KR20090098061A - 시야각 제한 필름의 제조 방법 - Google Patents

시야각 제한 필름의 제조 방법 Download PDF

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이순열
황인석
이승헌
전상기
성지현
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주식회사 엘지화학
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Abstract

본 발명은 유리 기판 상에 레지스트 패턴을 형성하는 단계, 상기 레지스트 패턴의 표면을 소수화 처리하는 단계, 상기 레지스트 패턴이 음각된 마스터 몰드를 제조하는 단계, 상기 마스터 몰드를 이용하여 요철 패턴이 형성된 필름을 제조하는 단계 및 상기 요철 패턴의 오목부에 블랙 잉크를 주입하는 단계를 포함하여 이루어지는 시야각 제한 필름의 제조 방법을 제공한다.
본 발명의 시야각 제한 필름 제조 방법은 그 공정이 단순하고, 생산 효율이 우수하며, 제조 비용이 저렴하다는 장점이 있다.
시야각 제한 필름, 프라이버시 필름

Description

시야각 제한 필름의 제조 방법{Method For Making Privacy Film}
본 발명은 시야각 제한 필름의 제조 방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 노트북, 휴대폰, ATM 등에 사용되는 시야각 제한 필름을 보다 간편하고, 효율적으로 제조할 수 있도록 하는 방법에 관한 것이다.
최근 사생활 보호 및 보안 유지 등의 이유로 노트북, 휴대폰, ATM 등에 시야각 제한 필름을 사용하는 사례가 증가하고 있다 또한 시야각 제한 필름은 공항의 출입국 심사대, 학교 전산실, 도서관, 구청·동사무소의 무인증명 발급기 등으로 그 적용 분야가 점점 확대되고 있다.
시야각 제한 필름은 프라이버시 필름이라고도 불리며, 각도에 따라 빛의 투과율이 달라지도록 구성되어 있는 필름을 말한다. 일반적으로 시야각 제한 필름의 투과율은 필터 정면에서 가장 높으며, 정면에서 측면으로 갈수록 낮아진다. 따라서 시야각 제한 필름을 모니터에 장착할 경우, 정면에 있는 사용자는 화면에 표시된 정보를 자유롭게 볼 수 있으나, 측면(좌/우 30° 이상)에 있는 사람에게는 어둡고 검은 화면만 보이게 되어, 타인에게 정보가 유출되는 것을 방지할 수 있다.
현재 주로 사용되고 있는 시야각 제한 필름은 3M사에서 제조, 판매하는 것으로, 상기 3M사의 시야각 제한 필름은 빛을 흡수하는 검은 물질과 빛을 투과하는 투명 물질을 교대로 적층한 후, 상기 적층 방향과 수직 방향으로 얇게 절단하는 방법으로 제조되고 있다. 상기 방법에 의해 빛을 투과시키는 투명 물질과 빛을 흡수하는 물질(이하 "흑색 패턴")이 일정한 패턴을 이루며 배열되게 되고, 그 결과 정면에서 입사하는 빛은 투과되지만, 일정한 각도 이상의 각도로 입사되는 빛은 흑색 패턴에 흡수되어 투과되지 못하게 된다. 따라서, 정면에 있는 사용자에게만 화면에 표시되는 정보가 보이고, 측면에 있는 사람에게는 보이지 않는 시야각 제한 효과를 가져오게 되는 것이다.
그러나 이러한 종래의 시야각 제한 필름의 제조 방법의 경우, 두 물질을 교대로 코팅해야 하기 때문에 공정이 복잡하고, 제조 비용이 높다는 문제점이 있었다.
이에 본 발명은 보다 간단하고 편리하며, 생산 비용이 저렴한 시야각 제한 필름의 제조 방법을 제공하는 것을 그 목적으로 한다.
이를 위해 본 발명은 유리 기판 상에 레지스트 패턴을 형성하는 단계, 상기 레지스트 패턴의 표면을 소수화 처리하는 단계, 상기 레지스트 패턴이 음각된 마스터 몰드를 제조하는 단계, 상기 마스터 몰드를 이용하여 요철 패턴이 형성된 필름을 제조하는 단계 및 상기 요철 패턴의 오목부에 블랙 잉크를 주입하는 단계를 포함하여 이루어지는 시야각 제한 필름의 제조 방법을 제공한다.
이때 상기 소수화 처리는 레지스트 표면을 소수성 고분자으로 코팅함으로써 이루어질 수 있으며, 본 발명에서 사용 가능한 소수성 고분자로는 트리메틸클로로실란 (Trimethylchlorosilane, TMCS) 또는 플루오르화 폴리이미드, 플루오르화 아크릴, 플루오르화 술폰 및 플루오르화 에폭시로 이루어진 군으로부터 선택되는 플루오르계 고분자 등을 들 수 있다.
이때, 상기 소수성 고분자 코팅은 기상 증착법 또는 습식 코팅법으로 이루어질 수 있다.
한편, 상기 마스터 몰드는 실리콘 수지로 제조되는 것이 바람직하며, 그 형태는 판형 또는 롤형으로 제조될 수 있다.
또한, 상기 필름은 상기 마스터 몰드에 자외선 경화 수지를 주입하는 방법으로 제조될 수 있다. 이때 상기 자외선 경화 수지로는 다관능성 아크릴레이트, 아크릴계 올리고머 또는 아크릴계 고분자 등이 사용될 수 있으며, 일반적으로 상기 수지에 UV 개시제를 첨가하여 사용한다.
본 발명에서는 사용될 수 있는 상기 다관능성 아크릴레이트의 예로는, 디펜타에리트리톨 펜타아크릴레이트, 헥산디올 디아크릴레이트, 펜타에리트리톨 트리아크릴레이트, 비스페놀-A 에폭시 수지의 디아크릴레이트 에스테르 등을 들 수 있으며, 아크릴계 올리고머의 예로는 메타아크릴올리고머 등을 들 수 있으며, 아크릴계 고분자의 예로는 폴리메틸메타크릴레이트, 우레탄아크릴레이트, 에테르아크릴레이트, 에폭시아크릴레이트, 에스테르아크릴레이트 등을 들 수 있다.
또한, 상기 UV 개시제로는, 이로써 한정되는 것은 아니지만, 아세토페논, 티옥산톤, 벤조일에테르, 벤질 디메틸 케탈, 벤조페논, 비스아실포스피옥사이드, 알파-하이드록시케톤 등이 사용될 수 있다.
또한, 상기 블랙 잉크로는 카본블랙계 잉크, 흑연계 잉크, 산화철계 잉크 등의 무기 잉크, 또는 아조계나 프탈로시아닌계의 다양한 색상을 가진 안료를 섞어 흑색화한 잉크를 사용하는 것이 바람직하다.
상기와 같은 방법으로 제조되는 본 발명의 시야각 제한 필름은 패턴간 간격: 패턴 선폭이 1:3 내지 5:1이 되도록 하는 것이 바람직하며, 보다 바람직하게는 1:1 내지 5:1, 가장 바람직하게는 3:1 내지 5:1의 범위에 있도록 제조되는 것이 좋다.
또한, 패턴 높이: 패턴간 간격의 비율은 1:3 내지 2:1, 보다 바람직하게는 1:2 내지 2:1, 가장 바람직하게는 1:1 내지 2:1이 되도록 제조되는 것이 좋다.
본 발명의 시야각 제한 필름 제조 방법은 제조 공정이 단순하면서도, 생산 효율이 우수하며, 제조 비용이 저렴하다는 장점이 있다.
또한 본 발명의 시야각 제한 필름 제조 방법은 정교하고 미세한 패턴 형성이 가능하고, 패턴의 간격이나 높이 조절이 용이하다는 장점이 있다.
이하, 본 발명의 시야각 제한 필름 제조 방법을 보다 구체적으로 살펴본다.
도 1에는 본 발명의 시야각 제한 필름의 제조 공정이 도시되어 있다. 도 1에 도시된 바와 같이, 본 발명의 시야각 제한 필름 제조 방법은 크게 (1) 레지스트 패턴 형성 단계 (2) 소수화 처리 단계 (3) 마스터 몰드 제조 단계 (4) 필름 제조 단계 및 (5) 잉크 주입 단계로 이루어진다. 이하, 본 발명의 각 단계를 보다 구체적 으로 살펴보기로 한다.
(1) 레지스트 패턴 형성 단계
먼저 포토리소그라피법을 이용하여 유리 기판 상에 레지스트 패턴을 형성한다.
포토리소그라피법은 당업자에게 매우 잘 알려진 미세 패턴 형성 방법으로, 감광성 물질인 포토레지스트를 기판에 도포한 후, 포토 마스크를 이용하여 포토레지스트를 선택적으로 노광하고 현상함으로써, 미세 패턴을 형성하는 방법을 말한다.
본 발명의 레지스트 패턴 형성 단계를 보다 구체적으로 살펴본다.
먼저 유리 기판 상에 포토레지스트를 도포한다.
본 발명에서 사용되는 포토레지스트의 종류는 제한되지 않으며, 당해 기술 분야에서 흔히 사용되는 포토레지스트, 예를 들면, 액상 포토레지스트나 건조 필름 레지스트 등이 사용될 수 있다.
다만, 건조 필름 레지스트는 고가의 코팅 장비를 필요로 하지 않고, 기판에 부착하기만 하면 되기 때문에 대면적 제품의 제조 시에 특히 유용하며, 코팅 시 두께 불균일이 유발될 염려가 적다는 장점이 있으므로, 건조 필름 레지스트를 사용하는 것이 보다 바람직하다.
포토레지스트로 액상 레지스트를 사용하는 경우에는 스핀-온 도포, 스프레이 도포 등 당해 기술 분야에 알려져 있는 방법을 이용하여 기판 상에 도포할 수 있으며, 건조 필름 레지스트를 사용하는 경우에는 유리 기판 상에 상기 필름 레지스트를 부착하면 된다.
한편, 본 발명에서는 유리 기판과 레지스트의 부착력을 향상시키기 위해, ITO 박막이 코팅되어 있는 유리 기판을 사용하는 것이 바람직하다. 유리 기판과 레지스트의 부착력이 약하면, 레지스트 패턴으로부터 마스터 몰드를 제거할 때, 레지스트 패턴이 함께 박리되는 현상이 발생할 수 있기 때문이다.
유리 기판 상에 포토 레지스트가 적층된 다음, 포토리소그라피 공정을 수행하여 레지스트 패턴을 형성한다. 즉, 포토 마스크를 이용하여 레지스트를 선택적으로 노광한 후, 현상액으로 현상하여 레지스트 패턴을 형성한다.
이때, 상기 노광은 사용되는 레지스트의 종류, 형성하고자 하는 패턴의 형상 등을 고려하여 실시되어야 하며, 당해 기술 분야의 당업자라면 반복 실험 등을 통해 원하는 결과를 얻기 위한 최적 노광 조건을 쉽게 찾아낼 수 있으리라고 여겨진다.
한편, 상기 현상액으로는 당해 기술 분야에서 레지스트 현상에 사용되는 일 반적인 현상액을 사용할 수 있으며, 이 중에서도 특히 Na2CO3나 KOH과 같은 약알칼리 현상액을 사용하는 것이 바람직하다.
(2) 소수화 처리 단계
레지스트 패턴 형성이 완료되면, 상기 레지스트 패턴의 표면을 소수화 처리한다.
상기 소수화 처리는 레지스트 표면에 소수성 고분자를 코팅하는 방법으로 이루어질 수 있다.
상기 소수성 고분자로는 플루오르화 폴리이미드, 플루오르화 아크릴, 플루오르화 술폰 및 플루오르화 에폭시와 같은 플루오르계 고분자나 트리메틸클로로실란 (Trimethylchlorosilane, TMCS) 등을 사용할 수 있다.
이러한 소수성 고분자로 레지스트 표면을 처리하면, 레지스트 표면이 소수성을 띄게 되어, 그 결과 후술할 마스터 몰드의 재질인 실리콘 수지와 레지스트가 강하게 접착되는 것이 방지되어, 마스터 몰드를 분리할 때 박리가 깨끗하게 일어나게 된다.
한편, 본 발명의 상기 코팅은 사용되는 고분자에 따라 적절한 방법으로 이루어질 수 있다. 예를 들어 TMCS를 사용할 경우에는 기상 증착 방식을, 플루오르계 고분자를 사용할 경우에는 스핀 코팅 등의 습식 코팅법을 사용하는 것이 바람직하 다.
이러한 기상 증착 또는 습식 코팅을 이용한 코팅 방법은 당해 기술 분야에 잘 알려져 있으며, 본 발명의 코팅 역시 이러한 방법들로 이루어질 수 있다. 예를 들면, 본 발명에서 TMCS의 기상 증착은 상온(약 20℃ 내지 40℃), 상압(700~800 Torr)의 밀폐 용기에서 10~30분간 실시될 수 있다.
(3) 마스터 몰드 제조 단계
레지스트 패턴에 대한 소수화 처리가 완료되면, 그 레지스트 표면에 수지를 주입하여 마스터 몰드를 제조한다. 예를 들면, 레지스트 패턴 상에 실리콘 수지를 적당한 두께로 도포한 다음, 상온(약 20℃ 내지 40℃)에서 5 내지 25시간 동안 방치하여 일정한 두께로 레벨링 되도록 하면서 자연 경화를 시키고, 최종적으로 100~180℃에서 10~30분 정도 가열하여 완전 경화시킨 다음, 레지스트에서 분리하는 방법으로 마스터 몰드를 제조할 수 있다.
이때 상기 마스터 몰드 제조 수지로는 실리콘 수지를 사용하는 것이 바람직하다.
마스터 몰드의 재질로 플렉서블한 성질을 갖는 실리콘 수지를 사용할 경우, 마스터 몰드를 판 형태뿐 아니라 롤 형태로 제조할 수도 있다는 장점이 있기 때문이다. 즉, 분리된 마스터 몰드를 딱딱한 플레이트에 부착함으로써 판형 몰드로 제작할 수도 있고, SUS(스테인레스 스틸, Stainless Steel)롤(Roll)에 감아 롤(Roll) 형태의 마스트 몰드로 제작할 수도 있다. 최종적으로 제조되는 필름의 형태는 마스터 몰드의 형태에 따라 결정된다. 즉 판형 마스터 몰드를 사용할 경우에는 판형 필름이, 롤형 마스터 몰드를 사용할 경우에는 롤형 필름이 제조된다. 따라서, 필요에 따라 적절한 형태의 마스터 몰드를 제조하여 사용하도록 한다.
(4) 필름 제조 단계
다음으로 상기와 같이 제조된 마스터 몰드에 자외선 경화 수지를 주입하고, 경화시킴으로써 필름을 제조한다. 본 발명에서 사용되는 자외선 경화 수지로는 투과성이 우수한 것이 바람직하며, 예를 들면 다관능성 아크릴레이트, 아크릴계 올리고머 또는 아크릴계 고분자 등을 사용할 수 있다.
이때 상기 다관능성 아크릴레이트로 디펜타에리트리톨 펜타아크릴레이트, 헥산디올 디아크릴레이트, 펜타에리트리톨 트리아크릴레이트, 비스페놀-A 에폭시 수지의 디아크릴레이트 에스테르 등을 사용할 수 있으며, 아크릴계 올리고머로는 메타아크릴올리고머 등을 사용할 수 있고, 아크릴계 고분자로는 폴리메틸메타크릴레이트, 우레탄아크릴레이트, 에테르아크릴레이트, 에폭시아크릴레이트, 에스테르아크릴레이트 등을 사용할 수 있다.
다만, 상기 화합물들은 본 발명에서 사용할 수 있는 자외선 경화 수지의 예로써 기재된 것이며, 상기 기재된 화합물 이외에도 당해 기술 분야에서 사용되는 다양한 경화성 수지가 대체 사용될 수 있다.
한편, 상기 수지에는 아세토페논, 티옥산톤, 벤조일에테르, 벤질 디메틸 케탈, 벤조페논, 비스아실포스피옥사이드, 알파-하이드록시케톤 등의 UV 개시제가 첨가되는 것이 일반적이다.
자외선 경화 수지의 경화 조건은 사용되는 수지에 따라 달라지지만, 일반적으로 0.3~0.9 joule/cm2 정도에서 수행되는 것이 바람직하다.
상기와 같은 방법으로 제조된 필름에는 마스터 몰드 패턴의 역상, 즉 레지스트 패턴과 동일한 요철 패턴이 형성되게 된다.
(5) 잉크 주입 단계
상기와 같은 방법으로 요철 패턴이 형성된 필름이 제조되면, 상기 요철 패턴의 오목부에 블랙 잉크를 주입하여 흑색 패턴을 형성한다. 이때 상기 블랙 잉크로는 카본블랙계 잉크, 흑연계 잉크, 산화철계 잉크 등의 무기 잉크, 또는 아조계나 프탈로시아닌계의 다양한 색상을 가진 안료를 섞어 흑색화한 잉크를 사용하는 것이 바람직하다.
한편, 상기 블랙 잉크 주입은 당해 기술 분야에서 사용되는 다양한 잉크 주입 방법에 의해 이루어질 수 있다. 예를 들면, 블랙 잉크를 필름 상에 도포한 후, 닥터 블레이드로 필름 표면을 긁어내는 방법으로 볼록부에 묻은 잉크를 제거하고, 오목부로 잉크가 주입되도록 할 수 있다.
도 2에는 상기와 같은 방법으로 제조된 본 발명의 시야각 제한 필름의 단면이 도시되어 있다.
한편, 시야각 제한 필름은 흑색 패턴의 선폭, 높이, 간격 등에 따라 시야각 제한 각도 및 빛의 투과율 등이 달라지게 된다.
보다 구체적으로는 시야각 제한 필름의 투과율은 흑색 패턴 간의 간격(b)과 흑색 패턴의 선폭(a)의 비율에 따라 결정되며, 상기 흑색 패턴 간격(b) 대 흑색 패턴의 선폭(a)의 비율은 1:3(이 경우 투과율은 25% 정도임) 이상인 것이 바람직하며, 보다 바람직하게는 1:1(이 경우 투과율은 50% 정도임) 이상, 가장 바람직하게는 3:1 (이 경우 투과율 75% 정도임) 이상인 것이 좋다.
상기 비율이 커질수록 투과율은 향상되지만, 그 비율이 너무 커지면 패턴 형성이 어려워지므로, 상기 흑색 패턴 간격(b) 대 흑색 패턴의 선폭(a)의 비율은 5:1 이하인 것이 바람직하다.
한편, 시야각 제한 각도는 흑색 패턴의 높이(c)와 패턴 간의 간격(b)의 비율에 따라 결정되며, 상기 흑색 패턴의 높이(c) 대 패턴 간의 간격(b)의 비율은 1:3 (이 경우 시야각 제한 각도는 18.4도 정도임)이상인 것이 바람직하며, 보다 바람직하게는 1:2 이상, 가장 바람직하게는 1:1(이 경우 시야각 제한 각도는 45도 정도 임)이상인 것이 좋다. 이때 시야각 제한 각도란 빛의 투과되지 않은 각도를 의미하는 것으로, 제한 각도가 커질수록 사생활 보호 효과가 커지게 된다.
다만, 상기 비율이 2:1을 초과하면 패턴 형성에 어려움이 있으므로, 상기 흑색 패턴의 높이(c) 대 패턴 간의 간격(b)의 비율은 2:1 이하인 것이 바람직하다.
실시예
ITO 유리 기판(UID사) 상에 건조 필름 레지스트(코오롱사의 네가티브 레지스트)를 부착한다. 그런 다음 포토 마스크를 이용하여 UV를 10초간 노광한 후, 1% Na2CO3 수용액으로 현상하여, 선폭이 10㎛이고, 패턴 간격이 30㎛이며, 높이가 30㎛인 레지스트 패턴을 형성하였다.
그런 다음, 상온, 상압에서 TMCS 1ml를 노출하여 레지스트 표면에 TMCS을 증착시켜 표면 처리를 수행하였다.
표면 처리된 레지스트 위에 실리콘 수지(다우코닝사의 Sylgard 184)를 도포한 다음, 상온에서 24시간 정도 방치하여 일정한 두께로 레벨링 되도록 하면서 자연 경화를 시키고, 최종적으로 150℃에서 15분 가열하여 완전 경화시킨 후, 분리시켜 마스터 몰드를 제작하였다. 상기 마스터 몰드에 자외선 경화 수지(Acheson사의 PD-038)를 주입하면서 즉시 UV로 경화시켜 요철 패턴이 형성된 필름을 제조하였다.
상기 필름에 블랙 잉크(Seiko사의 1300Balck)를 도포하여 오목부에 블랙 잉크가 충진되도록 하고, 닥터 블레이드로 상기 필름의 표면을 긁어내어 볼록부에 묻 어있는 잉크를 제거하여, 선폭 10㎛, 간격 30㎛, 높이 30㎛인 흑색 패턴의 형성된 시야각 제한 필름을 제조하였다.
상기와 같이 제조된 시야각 필름의 정면 방향에서의 투과율은 75%이고, 시야 제한 각도는 ±45도로 나타났다.
도 1은 본 발명의 시야각 제한 필름의 제조 방법을 보여주는 도면이다.
도 2는 본 발명의 방법으로 제조된 시야각 제한 필름의 단면을 보여주는 도면이다.

Claims (16)

  1. 유리 기판 상에 레지스트 패턴을 형성하는 단계;
    상기 레지스트 패턴의 표면을 소수화 처리하는 단계;
    상기 레지스트 패턴이 음각된 마스터 몰드를 제조하는 단계;
    상기 마스터 몰드를 이용하여 요철 패턴이 형성된 필름을 제조하는 단계; 및
    상기 요철 패턴의 오목부에 블랙 잉크를 주입하는 단계를 포함하여 이루어지는 시야각 제한 필름의 제조 방법.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 유리 기판은 ITO 박막이 코팅된 유리 기판인 것을 특징으로 하는 시야각 제한 필름의 제조 방법.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 소수화 처리는 레지스트 표면을 소수성 고분자로 코팅하는 방법으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 시야각 제한 필름의 제조 방법.
  4. 제3항에 있어서,
    상기 소수성 고분자는 플루오르화 폴리이미드, 플루오르화 아크릴, 플루오르화 술폰 및 플루오르화 에폭시로 이루어진 군으로부터 선택되는 플루오르 고분자 또는 트리메틸클로로실란 (Trimethylchlorosilane, TMCS)인 것을 특징으로 하는 시야각 제한 필름의 제조 방법.
  5. 제3항에 있어서,
    상기 코팅은 기상 증착법 또는 습식 코팅법으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 시야각 제한 필름의 제조 방법.
  6. 제1항에 있어서,
    상기 마스터 몰드는 실리콘 수지로 제조되는 것을 특징으로 하는 시야각 제한 필름의 제조 방법.
  7. 제1항에 있어서,
    상기 마스터 몰드는 판형 또는 롤형으로 제조되는 것을 특징으로 하는 시야각 제한 필름의 제조 방법.
  8. 제1항에 있어서,
    상기 필름은 마스터 몰드에 자외선 경화 수지를 주입하여 제조되는 것을 특징으로 하는 시야각 제한 필름의 제조 방법.
  9. 제8항에 있어서,
    상기 자외선 경화 수지는 다관능성 아크릴레이트, 아크릴계 올리고머 및 아크릴계 고분자로 이루어진 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 시야각 제한 필름의 제조 방법.
  10. 제1항에 있어서,
    상기 블랙 잉크는 카본 블랙계 잉크, 흑연계 잉크 및 산화철계 잉크로 이루어진 군으로부터 선택되는 무기 잉크; 또는 아조계 또는 프탈로시아닌계의 안료를 혼합하여 흑색화한 잉크인 것을 특징으로 하는 시야각 제한 필름의 제조 방법.
  11. 제1항에 있어서,
    상기 시야각 제한 필름의 흑색 패턴간 간격: 흑색 패턴 선폭의 비율은 1:3 내지 5:1인 것을 특징으로 하는 시야각 제한 필름의 제조 방법.
  12. 제1항에 있어서,
    상기 시야각 제한 필름의 흑색 패턴간 간격: 흑색 패턴 선폭의 비율은 1:1 내지 5:1인 것을 특징으로 하는 시야각 제한 필름의 제조 방법.
  13. 제1항에 있어서,
    상기 시야각 제한 필름의 흑색 패턴간 간격: 흑색 패턴 선폭의 비율은 3:1 내지 5:1인 것을 특징으로 하는 시야각 제한 필름의 제조 방법.
  14. 제1항에 있어서,
    상기 시야각 제한 필름의 흑색 패턴 높이: 흑색 패턴간 간격의 비율은 1:3 내지 2:1인 것을 특징으로 하는 시야각 제한 필름의 제조 방법.
  15. 제1항에 있어서,
    상기 시야각 제한 필름의 흑색 패턴 높이: 흑색 패턴간 간격의 비율은 1:2 내지 2:1인 것을 특징으로 하는 시야각 제한 필름의 제조 방법.
  16. 제1항에 있어서,
    상기 시야각 제한 필름의 흑색 패턴 높이: 흑색 패턴간 간격의 비율은 1:1 내지 2:1인 것을 특징으로 하는 시야각 제한 필름의 제조 방법.
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