필름의 제조방법.
6. 제4항에 있어서,

   상기 광확산 입자보다 작은 평균입경을 가진 2종의 입자의 평균입경이 3 ~ 7 ㎛인 입자와 1 ~ 3 ㎛인 것을 특징으로 하는 상기 광확산 필름의 제조방법.
7. 제1항에 있어서,

   상기 광확산 수지 또는 블로킹 방지 수지는 열경화형 수지인 것을 특징으로 하는 상기 광확산 필름의 제조방법.
8. 제1항에 있어서,

   상기 광확산 입자 또는 블로킹 방지 입자가 아크릴, 폴리우레탄, 폴리염화비닐, 폴리스티렌, 폴리아크릴로니트릴, 폴리아미드, 스티렌 및 폴리메틸메타아크릴레이트의 군으로부터 선택되는 적어도 하나 이상인 것을 특징으로 하는 상기 광확산 필름의 제조방법.
9. 제1항에 있어서,

   상기 광확산 수지내 100중량부에 대하여 상기 광확산 입자가 0.1 ~ 1000 중량부가 배합되는 것을 특징으로 하는 상기 광확산 필름의 제조방법.
10. 제1항에 있어서,

    상기 광확산층의 두께는 0.2 ~ 500㎛인것을 특징으로 하는 상기 광확산 필름의 제조방법.
11. 제1항에 있어서,

    상기 블로킹 방지 수지 100중량부에 대하여 상기 블로킹 방지층 입자가 0.01 ~ 500중량부가 배합되는 것을 특징으로 하는 상기 광확산 필름의 제조방법.
12. 제1항에 있어서,

    상기 블로킹 방지층의 두께는 0.1 ~ 100㎛인 것을 특징으로 하는 상기 광확산 필름의 제조방법.

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