KR20080084385A - 나이프 유닛 및 이를 포함하는 기판 처리 장치 - Google Patents

Abstract

나이프 유닛은 몸체, 몸체의 단부에 형성된 프레임 및 프레임의 내부에 형성되어 기판을 향하여 처리액을 분사하는 분사 노즐을 갖는 분사부 및 프레임의 장방향 단부에 위치하여 기판과 분사 노즐간의 간격을 유지하는 간격 유지 부재를 포함한다. 따라서, 기판의 이송 경로의 높이가 변경될 경우, 간격 유지 부재에 의하여 기판과 분사 노즐간의 간격이 일정하게 유지된다.

Description

나이프 유닛 및 이를 포함하는 기판 처리 장치{KNIFE UNIT AND APPARATUS FOR TREATING A SUBSTRATE INCLUDING THE SAME}

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 장치를 도시한 평면도이다.

도 2는 도 1의 나이프 유닛을 설명하기 위한 측면도이다.

* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명 *

10 : 나이프 유닛 20 : 세정액 공급부

30 : 분사부 31 : 몸체

33 : 프레임 35 : 분사 노즐

40 : 간격 유지 부재 50 : 체결 유닛

100 : 기판 세정 장치 110 : 챔버

120 : 이송 유닛

본 발명은 나이프 유닛 및 이를 포함하는 기판 처리 장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 액정 디스플레이 장치, 플라즈마 디스플레이 장치, OLED(Organic Light Emitting Diode) 디스플레이 장치 등과 같은 평판 디스플레이 장치를 제조하 기 위한 제조 장치의 나이프 유닛 및 이를 포함하는 기판 처리 장치에 관한 것이다.

최근, 정보 처리 기기는 다양한 형태와 기능 및 더욱 빨라진 정보 처리 속도 등에 대한 요구에 따라 급속하게 발전하고 있으며, 이들 정보 처리 기기는 가공된 정보를 표시하기 위한 디스플레이 장치를 요구한다. 상기와 같은 정보 디스플레이 장치들은 주로 CRT 모니터를 사용하였으나, 최근 휴대형 정보 기기의 발달에 따라 휴대의 편의성, 소형 경량화에 대한 요구를 실현하기 위하여 액정 디스플레이 장치 또는 OLED 디스플레이 장치 등에 대한 요구가 증가되고 있다. 또한, 가정용 또는 사무용 디스플레이 장치의 경우에도 보다 선명한 화질, 응답 속도, 작업자의 피로도 감소, 공간 확보 등을 위하여 상기 평판 디스플레이 장치에 대한 요구가 증가되고 있다.

예를 들면, 상기 액정 디스플레이 장치의 경우, 상부 기판과 하부 기판 사이에 있는 액정 분자들의 배열 구조에 따른 광의 투과율 차이를 이용하는 디스플레이 장치로서, 최근에는 표시 정보량의 증가와 이에 따른 표시 면적의 증가 요구에 부응하기 위하여 화면을 구성하는 모든 화소에 대하여 개별적으로 구동 신호를 인가하는 액티브 매트릭스(Active Matrix) 방식의 액정 디스플레이 장치에 대한 연구가 활발하게 이루어지고 있다.

상기 액정 디스플레이 장치는 화상 데이터를 액정의 광학적 성질을 이용하여 디스플레이하는 액정 패널과 이를 구동하기 위한 구동 회로를 포함하는 액정 패널 어셈블리와, 화면 표시를 위한 광을 제공하는 백라이트 어셈블리와, 상기 구성요소 들을 고정 및 수용하는 몰드 프레임 등을 포함할 수 있다.

상기 액정 디스플레이 장치의 패널로는 대면적의 유리 기판이 사용되며, 상기 유리 기판 상에 전극 패턴들을 형성하기 위하여 다양한 단위 공정들이 수행될 수 있다. 예를 들면, 상기 유리 기판 상에 막을 형성하는 성막 공정, 상기 막을 목적하는 패턴들로 형성하기 위한 식각 공정, 상기 유리 기판 상의 불순물을 제거하기 위한 세정 공정, 상기 유리 기판을 건조시키기 위한 건조 공정 등이 필요에 따라 반복적으로 수행될 수 있다.

상기 공정들을 수행하기 위한 기판 처리 장치는 기판의 로딩을 위한 기판 로더와, 상기 로더에 의해 반입된 기판에 대한 식각 또는 세정 공정을 수행하기 위한 제1 처리부와, 상기 식각 또는 세정 처리된 기판을 린스액을 이용하여 린스 처리하기 위한 제2 처리부와, 린스 처리된 기판을 건조시키기 위한 제3 처리부와, 상기 기판을 반출하기 위한 언로더 등을 포함할 수 있다. 또한, 상기 기판 처리 장치는 필요에 따라 기판 상의 정전기를 제거하기 위한 제전 장치, 기판의 일시 대기를 위한 버퍼 저장 탱크 등을 더 포함할 수도 있다.

상기 기판 처리 장치를 사용하여 유리 기판과 같은 평판형 기판을 처리하는 경우, 상기 기판을 다수의 회전 롤러들에 의해 상기 로더로부터 언로더를 향하여 이송할 수 있는 기판 이송 유닛이 요구된다. 상기 기판 이송 유닛은 회전축 및 회전 롤러를 구비한다. 상기 회전 롤러들은 상기 기판의 이송 방향으로 상호 이격되도록 배열된 다수의 회전축들에 장착된다. 상기 회전 롤러들은 상기 기판 처리를 위한 각 챔버들의 외부에 배치되는 구동부에 의해 회전 가능하도록 설치된다.

한편, 상기 건조 공정을 수행하기 위한 기판 건조 장치는 상기 회전 롤러들에 의해 이송되는 기판 상으로 탈이온수를 제공하는 인샤워 나이프, 상기 탈이온수를 상기 기판에서 밀어내기 위한 에어 나이프과 같은 나이프 유닛을 구비한다. 여기서, 상기 인샤워 나이프는 상기 식각 또는 세정 공정에서 사용된 식각액 또는 세정액을 탈이온수를 이용하여 희석하거나 일차적으로 제거한다.

식각/세정 공정, 린스 공정 및 건조 공정과 같은 일련의 기판 처리 공정에서 기판의 이송 경로가 균일하지 않을 수 있다. 예를 들면, 상기 기판 처리 공정들에서 처리되는 기판의 높이가 일정하지 않을 수 있다. 따라서, 기판의 이송 경로 및 나이프 유닛 간의 간격을 조절할 필요가 있다. 이 경우, 기판 이송 유닛과 나이프 유닛이 개별적으로 조절되어야 기판의 이송 경로 및 나이프 유닛 간의 간격이 일정하게 유지될 수 있다. 하지만, 기판의 이송 경로 및 나이프 유닛 간의 간격을 조절하기 위하여 기판 이송 유닛 및 나이프 유닛을 개별적으로 조절해야 하므로 그 절차에 많은 시간이 요구됨에 따라 기판 처리 속도가 지연되는 문제가 있을 수 있다.

본 발명은 상술한 바와 같은 문제점들을 해소하고자 안출된 것으로서, 본 발명의 제1 목적은 기판 이송 유닛 및 나이프 유닛 간의 간격을 용이하게 유지시킬 수 있는 나이프 유닛을 제공하는 데 있다.

또한, 본 발명의 제2 목적은 상기와 같은 나이프 유닛을 구비하는 기판 처리 장치를 제공하는 데 있다.

상기 본 발명의 제1 목적을 달성하기 위해 본 발명의 일 실시예에 따른 나이프 유닛은, 몸체, 상기 몸체의 단부에 형성된 프레임 및 상기 프레임의 내부에 형성되어 기판을 향하여 처리액을 분사하는 분사 노즐을 갖는 분사부 및 상기 프레임의 양 단부에 위치하여 상기 기판과 상기 분사 노즐간의 간격을 유지하는 간격 유지 부재를 포함한다.

본 발명의 일 실시예에 있어서, 나이프 유닛은 상기 프레임 내부에서 상기 처리액을 수용하기 위한 수용 공간이 형성될 수 있다.

상기 본 발명의 제2 목적을 달성하기 위해 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 장치는 기판을 처리하는 공간을 제공하는 챔버, 상기 챔버 내부에 구비되어 상기 기판을 지지한 상태에서 수평 방향으로 이송하는 이송 유닛 및 상기 기판으로 처리액을 제공하는 나이프 유닛을 포함하고, 상기 나이프 유닛은, 상기 처리액을 공급하는 처리액 공급부, 상기 처리액 공급부와 연결되고, 몸체, 상기 몸체의 단부에 형성된 프레임 및 상기 프레임의 내부에 형성되어 상기 기판을 향하여 상기 처리액을 분사하는 분사 노즐을 갖는 분사부 및 상기 프레임의 양 단부에 위치하여 상기 이송 유닛과 상기 분사 노즐간의 간격을 유지하는 간격 유지 부재를 포함한다.

본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 프레임은 상기 기판의 일 방향 길이보다 적어도 같거나 큰 길이를 가질 수 있다.

상기한 본 발명에 따르면, 이전 공정에서 후 공정으로 가면서 기판의 이송 경로의 높이가 달라질 경우, 이송 유닛과 나이프 유닛 간의 간격을 조절하기 위하 여 개별적으로 이송 유닛과 나이프 유닛을 조절하지 않을 수 있다. 즉, 이송 유닛의 높이를 조절함으로써 나이프 유닛의 간격 유지 부재에 의하여 자동적으로 이송 유닛과 나이프 유닛의 간격이 유지될 수 있다.

이하, 첨부한 도면을 참조하여 본 발명의 실시예들에 따른 에어 나이프 및 이를 구비하는 기판 건조 장치에 대해 상세히 설명한다. 그러나, 이는 본 발명을 특정한 개시 형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변경, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다. 제1, 제2 등의 용어는 다양한 구성요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 상기 구성요소들은 상기 용어들에 의해 한정되어서는 안된다. 상기 용어들은 하나의 구성요소를 다른 구성요소로부터 구별하는 목적으로만 사용된다. 예를 들어, 본 발명의 권리 범위로부터 이탈되지 않은 채 제1 구성요소는 제2 구성요소로 명명될 수 있고, 유사하게 제2 구성요소도 제1 구성요소로 명명될 수 있다. 어떤 구성요소가 다른 구성요소에 "연결되어" 있다거나 "접속되어" 있다고 언급된 때에는, 그 다른 구성요소에 직접적으로 연결되어 있거나 또는 접속되어 있을 수도 있지만, 중간에 다른 구성요소가 존재할 수도 있다고 이해되어야 할 것이다. 반면에, 어떤 구성요소가 다른 구성요소에 "직접 연결되어" 있다거나 "직접 접속되어" 있다고 언급된 때에는, 중간에 다른 구성요소가 존재하지 않는 것으로 이해되어야 할 것이다. 구성요소들 간의 관계를 설명하는 다른 표현들, 즉 "~사이에"와 "바로 ~사이에" 또는 "~에 이웃하는"과 "~에 직접 이웃하는" 등도 마찬가지로 해석되어야 한다. 본 출원에서 사용한 용어는 단지 특정한 실시예를 설명하기 위해 사용된 것으로, 본 발명 을 한정하려는 의도가 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 출원에서, "포함하다" 또는 "가지다" 등의 용어는 설시된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 장치를 설명하기 위한 평면도이다. 도 2는 도 1에 도시된 나이프 유닛을 설명하기 위한 측면도이다.

이하, 도 1 및 도 2를 참조하여 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 장치에 대해 상세히 설명한다.

도 1을 참조하면, 기판 처리 장치(100)는 기판(1)이 수용되어 소정의 처리 공정이 수행되는 챔버(110)와, 기판(1)을 지지하고 이송하기 위한 이송 유닛(120)과, 챔버(110)의 상부 또는 하부에는 기판(1)의 처리를 위한 처리액 또는 처리가스 등을 제공하기 위한 나이프 유닛(10)을 포함한다.

상기 처리 공정의 예로는 기판(1) 상의 막 또는 불순물을 제거하기 위한 식각 공정, 기판(1) 상의 불순물을 제거하기 위한 세정 공정, 식각 또는 세정 후 린스 처리하기 위한 린스 공정, 건조시키기 위한 건조 공정 등이 있다.

나이프 유닛(10)은 기판(1)을 세정하기 위한 탈이온수(deionized water, DI)를 분사하기 위한 인샤워 나이프(In-shower knife)(미도시), 상기 인샤워 나이프를 통해 분사된 탈이온수가 기판(1) 표면에 부딪혀 비산되는 탈이온수를 흡입하는 흡입 나이프(미도시) 및 기판(1) 상에 잔류하는 탈이온수를 건조시키기 위한 에어 나이프(air knife)(미도시) 등을 포함할 수 있다.

이하에서 본 발명의 실시예들은 기판(1)의 건조 공정을 예로 들어 설명하며, 기판 처리 장치(100) 및 인샤워 나이프를 예로 들어 설명한다.

챔버(110)는 기판(1)의 출입을 가능하게 하는 출입구(115, 116)가 형성되고, 이송 유닛(120)은 출입구(115)로 투입된 기판(1)을 출입구(116)로 이송시키도록 제공될 수 있다.

이송 유닛(120)은 다수의 샤프트(121) 및 샤프트(121) 상에 장착되는 기판(1)을 지지하고 이송하기 위한 롤러 어셈블리(123)를 포함할 수 있다. 또한, 기판 처리 장치(10)의 일측에는 샤프트(121)에 회전력을 제공하기 위한 구동부(미도시) 및 구동부(미도시)로부터 샤프트(121)로 회전력을 전달하는 동력전달부재(미도시)가 구비될 수 있다. 여기서, 상기 구동부(미도시)는 회전력을 발생시키는 모터(미도시)와, 모터의 회전 속도와 회전력을 조절하기 위한 감속기(미도시) 등을 포함할 수 있다.

샤프트(121)는 일 방향으로, 예를 들면, 기판(1)의 이송 방향으로 이격되어 서로 평행하게 배열될 수 있다. 또한, 롤러 어셈블리(123)는 각 샤프트(121)에 장착된다. 예를 들면, 롤러 어셈블리(123)는 샤프트(121)와 함께 회전하도록 샤프트(121)의 외주면 상에 고정되고, 각 롤러 어셈블리(123)는 동일한 간격으로 배치될 수 있다. 따라서, 롤러 어셈블리(123)는 기판(1)에 직접적으로 접촉하여 기 판(1)을 실질적으로 지지하고, 샤프트(121)가 회전함에 따라 기판(1)을 일 방향으로 이동시킬 수 있다. 한편, 샤프트(121) 및 롤러 어셈블리(123)의 수와 배치는 대상체가 되는 기판(1)의 크기에 따라 실질적으로 다양하게 변화될 수 있으며, 이에 의해 본 발명의 범위가 한정되는 것은 아니다.

처리액 공급부(20)는 처리액을 나이프 유닛(30)에 제공한다. 처리액 공급부(20)는, 예를 들면, 탈이온수와 같은 처리액을 제공한다. 처리액 공급부(20)는 처리액 공급 라인(21)을 통하여 나이프 유닛(10), 특히 몸체(31)에 처리액을 제공한다.

나이프 유닛(10)은 챔버(110) 내부에는 배치된다. 예를 들면, 나이프 유닛(10)은 챔버(110)의 측벽에 체결된다. 나이프 유닛(10)은 이송 유닛(120)에 의해 이송되는 기판(1) 상으로 처리액을 제공하여 기판(1)을 처리시키기 위한 처리액을 제공된다. 처리액의 예로는 탈이온수를 들 수 있다.

나이프 유닛(10)은 기판(1) 상으로 탈이온수를 분사함으로써, 이전 공정에서 기판으로 제공되어 기판(1) 상에 잔류하는 식각액을 희석시키거나 제거하다. 기판(1) 상에서 식각액을 효과적으로 제거할 수 있도록, 나이프 유닛(10)은 기판(1)의 이송 방향에 대해 반대 방향으로, 본 실시예에서는 제1 출입구(115) 방향으로 처리액를 분사하도록 설치될 수 있을 것이다.

도 2는 본 발명에 의한 나이프 유닛(10)을 설명하기 위한 측면도이다.

도 1 및 도 2를 참조하면, 나이프 유닛(10)은 분사부(30)와 간격 유지 부재(40)를 포함한다.

분사부(30)는 몸체(31), 프레임(33) 및 분사 노즐(33)을 포함한다.

몸체(31)는 챔버(110)의 일체에 고정되어 기판(1)을 향하여 배치된다. 예를 들면, 몸체(31)는 챔버의 상 측벽에서부터 하방으로 연장되도록 배치될 수 있다. 또한, 몸체(31)는 역 'L' 자 형상을 가질 수 있다. 한편, 몸체(31)는 몸체(31)와 체결된 프레임(33) 및 기판(1) 간의 간격을 일정하게 유지하기 위하여 절곡부(미도시)를 가질 수 있다.

프레임(33)은 몸체(31)의 단부 중 기판(1)과 인접하는 단부에 배치된다. 프레임(33)은 기판(1)의 이송 방향에 수직하게 연장된다. 이와 다르게, 프레임(33)은 기판(1)의 이송 방향에 대하여 교차하도록 설치될 수 있다.

프레임(33)은 쉽게 휘어지지 않는 재질이 적합하다. 따라서 금속, 합금, 스텐인레스 스틸 등의 재질이 바람직하나 이에 해당하지 아니하여도 쉽게 휘어지지 아니하는 다른 재질로도 제작될 수 있다.

분사 노즐(35)은 프레임(33) 내부에 형성된다. 또한, 분사 노즐(35)은 프레임(33) 및 처리액 공급 라인(21)과 연통되어 처리액 공급부(20)로부터 처리액을 제공받아 기판(1)으로 제공한다.

분사 노즐(35)은 기판(1)의 폭 방향에 대응하여 길게 형성된 슬릿 형태를 가질 수 있다. 그러나, 본 실시예의 분사 노즐(35)은 노즐 형상으로 한정되는 것은 아니며, 상기 분사 노즐(35)은 복수의 홀이나, 노즐 또는 슬릿 등 실질적으로 다양한 형상을 가질 수 있을 것이다.

분사 노즐(35)은 상기 프레임(33) 내부에서 소정 각도로 비스듬하게 형성될 수 있다. 즉, 분사 노즐(35)은, 분사 노즐(35)을 통해 분사되는 처리액이 기판(1)에 대해 소정 각도로 분사될 수 있도록 형성된다. 따라서, 분사 노즐(35)은 분사되는 처리액의 압력을 이용하여 기판(1) 상에 잔류하는 식각액을 일방향으로 효과적으로 밀어낼 수 있으며, 상기와 같이 밀어낸 식각액이 역류하는 것을 방지할 수 있다.

본 발명의 일 실시예에 있어서, 프레임의 내부에는 처리액을 일시적으로 수용하는 수용 공간(미도시)이 형성될 수 있다. 상기 수용 공간의 내부에는 처리액 제공 라인(21)을 경유하여 유입된 처리액이 일시적으로 저장된다. 여기서, 상기 수용 공간은 상기 나이프 유닛(10)으로 유입되는 처리액의 유입 압력을 견딜 수 있도록 하는 완충역할을 한다. 즉, 처리액 공급 라인(21)으로부터 유입되는 처리액 의 압력이 일정 범위 내에서 변화하더라도 상기 분사 노즐(35)을 통해 분사되는 처리액이 균일한 압력으로 분사될 수 있다. 상기 수용 공간은 다수개로 형성될 수 있으며 분사 노즐(35)을 따라 일정한 간격으로 배치될 수 있다.

간격 유지 부재(40)는 프레임(33)의 연장 방향으로의 양 단부들에 체결된다. 간격 유지 부재(40)는 기판(1)의 폭보다 크게 상호 이격된다. 따라서, 간격 유지 부재(40)가 기판(1)의 이송 경로를 간섭하지 않게 된다. 간격 유지 부재(40)는 프레임(33)과 롤러 어셈블리(123) 간의 간격을 일정하게 유지한다. 따라서, 기판 이송 유닛(120)이 상하로 이동할 경우에도 간격 유지 부재(40)는 프레임(33)과 롤러 어셈블리(123) 간의 간격을 일정하게 유지시킨다. 결과적으로, 기판의 이송 경로가 상하로 변경되어 이송 유닛(120) 또한 조절되어야 할 경우, 간격 유지 부재(140)에 의하여 나이프 유닛(10)이 자동적으로 조절됨으로써, 프레임(33)과 롤러 어셈블리(123) 간의 간격이 일정하게 유지된다.

본 발명의 일 실시예에 있어서, 나이프 유닛(30)은 일측에 처리액의 공급원이 되는 처리액 공급부(20)와, 상기 처리액 공급부(20)와 분사 노즐(33)을 연결하여 상기 처리액을 유동시킬 수 있는 공급 라인(21)을 더 포함할 수 있다.

예를 들어, 상기 처리액 공급부(20)는 챔버(110) 외부에 제공될 수 있다. 또한, 상기 공급 라인(21) 상에는 상기 공급 라인(21)을 선택적으로 개폐하기 위한 공급 밸브(미도시)가 더 포함할 수 있다. 여기서, 상기 공급 밸브는 개폐 밸브 또는 솔레노이드 밸브일 수 있다.

또한, 상술한 실시예들에서는 유리 기판과 같은 평판 디스플레이 장치에 사용되는 기판의 처리와 관련하여 본 발명의 실시예가 기술되고 있으나, 실리콘 웨이퍼와 같이 반도체 장치용 기판 등에 대하여도 본 발명의 실시예가 다양하게 적용될 수 있으며, 또한, 기체 상태뿐만 아니라 액체 상태의 처리액을 공급하기 위한 슬릿 노즐의 경우에도 본 발명의 실시예들이 바람직하게 적용될 수 있을 것이다.

상술한 바와 같이, 본 발명의 실시예들에 따르면 이전 공정에서 후 공정으로 가면서 기판의 이송 경로의 높이가 달라질 경우, 이송 유닛과 나이프 유닛 간의 간격을 조절하기 위하여 개별적으로 이송 유닛과 나이프 유닛을 조절하지 않을 수 있다. 즉, 이송 유닛의 높이를 조절함으로써 나이프 유닛의 간격 유지 부재에 의하여 자동적으로 이송 유닛과 나이프 유닛의 간격이 유지될 수 있다.

상기에서는 본 발명의 바람직한 실시예를 참조하여 설명하였지만, 해당 기술 분야의 숙련된 당업자는 하기의 특허 청구 범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.

Claims (4)

1. 몸체, 상기 몸체의 단부에 형성된 프레임 및 상기 프레임의 내부에 형성되어 기판을 향하여 처리액을 분사하는 분사 노즐을 갖는 분사부; 및

   상기 프레임의 장방향 단부에 위치하여 상기 기판과 상기 분사 노즐간의 간격을 유지하는 간격 유지 부재를 포함하는 나이프 유닛.
2. 제 1 항에 있어서, 상기 프레임 내부에서 상기 처리액을 수용하기 위한 수용 공간이 형성된 것을 특징으로 하는 나이프 유닛.
3. 기판을 처리하는 공간을 제공하는 챔버;

   상기 챔버 내부에 구비되어 상기 기판을 지지한 상태에서 수평 방향으로 이송하는 이송 유닛; 및

   상기 기판으로 처리액을 제공하는 나이프 유닛을 포함하고,

   상기 나이프 유닛은,

   상기 처리액을 공급하는 처리액 공급부;

   상기 처리액 공급부와 연결되고, 몸체, 상기 몸체의 단부에 형성된 프레임 및 상기 프레임의 내부에 형성되어 상기 기판을 향하여 상기 처리액을 분사하는 분사 노즐을 갖는 분사부; 및

   상기 프레임의 장방향 단부에 위치하여 상기 이송 유닛과 상기 분사 노즐간 의 간격을 유지하는 간격 유지 부재를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
4. 제 3 항에 있어서, 상기 프레임은 상기 기판의 일 방향 길이보다 적어도 같거나 큰 길이를 갖는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.

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