KR20090083058A - 시야각 제한 필름의 제조 방법 - Google Patents
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Abstract
본 발명은 시야각 제한 필름의 제조 방법에 관한 것으로, 본 발명의 시야각 제한 필름의 제조 방법은 원하는 패턴이 음각된 니켈 금형을 제조하는 단계, 실리콘 수지를 상기 니켈 금형에 주입하여 마스터 몰드를 제조하는 단계, 상기 마스터 몰드에 자외선 경화 수지를 주입한 후, 경화시켜 요철 패턴이 형성된 필름을 제조하는 단계 및 상기 필름 패턴의 오목부에 블랙 잉크를 주입하는 단계를 포함하여 이루어진다.
본 발명의 시야각 제한 필름의 제조 방법은 그 공정이 단순하고, 생산 효율이 우수하며, 생산 비용이 저렴하다는 장점이 있다.
시야각 제한 필름, 프라이버시 필름.
Description
본 발명은 시야각 제한 필름의 제조 방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 금형을 이용하여 노트북, 휴대폰, ATM 등에 사용되는 시야각 제한 필름을 보다 간편하게 제조할 수 있도록 하는 방법에 관한 것이다.
최근 사생활 보호 및 보안 유지 등의 이유로 노트북, 휴대폰, ATM 등에 시야각 제한 필름을 사용하는 사례가 증가하고 있다. 또한 시야각 제한 필름은 공항의 출입국 심사대, 학교 전산실, 도서관, 구청·동사무소의 무인증명 발급기 등으로 그 적용 분야가 점점 확대되고 있다.
시야각 제한 필름은 프라이버시 필름이라고도 불리며, 각도에 따라 빛의 투과율이 달라지도록 구성되어 있는 필름을 말한다. 일반적으로 시야각 제한 필름의 투과율은 필터 정면에서 가장 높으며, 정면에서 측면으로 갈수록 낮아진다. 따라서 시야각 제한 필름을 모니터에 장착할 경우, 정면에 있는 사용자는 화면에 표시된 정보를 자유롭게 볼 수 있으나, 측면(좌/우 30° 이상)에 있는 사람에게는 어둡고 검은 화면만이 보이므로, 타인에게 정보가 유출되는 것을 방지할 수 있다.
현재 주로 사용되고 있는 시야각 제한 필름은 3M사에서 제조, 판매하는 것으로, 상기 3M사의 시야각 제한 필름은 빛을 흡수하는 검은 물질과 빛을 투과하는 투명 물질을 교대로 적층한 후, 적층한 방향과 수직으로 얇게 절단하는 방법으로 제조되고 있다. 상기 방법에 의해 빛을 투과시키는 투명 물질과 빛을 흡수하는 물질이 일정한 패턴(이하 "흑색 패턴")을 이루며 배열되게 되고, 그 결과 정면에서 입사하는 빛은 투과되지만, 일정한 각도 이상에서 입사되는 빛은 흑색 패턴에서 흡수되어 투과되지 못하게 된다. 따라서, 정면에 있는 사용자에게만 화면에 표시되는 정보가 보이고, 측면에 있는 사람에게는 보이지 않는 시야각 제한의 효과를 가져오게 되는 것이다.
그러나 이러한 종래의 시야각 제한 필름의 제조 방법의 경우, 두 물질을 교대로 코팅해야 하기 때문에 공정이 복잡하고, 제조 비용이 높다는 문제점이 있었다.
이에 본 발명은 보다 간단하고, 편리하며, 생산 비용이 저렴한 시야각 제한 필름의 제조 방법을 제공하고자 한다.
이를 위해 본 발명은 원하는 패턴이 음각된 니켈 금형을 제조하는 단계, 상기 니켈 금형에 실리콘 수지를 주입하여 마스터 몰드를 제조하는 단계, 상기 마스터 몰드에 자외선 경화 수지를 주입한 후, 경화시켜 요철 패턴이 형성된 필름을 제조하는 단계 및 상기 필름의 오목부에 블랙 잉크를 주입하는 단계를 포함하여 이루어지는 시야각 제한 필름의 제조 방법을 제공한다.
이때 상기 니켈 금형의 제조 단계는 유리 기판 상에 구리를 스퍼터링하는 단계, 레지스트 패턴을 형성하는 단계, 상기 레지스트 패턴이 형성되지 않은 부분에 니켈을 도금하는 단계 및 레지스트를 제거하는 단계를 포함하여 이루어지는 것을 그 특징으로 한다.
한편, 상기 레지스트의 패턴을 형성하는 단계는 (i) 구리층 위에 레지스트를 적층하는 단계 (ii) 포토 마스크를 이용하여 상기 적층된 레지스트를 노광하는 단계 (iii) 노광된 레지스트를 현상액으로 현상하여 패턴을 형성하는 단계를 포함하 여 이루어진다.
또한, 본 발명에서 상기 니켈 도금은 무전해 도금으로 이루어지는 것이 바람직하며, 이를 위해 상기 니켈 도금 단계 이전에 니켈 도금을 위한 촉매층을 형성하는 단계를 더 포함할 수 있다. 이때 상기 촉매는 팔라듐 클로라이드, 팔라듐, 백금, 금, 및 루테늄으로 이루어진 군으로부터 1종 이상 선택되는 것이 바람직하다.
한편, 상기 마스터 몰드는 판형 또는 롤형으로 제조되는 것이 바람직하다.
한편, 상기 자외선 경화 수지로는 다관능성 아크릴레이트, 아크릴계 올리고머 또는 아크릴계 고분자 수지를 사용할 수 있으며, 일반적으로 상기 고분자 수지에 UV 개시제를 첨가하여 사용한다.
본 발명에서는 상기 다관능성 아크릴레이트로 디펜타에리트리톨 펜타아크릴레이트, 헥산디올 디아크릴레이트, 펜타에리트리톨 트리아크릴레이트, 비스페놀-A 에폭시 수지의 디아크릴레이트 에스테르 등을 사용할 수 있으며, 아크릴계 올리고머로는 메타아크릴올리고머 등을 사용할 수 있고, 아크릴계 고분자로는 폴리메틸메타크릴레이트, 우레탄아크릴레이트, 에테르아크릴레이트, 에폭시아크릴레이트, 에스테르아크릴레이트 등을 사용할 수 있다.
또한, 상기 UV 개시제로는, 이로써 한정되는 것은 아니지만, 아세토페논, 티옥산톤, 벤조일에테르, 벤질 디메틸 케탈, 벤조페논, 비스아실포스피옥사이드, 알 파-하이드록시케톤 등이 사용될 수 있다.
또한, 상기 블랙 잉크로는 카본블랙계 잉크, 흑연계 잉크, 산화철계 잉크 등의 무기 잉크, 아조계 또는 프탈로시아닌계의 다양한 색상을 가진 안료를 섞어 흑색화한 잉크를 사용하는 것이 바람직하다.
상기와 같은 방법으로 제조되는 본 발명의 시야각 제한 필름은 패턴간 간격 : 패턴 선폭이 1:3 내지 5:1이 되도록 하는 것이 바람직하며, 보다 바람직하게는 1:1 내지 5:1, 가장 바람직하게는 3:1 내지 5:1의 범위에 있도록 제조되는 것이 좋다.
또한, 패턴 높이: 패턴간 간격의 비율은 1:3 내지 2:1, 보다 바람직하게는 1:2 내지 2:1, 가장 바람직하게는 1:1 내지 2:1이 되도록 제조되는 것이 좋다.
본 발명의 시야각 제한 필름 제조 방법은 금형을 이용하기 때문에, 그 공정이 단순하고, 제조 비용이 저렴하다는 장점이 있다. 또한, 레지스트 필름을 이용하여 금형의 패턴을 형성하기 때문에, 정교하고 미세한 패턴 형성이 가능하고, 패턴의 간격이나 높이 조절이 용이하다는 장점이 있다.
이하, 본 발명에 대해 보다 구체적으로 살펴본다. 도 1은 본 발명의 시야각 제한 필름 제조 방법의 공정을 순차적으로 보여주기 위한 도면이다.
도 1에 도시된 바와 같이, 본 발명의 시야각 제한 필름 제조 방법은 크게 (1) 니켈 금형 제조 단계 (2) 마스터 몰드 제조 단계 (3) 필름 제조 단계 (4) 잉크 주입 단계로 이루어진다.
(1) 니켈 금형 제조 단계
본 발명에서 사용되는 니켈 금형은 마스터 몰드를 제조하기 위한 것으로, (i) 유리 기판 상에 구리를 스퍼터링하는 단계 (ii) 레지스트 패턴을 형성하는 단계 (iii) 상기 레지스트 패턴이 형성되지 않은 구리층 상부에 니켈을 도금하는 단계 (iv) 레지스트를 제거하는 단계들을 거쳐 제조된다.
상기 단계들은 볼록부와 오목부가 형성된 요철 패턴의 니켈 금형을 제조하기 위한 것으로, 본 발명에서는 요철 패턴이 형성된 니켈 금형을 이용해 후술할 마스터 몰드를 제조하고, 상기 마스터 몰드를 이용해 필름을 제조함으로써, 니켈 금형에 형성된 패턴이 필름에 전사될 수 있도록 한다. 이에 관한 자세한 내용은 후술하기로 한다.
이하, 니켈 금형의 형성 방법을 보다 구체적으로 살펴보기로 한다.
(i) 스퍼터링 단계
먼저 유리 기판 상에 구리 입자를 스퍼터링하여 구리층을 형성한다. 이는 후술할 촉매층을 형성을 돕기 위한 것으로, 구리층을 형성하지 않고, 그냥 유리 기판을 사용하게 되면, 촉매가 잘 부착되지 않아 니켈 도금이 원활하게 이루어질 수 없게 된다.
한편, 상기 스퍼터링은 당해 기술 분야에 잘 알려져 있는 종래의 방법으로 이루어질 수 있으며, 특별한 제한은 없으나, 2 ~ 5 mtorr 정도의 진공, Ar 분위기에서 2 ~ 10 kW의 전력으로 수행되는 것이 바람직하다.
(ii) 레지스트 패턴 형성 단계
다음으로 상기 구리층 위에 레지스트를 적층한 후에, 노광 및 현상을 통해 레지스트 패턴을 형성한다.
본 발명에서는 원하는 패턴 형성에 사용될 수 있는 한, 당해 기술 분야에서 알려져 있는 어떠한 레지스트도 사용 가능하지만, 특히 건조 필름 레지스트를 사용하는 것이 바람직하다. 건조 필름 레지스트는 코팅 장비를 필요로 하지 않고, 제품에 부착하기만 하면 되기 때문에 대면적 제품의 제조 시에 특히 유용하며, 코팅 시 두께 불균일이 유발될 염려가 적다.
사용되는 레지스트가 액상 레지스트인 경우에는 스핀-온 도포, 스프레이 도포 등 당해 기술 분야에 알려져 있는 방법을 이용하여 기판 상에 적층할 수 있으며, 건조 필름 레지스트인 경우에는 상기 필름 레지스트를 유리 기판 상에 부착하는 방법으로 적층할 수 있다.
상기와 같은 방법으로 구리층 위에 레지스트가 적층되면, 포토리소그라피 공정을 수행하여 레지스트 패턴을 형성한다. 즉, 포토 마스크를 이용하여 레지스트를 선택적으로 노광한 후, 현상액으로 현상하여 레지스트 패턴을 형성한다.
상기와 같은 레지스트 패턴 형성 공정은 당해 기술 분야에 잘 알려져 있으며, 노광 및 현상 조건은 사용되는 레지스트의 종류, 형성하고자 하는 패턴의 형상 등에 따라 달라지지만. 당해 기술 분야의 당업자라면 일상적인 실험 등을 통해 원하는 결과를 얻기 위한 최적 조건을 찾아낼 수 있을 것이다.
한편, 상기 현상액으로는 당해 기술 분야에서 레지스트 현상에 사용되는 일반적인 현상액을 사용할 수 있으며, 이 중에서도 특히 Na2CO3나 KOH과 같은 약알칼리 현상액을 사용하는 것이 바람직하다.
상기 노광 및 현상에 의해 특정 부분에만 레지스트 패턴이 형성되고, 패턴이 형성되지 않은 부분에서는 레지스트가 현상액에 의해 용해되어, 구리층이 드러나게 된다.
(iii) 니켈 도금 단계
다음으로 상기 구리층이 드러난 부분에 니켈을 도금한다.
본 발명의 니켈 도금은 전해 도금 또는 무전해 도금과 같은 당해 기술 분야에서 사용되는 일반적인 도금 방법을 통해 이루어질 수 있으나, 무전해 도금법을 사용하는 것이 보다 바람직하다.
다만, 니켈 도금이 무전해 도금법에 의해 실시될 경우에는 상기 니켈 도금 단계 이전에 촉매층을 형성하는 단계를 더 포함하는 것이 바람직하다. 상기 촉매층은 무전해 도금을 촉진하기 위한 것으로, 촉매를 함유한 촉매 용액에 도금될 기재를 침지시키는 방법으로 형성될 수 있다. 이때 상기 촉매로는 팔라듐 클로라이드, 팔라듐, 백금, 금, 루테늄 등과 같은 금속 촉매가 사용될 수 있다.
한편, 상기한 바와 같이, 촉매 용액에 기재를 침지시켰을 때, 상기 촉매들은 레지스트가 없는 부분, 즉 구리층이 드러난 부분에만 선택적으로 부착되게 되며, 그 결과 촉매층은 레지스트가 없는 부분에만 형성되게 된다.
촉매층 형성이 완료되면, 상기 기재를 도금 용액에 침지시켜 무전해 도금을 수행한다.
(iv) 레지스트 제거 단계
상기와 같은 방법으로 니켈 도금이 완료되면, 레지스트를 제거하고, 그라인딩하여 니켈 금형을 완성한다.
상기 레지스트 제거는 당해 기술 분야에서 일반적으로 사용되는 방법, 예를 들면, KOH 수용액과 같은 강염기 수용액에 침지시키거나, 고온에서 가열하는 등의 방법으로 이루어질 수 있다.
레지스트를 제거한 후에, 니켈 표면을 그라인딩하여 평탄화함으로써, 니켈 금형을 완성한다. 본 발명의 방법으로 제조된 니켈 금형은 오목부와 볼록부가 형성된 요철 패턴을 갖게 된다.
(2) 마스터 몰드 제조 단계
니켈 금형이 완성되면, 상기 니켈 금형에 수지 등을 주입하여 니켈 금형의 패턴의 역상이 음각된 마스터 몰드를 제조한다.
본 발명의 마스터 몰드는 당해 기술 분야에 잘 알려진 종래의 방법, 예를 들면, 상기 니켈 금형에 경화성 수지를 주입한 후, 경화시키는 방법으로 제조될 수 있다.
상기 마스터 몰드 제조 수지로는 실리콘 수지를 사용하는 것이 바람직하다. 마스터 몰드의 재질로 플렉서블한 성질을 갖는 실리콘 수지를 사용할 경우, 마스터 몰드를 판 형태뿐 아니라 롤 형태로 제조할 수도 있다는 장점이 있기 때문이다. 즉, 분리된 마스터 몰드를 딱딱한 플레이트에 부착함으로써 판형 몰드로 제작할 수도 있고, SUS(Stainless Steel) Roll에 감아 Roll 형태의 마스트 몰드로 제작할 수도 있다.
한편, 최종적으로 제조되는 필름의 형태는 마스터 몰드의 형태에 따라 결정된다. 즉 판형 마스터 몰드를 사용할 경우에는 판형 필름이, 롤형 마스터 몰드를 사용할 경우에는 롤형 필름이 제조된다. 따라서, 필요에 따라 적절한 형태의 마스터 몰드를 제조하여 사용하도록 한다.
(3) 필름 제조 단계
다음으로 상기와 같이 제조된 마스터 몰드에 자외선 경화 수지를 주입하고, 경화시킴으로써 필름을 제조한다. 본 발명에서 사용되는 자외선 경화 수지로는 투과성이 우수한 것이 바람직하며, 예를 들면 다관능성 아크릴레이트, 아크릴계 올리고머 또는 아크릴계 고분자 등을 사용할 수 있다.
이때 상기 다관능성 아크릴레이트로 디펜타에리트리톨 펜타아크릴레이트, 헥산디올 디아크릴레이트, 펜타에리트리톨 트리아크릴레이트, 비스페놀-A 에폭시 수지의 디아크릴레이트 에스테르 등을 사용할 수 있으며, 아크릴계 올리고머로는 메타아크릴올리고머 등을 사용할 수 있고, 아크릴계 고분자로는 폴리메틸메타크릴레이트, 우레탄아크릴레이트, 에테르아크릴레이트, 에폭시아크릴레이트, 에스테르아크릴레이트 등을 사용할 수 있다.
다만, 상기 화합물들은 본 발명에서 사용할 수 있는 자외선 경화 수지의 예 로써 기재된 것이며, 상기 기재된 화합물 이외에도 당해 기술 분야에서 사용되는 다양한 경화성 수지가 대체 사용될 수 있다.
한편, 상기 수지에는 아세토페논, 티옥산톤, 벤조일에테르, 벤질 디메틸 케탈, 벤조페논, 비스아실포스피옥사이드, 알파-하이드록시케톤 등의 UV 개시제가 첨가되는 것이 일반적이다.
상기와 같은 방법으로 제조된 필름에는 마스터 몰드의 패턴의 역상, 즉 니켈 금형의 요철 패턴과 동일한 패턴이 형성되게 되며, 이때 상기 패턴의 오목부에는 후술할 블랙 잉크가 주입되어 일정 간격으로 빛을 흡수하는 흑색 패턴이 형성된 시야각 제한 필름이 제조되게 된다.
(4) 잉크 주입 단계
요철 형상의 패턴이 형성된 필름이 제조되면, 상기 필름 패턴의 오목부에 블랙 잉크를 주입하여 흑색 패턴을 형성한다. 이때 상기 블랙 잉크로는 카본블랙계 잉크, 흑연계 잉크, 산화철계 잉크 등의 무기 잉크, 또는 아조계나 프탈로시아닌계의 다양한 색상을 가진 안료를 섞어 흑색화한 잉크를 사용하는 것이 바람직하다.
한편, 블랙 잉크는 당해 기술 분야에서 사용되는 다양한 잉크 주입 방법을 통해 주입될 수 있다. 예를 들면, 블랙 잉크를 필름 상에 도포한 후, 닥터 블레이드로 필름 표면을 긁어내는 등의 방법으로, 볼록부에 묻은 잉크를 제거하고, 잉크 가 오목부로 주입되도록 할 수 있다.
상기와 같은 방법을 통해 원하는 지점에 흑색 패턴이 형성된 시야각 제한 필름을 제조할 수 있다. 도 2에는 본 발명의 방법에 의해 제조된 시야각 제한 필름의 단면이 도시되어 있다.
이때 상기 흑색 패턴의 선폭, 높이, 간격 등에 따라 시야각 제한 필름의 시야각 제한 각도 및 빛의 투과율 등이 달라지게 된다. 보다 구체적으로는 시야각 제한 필름의 투과율은 흑색 패턴 간의 간격(b)과 흑색 패턴의 선폭(a)의 비율에 따라 결정되며, 상기 흑색 패턴 간격 대 흑색 패턴의 선폭의 비율은 1:3(투과율 25%) 이상인 것이 바람직하며, 보다 바람직하게는 1:1(투과율 50%) 이상, 가장 바람직하게는 3:1 (투과율 75%) 이상인 것이 좋다.
한편, 상기 비율이 커짐에 따라 선폭 대비 레지스트의 높이도 같은 비율로 커져야 시야각 제한 효과가 발생한다. 따라서 선폭이 큰 경우, 시야각 제한 효과를 내기 위해서 레지스트의 높이도 같이 높아져야 하기 때문에, 노광/현상시 패턴의 형상이 좋지 못하게 된다. 반대로 선폭이 너무 작은 경우는 노광/현상시에 구리표면과의 접촉 면적이 너무 적어서 제대로 붙어있지 못하고 박리될 위험이 있다. 따라서, 상기 흑색 패턴 간격 대 흑색 패턴의 선폭의 비율은 5:1 이하인 것이 바람직하다.
한편, 시야각 제한 각도는 흑색 패턴의 높이(c)와 패턴 간의 간격(b)의 비율 에 따라 결정되며, 상기 흑색 패턴의 높이(c) 대 패턴 간의 간격(b)의 비율은 1:3 (제한 각도 18.4도)이상인 것이 바람직하며, 보다 바람직하게는 1:2 이상, 가장 바람직하게는 1:1(제한 각도 45도)이상인 것이 좋다. 이때 시야각 제한 각도란 빛의 투과되지 않은 각도를 의미하는 것으로, 제한 각도가 커질수록 사생활 보호 효과가 커지게 된다.
그러나 상기 비율이 2:1을 초과하면 패턴의 높이가 너무 높게 되어 노광/현상시에 수직으로 패턴이 형성되지 않고, 사다리꼴 형태로 패턴이 형성돼 패턴의 하단부의 선폭이 넓어져 원하는 투과율보다 낮아지게 된다. 따라서 상기 흑색 패턴의 높이(c) 대 패턴 간의 간격(b)의 비율은 2:1 이하인 것이 바람직하다.
실시예
유리 기판 상에 구리 입자를 스퍼터링하여 구리층을 형성한 후, 상기 구리층 상부에 건조 필름 레지스트(코오롱사의 네가티브 레지스트)를 적층한다. 포토 마스크를 이용하여 노광한 후, 1% Na2CO3 수용액으로 현상하여, 선폭이 10um이고, 패턴 간격이 30um이며, 높이가 30um인 레지스트 패턴을 형성하였다.
상기 레지스트 패턴이 형성된 기판을 물 1L에 팔라듐 클로라이드를 함유하고 있는 촉매 용액(아토텍의 Aurotech Activator) 200ml와 98% 황산을 50ml 첨가하여 제조된 용액에 상온에서 1~3분간 침지시켜 촉매층을 형성하였다.
그런 다음 상기 기판을 물 1L에 Aurotech HP Nickel M-U 200ml, Aurotech HP Nickel A 100ml, 암모니아 10ml를 첨가하여 제조한 용액으로 이루어진 도금 욕조에 8 분간 침지시켜 니켈 도금을 실시하였다. 그런 다음, 상기 니켈 도금된 기판을 300도로 가열하여 건식 필름 레지스트를 제거하여 니켈 금형을 제조하였다.
다음으로, 상기 니켈 금형에 실리콘 수지(다우코닝사의 Sylgard 184)를 주입한 후, 이를 경화시키고, 니켈 금형으로부터 분리하여 마스터 몰드를 제조하였다.
상기 마스터 몰드에 자외선 경화 수지(Acheson사의 PD-038)를 주입하면서 즉시 UV로 경화시켜 금형 패턴과 동일한 패턴이 형성된 필름을 제조한다.
상기 필름에 블랙 잉크(Seiko사의 1300Balck)를 도포하여 오목부에 블랙 잉크가 충진되도록 하고, 닥터 블레이드로 상기 필름의 표면을 긁어내어 볼록부에 묻어있는 잉크를 제거한다.
상기와 같은 방법에 의하면, 선폭 10um, 간격 30um, 높이 30um인 흑색 패턴의 형성된 시야각 제한 필름을 얻을 수 있으며, 이때 시야각 필름의 정면 방향에서의 투과율은 75%이고, 시야 제한 각도는 +/-45도로 나타났다.
도 1은 본 발명의 시야각 제한 필름의 제조 방법을 보여주는 도면이다.
도 2는 본 발명의 방법으로 제조된 시야각 제한 필름을 보여주는 도면이다.
Claims (16)
- 원하는 패턴이 음각된 니켈 금형을 제조하는 단계;상기 니켈 금형에 실리콘 수지를 주입하여 마스터 몰드를 제조하는 단계;상기 마스터 몰드에 자외선 경화 수지를 주입한 후, 경화시켜 요철 패턴이 형성된 필름을 제조하는 단계; 및상기 필름 패턴의 오목부에 블랙 잉크를 주입하는 단계를 포함하여 이루어지는 시야각 제한 필름의 제조 방법.
- 제1항에 있어서,상기 니켈 금형의 제조 단계는 유리 기판 상에 구리를 스퍼터링하여 구리층을 형성하는 단계;상기 구리층 상부에 레지스트 패턴을 형성하는 단계;레지스트 패턴이 형성되지 않은 부분에 니켈을 도금하는 단계;상기 레지스트를 제거하는 단계를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 시야각 제한 필름의 제조 방법.
- 제2항에 있어서,상기 니켈 도금 단계 이전에 니켈 도금을 위한 촉매층을 형성하는 단계를 더 포함하는 시야각 제한 필름의 제조 방법.
- 제3항에 있어서,상기 촉매는 팔라듐 클로라이드, 팔라듐, 백금, 금 및 루테늄으로 이루어진 군으로부터 1종 이상 선택되는 것을 특징으로 하는 시야각 제한 필름의 제조 방법.
- 제 3항 또는 제4항에 있어서,상기 니켈 도금은 무전해 도금으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 시야각 제한 필름의 제조 방법.
- 제2항에 있어서,상기 레지스트의 패턴을 형성하는 단계는 (i) 구리층 상부에 레지스트를 적층하는 단계;(ii) 포토 마스크를 이용하여 상기 적층된 레지스트를 선택적으로 노광하는 단계;(iii) 상기 노광된 레지스트를 현상액으로 현상하여 패턴을 형성하는 단계를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 시야각 제한 필름의 제조 방법.
- 제1항에 있어서,상기 마스터 몰드는 판형 또는 롤형으로 제조되는 것을 특징으로 하는 시야각 제한 필름의 제조 방법.
- 제1항에 있어서,상기 자외선 경화 수지는 다관능성 아크릴레이트, 아크릴계 올리고머 또는 아크릴계 고분자로 이루어진 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 시야각 제한 필름의 제조 방법.
- 제8항에 있어서,상기 자외선 경화 수지는 UV 개시제를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 시야각 제한 필름의 제조 방법.
- 제1항에 있어서,상기 블랙 잉크는 카본블랙계 잉크, 흑연계 잉크 및 산화철계 잉크를 포함하는 무기 잉크, 아조계 또는 프탈로시아닌계의 안료를 혼합하여 흑색화한 잉크로 이루어진 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 시야각 제한 필름의 제조 방법.
- 제1항에 있어서,상기 시야각 제한 필름의 패턴간 간격 : 패턴 선폭의 비율이 1:3 내지 5:1 이 되도록 하는 것을 특징으로 하는 시야각 제한 필름의 제조 방법.
- 제1항에 있어서,상기 시야각 제한 필름의 패턴간 간격 : 패턴 선폭의 비율이 1:1 내지 5:1 이 되도록 하는 것을 특징으로 하는 시야각 제한 필름의 제조 방법.
- 제1항에 있어서,상기 시야각 제한 필름의 패턴간 간격 : 패턴 선폭의 비율이 3:1 내지 5:1 이 되도록 하는 것을 특징으로 하는 시야각 제한 필름의 제조 방법.
- 제1항에 있어서,상기 시야각 제한 필름의 패턴 높이 : 패턴간 간격의 비율이 1:3 내지 2:1이 되도록 하는 것을 특징으로 하는 시야각 제한 필름의 제조 방법.
- 제1항에 있어서,상기 시야각 제한 필름의 패턴 높이 : 패턴간 간격의 비율이 1:2 내지 2:1이 되도록 하는 것을 특징으로 하는 시야각 제한 필름의 제조 방법.
- 제1항에 있어서,상기 시야각 제한 필름의 패턴 높이 : 패턴간 간격의 비율이 1:1 내지 2:1이 되도록 하는 것을 특징으로 하는 시야각 제한 필름의 제조 방법.
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