KR20090057224A - 디스플레이용 반사 방지 필름 및 이를 이용한 디스플레이 - Google Patents

디스플레이용 반사 방지 필름 및 이를 이용한 디스플레이 Download PDF

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KR20090057224A
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Abstract

투명 필름(11) 상에, 대전 방지성을 갖는 접착층(12), 하드 코트층(13), 및 반사 방지층(14)이 형성되어 이루어지는 디스플레이용 반사 방지 필름으로서, 상기 하드 코트층(13)의 굴절률이 1.67 이상이고, 또한, 상기 투명 필름(11)의 굴절률(R1), 상기 접착층(12)의 굴절률(R2), 및 상기 하드 코트층(13)의 굴절률(R3)이 하기 수학식 (Ⅰ)을 만족시키는 디스플레이용 반사 방지 필름.
<수학식 (I)>
|R2-(R1+R3)/2|≤a (Ⅰ)(식 중, a는 0.07 이하의 실수임)
투명 필름, 하드 코트층, 반사 방지층, 반사 방지 필름

Description

디스플레이용 반사 방지 필름 및 이를 이용한 디스플레이{REFLECTION PREVENTING FILM FOR DISPLAY AND DISPLAY USING THE SAME}
본 발명은 플라즈마 디스플레이 등의 디스플레이의 화상 표시부에 이용되고 반사 방지 성능을 갖는 디스플레이용 광학 필터에 관한 것이다.
액정 디스플레이(LCD), 플라즈마 디스플레이(PDP), 전계 방출형 디스플레이(FED) 및 표면 전계형 디스플레이(SED), EL 디스플레이 등의 플랫 패널 디스플레이(FPD), 및 CRT 디스플레이 등의 디스플레이가 표시 장치로서 널리 보급되어 있다. 근래, 디스플레이는 대화면 표시가 주류이고, 차세대 대화면 표시 디바이스로서 PDP가 일반적으로 되고 있다.
이와 같은 디스플레이에서는 형광등 등의 외부 광원으로부터 조사된 광선의 반사에 의해 표시된 화상이 잘 보이지 않는 문제가 있었다. 그래서, 종래의 디스플레이에는 화상 표시부에 반사 방지층을 갖는 디스플레이용 반사 방지 필름이 설치되어 있다.
반사 방지층으로는 금속 산화물로 된 투명 박막 등이 이용되고 있다. 또한, 다양한 파장의 빛의 반사를 방지하여 반사 방지 효과를 더욱 향상시키기 위해서, 예를 들면, 고굴절률층과 저굴절률층을 적층시킨 것 등, 복수의 굴절률을 갖는 투 명 박막을 설치한 다층막도 반사 방지층으로 이용되고 있다.
또한, 디스플레이 표면은 흠집이 나면 시인성이 저하되기 때문에, 반사 방지 필름에서는 경성을 부여하기 위한 하드 코트층이 추가로 이용되고 있다. 또한, 디스플레이 표면에 먼지가 부착되면 시인성이 저하되기 때문에, 반사 방지 필름은 대전 방지성을 갖는 것이 요구되고 있다. 또한, 반사 방지 필름은 대전 방지성 외에 높은 투명성을 가질 필요가 있기 때문에, 하드 코트층에 ITO나 ATO 등의 무기계 대전 방지 입자를 함유시킴으로써 반사 방지 필름에서 대전 방지성과 투명성의 양립을 도모하고 있다.
이와 같은 하드 코트층 및 반사 방지층을 갖는 반사 방지 필름은 투명 필름 상에 접착층을 개재시켜, 하드 코트층 및 반사 방지층을 이 순서로 적층시킴으로써 제조된다.
근래에는, 디스플레이의 대화면화, 플랫 패널화로 반사 방지 성능 향상과 동시에 비용 절감의 요구가 강해지고 있다. 비용 절감을 위해서, 반사 방지 필름에서는 투명 필름 상에 하드 코트층 및 저굴절률층만으로 이루어지는 반사 방지층을 이 순서로 적층시킨 구성으로 하는 것이 검토되고 있다. 이와 같은 구성으로 반사 방지 성능을 향상시키기 위해서는, 하드 코트층의 굴절률을 크게 할 필요가 있다. 그 때문에 하드 코트층에 상기 무기계 대전 방지 입자 중에서도 높은 굴절률을 갖는 것을 다량으로 첨가해야만 하는데, 하드 코트층 중의 무기계 대전 방지 입자의 자유 전자 흡수 등에 의한 가시광의 흡수 등에 의해 투명성의 저하를 초래하는 문제가 있었다.
한편, 하드 코트층 및 투명 필름과의 접착성을 확보하기 위해 접착층에 무기계 대전 방지 입자를 첨가하면, 접착층이 박막이기 때문에 높은 투명성을 확보한 채로 대전 방지성을 갖는 반사 방지 필름이 얻어진다. 이와 같은 구성을 갖는 반사 방지 필름으로는, 예를 들면, 일본 특개 2004-163752호 공보에 개시되어 있는 것 등을 들 수 있다. 이와 같이, 접착층에 무기계 대전 방지 입자를 첨가함으로써, 하드 코트층에는 비도전성이기는 하지만 가시광역 흡수가 적은 고굴절률 입자를 첨가하는 것이 가능해진다.
그러나 종래의 디스플레이용 반사 방지 필름에서는, 반사 방지 효과를 높이고자 하는 경우, 특히 투명 필름, 접착층 및 하드 코트층에서 각층 간의 계면에서 입사광이 반사하여 간섭 무늬(얼룩)가 생기는 문제가 있었다. 간섭 무늬의 발생은 디스플레이 등의 광학 물품의 시인성의 저하를 초래한다.
따라서, 본 발명은 높은 반사 방지성을 유지하면서 간섭 무늬의 발생이 억제된 디스플레이용 반사 방지 필름을 제공하는 것을 목적으로 한다.
<발명의 개시>
본 발명자는 상기 과제를 감안하여 여러 가지 검토를 행한 결과, 굴절률이 1.67 이상인 하드 코트층을 이용하고, 접착층의 굴절률을 투명 필름의 굴절률과 하드 코트층의 굴절률의 중간 값으로부터 0.07 이내로 함으로써, 높은 반사 방지성을 유지하면서 간섭 무늬의 발생을 억제할 수 있음을 발견하였다.
즉, 본 발명은 투명 필름 상에, 대전 방지성을 갖는 접착층, 하드 코트층, 및 저굴절률층이 이 순서로 형성되어 이루어지는 디스플레이용 반사 방지 필름으로서, 상기 하드 코트층의 굴절률이 1.67 이상이고, 또한, 상기 투명 필름의 굴절률(R1), 상기 접착층의 굴절률(R2) 및 상기 하드 코트층의 굴절률(R3)이 하기 수학식 (Ⅰ)을 만족시키는 것을 특징으로 하는 디스플레이용 반사 방지 필름이다.
<수학식 (I)>
|R2-(R1+R3)/2|≤a (식 중, a는 0.07 이하의 실수이다.)
본 발명의 디스플레이용 반사 방지 필름의 바람직한 양태는 이하와 같다.
(1) 상기 하드 코트층이 지르코니아, 티타니아, 산화셀렌 및 산화아연으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 산화물 미립자를 포함한다. 이에 의해, 고경도 및 고굴절률을 갖는 하드 코트층을 낮은 비용으로 형성할 수 있다.
(2) 높은 반사 방지 성능을 얻기 위해서 상기 저굴절률층의 굴절률과 상기 하드 코트층의 굴절률의 차이를 0.20 내지 0.60으로 한다.
(3) 상기 접착층의 두께가 60 내지 200㎚이다. 접착층의 두께를 상기 범위 내로 함으로써 간섭 무늬의 발생을 더 고도로 억제하는 것이 가능해진다.
<발명의 효과>
본 발명에 의하면, 높은 반사 방지성을 가지고 간섭 무늬의 발생이 고도로 억제된 디스플레이용 반사 방지 필름을 제공하는 것이 가능해진다. 따라서, 디스플레이 화상 표시면에서의 시인성을 고도로 향상시킬 수 있다.
도 1은 본 발명의 바람직한 일 실시 형태인 반사 방지 필름의 모식 단면도를 나타낸다.
<부호의 설명>
11:투명 필름
12:접착층
13:하드 코트층
14:반사 방지층
<발명을 실시하기 위한 최선의 형태>
본 발명의 디스플레이용 반사 방지 필름은, 도 1에 도시한 바와 같이 투명 필름(11) 상에 접착층(12), 상기 접착층(12) 상에 설치된 하드 코트층(13) 및 상기 하드 코트층(13) 상에 설치된 저굴절률층(14)을 가진다.
이와 같은 구성을 갖는 본 발명의 디스플레이용 반사 방지 필름은 상기 하드 코트층의 굴절률이 1.67 이상이고, 또한, 상기 투명 필름의 굴절률(R1), 상기 접착층의 굴절률(R2) 및 상기 하드 코트층의 굴절률(R3)이 하기 수학식 (Ⅰ)을 만족시키는 것을 특징으로 한다.
<수학식 (I)>
|R2-(R1+R3)/2|≤a (식 중, a는 0.07 이하의 실수이다.)
본 발명의 광학 필터에서는 상기의 조건을 만족시킴으로써 높은 반사 방지성을 저하시키지 않고, 투명 필름과 접착층의 계면 및 접착층과 하드 코트층의 계면 에서의 입사광의 반사에 의한 간섭 무늬의 발생이 억제된 디스플레이용 반사 방지 필름을 제공하는 것이 가능해진다.
상기 수학식 (Ⅰ)에서 간섭 무늬의 발생을 고도로 방지하기 위해서는, a를 0.07 이하로 하지만, 바람직하게는 0.03 이하, 더 바람직하게는 0.02 이하, 특히 바람직하게는 0.02 내지 0.00으로 하는 것이 좋다.
본 발명의 반사 방지 필름에서, 하드 코트층은 1.67 이상의 굴절률을 갖지만, 바람직하게는 1.70 이상, 특히 바람직하게는 1.80 이상의 굴절률로 하는 것이 좋다. 이에 의해, 높은 반사 방지성을 갖는 반사 방지 필름으로 할 수 있다.
이와 같은 굴절률을 갖는 하드 코트층으로 하기 위해서는, 높은 굴절률을 갖는 미립자를 이용하는 것이 바람직하다. 구체적으로는, 지르코니아, 티타니아, 산화셀렌 및 산화아연 등으로 이루어지는 산화물 미립자가 바람직하다. 이들 산화물 미립자는 가시 영역의 빛의 흡수가 적은 고투명성, 고경도 및 고굴절률을 갖는 하드 코트층을 낮은 비용으로 형성할 수 있다. 또한, 산화물 미립자는 1종 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 이용할 수 있다.
하드 코트층에서, 이들 산화물 미립자의 평균 입자 지름은 0.001 내지 2㎛, 바람직하게는 0.001 내지 0.2㎛로 하는 것이 좋다. 상기 평균 입자 지름이 이들 범위 내이면, 산란광이 적고, 높은 투명성을 갖는 하드 코트층으로 할 수 있다.
하드 코트층의 산화물 미립자 함유량은, 하드 코트층에 포함되는 바인더 수지 100질량부에 대하여 5 내지 3000질량부, 바람직하게는 10 내지 2500질량부, 특히 바람직하게는 100 내지 2000질량부로 하는 것이 좋다.
하드 코트층의 두께는 바람직하게는 0.3 내지 10㎛, 더 바람직하게는 0.5 내지 5㎛이다. 이에 의해, 충분한 하드 코트성을 갖는 하드 코트층으로 할 수 있다.
또한, 본 발명에서 하드 코트층이란 JIS5600-5-4(1999)로 규정되는 연필 경도 시험으로 H 이상의 경도를 갖는 것을 말한다.
하드 코트층은 상기 산화물 미립자 외에 바인더 수지를 포함한다. 또한, 바인더 수지 자체가 높은 굴절률을 갖는 경우에는, 하드 코트층은, 전술한 미립자를 포함하지 않고 바인더 수지만으로 이루어질 수도 있다.
바인더 수지로는 아크릴 수지, 에폭시 수지, 우레탄 수지, 실리콘 수지 등을 들 수 있다. 또한, 열경화성 수지, 자외선 경화성 수지 중 어느 것이어도 되지만, 자외선 경화성 수지가 바람직하다.
열경화성 수지로는 페놀 수지, 레조르시놀 수지, 요소 수지, 멜라민 수지, 에폭시 수지, 아크릴 수지, 우레탄 수지, 푸란 수지, 실리콘 수지 등을 들 수 있다.
자외선 경화성 수지(모노머, 올리고머)로는 예를 들면, 2-히드록시에틸(메타)아크릴레이트, 2-히드록시프로필(메타)아크릴레이트, 4-히드록시부틸(메타)아크릴레이트, 2-에틸헥실폴리에톡시(메타)아크릴레이트, 벤질(메타)아크릴레이트, 이소보르닐(메타)아크릴레이트, 페닐옥시에틸(메타)아크릴레이트, 트리시클로데칸모노(메타)아크릴레이트, 디시클로펜테닐옥시에틸(메타)아크릴레이트, 테트라히드로푸르푸릴(메타)아크릴레이트, 아크릴로일모르포린, N-비닐카프로락탐, 2-히드록시-3-페닐옥시프로필(메타)아크릴레이트, o-페닐페닐옥시에틸(메타)아크릴레이트, 네 오펜틸글리콜디(메타)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜디프로폭시디(메타)아크릴레이트, 히드록시피발린산네오펜틸글리콜디(메타)아크릴레이트, 트리시클로데칸디메틸올디(메타)아크릴레이트, 1,6-헥산디올디(메타)아크릴레이트, 노난디올디(메타)아크릴레이트, 트리메틸올프로판트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리스리톨트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리스리톨테트라(메타)아크릴레이트, 트리스[(메타)아크릴록시에틸]이소시아누레이트, 디트리메틸올프로판테트라(메타)아크릴레이트 등의 (메타)아크릴레이트모노머류; 폴리올 화합물(예를 들면, 에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜, 네오펜틸글리콜, 1,6-헥산디올, 3-메틸-1,5-펜탄디올, 1,9-노난디올, 2-에틸-2-부틸-1,3-프로판디올, 트리메틸올프로판, 디에틸렌글리콜, 디프로필렌글리콜, 폴리프로필렌글리콜, 1,4-디메틸올시클로헥산, 비스페놀 A 폴리에톡시디올, 폴리테트라메틸렌글리콜 등의 폴리올류, 상기 폴리올류와 숙신산, 말레산, 이타콘산, 아디프산, 수소 첨가 다이머산, 프탈산, 이소프탈산, 테레프탈산 등의 다염기산 또는 이들 산무수물류와의 반응물인 폴리에스테르폴리올류, 상기 폴리올류와 ε-카프로락톤과의 반응물인 폴리카프로락톤폴리올류, 상기 폴리올류와 상기, 다염기산 또는 이들 산무수물류의ε-카프로락톤과의 반응물, 폴리카보네이트폴리올, 폴리머 폴리올 등)과 유기 폴리이소시아네이트(예를 들면, 톨릴렌디이소시아네이트, 이소포론디이소시아네이트, 자일릴렌디이소시아네이트, 디페닐메탄-4,4'-디이소시아네이트, 디시클로펜타닐디이소시아네이트, 헥사메틸렌디이소시아네이트, 2,4,4'-트리메틸헥사메틸렌디이소시아네이트, 2,2'-4-트리메틸헥사메틸렌디이소시아네이트 등)와 수산기 함유 (메타)아크릴레이트(예를 들면, 2-히드록시에틸(메타)아크릴레이트, 2-히드록시프 로필(메타)아크릴레이트, 4-히드록시부틸(메타)아크릴레이트, 2-히드록시-3-페닐옥시프로필(메타)아크릴레이트, 시클로헥산-1,4-디메틸올모노(메타)아크릴레이트, 펜타에리스리톨트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리스리톨펜타(메타)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨헥사(메타)아크릴레이트, 글리세린디(메타)아크릴레이트 등)의 반응물인 폴리우레탄(메타)아크릴레이트, 비스페놀 A형 에폭시 수지, 비스페놀 F형 에폭시 수지 등의 비스페놀형 에폭시 수지와 (메타)아크릴산의 반응물인 비스페놀형 에폭시(메타)아크릴레이트 등의 (메타)아크릴레이트 올리고머류 등을 들 수 있다. 이들 화합물은 1종 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다. 이들 자외선 경화성 수지를, 열중합 개시제와 함께 이용하여 열경화성 수지로서 사용할 수도 있다.
하드 코트층으로 하기 위해서는, 상기한 자외선 경화성 수지(모노머, 올리고머) 중, 펜타에리스리톨트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리스리톨펜타(메타)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨헥사(메타)아크릴레이트 등 경질의 다관능 모노머를 주로 사용하는 것이 바람직하다.
상기 하드 코트층을 제작하기 위해서는, 상기 바인더 수지 또는 상기 바인더 수지의 모노머 혹은 올리고머 외에, 필요에 따라 산화물 미립자, 광중합 개시제 등의 반응 개시제, 톨루엔 등의 용제 및 첨가제를 포함하는 조성물을 도포 또는 인쇄한 후에, 바람직하게는, 가열, 전자선 또는 자외선의 조사에 의해 경화시키는 방법이 바람직하게 이용된다. 또한, 가열, 전자선 또는 자외선의 조사에 의해 경화시키는 경우에는, 후술하는 반사 방지층의 경화와 동시에 행할 수도 있다.
자외선 경화성 수지의 광중합 개시제로서, 자외선 경화성 수지의 성질에 적 합한 임의의 화합물을 사용할 수 있다. 예를 들면, 2-히드록시-2-메틸-1-페닐프로판-1-온, 1-히드록시시클로헥실페닐케톤, 2-메틸-1-(4-(메틸티오)페닐)-2-모르폴리노프로판-1 등의 아세토페논계, 벤질디메틸케탈 등의 벤조인계, 벤조페논, 4-페닐벤조페논, 히드록시벤조페논 등의 벤조페논계, 이소프로필티오크산톤, 2-4-디에틸티오크산톤 등의 티오크산톤계, 그 외 특수한 것으로는 메틸페닐글리옥시레이트 등을 사용할 수 있다. 특히 바람직하게는, 2-히드록시-2-메틸-1-페닐프로판-1-온, 1-히드록시시클로헥실페닐케톤, 2-메틸-1-(4-(메틸티오)페닐)-2-모르폴리노프로판-1, 벤조페논 등을 들 수 있다. 이들 광중합 개시제는, 필요에 따라, 4-디메틸아미노벤조산과 같은 벤조산계 또는, 제3급 아민계 등의 공지 관용의 광중합 촉진제의 1종 또는 2종 이상을 임의의 비율로 혼합하여 사용할 수 있다. 또한, 광중합 개시제만의 1종 또는 2종 이상의 혼합으로 사용할 수 있다. 특히 1-히드록시시클로헥실페닐케톤(치바·스페셜리티케미컬즈사 제조, 이르가큐어 184)이 바람직하다.
광중합 개시제의 양은 수지 조성물에 대하여 0.1 내지 10질량%, 바람직하게는 0.1 내지 5질량%이다.
본 발명의 반사 방지 필름은 반사 방지 기능을 향상시키기 위해서 전술한 하드 코트층 상에 저굴절률층을 가진다. 저굴절률층은 하드 코트층보다 낮은 굴절률을 갖는 층이다. 또한, 전술한 하드 코트층 상에는, 상기 저굴절률층과 상기 저굴절률층보다 높은 굴절률을 갖는 고굴절률층과의 적층막 등이 이용될 수도 있다. 그 중에서도, 낮은 비용으로 간섭 무늬의 발생을 억제하여 높은 반사 방지성을 얻기 위해서는, 상기 저굴절률층만으로 이루어지는 단층막을 반사 방지층으로 이용하 는 것이 바람직하다.
저굴절률층으로는 화학 증착(CVD) 및 물리 증착(PVD) 등의 수단에 의해 형성된 금속 산화물로 이루어지는 투명 박막, 산화물 미립자 등을 포함하는 용액을 도포하여 경화시킨 도공층을 들 수 있다.
그 중에서도, 저굴절률층으로는 제조 비용이 낮고 생산성이 뛰어난 점 때문에 산화물 미립자 등을 도포하여 이루어지는 도공층을 이용하는 것이 바람직하다. 저굴절률층은, 구체적으로는 산화물 미립자 및/또는 불소 수지 미립자 등을 바인더 수지, 바람직하게는 자외선 경화성 수지 중에 분산시킨 도공층인 것이 바람직하다.
본 발명의 반사 방지 필름에서, 간섭 무늬의 발생을 고도로 방지하기 위해서는 상기 저굴절률층의 굴절률과 상기 하드 코트층의 굴절률의 차이를 바람직하게는 0.20 내지 0.50, 더 바람직하게는 0.3 내지 0.5로 하는 것이 좋다.
저굴절률층의 굴절률은 1.30 내지 1.50, 특히 1.30 내지 1.45가 바람직하다. 이 굴절률이 1.50 초과이면, 반사 방지 필름의 반사 방지 성능이 저하한다. 막두께는 일반적으로 10 내지 500㎚의 범위, 바람직하게는 20 내지 200㎚이다.
또한, 자외선 경화성 수지 등의 바인더 수지로는, 하드 코트층에서 전술한 것과 마찬가지의 것이 이용된다.
상기 산화물 미립자로는 중공 실리카 입자를 바람직하게 들 수 있다. 또한, 상기 불소 수지 미립자로는 FET(플루오로에틸렌/프로필렌 공중합체), PTFE(폴리테트라플루오로에틸렌), ETFE(에틸렌/테트라플루오로에틸렌), PVF(폴리플루오르화비닐), PVD(폴리플루오르화비닐리덴) 등으로 이루어지는 것을 들 수 있다.
저굴절률층에서의 산화물 미립자 및 불소 수지 미립자의 평균 입자 지름은, 1㎚ 내지 1㎛, 바람직하게는 5 내지 200㎚로 하는 것이 좋다. 그 중에서도, 중공 실리카를 특히 바람직하게 들 수 있다. 중공 실리카로는 평균 입자 지름 10 내지 100㎚, 바람직하게는 10 내지 50㎚, 비중 0.5 내지 1.0, 바람직하게는 0.8 내지 0.9의 것이 바람직하다.
저굴절률층에서의 산화물 미립자 및 불소 수지 미립자의 함유량은, 전술한 자외선 경화성 수지 등의 바인더 수지 100질량부에 대하여, 5 내지 2000질량부, 바람직하게는 80 내지 200질량부로 하는 것이 좋다.
또한, 반사 방지층에는 전술한 저굴절률층 하 또는 저굴절률층 상에, 고굴절률층이 더 있을 수도 있다.
고굴절률층은 바인더 수지, 바람직하게는 자외선 경화성 수지 중에, 주석 도핑 산화인듐(ITO), 안티몬 도핑 산화주석(ATO), 불소 도핑 산화주석(FTO), 인 도핑 산화주석(PTO), 안티몬산아연, 인듐 도핑 산화아연, 산화루테늄, 산화레늄, 산화은, 산화니켈, 산화구리, Sb2O3, SbO2, In2O3, SnO2, ZnO, Al을 도핑한 ZnO, TiO2 등의 도전성 금속 산화물 미립자(무기 화합물)를 굴절률 조정용 미립자로서 분산시킨 층인 것이 바람직하다.
고굴절률층내 금속 산화물 미립자의 평균 입자 지름은 10 내지 10000㎚, 바람직하게는 10 내지 50㎚로 하는 것이 좋다. 또한, 상기 평균 입자 지름이 이들 범위 내이면, 굴절률 조정용 미립자의 첨가에 의해, 얻어지는 반사 방지 필름의 권 취성을 향상시킬 수 있다. 그 중에서도, ITO, 특히 평균 입자 지름 10 내지 50㎚의 ITO가 바람직하다.
또한, 고굴절률층의 자외선 경화성 수지 등의 바인더 수지는, 하드 코트층에서 전술한 것과 마찬가지의 것을 들 수 있다.
고굴절률층의 굴절률 조정용 미립자 함유량은 자외선 경화성 수지 등의 바인더 수지 100질량부에 대하여, 5 내지 2000질량부, 바람직하게는 80 내지 200질량부로 하는 것이 좋다.
고굴절률층은 굴절률을 1.6 이상, 특히 1.64 이상으로 한 것이 바람직하다. 막두께는 일반적으로 10 내지 500㎚의 범위, 바람직하게는 20 내지 200㎚이다.
반사 방지층의 각층을 형성하기 위해서는, 상기한 바와 같이 바인더 수지(바람직하게는 자외선 경화성 수지)에, 필요에 따라 상기한 산화물 미립자, 불소 수지 미립자, 및 도전성 금속 산화물 미립자, 광중합 개시제 등의 반응 개시제, 및 톨루엔 등의 용제를 배합하고, 얻어진 도공액을 도공하고, 이어서 건조, 필요에 따라 열경화시키거나, 혹은 도공 후, 필요에 따라 건조하고, 자외선을 조사한다. 이 경우, 각층을 1층씩 도공하여 경화시켜도 되고, 전체 층을 도공한 후, 함께 경화시킬 수도 있다. 또한, 상기 광중합 개시제로는 전술한 하드 코트층에서 기재한 것과 마찬가지의 것을 바람직하게 들 수 있다.
도공의 구체적인 방법으로는 아크릴계 모노머 등을 포함하는 자외선 경화성 수지 등을 톨루엔 등의 용제로 용액으로 한 도공액을 그라비아 코터 등에 의해 코팅하고, 그 후 건조하고, 이어서 자외선에 의해 경화하는 방법을 들 수 있다. 이 웨트 코팅법이라면, 고속으로 균일하게 또한 저렴하게 성막할 수 있다고 하는 이점이 있다. 이 코팅 후에 예를 들면 자외선을 조사하여 경화함으로써 밀착성의 향상, 막의 경도의 상승이라는 효과가 얻어진다.
자외선 경화의 경우는, 광원으로서 자외~가시 영역에 발광하는 많은 것을 채택할 수 있고, 예를 들면 초고압, 고압, 저압 수은등, 케미컬 램프, 크세논 램프, 할로겐 램프, 수은 할로겐 램프, 카본 아크등, 백열등, 레이저광 등을 들 수 있다. 조사 시간은 램프의 종류, 광원의 강도에 따라 일률적으로는 결정할 수 없지만 수초 내지 수분 정도이다. 또한, 경화 촉진을 위해서, 미리 적층체를 40 내지 120℃로 가열하고, 이것에 자외선을 조사할 수도 있다.
본 발명의 반사 방지 필름에서 전술한 하드 코트층 및 반사 방지층은 접착층을 개재시켜 투명 필름 상에 적층된다.
상기 접착층은 투명 필름 및 하드 코트층과의 밀착성 및 대전 방지성을 갖는 것이면 제한되지 않는다. 구체적으로는, 무기계 대전 방지 입자, 유기계 대전 방지제, 고굴절률 입자 및/또는 고굴절률 수지와 접착 수지를 포함하는 층이 이용된다. 대전 방지 효과의 안정성을 고려하면, 접착층은 무기계 대전 방지 입자 또는 유기계 대전 방지제와 접착 수지로 이루어지는 층이 바람직하고, 무기계 대전 방지 입자와 접착 수지로 이루어지는 것이 더 바람직하다.
상기 유기계 대전 방지제로는 실리콘계, 비이온계, 음이온계, 양이온계, 양성계 대전 방지제, 도전성 고분자 등 종래 공지의 것이라면 특별히 제한 없이 이용된다. 바람직하게는, 탄소 원자수 8 내지 22의 알킬기를 갖는 4급 암모늄염기를 분자 내에 1개 이상 갖는 양이온계 대전 방지제; 폴리아세틸렌, 폴리페닐렌, 폴리페닐렌비닐렌, 폴리아센, 폴리페닐아세틸렌, 폴리나프탈렌 등의 탄화수소계 폴리머, 폴리피롤, 폴리아닐린, 폴리티오펜, 폴리에틸렌비닐렌, 폴리아줄렌, 폴리이소티아나프텐 등의 헤테로 원자 함유 폴리머 등의 도전성 고분자 등을 들 수 있다.
상기 무기계 대전 방지 입자로는 무기 안티몬 도핑 산화주석, 주석 도핑 산화인듐, 안티몬산아연, 및 인 도핑 산화주석을 바람직하게 들 수 있다. 이들 무기계 대전 방지 입자는 도전성이 뛰어나고 높은 대전 방지성을 갖는 접착층을 형성할 수 있다.
상기 무기계 대전 방지 입자의 평균 입자 지름은 10 내지 500㎚, 바람직하게는 10 내지 200㎚로 하는 것이 좋다. 이에 의해, 투명성을 저하시키지 않고 높은 대전 방지성을 얻을 수 있다.
또한, 접착층의 무기계 대전 방지 입자 함유량은 접착 수지 100질량부에 대하여, 100 내지 2000질량부, 바람직하게는 150 내지 500질량부로 하는 것이 바람직하다. 이에 의해, 굴절률과 대전 방지성이 뛰어난 접착층으로 할 수 있다.
상기 접착 수지로는 에틸렌-아세트산비닐 공중합체, 에틸렌-아크릴산메틸 공중합체, 아크릴 수지(예를 들어, 에틸렌-(메타)아크릴산 공중합체, 에틸렌-(메타)아크릴산에틸 공중합체, 에틸렌-(메타)아크릴산메틸 공중합체, 금속 이온 가교 에틸렌-(메타)아크릴산 공중합체), 부분 비누화 에틸렌-아세트산비닐 공중합체, 카르복실화에틸렌-아세트산비닐 공중합체, 에틸렌-(메타)아크릴-무수말레산 공중합체, 에틸렌-아세트산비닐-(메타)아크릴레이트 공중합체 등의 에틸렌계 공중합체를 들 수 있다(또한, 「(메타)아크릴」은 「아크릴 또는 메타크릴」을 나타낸다). 그 외, 폴리비닐부티랄(PVB) 수지, 에폭시 수지, 페놀 수지, 실리콘 수지, 폴리에스테르 수지, 아크릴 변성 폴리에스테르 수지, 우레탄 수지 등도 이용할 수 있지만, 양호한 접착성이 얻어지기 쉬운 것은 아크릴 수지, 에폭시 수지, 폴리에스테르 수지, 아크릴 변성 폴리에스테르 수지이다.
접착층의 굴절률은 투명 필름과 하드 코트층의 굴절률에 따라서도 다르지만, 바람직하게는 1.66 내지 1.90, 더 바람직하게는 1.67 내지 1.75로 하는 것이 좋다. 이에 의해, 간섭 무늬의 발생이 억제된, 높은 반사 방지성을 갖는 반사 방지 필름으로 할 수 있다.
또한, 접착층의 두께는 60 내지 200㎚, 특히 60 내지 110㎚의 범위가 바람직하다. 접착층의 두께를 상기 범위 내로 함으로써 간섭 무늬의 발생을 더욱 고도로 억제하는 것이 가능해진다.
본 발명의 반사 방지 필름에 이용되는 투명 필름의 재료로는 투명(「가시광에 대하여 투명」을 의미한다.)이라면 특별히 제한은 없지만, 일반적으로 플라스틱 필름이 사용된다. 예를 들면, 폴리에스테르{예, 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET), 폴리부틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트}, 폴리메틸메타크릴레이트(PMMA), 아크릴 수지, 폴리카보네이트(PC), 폴리스티렌, 트리아세테이트 수지, 폴리비닐알코올, 폴리염화비닐, 폴리염화비닐리덴, 폴리에틸렌, 에틸렌-아세트산비닐 공중합체, 폴리비닐부티랄, 금속 이온 가교 에틸렌-메타크릴산 공중합체, 폴리우레탄, 셀로판 등을 들 수 있다. 이들 중에서도, 가공시의 부하(열, 용제, 절곡 등)에 대한 내성이 높고, 투명성이 특히 높은 등의 점에서, 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET), 폴리부틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트, 폴리메틸메타크릴레이트(PMMA), 아크릴 수지 및 폴리카보네이트(PC); 특히 PET, 폴리카보네이트(PC), 폴리메틸메타크릴레이트(PMMA)가 바람직하다. 그 중에서도, PET가, 굴절률이 높기 때문에 바람직하다. 또한 PET는, 투명성, 가요성의 점, 그리고 인장 강도, 신장률 등의 기계적 특성, 또한 절연 내전압에서도 뛰어나서 특히 바람직하다.
또한, 투명 필름의 두께는, 10 내지 250㎛, 바람직하게는 50 내지 200㎛로 하는 것이 좋다.
본 발명의 반사 방지 필름은, 전술한 각층 외에, 근적외선 흡수층, 전자파 쉴드층을 더 가지고 있을 수도 있다. 이들을 가짐으로써 반사 방지 필름에 새로운 기능을 더욱 부여할 수 있다.
근적외선 흡수층(즉, 근적외선 차폐층)은 일반적으로 투명 필름의 표면에 색소 등을 포함하는 층이 형성함으로써 얻어진다. 근적외선 흡수층은, 예를 들면 색소 및 바인더로서의 합성 수지 등을 포함하는 자외선 경화성 또는 전자선 경화성의 수지를 포함하는 도공액을 도공, 필요에 따라 건조, 그리고 경화시킴으로써 얻어진다. 필름으로서 사용하는 경우는, 일반적으로 근적외선 컷 필름이고, 예를 들면 색소 등을 함유하는 필름이다.
색소로는, 일반적으로 800 내지 1200㎚의 파장에 흡수 극대를 갖는 것으로, 예로는, 프탈로시아닌계 색소, 금속 착체계 색소, 니켈디티올렌 착체계 색소, 시아닌계 색소, 스쿠아릴륨계 색소, 폴리메틴계 색소, 아조메틴계 색소, 아조계 색소, 폴리아조계 색소, 디이모늄계 색소, 아미늄계 색소, 안트라퀴논계 색소를 들 수 있고, 특히 시아닌계 색소 또는 스쿠아릴륨계 색소가 바람직하다. 이들 색소는, 단독 또는 조합하여 사용할 수 있다.
바인더로서 합성 수지의 예로는, 아크릴 수지, 불소 수지, 폴리에스테르 수지, 염화비닐 수지, 스티렌 수지, 및 노르보르넨 수지 등이 바람직하게 이용된다. 이들은 1종 단독으로 이용할 수도 있고 2종 이상을 혼합해서 이용할 수도 있다.
본 발명에서는, 근적외선 흡수층에 네온 발광의 흡수 기능을 부여함으로써 색조의 조절 기능을 갖게 할 수도 있다. 이를 위해, 네온 발광의 흡수층을 형성하여도 되지만, 근적외선 흡수층에 네온 발광의 선택 흡수 색소를 함유시킬 수도 있다.
네온 발광의 선택 흡수 색소로는 시아닌계 색소, 스쿠아릴륨계 색소, 안트라퀴논계 색소, 프탈로시아닌계 색소, 폴리메틴계 색소, 폴리아조계 색소, 아줄레늄계 색소, 디페닐메탄계 색소, 트리페닐메탄계 색소를 들 수 있다. 이와 같은 선택 흡수 색소는, 585㎚ 부근의 네온 발광의 선택 흡수성과 그 이외의 가시광 파장에서 흡수가 작은 것이 필요하기 때문에, 흡수 극대 파장이 575 내지 595㎚이고, 흡수 스펙트럼 반치폭이 40㎚ 이하인 것이 바람직하다.
또한, 근적외선이나 네온 발광의 흡수 색소를 복수 종 조합하는 경우, 색소의 용해성에 문제가 있는 경우, 혼합에 의한 색소 간의 반응이 있는 경우, 내열성, 내습성 등의 저하가 인정되는 경우에는, 모든 근적외선 흡수 색소를 동일한 층에 함유시킬 필요는 없고, 다른 층에 함유시킬 수도 있다.
또한, 광학 특성에 큰 영향을 미치지 않는 한, 착색용의 색소, 자외선 흡수제, 산화 방지제 등을 더 첨가할 수도 있다.
본 발명의 반사 방지 필름의 근적외선 흡수 특성으로는, 850 내지 1000㎚의 투과율을 20% 이하, 15%로 하는 것이 더욱 바람직하다. 또한 선택 흡수성으로는 585㎚의 투과율이 50% 이하인 것이 바람직하다. 특히 전자의 경우에는 주변 기기의 리모콘 등의 오작동이 지적되고 있는 파장 영역의 투과도를 감소시키는 효과가 있고, 후자의 경우는, 575 내지 595㎚에 피크를 갖는 오렌지색이 색 재현성을 악화시키는 원인이기 때문에, 이 오렌지색의 파장을 흡수시키는 효과가 있고, 이에 의해 진적성을 높여 색의 재현성을 향상시킨 것이다.
근적외선 흡수층의 두께는 특별히 제한은 없지만, 근적외선의 흡수성 및 가시광 투과성의 점에서, 0.5 내지 50㎛ 정도가 바람직하다.
근적외선 흡수층은 색조 보정용의 색소를 함유하고 있는 것이 바람직하다. 혹은 색조 보정용의 색소를 포함하는 색조 보정층을, 근적외선 흡수층과 마찬가지로 하여 형성할수도 있다.
색조 보정용의 색소로는 근적외선 차폐층의 황갈색 내지 녹색의 색조를 중성화하여 컬러 밸런스를 조절하기 위해서, 그들의 보색으로 되도록 하는 것이 바람직하다. 이와 같은 색소로는 무기계 안료, 유기계 안료, 유기계 염료, 색소 등 일반적인 것을 들 수 있다. 무기 안료로는 코발트 화합물, 철 화합물, 크롬 화합물 등을 들 수 있고, 유기 안료로는 아조계, 인돌리논계, 퀴나크리돈계, 배트계, 프탈로시아닌계, 나프탈로시아닌계 등을 들 수 있고, 상기 유기계 염료 및 색소에는, 아 조계, 아진계, 안트라퀴논계, 인디고이드계, 옥사진계, 퀴노프탈론계, 스쿠아릴륨계, 스틸벤계, 트리페닐메탄계, 나프토퀴논계, 피랄로존계, 폴리메틴계 등을 들 수 있는데, 이들 중에서, 발색성과 내구성의 균형 면에서 유기계 안료가 바람직하게 이용된다.
색조 조정층은 전술한 색재 외에 바인더로서 합성 수지를 함유한다. 또한, 색조 조정층에 이용되는 상기 합성 수지로는 근적외선 흡수층에서 전술한 것과 마찬가지의 것이 이용된다.
본 발명의 반사 방지 필름에서는 전술한 근적외선 흡수층 및 색조 보정층은 투명 필름의 저굴절률층 등이 형성되는 면과는 반대의 면에 형성되는 것이 바람직하다. 즉, 색조 조정층/근적외선 흡수층/투명 필름/접착층/하드 코트층/저굴절률층의 순으로 적층되는 것이 바람직하다. 그러나, 적층 순서가 이것에 한정되는 것은 아니고, 목적에 따라 적당히 변경할 수도 있다.
다음에, 전자파 차폐층으로는 메시(격자) 형상의 전자파 쉴드층이 바람직하다. 혹은, 기상 성막법에 의해 얻어지는 층(금속 산화물(ITO 등)의 투명 도전 박막)일 수도 있다. 또한, ITO 등의 금속 산화물의 유전체막과 Ag 등의 금속층과의 교호 적층체(예, ITO/은/ITO/은/ITO의 적층체)일 수도 있다. 또한 전자파 쉴드층은 도공층일 수도 있다.
메시 형상의 전자파 쉴드층으로는 금속 섬유 및 금속 피복 유기 섬유의 금속을 망상으로 한 것, 투명 필름 상의 동박 등의 층을 망상으로 에칭 가공하고, 개구부를 형성한 것, 투명 필름 상에 도전성 잉크(예, 금속 입자 함유 수지층)를 메시 형상으로 인쇄한 것 등을 들 수 있다.
메시 형상의 전자파 쉴드층의 경우, 메시로서 금속 섬유 및/또는 금속 피복 유기 섬유로 이루어지는 선경(선폭) 1㎛ 내지 1㎜, 개구율 40 내지 95%인 것이 바람직하다. 더 바람직한 선경은 10 내지 500㎛, 개구율은 50 내지 95%이다. 다른 재료의 메시 형상의 전자파 쉴드층에 대해서도, 일반적으로 마찬가지의 범위가 바람직하다. 메시 형상의 전자파 쉴드층에서 선경이 1㎜를 넘으면 전자파 쉴드성이 향상되지만, 개구율이 저하하여 양립시킬 수 없다. 1㎛ 미만에서는, 메시의 강도가 낮아져 취급이 어려워진다. 또한 개구율이 95%를 넘으면 메시의 형상을 유지하기가 어렵고, 40% 미만에서는 광투과성이 저하하고, 디스플레이로부터의 광량도 저하한다.
또한, 도전성 메시의 개구율이란 해당 도전성 메시의 투영 면적에서의 개구 부분이 차지하는 면적 비율을 말한다.
메시 형상의 전자파 쉴드층을 구성하는 금속 섬유 및 금속 피복 유기 섬유의 금속으로는 구리, 스테인리스, 알루미늄, 니켈, 티탄, 텅스텐, 주석, 납, 철, 은, 탄소 혹은 이들의 합금, 바람직하게는 구리, 스테인리스, 니켈이 이용된다.
금속 피복 유기 섬유의 유기 재료로는 폴리에스테르, 나일론, 염화비닐리덴, 아라미드, 비닐론, 셀룰로오스 등이 이용된다.
메시 형상의 전자파 쉴드층으로서, 금속박 등의 도전성의 박을 패턴 에칭한 것도 바람직하다. 이 경우, 금속박의 금속으로는 구리, 스테인리스, 알루미늄, 니켈, 철, 황동, 혹은 이들의 합금, 바람직하게는 구리, 스테인리스, 알루미늄이 이 용된다.
금속박의 두께는 너무 얇으면 취급성이나 패턴 에칭의 작업성 등의 면에서 바람직하지 않고, 너무 두꺼우면 얻어지는 필름의 두께에 영향을 미치고, 에칭 공정의 소요 시간이 길어지는 점으로부터, 1 내지 200㎛ 정도로 하는 것이 바람직하다.
에칭 패턴의 형상에는 특별히 제한은 없고, 예를 들면 사각형의 구멍이 형성된 격자 형상의 금속박이나, 원형, 육각형, 삼각형 또는 타원형의 구멍이 형성된 펀칭 메탈 형상의 금속박 등을 들 수 있다. 또한, 구멍은 규칙적으로 늘어선 것에 한정하지 않고, 랜덤 패턴으로 할 수도 있다. 이 금속박의 투영면에서의 개구 부분의 면적 비율은, 20 내지 95%인 것이 바람직하다.
메시 형상의 전자파 쉴드층을, 도전성 잉크를 패턴 인쇄하여 형성할 수도 있다. 다음과 같은 도전성 잉크를 이용하여, 스크린 인쇄법, 잉크젯 인쇄법, 정전 인쇄법 등에 의해 인쇄할 수 있다.
일반적으로 입경 100㎛ 이하의 카본 블랙 입자, 혹은 구리, 알루미늄, 니켈 등의 금속 또는 합금의 입자 등의 도전성 재료의 입자를 50 내지 90중량% 농도로 PMMA, 폴리아세트산비닐, 에폭시 수지 등의 바인더 수지에 분산시킨 것이다. 이 잉크는, 톨루엔, 자일렌, 염화메틸렌, 물 등의 용매에 적당한 농도로 희석 또는 분산시켜 인쇄에 의해 도포하고, 그 후 필요에 따라 실온 내지 120℃에서 건조시켜 도착시킨다. 상기와 마찬가지의 도전성 재료의 입자를 바인더 수지로 덮은 입자를 정전 인쇄법에 의해 직접 도포하여 열 등으로 고착시킨다.
이와 같이 하여 형성되는 인쇄막의 두께는, 너무 얇으면 전자파 쉴드성이 부족하므로 바람직하지 않고, 너무 두꺼우면 얻어지는 필름의 두께에 영향을 미치는 점으로부터, 0.5 내지 100㎛ 정도로 하는 것이 바람직하다.
이와 같은 패턴 인쇄에 의하면, 패턴의 자유도가 크고, 임의의 선경, 간격 및 개구 형상의 전자파 쉴드층을 형성할 수 있고, 따라서, 원하는 전자파 차단성과 광투과성을 갖는 플라스틱 필름을 용이하게 형성할 수 있다.
전자파 쉴드층의 패턴 인쇄의 형상에는 특별히 제한은 없고, 예를 들면 사각형의 개구부가 형성된 격자 형상의 인쇄막이나, 원형, 육각형, 삼각형 또는 타원형의 개구부가 형성된 펀칭 메탈 형상의 인쇄막 등을 들 수 있다. 또한, 개구부는 규칙적으로 늘어선 것에 한정하지 않고, 랜덤 패턴으로 할 수도 있다. 이 인쇄막의 투영면에서의 개구 부분의 면적 비율은, 20 내지 95%인 것이 바람직하다.
상기 외에, 메시 형상의 전자파 쉴드층으로서 필름면에 용제에 대하여 가용인 재료에 의해 도트를 형성하고, 필름면에 용제에 대하여 불용인 도전 재료로 이루어지는 도전 재료층을 형성하고, 필름면을 용제와 접촉시켜 도트 및 도트 상의 도전 재료층을 제거함으로써 얻어지는 메시 형상 전자파 쉴드층을 이용할 수도 있다.
도공에 의한 전자파 쉴드층으로는 폴리머 중에 무기 화합물의 도전성 입자가 분산된 도공층을 들 수 있다.
도전성 입자를 구성하는 무기 화합물로는, 예를 들면, 알루미늄, 니켈, 인듐, 크롬, 금, 바나듐, 주석, 카드뮴, 은, 백금, 구리, 티탄, 코발트, 납 등의 금 속, 합금; 혹은 ITO, 산화인듐, 산화주석, 산화아연, 산화인듐-산화주석(ITO, 이른바 인듐 도핑 산화주석), 산화주석-산화안티몬(ATO, 이른바 안티몬 도핑 산화주석), 산화아연-산화알루미늄(ZAO;이른바 알루미늄 도핑 산화아연) 등의 도전성 산화물 등을 들 수 있다. 특히, ITO가 바람직하다. 평균 입경은 10 내지 10000㎚, 특히 10 내지 50㎚가 바람직하다.
폴리머의 예로는, 아크릴 수지, 폴리에스테르 수지, 에폭시 수지, 우레탄 수지, 페놀 수지, 말레산 수지, 멜라민 수지, 우레아 수지, 폴리이미드 수지, 함 규소 수지 등을 들 수 있다. 또한, 이들 수지 중 열경화성 수지인 것이 바람직하다. 혹은, 폴리머는 전술한 하드 코트층에 사용되는 자외선 경화성 수지를 이용하는 것이 특히 바람직하다.
상기 도공에 의한 전자파 쉴드층의 형성은, 폴리머(필요에 따라 용제를 이용하여) 중에 상기 도전성 미립자를 혼합 등에 의해 분산시켜 도공액을 제작하고, 이 도공액을 도공하고, 적절히 건조, 경화시킨다. 열가소성 수지를 이용한 경우는, 도공 후 건조함으로써, 열경화형의 경우는, 건조, 열경화함으로써 얻어진다. 자외선 경화성 수지를 이용한 경우는, 도공 후, 필요에 따라 건조하고, 자외선 조사함으로써 얻어진다.
상기 도공 형성된 전자파 쉴드층의 두께는 0.01 내지 5㎛, 특히 0.05 내지 3㎛가 바람직하다. 상기 두께가 0.01㎛ 미만이면 전자파 쉴드성이 충분하지 않은 경우가 있고, 한편 5㎛를 넘으면 얻어지는 필름의 투명성을 저하시키는 경우가 있다.
본 발명의 전자파 쉴드층은 도공에 의해 형성되는 도전성 폴리머의 층인 것 도 바람직하다. 예를 들면, 폴리아세틸렌, 폴리페닐렌, 폴리페닐렌비닐렌, 폴리아센, 폴리페닐아세틸렌, 폴리나프탈렌 등의 탄화수소계 폴리머; 폴리피롤, 폴리아닐린, 폴리티오펜, 폴리에틸렌비닐렌, 폴리아줄렌, 폴리이소티아나프텐 등의 헤테로 원자 함유 폴리머를 들 수 있다. 폴리피롤, 폴리티오펜이 바람직하다. 상기 도전성 폴리머의 전자파 쉴드층의 두께는 0.01 내지 5㎛, 특히 0.05 내지 3㎛가 바람직하다. 상기 두께가, 0.01㎛ 미만이면, 전자파 쉴드성이 충분하지 않은 경우가 있고, 한편 5㎛를 넘으면, 얻어지는 필름의 투명성을 저하시키는 경우가 있다.
전자파 쉴드층으로 금속 산화물층을 형성하는 경우, 일반적으로 기상 성막법에 의해 형성된다. 그 형성 방법으로는, 특별히 제한은 없지만, 스퍼터링, 이온 플레이팅, 전자빔 증착, 진공 증착, 화학 증착 등의 기상 제막법이나, 인쇄, 도공 등을 들 수 있는데, 기상 제막법(스퍼터링, 이온 플레이팅, 전자빔 증착, 진공 증착, 화학 증착)이 바람직하다. 상기한 도전성 입자를 구성하는 무기 화합물을 이용하여 전자파 쉴드층을 형성할 수 있다. 전자파 쉴드층을 기상 성막법으로 형성한 경우, 그 층두께는 30 내지 50000㎚, 특히 50㎚ 정도가 바람직하다.
또한 전자파 쉴드층은 유전체층(금속 산화물)과 금속층의 교호 적층막일 수도 있다. 특히, 유전체층/금속층/유전체층/금속층/유전체층의 5층 이상의 적층체가 바람직하다. 예를 들면, ITO 등의 금속 산화물의 유전체층과 Ag 등의 금속층의 교호 적층체(예, ITO/은/ITO/은/ITO의 적층체)를 들 수 있다.
상기 전자파 쉴드층은, 물리 증착법 또는 화학 증착법에 의해 성막할 수 있다. 물리 증착법으로는 진공 증착법, 스퍼터링법, 이온 플레이팅법, 레이저 애블 레이션법을 들 수 있는데, 일반적으로는 스퍼터링법으로 성막하는 것이 바람직하다. 화학 증착법으로는 상압 CVD법, 감압 CVD법, 플라즈마 CVD법을 들 수 있다.
전자파 쉴드층(특히 메시 형상 전자파 쉴드층, 그 중에서도 메시 형상 금속 함유 전자파 쉴드층)을 더욱 낮은 저항값으로 하여, 전자파 쉴드 효과를 향상시키고자 하는 경우에는, 전자파 쉴드층 상에 금속 도금층을 형성하는 것이 바람직하다.
금속 도금층은 공지의 전해 도금법, 무전해 도금법에 의해 형성할 수 있다. 도금에 사용되는 금속으로는 일반적으로 구리, 구리 합금, 니켈, 은, 금, 아연 또는 주석 등을 사용하는 것이 가능하고, 이들은 단독으로 사용하여도, 2종 이상의 합금으로서 사용할 수도 있다. 바람직하게는 구리, 구리 합금, 은, 또는 니켈이고, 특히 경제성, 도전성의 측면에서, 구리 또는 구리 합금을 사용하는 것이 바람직하다.
또한, 방현 성능을 부여시킬 수도 있다. 이 방현 처리는, (메시) 전자파 쉴드층의 표면에 흑화 처리를 행하여 흑화층을 형성함으로써 행할 수도 있다. 예를 들면, 금속막의 산화 처리, 크롬 합금 등의 흑색 도금, 흑 또는 암색계의 잉크의 도포 등에 의해 행할 수 있다.
본 발명의 반사 방지 필름이 전자파 쉴드층을 갖는 경우에는, 저굴절률층 등의 반사 방지층 상에 전자파 쉴드층이 배치되거나, 투명 필름의 저굴절률층 등이 형성되는 면과는 반대측의 면 상에 배치되는 것이 바람직하다. 각층의 적층 순서 등은, 목적에 따라 결정하면 된다.
본 발명의 디스플레이용 반사 방지 필름은, 예를 들면, 1장의 장척상 투명 필름에, 하드 코트층, 저굴절률층을 각각 도포, 광경화 등 함으로써 형성하고, 그 후 장척상 투명 필름의 뒤쪽에 근적외선 흡수층을 도포, 건조함으로써 형성하는 방법 등에 의해 유리하게 얻을 수 있다.
상기 반사 방지 필터는, 먼지가 부착하는 것을 방지하는 관점에서, 막두께가 0.05 내지 5.0㎛일 때에, 표면 저항값이, 1.0×1013Ω/□ 이하, 특히 1.0×107 내지 1.0×1012Ω/□로 하는 것이 바람직하다.
또한, 상기 반사 방지 필터에서 하드 코트층의 가시광선 투과율이 85% 이상인 것이 바람직하다. 고굴절률층 및 저굴절률층의 가시광선 투과율도 모두 85% 이상인 것이 바람직하다.
본 발명의 디스플레이용 반사 방지 필름은 통상 투명 필름의 이면측의 최표층 상에 투명 점착층이 설치된 접착성 디스플레이용 반사 방지 필름으로 하고, 상기 투명 점착층에 의해 화상 표시 유리판의 표면에 접합됨으로써 디스플레이에 적용된다.
상기 점착성 디스플레이용 반사 방지 필름에서, 상기 투명 필름의 이면측의 최표층과 상기 투명 점착층과의 굴절률의 차이는 0.05 이하, 바람직하게는 0.04 이하로 하는 것이 좋다. 이에 의해, 투명성이 높고, 시인성, 의장성이 뛰어난 점착성 디스플레이용 반사 방지 필름으로 할 수 있다. 또한, 상기 굴절률의 측정은, 후술하는 실시예에 기재된 방법으로 행할 수 있다.
상기 투명 접착층은 본 발명의 광학 필름을 디스플레이에 접착하기 위한 층이고 접착 기능을 갖는 것이면 어떠한 수지라도 사용할 수 있다. 예를 들면, 부틸아크릴레이트 등으로 형성된 아크릴계 점착제, 고무계 점착제, SEBS(스티렌/에틸렌/부틸렌/스티렌) 및 SBS(스티렌/부타디엔/스티렌) 등의 열가소성 일래스터머(TPE)를 주성분으로 하는 TPE계 점착제 및 접착제 등도 이용할 수 있다.
상기 투명 접착층의 두께는, 일반적으로 5 내지 500㎛, 특히 10 내지 100㎛의 범위가 바람직하다. 반사 방지 필름은, 일반적으로 상기 점착제층을 디스플레이의 유리판에 가열 압착함으로써 장비할 수 있다.
상기 투명 접착층의 재료로서 상기 EVA를 사용할 수도 있다. EVA를 사용하는 경우, EVA로는 아세트산비닐 함유량이 5 내지 50중량%, 바람직하게는 15 내지 40중량%인 것이 사용된다. 아세트산비닐 함유량이 5중량%보다 적으면 투명성에 문제가 있고, 또한 40중량%를 넘으면 기계적 성질이 현저하게 저하될 뿐만 아니라, 성막이 어려워지고, 필름 상호의 블로킹이 생기기 쉽다.
EVA의 가교제로는, 가열 가교하는 경우 유기 과산화물이 적당하고, 시트 가공 온도, 가교 온도, 저장 안정성 등을 고려하여 선택된다. 사용 가능한 과산화물로는, 예를 들면 2, 5-디메틸헥산-2, 5-디하이드로퍼옥사이드; 2, 5-디메틸-2, 5-디(t-부틸퍼옥시)헥산-3; 디-t-부틸퍼옥사이드; t-부틸쿠밀퍼옥사이드; 2, 5-디메틸-2, 5-디(t-부틸퍼옥시)헥산; 디쿠밀퍼옥사이드; α,α＇-비스(t-부틸퍼옥시이소프로필)벤젠; n-부틸-4,4-비스(t-부틸퍼옥시)발레레이트; 2,2-비스(t-부틸퍼옥시)부탄; 1,1-비스(t-부틸퍼옥시)시클로헥산; 1,1-비스(t-부틸퍼옥시)-3,3,5-트리메틸 시클로헥산; t-부틸퍼옥시벤조에이트; 벤조일퍼옥사이드; 제3 부틸퍼옥시아세테이트; 2,5-디메틸-2,5-비스(제3 부틸퍼옥시)헥신-3; 1,1-비스(제3 부틸퍼옥시)-3,3,5-트리메틸시클로헥산; 1,1-비스(제3 부틸퍼옥시)시클로헥산; 메틸에틸케톤퍼옥사이드; 2,5-디메틸헥실-2,5-비스퍼옥시벤조에이트; 제3 부틸하이드로퍼옥사이드; p-멘탄하이드로퍼옥사이드; p-클로르벤조일퍼옥사이드; 제3 부틸퍼옥시이소부틸레이트; 히드록시헵틸퍼옥사이드; 클로르헥사논퍼옥사이드 등을 들 수 있다. 이들 과산화물은 1종을 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여, 통상 EVA 100질량부에 대하여, 5질량부 이하, 바람직하게는 0.5 내지 5.0질량부의 비율로 사용된다.
유기 과산화물은 통상 EVA에 대하여 압출기, 롤 밀 등으로 혼련되는데, 유기 용매, 가소제, 비닐 모노머 등에 용해하고, EVA의 필름에 함침법에 의해 첨가할 수도 있다.
또한, EVA의 물성(기계적 강도, 광학적 특성, 접착성, 내후성, 내백화성, 가교 속도 등) 개량을 위해서, 각종 아크릴록시기 또는 메타크릴록시기 및 알릴기 함유 화합물을 첨가할 수 있다. 이 목적으로 이용되는 화합물로는 아크릴산 또는 메타크릴산 유도체, 예를 들면 그 에스테르 및 아미드가 가장 일반적이고, 에스테르 잔기로는 메틸, 에틸, 도데실, 스테아릴, 라우릴 등의 알킬기 외에, 시클로헥실기, 테트라히드로푸르푸릴기, 아미노에틸기, 2-히드록시에틸기, 3-히드록시프로필기, 3-클로로-2-히드록시프로필기 등을 들 수 있다. 또한, 에틸렌글리콜, 트리에틸렌글리콜, 폴리에틸렌글리콜, 트리메틸올프로판, 펜타에리스리톨 등의 다관능 알코올과의 에스테르를 이용할 수도 있다. 아미드로는 다이아세톤아크릴아미드가 대표적 이다.
그 예로는, 트리메틸올프로판, 펜타에리스리톨, 글리세린 등의 아크릴 또는 메타크릴산에스테르 등의 다관능 에스테르나, 트리알릴시아누레이트, 트리알릴이소시아누레이트, 프탈산디알릴, 이소프탈산디알릴, 말레산디알릴 등의 알릴기 함유 화합물을 들 수 있고, 이들은 1종을 단독으로 혹은 2종 이상을 혼합하여, 통상 EVA 100질량부에 대하여 0.1 내지 2질량부, 바람직하게는 0.5 내지 5질량부 이용된다.
EVA를 빛에 의해 가교하는 경우, 상기 과산화물 대신에 광증감제가 통상 EVA 100질량부에 대하여 5질량부 이하, 바람직하게는 0.1 내지 3.0질량부 사용된다.
이 경우, 사용 가능한 광증감제로는, 예를 들면 벤조인, 벤조페논, 벤조인메틸에테르, 벤조인에틸에테르, 벤조인이소프로필에테르, 벤조인이소부틸에테르, 디벤질, 5-니트로아세나프텐, 헥사클로로시클로펜타디엔, p-니트로디페닐, p-니트로아닐린, 2, 4, 6-트리니트로아닐린, 1, 2-벤즈안트라퀴논, 3-메틸-1,3-디아자-1,9-벤즈안트론 등을 들 수 있고, 이들은 1종을 단독으로 혹은 2종 이상을 혼합하여 이용할 수 있다.
또한, 접착 촉진제로서 실란 커플링제가 병용된다. 이 실란 커플링제로는, 비닐트리에톡시실란, 비닐트리스(β-메톡시에톡시)실란, γ-메타크릴록시프로필트리메톡시실란, 비닐트리아세톡시실란, γ-글리시독시프로필트리메톡시실란, γ-글리시독시프로필트리에톡시실란, β-(3, 4-에폭시시클로헥실)에틸트리메톡시실란, γ-클로로프로필메톡시실란, 비닐트리클로로실란, γ-메르캅토프로필트리메톡시실란, γ-아미노프로필트리에톡시실란, N-β(아미노에틸)-γ-아미노프로필트리메톡시 실란 등을 들 수 있다.
실란 커플링제는, 일반적으로 EVA 100질량부에 대하여 0.001 내지 10질량부, 바람직하게는 0.001 내지 5질량부의 비율로 1종 또는 2종 이상이 혼합 사용된다.
또한, 본 발명에 관한 EVA 투명 접착층에는, 그 외, 자외선 흡수제, 적외선 흡수제, 노화 방지제, 도료 가공 조제, 착색제 등을 소량 포함하고 있어도 되고, 또한, 경우에 따라서는 카본 블랙, 소수성 실리카, 탄산칼슘 등의 충전제를 소량 포함할 수도 있다.
상기 투명 접착층은, 예를 들면 EVA와 전술한 첨가제를 혼합하고, 압출기, 롤 등으로 혼련한 후, 캘린더, 롤, T 다이 압출, 인플레이션 등의 성막법에 의해 소정의 형상으로 시트 성형함으로써 제조된다.
상기 투명 접착층 상에는 박리 시트가 설치될 수도 있다. 투명 점착제층 상에 설치되는 박리 시트의 재료로는 유리 전이 온도가 50℃ 이상의 투명의 폴리머가 바람직하고, 이러한 재료로는 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리시클로헥실렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트 등의 폴리에스테르계 수지, 나일론 46, 변성 나일론 6T, 나일론 MXD6, 폴리프탈아미드 등의 폴리아미드계 수지, 폴리페닐렌술피드, 폴리티오에테르설폰 등의 케톤계 수지, 폴리설폰, 폴리에테르설폰 등의 설폰계 수지 외에, 폴리에테르니트릴, 폴리아릴레이트, 폴리에테르이미드, 폴리아미드이미드, 폴리카보네이트, 폴리메틸메타크릴레이트, 트리아세틸셀룰로오스, 폴리스티렌, 폴리비닐클로라이드 등의 폴리머를 주성분으로 하는 수지를 이용할 수 있다. 이들 중에서, 폴리카보네이트, 폴리메틸메타아크릴레이트, 폴리비닐클로라이드, 폴리스 티렌, 폴리에틸렌테레프탈레이트를 바람직하게 이용할 수 있다. 두께는 10 내지 200㎛가 바람직하고, 특히 30 내지 100㎛가 바람직하다.
전술한 투명 접착층을 갖는 점착성 디스플레이용 반사 방지 필름은, 디스플레이의 화상 표시 유리판의 표면에 투명 점착층을 개재시켜 접합되어 사용되는 것이 바람직하다. 디스플레이로는 표면 전계형 디스플레이(SED)를 포함하는 전계 방출형 디스플레이(FED), 액정 디스플레이(LCD), 플라즈마 디스플레이 패널(PDP), EL 디스플레이 등의 플랫 패널 디스플레이(FPD), 및 CRT 디스플레이 등을 들 수 있다.
이하, 본 발명을 실시예에 의해 설명한다. 본 발명은, 이하의 실시예에 의해 제한되는 것은 아니다.
(실시예 1)
1. 접착층의 형성
ATO 미립자 분산액(평균 입자 지름 100㎚, 고형 성분 20질량%) 100질량부를 변성 폴리에스테르 수지 수용액(폴리에스테르 수지 20질량%) 20질량부와 혼합하고 교반함으로써 수지 조성물을 조제하였다. 상기 수지 조성물을 PET 필름(두께 100㎛, 굴절률 1.65) 상에 바 코터를 이용하여 도포하고, 130℃, 3분간 건조시킴으로써 접착층(두께 80㎚, 굴절률 1.68)을 형성하였다.
2. 하드 코트층의 형성
하기의 배합;
지르코니아(평균 입자 지름 80㎚) 80질량부
디펜타에리스리톨헥사아크릴레이트(DPHA) 20질량부
이르가큐어 184(치바스페셜리티케미컬사 제) 4질량부
시클로헥사논 100질량부
를 혼합하여 얻은 조성물을, 상기에서 제작한 접착층 상에 바 코터를 이용하여 도포하고, 80℃, 1분간 건조시킨 후, 고압 수은 램프에 의해 200mJ/㎠의 자외선 조사에 의해 경화시켰다. 이에 의해, 투명 필름 상에 하드 코트층(굴절률 1.71, 두께 2㎛)을 형성하였다.
3. 저굴절률층의 형성
하기의 배합:
중공 실리카 5질량부
디펜타에리스리톨헥사아크릴레이트(DPHA) 5질량부
이르가큐어 184(치바스페셜리티케미컬사 제) 1질량부
에탄올/메틸에틸케톤 89질량부
를 혼합하여 얻은 조성물을, 상기 하드 코트층 상에 바 코터를 이용하여 도포하고, 80℃, 10초간 건조시킨 후, 고압 수은 램프에 의해 200mJ/㎠의 자외선 조사에 의해 경화시켰다. 이에 의해, 하드 코트층 상에 저굴절률층(굴절률 1.42, 두께 0.1㎛)을 형성하고, 반사 방지 필름을 얻었다.
(비교예 1)
1. 접착층의 형성
변성 폴리에스테르 수지 수용액(폴리에스테르 수지 20질량%)을, PET 필름(두 께 100㎛, 굴절률 1.65) 상에 바 코터를 이용하여 도포하고, 130℃, 3분간 건조시킴으로써 접착층(두께 80㎚, 굴절률 1.51)을 형성하였다.
2. 하드 코트층의 형성
하기의 배합;
ATO 미립자(평균 입자 지름 80㎛) 80질량부
디펜타에리스리톨헥사아크릴레이트(DPHA) 20질량부
이르가큐어 184(치바스페셜리티케미컬사 제) 4질량부
에탄올/시클로헥사논 100질량부
를 혼합하여 얻은 조성물을, 상기에서 제작한 접착층 상에 바 코터를 이용하여 도포하고, 80℃, 1분간 건조시킨 후, 고압 수은 램프에 의해 200mJ/㎠의 자외선 조사에 의해 경화시켰다. 이에 의해, 투명 필름 상에 하드 코트층(굴절률 1.65, 두께 2㎛)을 형성하였다.
3. 저굴절률층의 형성
실시예 1과 마찬가지로 하여, 하드 코트층 상에 저굴절률층(굴절률 1.42, 두께 0.1㎛)을 형성하고, 반사 방지 필름을 얻었다.
(평가)
상기 실시예 1 및 비교예에서 제작한 반사 방지 필름의 특성을 이하의 순서에 따라 평가하였다.
(1) 반사율
분광 광도계(일본분광주식회사 제)를 이용하여, 450 내지 650㎚의 파장 영역 에서 입사광 5˚에서의 정반사의 평균 반사율을 측정하였다. 결과를 표 1에 나타낸다.
(2) 전 광선 투과율
전자동 직독 헤이즈 컴퓨터 HGM-2DP(스가시험기주식회사 제)를 이용하여, 반사 방지 시트의 두께 방향의 전 광선 투과율을 측정하였다. 상기 측정을 반사 방지 시트에서 3개소, 실시하고, 그 평균값을 반사 방지 시트의 전 광선 투과율로 하였다. 결과를 표 1에 나타낸다.
(3) 간섭 무늬의 평가
반사 방지 시트의 이면을 점착재를 이용하여 플랫 CRT의 화면에 붙이고, 3파장 형광관으로 외면을 조명하고, 간섭 무늬의 발생의 유무를 육안으로 평가하였다. 결과를 표 1에 나타낸다.
(4) 표면 저항값
반사 방지 시트를 25℃, 50% RH로 6시간 습도를 조절하고, 4단자법 표면 저항률계(미츠비시화학주식회사 제조, 로레스타 GP)를 이용하여 그 저항을 측정하였다. 결과를 표 1에 나타낸다.
(5) 굴절률의 측정
반사 분광 막두께계(오오츠카전자사 제조, 상품명「FE-3000」)에 의해, 230㎚ 내지 760㎚의 범위에서 반사율을 측정하고, 대표적인 굴절률의 파장 분산의 근사식으로서 nk_Cauchy의 분산식을 인용하고, 미지의 파라미터를 절대 반사율의 스펙트럼의 실측값으로부터 비선형 최소 이승법에 의해 구하여, 파장 550㎚에서의 굴 절률을 구하였다.
반사율 [%] 전 광선 투과율 [%] 표면 저항값 [Ω/□] 간섭 무늬
실시예 1 0.7 90 3×1010 없음
비교예 1 1.0 82 6×1009 있음

Claims (10)

  1. 투명 필름 상에 대전 방지성을 갖는 접착층, 하드 코트층 및 저굴절률층이 이 순서로 형성되어 이루어지는 디스플레이용 반사 방지 필름으로서,
    상기 하드 코트층의 굴절률이 1.67 이상이고,
    상기 투명 필름의 굴절률(R1), 상기 접착층의 굴절률(R2) 및 상기 하드 코트층의 굴절률(R3)이 하기 수학식 (Ⅰ)을 만족시키는 것을 특징으로 하는 디스플레이용 반사 방지 필름.
    <수학식 (Ⅰ)>
    |R2-(R1+R3)/2|≤a (식 중, a는 0.07 이하의 실수임)
  2. 제1항에 있어서, 상기 수학식 (Ⅰ)에서 a가 0.03 이하의 실수인 것을 특징으로 하는 디스플레이용 반사 방지 필름.
  3. 제1항 또는 제2항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 하드 코트층이 지르코니아, 티타니아, 산화셀렌 및 산화아연으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 산화물 미립자를 포함하는 것을 특징으로 하는 디스플레이용 반사 방지 필름.
  4. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 하드 코트층의 두께가 0.3 내지 10㎛인 것을 특징으로 하는 디스플레이용 반사 방지 필름.
  5. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 저굴절률층이 바인더 수지 중에 산화물 미립자 및/또는 불소 수지 미립자를 분산시킨 도공층인 것을 특징으로 하는 디스플레이용 반사 방지 필름.
  6. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 저굴절률층의 굴절률과 상기 하드 코트층의 굴절률의 차이가 0.20 내지 0.60인 것을 특징으로 하는 디스플레이용 반사 방지 필름.
  7. 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 접착층이 무기계 대전 방지 입자 또는 유기계 대전 방지제를 포함하는 것인 디스플레이용 반사 방지 필름.
  8. 제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 접착층이 무기 안티몬 도핑 산화주석, 주석 도핑 산화인듐, 안티몬산아연 및 인 도핑 산화주석으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 무기계 대전 방지 입자를 포함하는 것을 특징으로 하는 디스플레이용 반사 방지 필름.
  9. 제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 접착층의 두께가 60 내지 200㎚인 것을 특징으로 하는 디스플레이용 반사 방지 필름.
  10. 제1항 내지 제9항 중 어느 한 항의 디스플레이용 반사 방지 필름이 화상 표시 유리판의 표면에 접합되어 있는 것을 특징으로 하는 디스플레이.
KR1020097003800A 2006-08-25 2007-08-27 디스플레이용 반사 방지 필름 및 이를 이용한 디스플레이 KR20090057224A (ko)

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Families Citing this family (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5165114B2 (ja) * 2009-07-08 2013-03-21 三菱電機株式会社 太陽電池モジュール用コーティング剤、並びに太陽電池モジュール及びその製造方法
KR101117226B1 (ko) 2009-07-10 2012-03-15 정승수 차열용액 조성물 및 그 제조방법, 이 조성물을 이용한 차열필름 및 그 제조방법, 비닐하우스용 단열비닐
CN103118807A (zh) * 2010-07-26 2013-05-22 应用纳米技术控股股份有限公司 高度透明和导电的基质
RU2585694C2 (ru) * 2010-09-21 2016-06-10 Спайнуэлдинг Аг Устройство для восстановления сустава человека или животного
JP5878056B2 (ja) 2012-03-27 2016-03-08 日立マクセル株式会社 ハードコート基材及びそれを用いた透明導電性フィルム
JPWO2014010562A1 (ja) * 2012-07-13 2016-06-23 コニカミノルタ株式会社 赤外遮蔽フィルム
KR101526649B1 (ko) * 2012-11-21 2015-06-05 (주)엘지하우시스 하드코팅층을 포함하는 광특성이 우수한 반사방지 필름
US9250744B2 (en) 2013-04-18 2016-02-02 Dell Products, Lp Edge to edge touch screen
JP6116337B2 (ja) * 2013-04-24 2017-04-19 株式会社大真空 光学デバイス
JP6099510B2 (ja) * 2013-07-24 2017-03-22 富士フイルム株式会社 水性防汚コート剤、防汚コート層及び太陽電池モジュール
WO2018130289A1 (en) * 2017-01-12 2018-07-19 Applied Materials, Inc. Hardcoat layer system and method for manufacturing a hardcoat layer system in a continuous roll-to-roll process
JP2018132592A (ja) * 2017-02-14 2018-08-23 株式会社トッパンＴｏｍｏｅｇａｗａオプティカルフィルム 光学フィルム、これを用いた偏光板及びディスプレイ部材
US20200346450A1 (en) * 2018-01-26 2020-11-05 Sumitomo Bakelite Co., Ltd. Decorative laminate
JP2020134733A (ja) * 2019-02-21 2020-08-31 株式会社ジャパンディスプレイ 表示装置

Family Cites Families (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05142401A (ja) * 1991-06-13 1993-06-11 Nippon Sheet Glass Co Ltd プラスチツクレンズ
JPH07287102A (ja) * 1994-04-14 1995-10-31 Dainippon Printing Co Ltd 反射防止フィルム、その製造方法、偏光板及び液晶表示装置
US5939189A (en) * 1995-05-09 1999-08-17 Flex Products, Inc. Flexible plastic substrate with anti-reflection coating having low reflective color and method
US5919555A (en) * 1996-11-06 1999-07-06 Fuji Photo Film Co., Ltd. Anti-reflection film and display device having the same
JPH1130706A (ja) * 1997-07-11 1999-02-02 Fuji Photo Film Co Ltd 反射防止膜およびそれを配置した表示装置
JP2000111706A (ja) * 1998-09-30 2000-04-21 Fuji Photo Film Co Ltd 反射防止膜およびそれを用いた画像表示装置
JP2001115087A (ja) * 1999-10-20 2001-04-24 Nissan Chem Ind Ltd 高屈折率ハードコート膜及び反射防止基材
EP1377852A2 (en) * 2001-04-10 2004-01-07 Fuji Photo Film Co., Ltd. Antireflection film, polarizing plate, and apparatus for displaying an image
JP4783547B2 (ja) * 2002-06-24 2011-09-28 富士フイルム株式会社 プラスチックフイルム及び画像表示装置
JP2004163752A (ja) * 2002-11-14 2004-06-10 Sekisui Chem Co Ltd 反射防止シート
JP2005096298A (ja) * 2003-09-25 2005-04-14 Dainippon Printing Co Ltd 光学フィルムおよびこの光学フィルムを具備する光学表示装置
JP2005181545A (ja) * 2003-12-17 2005-07-07 Bridgestone Corp 反射防止フィルム
US20050207016A1 (en) * 2004-03-15 2005-09-22 Fuji Photo Film Co., Ltd. Antireflection film, polarizing plate and liquid crystal display
JP2006145656A (ja) * 2004-11-17 2006-06-08 Konica Minolta Opto Inc 反射防止フィルム、偏光板及び液晶表示装置
JP2006163156A (ja) * 2004-12-09 2006-06-22 Bridgestone Corp 反射防止フィルム及びこの反射防止フィルムを有するディスプレイ用フィルタ
JP4101270B2 (ja) * 2005-07-25 2008-06-18 日立マクセル株式会社 光学フィルム及びそれを用いた画像表示装置用パネル
JP2007326357A (ja) * 2006-05-10 2007-12-20 Fujifilm Corp 積層フィルム及び画像表示装置
US8000012B2 (en) * 2007-01-31 2011-08-16 Fujifilm Corporation Optical multilayer film and image display device

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