JP2003222701A - 光学部品及びその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 低コストで耐久性に優れた反射防止機能を有
する光学部品、ハードコート膜に低コストで耐久性に優
れた反射防止機能を付与した光学部品及びその製造方法
を提供する。 【解決手段】 光学基板２の少なくとも一面側に微細凹
凸３からなる反射防止構造を成形により設ける。光学基
板２の少なくとも一面側に設けられているハードコート
膜４に微細凹凸３からなる反射防止構造を設ける。イン
モールド成形法によりハードコート膜４を形成する。２
Ｐ法により、ハードコート膜４に微細凹凸３を形成す
る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、光学部品及びその
製造方法に関し、特に、反射防止機能を有する光学部品
及びその製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】携帯電話等の携帯機器の表示装置を外部
からの衝撃から保護するカバーガラス、カメラレンズや
眼鏡レンズ等のレンズなどの光学部品の表面には、外光
や照明灯の反射を抑制して光透過率を向上させる反射防
止機能が好ましくは光が透過する両面に付加されること
が多い。光学部品に反射防止機能を付加するには、従
来、光学部品に反射防止膜を設けることにより行われて
いる。

【０００３】また、プラスチックで構成されている光学
部品では、傷が付きやすいという欠点があるため、表面
に耐擦傷性を付与できるハードコート膜が設けられる。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、反射防
止膜は、真空装置内で真空蒸着等の物理的成膜で形成さ
れる場合が殆どであり、大がかりな設備が必要である上
に成膜に時間がかかるため、成膜コストが高いという問
題がある。

【０００５】また、反射防止膜と光学部品の基材とは、
熱膨張率が異なる材質であるため、反射防止膜に剥離や
クラックが生じやすく、耐久性に劣るという問題があ
る。

【０００６】また、光学部品のハードコート膜上に形成
された反射防止膜も、ハードコート膜との密着性が不充
分であることから、やはり剥離やクラックが生じ易く、
耐久性に劣るという問題点がある。

【０００７】また、携帯電話のカバーガラスでは、低コ
ストが要求され、内面と外面のうち少なくとも内面に光
透過性を高める反射防止機能を付加し、外面に耐擦傷性
を付与するハードコート膜を形成したカバーガラスが要
望されている。

【０００８】本発明は、上記事情に鑑みてなされたもの
で、低コストで耐久性に優れた反射防止機能を有する光
学部品を提供することを目的とする。

【０００９】また、本発明は、ハードコート膜に低コス
トで耐久性に優れた反射防止機能を付与した光学部品を
提供することを目的とする。

【００１０】また、本発明は、一面側に反射防止機能を
付加し、他面側にハードコート膜を形成した光学部品を
低コストで製造することができる光学部品の製造方法を
提供することを目的とする。

【００１１】更に、本発明は、ハードコート膜に耐久性
に優れた反射防止機能を付与した光学部品を製造するこ
とができる光学部品の製造方法を提供することを目的と
する。

【００１２】

【課題を解決するための手段】本発明者は、上記目的を
達成するため、鋭意検討を重ねた結果、従来の反射防止
膜に代えて微細凹凸の繰り返しピッチと高さが可視光の
波長未満であるいわゆるMotheye（モスアイ）構造を採
用することにより、上記目的を達成することができるこ
とを知見した。

【００１３】即ち、Motheye構造は、微細な凹凸によ
り、基板外側の媒体の屈折率から基板の屈折率まで漸次
変化する領域となり、極めて低反射率の反射防止構造で
ある。また、例えば射出成形に用いる金型からの転写で
形成できるため、低コストであり、しかも、剥離するお
それが無く、耐久性に優れる。

【００１４】Motheye構造を形成した面は、光学基板の
両面に形成できるが、片面だけでも、コスト低下にな
る。片面だけの場合、Motheye構造を形成していない面
にはハードコート膜、反射防止膜を形成することができ
る。

【００１５】Motheye構造を有する金型で光学基板を成
形する場合に、いわゆるインモールド成形を組み合わせ
ることによって、転写箔からのホットスタンピングを成
形と同時に行えるため、Motheye構造を成形型からの転
写で、ハードコート膜を転写箔からの転写で形成するこ
とができ、低コストで一面側に反射防止機能を付加し、
他面側にハードコート膜を形成した光学部品を製造する
ことができる。

【００１６】また、いわゆる２Ｐ成形法により、Mothey
e構造を備える金型を用い、この金型にハードコート膜
を形成する光硬化性樹脂を塗布し、光学基板面を塗布し
た樹脂に乗せ、押し付けることにより光硬化性樹脂を押
し広げ、次に、この光硬化性樹脂を硬化し、金型から剥
離させる製造方法により、ハードコート膜を形成できる
と同時にハードコート膜上にMotheye構造を形成でき
る。

【００１７】従って、請求項１記載の発明は、光学基板
の少なくとも一面側に、成形金型により転写された、繰
り返しピッチと高さが可視光の波長未満である微細凹凸
からなる反射防止構造が設けられていることを特徴とす
る光学部品を提供する。

【００１８】請求項２記載の発明は、請求項１記載の光
学部品において、前記反射防止構造が設けられている面
の反対面側にハードコート膜が設けられていることを特
徴とする光学部品を提供する。

【００１９】請求項３記載の発明は、請求項２記載の光
学部品において、前記ハードコート膜の表面に反射防止
膜が設けられていることを特徴とする光学部品を提供す
る。

【００２０】請求項４記載の発明は、光学基板の少なく
とも一面側に設けられているハードコート膜の外表面
に、繰り返しピッチと高さが可視光の波長未満である微
細凹凸からなる反射防止構造が設けられていることを特
徴とする光学部品を提供する。

【００２１】請求項５記載の発明は、請求項４記載の光
学部品において、前記光学基板の前記ハードコート膜が
設けられている面と反対面に前記反射防止構造又は反射
防止膜が設けられていることを特徴とする光学部品を提
供する。

【００２２】請求項６記載の発明は、一方の面に繰り返
しピッチと高さが可視光の波長未満である微細凹凸が設
けられた金型のキャビティの対向面に転写箔を配置し、
前記キャビティに溶融した光透過性樹脂を圧入すること
により、繰り返しピッチと高さが可視光の波長未満であ
る微細凹凸からなる反射防止構造が一面側に設けられ、
他面側に前記転写箔から転写された加飾材が設けられた
光学部品を得ることを特徴とする光学部品の製造方法を
提供する。

【００２３】請求項７記載の発明は、可視光の波長未満
である微細凹凸が設けられている金型上にハードコート
膜を形成する光硬化性樹脂を塗布する塗布工程と、前記
光硬化性樹脂上に光学基板を乗せ、前記金型と前記光学
基板との間に圧力をかけて前記光硬化性樹脂を押し広げ
る展延工程と、前記光硬化性樹脂を硬化させる硬化工程
と、前記金型から硬化した光硬化性樹脂を剥離させる離
型工程とを有することを特徴とする光学部品の製造方法
を提供する。

【００２４】

【発明の実施の形態】以下、本発明の光学部品及びその
製造方法について説明するが、本発明は以下の実施の形
態に限定されるものではない。

【００２５】本発明の光学部品は、成形金型により転写
された繰り返しピッチと高さが可視光の波長未満である
微細凹凸からなる反射防止構造を少なくとも一面側に有
する。

【００２６】図１に、この微細凹凸が設けられた光学部
品の模式図を示す。図１（ａ）に示す光学部品１ａは、
光学基板２の表面の反射防止機能が必要な部分に微細凹
凸３からなる反射防止構造が設けられている。この微細
凹凸３の繰り返し長さ（ピッチ）Ｐは、反射防止を行う
光の波長より短い必要がある。可視光の反射防止では４
００ｎｍよりピッチＰが短い必要がある。また、凹凸の
高さｈは、可視光の最大波長の４０％未満である必要が
ある。可視光の最大波長は８００ｎｍであるから、凹凸
の高さｈは３２０ｎｍより低くなければならない。更
に、凸部の形状は、側面が斜めかテーパー状になってい
る必要がある。通常は、微細凹凸のピッチＰ、高さｈ共
に、１００〜３００ｎｍ、好ましくは１５０〜２５０ｎ
ｍの範囲であることが望ましい。

【００２７】図１（ａ）に示す光学部品１ａは、光学基
板２の一面側に断面三角形の微細凹凸３が設けられてい
る構造を示している。この断面三角形の微細凹凸３は、
この形状が連なっている山脈状の構造であっても良く、
あるいはピラミッド状に凸部がそれぞれ独立していても
良い。

【００２８】図１（ｂ）に示す光学部品１ｂは、光学基
板２の一面側に断面が波状に形成された微細凹凸３ｂが
形成された構造を示している。この場合も微細凹凸３ｂ
の断面形状が連なっている山脈状の構造であっても良
く、あるいは突起状に凸部がそれぞれ独立していても良
い。

【００２９】図１（ｃ）に示す光学部品１ｃは、光学基
板２の一面側に頂上部が丸い柱状の凸部が平面から突出
したような断面の突起状に形成された微細凹凸３ｃが形
成された構造を示している。この場合も、微細凹凸３ｃ
は、この断面形状が連なっている山脈状の構造であって
も、それぞれ独立した突起となっていても良い。

【００３０】このような微細凹凸３，３ｂ、３ｃは、光
学的には、微細凹凸における屈折率が表面から基板に向
かって連続的に変化した場合と同様に作用する。即ち、
表面から基板への屈折率の変化は、微細凹凸の高さにお
ける外部の媒質（通常は空気）と基板の混ざり方で決定
される。例えば、断面三角形（ピラミッド状）の頂上付
近では殆ど空気の屈折率であるが、基板側に行くに従い
基板の屈折率に漸次接近する連続的な屈折率変化を示
す。その結果、視角による色変化が少ない極めて良好な
反射防止構造である。

【００３１】図２は、光学基板に微細凹凸を設けた本発
明の第１実施形態の光学部品を示している。図２（ａ）
は、光学基板２の一面側にのみ微細凹凸３を設けた光学
部品１ａを示している。また、図２（ｂ）は、光学基板
２の両面に微細凹凸３、３を設けた光学部品１ｄを示し
ている。図２（ｃ）は、光学基板２の一面側に微細凹凸
３を設け、他面側にハードコート膜４を設けた構造の光
学部品１ｅを示している。図２（ｄ）は、光学基板２の
一面側に微細凹凸３を設け、他面側にハードコート膜４
を設け、更にハードコート膜４の上に反射防止膜５を設
けた構造の光学部品１ｆを示している。

【００３２】例えば、携帯機器の表示装置の保護用とし
て用いられるカバーガラスでは、光透過性を良好にする
ために、図２（ｂ）に示すような内外両面に反射防止機
能を付与する構造が好ましいが、図２（ａ）に示すよう
に、一方の面にだけ反射防止機能を付与するだけでも効
果がある。また、カバーガラスの外面は外部に露出して
いるため、耐擦傷性が必要となる。そのため、図２
（ｃ）に示すように、外面にハードコート膜４を形成す
ることが好ましい。ハードコート膜４を微細凹凸３から
なる反射防止構造の上に形成することはできないので、
微細凹凸３は内面に設け、外面にハードコート膜４を形
成するようにすることが好ましい。このような構造のカ
バーガラスのハードコート膜４の上に、図２（ｄ）に示
すように、反射防止膜５を形成することによって、カバ
ーガラスの内外両面に反射防止機能を付与することが可
能となる。

【００３３】微細凹凸からなる反射防止構造の形成は、
金型からの転写で行うことができる。例えば光学基板を
成形するキャビティの一面及び／又は対向する面に微細
凹凸を形成した成形用の金型を作製する。金型に形成さ
れる微細凹凸は、光学基板に形成される微細凹凸の逆型
形状である。

【００３４】金型に微細凹凸を形成するには、例えばレ
ーザ光干渉法がある。レーザ光干渉法は、基材表面に感
光性樹脂を塗布したものにレーザ光干渉法により露光を
行い、微細凹凸のパターンの硬化部と未硬化部を得る。
露光後、現像を行い、硬化部又は未硬化部を除去するこ
とによって、微細凹凸のレジストパターンを得る。その
後、反応性イオンエッチングなどの方向性を有するエッ
チングで基材をエッチングし、レジストパターンを除去
して、微細凹凸が形成された原型を得る。この原型は、
金型に直接形成しても良く、あるいは、更に電鋳法等に
より複製を作製しても良い。

【００３５】また、規則的なナノホール配列が自己規制
的に形成された陽極酸化アルミナをマスクとして高速原
子線によりエッチングすることにより、微細凹凸パター
ンを形成することも可能である。

【００３６】成形方法は、注型法、注型重合法、押出成
形法、射出成形法、カレンダーロール成形法、圧縮成形
法、トランスファ成形法等の成形法を採用することがで
きる。押出成形では、押出ダイによって微細凹凸が連な
った山脈状の微細凹凸を形成できる。注型重合法では、
熱重合又は光重合のいずれでも良い。微細凹凸が形成さ
れた金型を用いて光学基板を成形することによって、図
２（ａ）に示す光学部品１ａ又は図２（ｂ）に示す光学
部品１ｄを成形することができる。図２（ａ）に示した
光学基板１ａに対し、ハードコート膜４を形成し、図２
（ｃ）に示す構造の光学部品１ｅを得ることができ、更
に、反射防止膜５を形成することにより、図２（ｄ）に
示すような構造の光学部品１ｆを得ることができる。

【００３７】金型から光学基板に微細凹凸を転写する場
合には、眼鏡レンズ等の曲率の大きな曲面に形成するこ
とは困難であり、光学基板を金型から離型するときに微
細凹凸に影響を与えない範囲の曲面は許容される。

【００３８】そのため、光学部品の微細凹凸が設けられ
る面は平面か平面にごく近い曲面に制限される。光学部
品としては、携帯機器の表示装置を保護するために表示
装置の前面に配置されるカバーガラス、各種の光学素子
や表示装置の保護カバー等を例示することができる。携
帯機器としては、携帯電話、携帯ゲーム機、デジタルカ
メラ、携帯無線通信機、携帯ラジオ、腕時計、携帯音響
機器を例示することができる。表示装置としては、液晶
表示装置が代表的であり、特に、外光を利用する反射型
液晶表示装置の場合に有効である。

【００３９】光学基板の素材としては、成形できる熱可
塑性又は熱硬化性の光透過性樹脂が選択される。具体的
には、ポリスチレン、ポリ（メチル）メタクリレート樹
脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエチレン、ポリプロピ
レンなどのポリオレフィン樹脂、エポキシ樹脂、シリコ
ーン樹脂等が用いられる。

【００４０】ハードコート膜４の形成方法としては、ハ
ードコート膜を形成できる硬化性組成物を光学基板２の
表面に塗布し、塗膜を硬化させる方法が一般的である。
光学基板が熱可塑性樹脂の場合は、熱硬化型よりも紫外
線等の電磁波や電子ビーム等の電離放射線で硬化するも
のが好ましく用いられる。例えば、紫外線の照射により
シラノール基を生成するシリコーン化合物とシラノール
基と縮合反応するハロゲン原子やアミノ基等の反応基を
有するオルガノポリシロキサンとを主成分とする光硬化
性シリコーン組成物、三菱レイヨン（株）製のＵＫ−６
０７４等のアクリル系紫外線硬化型モノマー組成物、Ｓ
ｉＯ_２、ＴｉＯ_２などの粒径１〜１００ｎｍの無機微粒
子を、ビニル基、アリル基、エポキシ基、アクリル基又
はメタクリル基等の重合性基とメトキシ基等の加水分解
性基とを有するシラン化合物やシランカップリング剤中
に分散させた無機微粒子含有熱硬化性組成物などが例示
される。

【００４１】塗膜の形成方法としては、ディッピング
法、スピンコート法、スプレー法、フロー法、ドクター
ブレード法などを採用できる。

【００４２】なお、塗膜を形成する前に、密着性を向上
させるため、光学基板表面を、コロナ放電やマイクロ波
などの高電圧放電などで表面処理をすることが好まし
い。

【００４３】形成した塗膜を熱、紫外線、電子ビームな
どで硬化させてハードコート膜を得ることができる。

【００４４】また、光学基板の成形と転写箔からの転写
を同時に行うことができるインモールド成形法を採用す
ることができる。インモールド成形法は、光学基板を成
形する射出成形の金型内に、予め加飾材が印刷されたロ
ール状の転写箔を成形サイクルに合わせて間欠的に通
し、射出と同時に加飾材を射出成形の圧力と熱を利用し
て成形した光学基板に転写する方法である。光学基板の
成形サイクル内でホットスタンピングを同時に行うこと
ができるため、ホットスタンピングの二次工程を削減す
ることができ、能率が良好である。また、曲面上にも転
写することができる。

【００４５】このような転写方法により、例えばカバー
ガラスの黒の縁取り等の印刷等の装飾部を転写すること
ができる。ハードコート膜をインモールド成形法により
形成する場合は、硬化性被膜を加飾材として有する転写
箔を用いる。

【００４６】図３に、インモールド成形法の金型の概要
を示す。この金型１０は、インモールド成形法で用いる
金型の第１の型１１と第２の型１２間に形成される光学
基板を成形するキャビティ１３を構成する第２の型１２
の型面に微細凹凸３′が形成され、第１の型１１の型面
に近接させて転写フィルム１５を順次送ることができる
ようになっている。転写フィルム１５には、基材フィル
ム１５１の表面に硬化によりハードコート膜を形成する
硬化性被膜１５２が剥離可能に形成されている。転写フ
ィルム１５をキャビティ１３内に配置した状態で、キャ
ビティ１３内に透明樹脂を射出し、光学基板の成形と同
時に硬化性被膜１５２が形成された転写フィルム１５を
光学基板に貼り付ける。成形後、光学基板に貼り付けら
れた転写フィルム１５を剥がすと硬化性被膜１５２が光
学基板表面に残り、転写フィルム１５から光学基板に硬
化性被膜１５２が転写される。この硬化性被膜を例えば
紫外線や電子線で硬化させてハードコート膜４を得るこ
とができる。このようなハードコート膜が予め形成され
たフィルムを転写する技術して、日本写真印刷株式会社
のＩＭＤ法を例示することができる。

【００４７】このように、微細凹凸が設けられた金型を
用い、インモールド成形法と組み合わせることによっ
て、微細凹凸を成形型からの転写で、ハードコート膜を
転写箔からの転写で形成することができ、低コストで一
面側に反射防止機能を付加し、他面側にハードコート膜
を形成した光学部品を製造することができる。

【００４８】ハードコート膜４の膜厚としては０．０５
〜３０μｍ、好ましくは０．５〜５μｍ程度の範囲がよ
い。薄くなりすぎると基本的な性能が発現しない場合が
あり、一方厚すぎると、光学的歪みが発生する場合があ
る。

【００４９】また、ハードコート膜４の上に反射防止膜
５を設ける場合は、反射防止膜５の密着性を向上させる
ため、ハードコート膜４の表面を表面処理することが望
ましい。表面処理方法としては、酸処理、アルカリ処
理、紫外線照射処理、アルゴン又は酸素雰囲気中での高
周波放電によるプラズマ処理、アルゴンや酸素又は窒素
などのイオンビーム照射処理などを例示できる。

【００５０】光学基板２上に直接又はハードコート膜４
上に設けられる反射防止膜５は、無機被膜、有機被膜の
単層または多層で構成される。無機被膜の材質として
は、ＳｉＯ_２、ＳｉＯ、ＺｒＯ_２、ＴｉＯ_２、ＴｉＯ、
Ｔｉ_２Ｏ_３、Ｔｉ_２Ｏ_５、Ａｌ _２Ｏ_３、Ｔａ_２Ｏ_５、Ｃ
ｅＯ_２、ＭｇＯ、Ｙ_２Ｏ_３、ＳｎＯ_２、ＭｇＦ_２、ＷＯ
_３等の無機物が挙げられ、これらを単独でまたは２種以
上を併用して用いることができる。これらの中では、プ
ラスチック製の光学基板には、低温で真空蒸着が可能な
ＳｉＯ_２、ＺｒＯ_２、ＴｉＯ_２、Ｔａ_２Ｏ_５が好まし
い。また、多層膜構成とした場合は、最外層はＳｉＯ_２
とすることが好ましい。

【００５１】無機被膜の多層膜としては、光学基板２側
からＺｒＯ_２層とＳｉＯ_２層の合計光学膜厚がλ／４，
ＺｒＯ_２層の光学的膜厚がλ／４、最上層のＳｉＯ_２層
の光学的膜厚がλ／４の４層構造を例示することができ
る。ここで、λは設計波長であり、通常５２０ｎｍが用
いられる。

【００５２】無機被膜の成膜方法は、例えば真空蒸着
法、イオンプレーティング法、スパッタリング法、ＣＶ
Ｄ法、飽和溶液中での化学反応により析出させる方法等
を採用することができる。

【００５３】有機被膜の材質は、光学基板やハードコー
ト膜の屈折率を考慮して選定され、真空蒸着法の他、ス
ピンコート法、ディップコート法などの量産性に優れた
塗装方法で成膜することができる。

【００５４】なお、反射防止膜５は、反射防止フィルム
を光学基板２又はハードコート膜４上に貼り付けること
によっても形成することができる。反射防止フィルム
は、厚さ１０ｎｍ〜１μｍ程度のポリエステル、セロフ
ァン等の透明フィルム基材に上記反射防止膜が設けられ
たもので、粘着剤を介して貼着するものである。

【００５５】次に、本発明の第２実施形態の光学部品に
ついて説明する。第２実施形態の光学部品の断面構造の
模式図を図４に示す。図４（ａ）に示す光学部品１ｇ
は、光学基板２の少なくとも一面側に形成されているハ
ードコート膜４に微細凹凸３からなる反射防止構造が形
成されている構造を有する。光学基板１ｇのハードコー
ト膜４が設けられている面と反対面には反射防止構造は
設けられていないが、反射防止膜を設けるようにしても
よい。図４（ｂ）に示す光学部品１ｈは、光学基板２の
ハードコート膜４が設けられている面と反対面にも微細
凹凸３からなる反射防止構造が設けられている構造であ
る。

【００５６】このようにハードコート膜４に微細凹凸３
からなる反射防止構造を形成することによって、反射防
止膜のように光学基板２やハードコート膜４との熱膨張
率の違いや密着不良による剥離やクラックが生じるとい
う不都合が生じないという利点がある。

【００５７】ハードコート膜に反射防止構造を形成する
方法の一例について、図５を参照して説明する。この成
形方法は、いわゆる２Ｐ（Photo Polymerization）法と
して知られている。

【００５８】微細凹凸３′が設けられたスタンパと呼ば
れる金型１６を用いる。まず、塗布工程で、金型１６上
にハードコート膜を形成できる光硬化性樹脂１７を塗布
する。次に、塗布した光硬化性樹脂１７の上に光学基板
２を載せ、金型１６と光学基板２との間に圧力をかけて
光学基板２で光硬化性樹脂１７を押し広げる展延工程を
行う。光学基板２側又は金型１６側から紫外線ランプ等
で紫外線、可視光線等を照射して光硬化性樹脂１７を硬
化させる硬化工程後、光学基板２をスタンパ１６から剥
離する離型工程によって成形が行われる。スタンパ１６
の微細凹凸３′が硬化したハードコート膜４の表面に転
写され、微細凹凸３が形成されたハードコート膜４を有
する図４（ａ）に示した光学部品１ｇを得ることができ
る。この２Ｐ法は、転写精度が極めて高精度であること
が知られており、微細凹凸３を高精度に形成することが
できる。

【００５９】図５に示した光学基板２の代わりに、図２
（ａ）に示した成形金型から一面側に反射防止構造が形
成された光学部品１ａを用いることにより、図４（ｂ）
に示した光学部品１ｈを得ることが可能である。

【００６０】ハードコート膜を形成できる光硬化性樹脂
としては、アクリル系樹脂、ウレタンアクリレート樹
脂、エポキシアクリレート樹脂、不飽和ポリエステル樹
脂、ホスファゼン樹脂、メラミン樹脂、アクリルシラン
樹脂等を例示することができる。

【００６１】光硬化性樹脂にも、無機微粒子を添加する
ことができる。無機微粒子としては、粒径１〜１００ｍ
μのＳｉ，Ｓｎ，Ｓｂ，Ｃｅ，Ｚｒ，Ｔｉから選ばれる
１種以上の金属酸化物からなる微粒子及び／又はＳｉ，
Ａ１，Ｓｎ，Ｓｂ，Ｔａ，Ｃｅ，Ｌａ，Ｆｅ，Ｚｎ，
Ｗ，Ｚｒ，Ｉｎ，Ｔｉから選ばれる２種以上の金属酸化
物から構成される複合微粒子を例示することができる。

【００６２】無機微粒子の具体的例としては、Ｓｉ
Ｏ_２，ＳｎＯ_２，Ｓｂ_２Ｏ_５，ＣｅＯ_２，ＺｒＯ_２，Ｔ
ｉＯ_２の微粒子が、分散媒たとえば水、アルコール系も
しくはその他の有機溶媒にコロイド状に分散したもので
ある。または、Ｓｉ，Ａ１，Ｓｎ，Ｓｂ，Ｔａ，Ｃｅ，
Ｌａ，Ｆｅ，Ｚｎ，Ｗ，Ｚｒ，Ｉｎ，Ｔｉの無機酸化物
の２種以上によって構成される複合微粒子が水、アルコ
ール系もしくはその他の有機溶媒にコロイド状に分散し
たものである。

【００６３】また、光硬化性樹脂には、アセトフェノン
系、ベンゾフェノン系等の光重合開始剤を配合すること
ができる。

【００６４】また、２Ｐ法で用いる光学基板には、ハー
ドコート膜と光学基板の密着性を向上させるために、例
えばシランカップリング剤を主成分としたプライマー層
を形成することができる。

【００６５】

【発明の効果】本発明の光学部品は、微細凹凸からなる
反射防止構造が成形金型からの転写で光学基板に形成さ
れているため、耐久性に優れた反射防止機能が低コスト
で付与されている。

【００６６】また、本発明の光学部品は、微細凹凸から
なる反射防止構造が光学基板上のハードコート膜に形成
されているため、耐擦傷性を有すると共に耐久性に優れ
た反射防止機能が低コストで付与されている。

【００６７】本発明の光学部品の製造方法によれば、微
細凹凸と転写箔からの転写を同時に行うことができる。

【００６８】本発明の光学部品の製造方法によれば、微
細凹凸からなる反射防止構造を光学基板上のハードコー
ト膜に形成することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の光学部品に形成される微細凹凸の概念
を示す断面図であり、（ａ）〜（ｃ）はその態様を示
す。

【図２】本発明の光学部品の第１実施形態を示す断面図
であり、（ａ）〜（ｄ）はその態様を示す。

【図３】インモールド成形の金型の構造を示す概略断面
図である。

【図４】本発明の光学部品の第２実施形態を示す断面図
であり、（ａ）、（ｂ）はその態様を示す。

【図５】２Ｐ法により第２実施形態の光学部品を成形す
る方法を示す概略断面図である。

【符号の説明】 １ａ〜１ｈ 光学部品 ２ 光学基板 ３ 微細凹凸 ４ ハードコート膜 ５ 反射防止膜

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 2K009 AA04 AA07 AA12 AA15 BB11 BB13 BB14 BB23 BB24 BB25 CC03 CC06 CC09 CC34 CC38 CC42 DD02 DD03 DD05 DD08 DD15 DD17 4F206 AD10 AD20 AF01 AG03 AG05 AH73 AJ09 JA07 JB13 JQ81

Claims (7)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 光学基板の少なくとも一面側に、成形金
   型により転写された、繰り返しピッチと高さが可視光の
   波長未満である微細凹凸からなる反射防止構造が設けら
   れていることを特徴とする光学部品。
2. 【請求項２】 請求項１記載の光学部品において、 前記反射防止構造が設けられている面の反対面側にハー
   ドコート膜が設けられていることを特徴とする光学部
   品。
3. 【請求項３】 請求項２記載の光学部品において、 前記ハードコート膜の表面に反射防止膜が設けられてい
   ることを特徴とする光学部品。
4. 【請求項４】 光学基板の少なくとも一面側に設けられ
   ているハードコート膜の外表面に、繰り返しピッチと高
   さが可視光の波長未満である微細凹凸からなる反射防止
   構造が設けられていることを特徴とする光学部品。
5. 【請求項５】 請求項４記載の光学部品において、 前記光学基板の前記ハードコート膜が設けられている面
   と反対面に前記反射防止構造又は反射防止膜が設けられ
   ていることを特徴とする光学部品。
6. 【請求項６】 一方の面に繰り返しピッチと高さが可視
   光の波長未満である微細凹凸が設けられた金型のキャビ
   ティの対向面に転写箔を配置し、前記キャビティに溶融
   した光透過性樹脂を圧入することにより、繰り返しピッ
   チと高さが可視光の波長未満である微細凹凸からなる反
   射防止構造が一面側に設けられ、他面側に前記転写箔か
   ら転写された加飾材が設けられた光学部品を得ることを
   特徴とする光学部品の製造方法。
7. 【請求項７】 可視光の波長未満である微細凹凸が設け
   られている金型上にハードコート膜を形成する光硬化性
   樹脂を塗布する塗布工程と、前記光硬化性樹脂上に光学
   基板を乗せ、前記金型と前記光学基板との間に圧力をか
   けて前記光硬化性樹脂を押し広げる展延工程と、前記光
   硬化性樹脂を硬化させる硬化工程と、前記金型から硬化
   した光硬化性樹脂を剥離させる離型工程とを有すること
   を特徴とする光学部品の製造方法。