KR20080055644A - 고진공, 고유량 기포발생장치 용기를 위한 유입구 확산기및 스플래쉬가드 - Google Patents

고진공, 고유량 기포발생장치 용기를 위한 유입구 확산기및 스플래쉬가드 Download PDF

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Abstract

본 발명은 기포 크기 감소 배출구내에서 종료되는 침액 튜브 유입구 기포발생장치 및 상기 기포발생장치의 배출구와 상기 침액 튜브의 배출구 사이에 위치되어 배플 디스크와 기포발생장치의 벽 사이에 좁은 환형 공간을 제공하여 기포발생장치로의 유입구로 액적이 유입되는 것을 방지하기 위한 하나 이상의 배플 디스크를 포함하는 기포발생장치에 관한 것이다. 기포 크기 감소 배출구는 대략적으로 동일한 치수의 집수부내에 위치되는 긴 원통형 다공성 금속 플릿이다. 금속 플릿은 기포발생장치의 배출구의 유입구에 위치된다. 본 발명은 또한 상기 구성의 기포발생장치 용기로부터 화학물질 전구체를 공급하는 방법에 관한 것이다.

Description

고진공, 고유량 기포발생장치 용기를 위한 유입구 확산기 및 스플래쉬가드{SPLASHGUARD AND INLET DIFFUSER FOR HIGH VACUUM, HIGH FLOW BUBBLER VESSEL}
관련 출원의 교차 참조
본 출원은 2006년 12월 15일자로 출원된 미국 가명세서 출원 제 60/875,200 호 및 2007년 3월 27일자로 출원된 미국 가명세서 출원 제 60/908,376 호를 기초로 우선권을 주장한다.
본 출원은 고진공, 고유량 기포발생장치(bubbler) 용기를 위한 유입구 확산기 및 스플래쉬가드(splashguard; 튀김 차단부)에 관한 것이다.
전자부품 제조 산업에서는 전자부품 제조 반응기, 즉 화학기상증착("CVD")을 실시하기 위한 툴(tool)로 공급하기 위해 액체 화학물질을 화학물질 증기로 변환시키는 화학물질 전구체(precursor) 컨테이너를 이용한다. CVD는 집적 회로 또는 컴퓨터 칩과 같은 전자부품 제조 구성물내에 층, 필름 또는 기타 증착물을 형성하는데 있어서 선호되고 있는 기술이다. 액체 또는 고체가 공급원으로서 선호되고 있는데, 이는 그러한 화학물질 전구체의 부피가 이송 및 저장에 있어서 효율적이기 때문이다. 그러나, 산업계에서는 화학물질 전구체를 증기 형태로 툴의 사이트 즉, CVD로 실제로 공급하기를 주로 선호한다. 그 대신에, 일부 제조에서는 직접 액체 분사(direct liquid injection; "DLI")를 이용하기도 하나, 그 경우에도 그 액체는 공급 후에 툴내에서 증기화될 것이다.
CVD를 위한 증기 공급을 이용할 때, 컨테이너는 불활성 캐리어 가스내에 포함된 화학물질 전구체 증기를 툴로 전달하기 위해 불활성 캐리어 가스가 통과하는 또는 기포발생되는 기포발생장치를 통상적으로 구비한다. 통상적으로, 기포발생장치는 캐리어 가스가 액체 화학물질 전구체 표면의 아래쪽에서 컨테이너내로 도입되는 하향튜브(downtube) 유입구를 구비하며, 이때 캐리어 가스가 액체 화학물질 전구체를 통해 기포로서 상승되어, 캐리어 가스가 기포로서 액체와 접촉함에 따라 화학물질 전구체를 포획하게 되고 화학물질 전구체의 액체 높이 위쪽에 셋팅된 배출구에 의해 컨테이너 또는 기포발생장치를 빠져나가게 된다.
아무리 작은 액적(droplet)이라 하더라도, 화학물질 전구체가 액체 형태로 배출구를 통해 컨테이너를 빠져나가는 것은 바람직하지 못하다. 그러한 기포발생장치의 공급 생성물으로서, 균질한 증기가 바람직하다. 이는, 특히 기포발생장치로부터 툴로의 화학물질 전구체의 유동을 정밀하게 계량된 형태(metered fashion)로 제어하는 질량 유동 제어부(mass flow controller)를 통과할 때, 부식, 씻김(cleanup), 및 불균일한 유동을 방지한다.
그러한 산업계에서는 이러한 문제를 해결하기 위한 다양한 형태의 기포발생장치용 스플래쉬가드를 개발하기 위해 노력하여 왔으며; 그 예를 들면, US 6,520,218; EP 1 329 540; US 2004/0013577; EP 0 420 596; US 5,589,110; US 7,077,388; US 2003/0042630; US 5,776,255; 그리고 US 4,450,118가 있다. 스플래쉬가드 기능을 제공하기 위한 이러한 각각의 노력은 원하는 정도의 성능을 제공하지 못하였으나, 본원 발명은 이하에서 설명하는 바와 같이 높은 정도의 스플래쉬가드 기능을 성공적으로 제공하면서도, 이하에 기재되고 설명된 바와 같이, 화학물질 전구체의 큰 유동을 허용할 수 있고 또는 고진공 또는 큰 압력차 조건하에서도 화학물질 전구체의 유동을 허용할 수 있다.
발명의 요지
본 발명은 기포 크기 감소 배출구에서 종료되는 침액 튜브(diptube) 유입구 및 상기 침액 튜브의 배출구와 상기 기포발생장치의 배출구 사이에 위치된 하나 이상의 배플 디스크를 가지는 기포발생장치에 관한 것으로서, 상기 배플 디스크는 상기 침액 튜브의 배출구와 상기 기포발생장치의 배출구 사이에 위치되어 상기 배플 디스크와 기포발생장치의 내측 벽 사이에 좁은 환형 공간을 제공도록 구성되며 액체 액적이 기포발생장치의 배출구로 유입되는 것을 방지할 수 있다. 기포 크기 감소 배출구는 기포발생장치 컨테이너의 바닥 또는 저부내의 집수부(sump)내에 위치되는 튜브형의 다공성 확산기(diffuser)이며, 상기 집수부는 기포가 확산기를 빠져나갈 수 있도록 허용하고 또 액체 생성물이 확산기를 둘러싸는 집수부내에 잔류할 수 있도록 허용하는 충분한 공차(tolerance)를 가지도록 확산기의 크기 및 형상에 대략적으로 일치되게 형성된다.
또한, 본원 발명은 기포발생장치 용기로부터 화학물질 전구체를 공급하는 방법에 관한 것으로서, 그 방법은: 기포발생장치의 침액 튜브 및 추가적으로 집수부내의 확산기와 같은 기포 크기 감소 배출구를 통해 캐리어 가스를 통과시키는 단계; 기포발생장치로부터 캐리어 가스내로 액체 화학물질 전구체를 포획(entraining)시키는 단계; 배플 디스크의 외측 둘레와 기포발생장치 측벽의 내측 표면 사이의 좁은 환형 공간내에서 하나 이상의 배플 디스크를 통해 상기 포획된 화학물질 전구체 및 캐리어 가스를 통과시키는 단계를 포함한다.
본 발명은 고진공 또는 고유량 조건하에서 사용하도록 디자인된 증기 발생 기포발생장치에 관한 것이다. 이러한 디자인은 배출구 공급 라인내로 에어로졸 액적이 튀거나 이송되는 것을 방지하며, 그러한 액적의 튀김이나 이송은 불규칙적인(erratic) 화학물질 질량 유동 공급을 초래할 수 있을 것이다.
반도체 제조업에서, 진공 챔버 또는 툴내의 웨이퍼상으로의 증착을 위해 이송하기가 점점 곤란해지는 고가의 화학물질을 많이 이용하는 경향이 있다. 본 발명의 용기(vessel) 또는 기포발생장치는 고진공 상태에서 컨테이너 또는 기포발생장치로부터 액체 화학물질이 증기로서 공급될 수 있게 하며, 이때 불규칙적인 화학물질 질량 공급 속도를 초래하는 에어로졸 액적이 용기 또는 기포발생장치의 배출구내에서 형성되거나 그 내부로 튀는 것이 방지된다. 본 발명은 낮은 표면(lower surface) 디자인을 가지며, 이는 캐리어 가스가 화학물질 증기로 일정하게 포화될 수 있게 하여 잔류 화학물질을 매우 낮은 레벨까지 낮출 수 있게 한다. 또한, 본 발명은 에어로졸 액적이 기포발생장치의 배출구내로 튀거나 형성되는 것을 방지하며, 이렇게 에어로졸 액적이 형성되거나 튀는 것은 컨테이너내의 화학물질 레벨이 높은 경우에도 불규칙적인 화학물질 질량 공급 속도를 초래할 것이다. 종래에, 큰 유량 서비스 또는 고진공 서비스에서 사용되는 기포발생장치는 화학물질의 부분적인 장입(즉: 전체의 50%) 상태에서만 사용되어야 했었다. 그에 따라, 반도체 제조업자들은 용기 또는 기포발생장치를 보다 자주 변경(툴의 분해)하여야 했고, 컨테이너 프로세싱 비용의 증가로 인해 화학물질의 비용이 추가되었다. 본 발명은 완 전히 채워진(full) 액체 화학물질 높이(레벨)로부터 매우 낮은 높이까지에 걸쳐서 기포발생장치를 사용할 수 있게 하고 또 반도체 툴 정지시간을 감소시킬 수 있게 한다. 또한, 본 발명은 배출구에서의 화학물질 에어로졸 입자를 제한하는데 있어서 효과적이기 때문에, 프로세싱 챔버 또는 툴로의 모든 공급 파이프 및 배출구내에 부착되는 에어로졸 액적의 열화(劣化; degradation)로 인해 발생될 수 있는 입자 생성을 감소시킬 수 있다.
종래의 기포발생장치 디자인들은 특히 침액 튜브로의 파이핑(piping), 침액 튜브의 저부에 길이를 따라 드릴 가공된 홀(hole)들을 제공함으로써 스플래쉬 발생 문제를 해결하고 있다. 이는, 기포발생장치의 보다 넓은 면적에 걸쳐 생성되는 보다 작은 기포들을 초래하며, 이는 다시 보다 덜 교란적인(turbulent) 기포 작용을 초래하며, 그에 따라 보다 적은 스플래쉬 발생을 초래하나, 이들 발명은 화학물질 공급자들이 재사용할 수 있도록 효과적으로 세정할 수 없다.
본 발명은, 용기 또는 기포발생장치의 상부에 위치되는 하나 이상의 배플 디스크와 함께, 액체 화학물질 전구체로 유입되는 불활성 캐리어 가스의 기포 크기를 작게 분할하기 위한 유입구 침액 튜브의 배출구에 위치되는 다공성 금속 플릿과 같은 다공성 물질 매스(masses)를 이용하며, 그에 따라 화학물질 전구내에 포획된 캐리어 가스를 배플 디스크의 둘레 또는 원주 엣지(edge) 또는 외측 직경부와 기포발생장치 내측 벽의 내경부 사이의 좁은 환형 공간내에서 배플 디스크의 외측으로 구불구불하게(tortuously) 유동시킴으로써 컨테이너 또는 기포발생장치의 외부로 우회하여(indirectly) 통과하게 만든다. 이는 본 발명의 몇 가지 바람직한 실시예들 을 참조하여 설명하기로 한다.
도 1은 가스 확산기로서 작용하여 액체 화학물질 전구체(도시하지 않음)의 표면 아래쪽에서 불활성 캐리어 가스의 작은 미세기포를 생성하는 스테인리스 플릿(18)과 같은 다공성 매스 또는 블록(mass or block) 배출구를 구비하고 유입구 단부에 종료되는 침액 튜브 유입구(14)를 가지는 원통형 기포발생장치 측벽(12)을 포함한다. 이는 기포발생장치의 상부 공간부분(headspace) 또는 여유고(freeboard; 餘裕高) 위쪽에서의 액체 튀김(splatter) 또는 격렬한 기포발생 기회를 감소시킨다. 기포발생장치 침액 튜브 유입구(14)의 배출구(18)는, 도 5에 도시된 바와 같이, 집수부(sump; 21)내에서 기포발생장치의 바닥에 인접하게 된다.
또한, 침액 튜브(14)는, 바람직하지는 못하나 많은 유량 또는 고진공 조건하에서 발생 가능성이 커지는 배출구(16)에서 유동하는 캐리어 가스의 큰 크기 액체 포획 또는 액체 튀김을 추가적으로 방지하기 위해, 침액 튜브(14)의 상단부에 용접 등에 의해 고정된 낮은 높이의 하향 개방 원뿔과 같은 원형 및 하향 오목 형상을 가지는 배플 디스크(20)를 구비한다.
도 2는 유사한 부분에 대해 유사한 도면부호를 부여한 본 발명의 제 2 실시예를 도시한다. 여기에서, 스플래쉬가드는 2 개의 배플 디스크 즉, 하부 배플 디스크(22) 및 상부 배플 디스크(24)를 포함하며, 상기 배플 디스크는 낮은 높이의 하향 개방 원뿔과 같이 아래쪽으로 오목한 원형 외측 엣지 형상을 가짐으로써 기포발생장치(10)로부터 배출되는 화학물질 전구체에 대해 보다 더 구불구불한 경로를 제공하는 것을 돕는다. 배플 디스크들은 아래쪽으로 오목하게 형성되어, 화학물질 전구체가 배출구(16)로 직접적으로 유동하는 것을 방해하고 또 저장된 화학물질 전구체(도시하지 않음)내로 다시 낙하하는 합체된 액적에 의해 응축된 화학물질 전구체로 회수될 수 있도록 수집하는 역할을 한다. 배플 디스크들은 기포발생장치의 원통형 내측 벽의 내경 보다 약간 작은 지름을 갖는다. 배플 디스크의 원주 또는 둘레 엣지와 기포발생장치의 내측 벽 사이의 공간은, 가스가 그 공간을 최소한의 압력 강하로 통과할 수 있을 정도로 크면서도 동시에, 상당한 압력 요동(fluctuation) 또는 침액 튜브를 통한 캐리어 가스의 높은 유량하에서 기포발생장치의 액체 함량으로부터 분출될 수 있는 액체의 통로를 최소화할 수 있을 정도로 작다.
도 3은 본 발명의 제 2 시시예를 보다 상세하게 도시한다. 기포발생장치(10)가 절개되어, 카탈로그 제 1200-A-B-L-Media grade에 기재된 Mott 다공성 스테인리스 스틸 컵 시리즈(Series) 1200과 같은 스테인리스 스틸 플릿 배출구(18)에서 종료되는, 꺾어진 침액 튜브(14)와 함께 도시된다. 두 개의 배플 디스크(22 및 24)가 컨테이너 측벽(12)내의 서로 상이한 내경 위치를 점유하며, 그에 따라 캐리어 가스 및 화학물질 전구체가 기포발생장치 측벽(12)의 원통형 내측 표면으로부터 배출구를 향해 통과하기 위한 보다 큰 환형 공간을 하부 배플 디스크(22)가 제공하는 한편, 상부 배플 디스크(24)는 배출구 및 그러한 배출구로부터 하류에 위치하는 파이프내에 액체가 포획되는 것을 추가적으로 감소시킬 수 있도록 보다 적은 환형 공간을 제공한다.
도 4는, 측벽(12)을 도시하지 않은 상태에서, 제 2 실시예의 기포발생장치의 내측 구조를 독립적으로 도시한다. 도 4에서, 침액 튜브(14) 및 그 배출구 플릿(18)을 보다 확실하게 확인할 수 있을 것이며, 배플 디스크(22 및 24)를 포함하는 스플래쉬가드 또한 아래쪽으로 오목한 형상과 함께 보다 용이하게 확인할 수 있을 것이다.
도 5는 도 2의 제 2 실시예의 특정 구성을 도시하며, 여기에서 가스 확산기 배출구(18)가 미국 코네시컷 06032, 파밍톤에 소재하는 Mott Corporation에 의해 제조되는 것과 같이 수평으로 배치된 다공성 금속 플릿 외측 쉘(shell) 및 중공 가스 통로 내측부를 가지는 세장형 원통형 다공성 금속 플릿으로 도시되어 있다. 바람직하게, 다공성 금속 플릿 가스 확산기 배출구(18)는 1 미크론 또는 그 이상의 입자를 걸러내기 위한, 바람직하게 1 미크론 또는 그 이상의 입자를 90% 이상 걸러내기 위한, 중간 등급(media grade rating)을 가진다.
도 5의 가스 확산기 배출구(18)는 기포발생장치 컨테이너(12)의 베이스, 바닥 또는 저부내의 집수부(21)내에 위치된다. 바람직한 확산기(18)는 수평 배치된 세정형 원통체이고, 그에 따라 상기 집수부는 상부측이 기포발생장치의 내부로 개방된 부분적인 세장형 원통체이며, 상기 집수부는 가스 기포 또는 캐리어 가스가 확산기 배출구(18)의 외부로 빠져나갈 수 있게 허용할 정도로 그리고 기포발생장치 또는 용기(10)내에 저장된 액체 화학물질 전구체가 집수부(21)내에서 확산기 배출구(18)를 실질적으로 또는 완전히 둘러쌀 수 있게 허용할 정도로 확산기 배출구(18)의 세정형 원통체 보다 약간 크다. 바람직하게, 확산기의 상부 표면이 집수부 벽의 상부 엣지 보다 높지 않도록, 확산기 배출구(18) 전체가 집수부(21)내에 위치된다. 높이 센서(28)가 액체 제품 높이를 측정한다. 유입구(14)는 유입구 밸브(30)에 의해 제어되고, 배출구(16)는 밸브(26)에 의해 제어된다. 도 5의 목적은, 기포발생장치의 하류 및 배출구로 유입되는 액체의 격렬한 튀어오름(spitting) 또는 튀김을 생성할 수 있는 크기의 기포들을 생성하지 않으면서, 액체 제품을 포획할 수 있는 적절한 가스 유동을 제공하는 것이다. 이는 배출구를 오염시킬 수 있고 또는 하류의 질량 유동 제어부에서 유동 문제를 일으킬 수 있다. 기포발생장치로부터 액체가 누출되는 것을 추가로 방지하기 위해, 배출구(16)로의 유입구에 금속 플릿(32)이 배치된다.
도 6은 금속 플릿(32) 대신에 엘보우(elbow; 34) 구성 또는 형상의 배출구(16)로의 유입구가 사용된 도 5의 실시예를 도시한다. 발생가능성이 있는 배출구(16)내로의 액체 유입을 최소화하기 위해, 엘보우(34)의 단부는 배플 디스크(22 및 24)의 외측 원주 또는 둘레 엣지로부터 멀어지는 방향으로 방사상 내측으로 지향되고 또 용기 또는 기포발생장치(10)의 측벽(12)에 의해 형성된 원통의 축방향 중심을 향한다.
유사하게, 도 7은 도 6에 대한 대안적인 실시예를 도시하는데, 여기에서 엘보우 배출구(34)는 "T형(Tee)" 형상의 또는 구성의 배출구로의 유입구(36)와 대체되며, 이는 다시 배플 디스크(22 및 24)와 용기 또는 기포발생장치(10)의 측벽(12)의 내측 벽 사이의 환형 공간으로부터 배출구(16)내로 액체가 도입될 가능성을 최소화한다.
배출구(16)내로 액체가 도입되는 것을 방지하기 위해, 배플 디스크들의 구성 을 추가로 변경할 수도 있을 것이다. 도 8은 배플 디스크(22)와 배플 디스크(24) 사이에서의 튀는 액체를 포획하여 용기의 집수부로 다시 돌려보내기 위한 다수의 천공부(38)를 구비한 하부 배플 디스크(22)를 도시한다. 도 9는, 상부 배플 디스크(24)가 다공성 금속 플릿 물질로 제조된 것을 도시하며, 이는 다시 배출구(16)내로 액체가 유입되는 것을 최소화한다.
본 발명은 전자부품 제조 시스템의 CVD 툴에 연결된 기포발생장치의 배출구 및 하류 파이핑내에 액체의 액적이 유입되는 것을 최소화하는 우수한 효과를 제공한다. 하나의 배플 디스크 또는 다수의 배플 디스크를 단독으로 이용하여, 또는 침액 튜브 유입구로의 배출구에 위치하는 확산기 또는 플릿과 조합으로 이용하여, 기포발생장치의 배출구(16)에 액체 액적이 유입되는 것을 최소화한다.
비록, 배플 디스크들을 기포발생장치 측벽 또는 원통형 용기의 내경 보다 약간 작은 오목한 원형 디스크로 도시하였지만, 용기 또는 기포발생장치의 내측 측벽에 좁은 환형 공간을 제공하기만 한다면 어떠한 다른 배플 또는 다른 형상도 본원 발명의 범위내에 포함된다는 것을 이해할 것이다. 유사하게, 작은 통로들의 열(array)을 가지는 임의 형태의 장치도 본 발명의 침액 튜브의 배출구 또는 플릿으로 이용될 수 있을 것이다.
비록, 스테인리스 스틸을 이용하는 것이 바람직하지만, 견고한 다른 불활성 물질도 스플래쉬가드 또는 플릿을 제조하는 이용될 수 있을 것이다. 플라스틱, 금속 합금, 분말형 금속, 직물, 텍스타일(textiles) 및 세라믹 모두가 포함될 수 있다.
반대 방향으로 제품을 유동시키기 위해 용기(10)를 이용할 수도 있을 것이며, 이때 배출구(16)는 가압 가스 유입구로서 작용하여 용기(10)내에 포함된 액체에 대한 압력 헤드(pressure head)를 형성하는 압력 가스 유입구로서 작용하고, 전술한 증기 공급과 대조적으로, 압력 가스를 이용하여 용기로부터 액체를 공급하기 위해 플릿(18)을 통해서 그리고 침액 튜브(14)의 외부로 액체를 액체 형태로 가압한다.
도 1은 본 발명의 제 1 실시예의 측면도이다.
도 2는 본 발명의 제 2 실시예의 측면도이다.
도 3은 도 2의 본 발명의 제 2 실시예를 보다 상세하게 도시한 측면도이다.
도 4는 도 3의 본 발명의 제 2 실시예의 내측 작용 구조물들을 보다 상세하게 도시한 측면도이다.
도 5는 확산기의 대략적인 형상에 대응하도록 형성된 집수부내의 확산기를 도시한 도 2의 본 발명의 제 2 실시예의 내측 작용 구조물들을 보다 상세하게 도시한 측면도이다.
도 6은 대안적인(alternate) 엘보우(elbow) 배출구(34)를 도시한 도 5의 내측 작용 구조물들을 보다 상세하게 도시한 측면도이다.
도 7은 대안적인 "T형(Tee)" 배출구(36)를 도시한 도 5의 내측 작용 구조물들을 보다 상세하게 도시한 측면도이다.
도 8은 배플 디스크(22)가 천공부(39)를 구비하는 대안적인 실시예를 도시한 도 4의 내측 작용 구조물들을 보다 상세하게 도시한 측면도이다.
도 9는 배플 디스크(24)가 다공성 금속 플릿(frit) 물질로 구성된 대안적인 실시예를 도시한 도 4의 내측 작용 구조물들을 보다 상세하게 도시한 측면도이다.

Claims (24)

  1. 기포발생장치로서:
    상기 기포발생장치의 바닥에 인접한 기포 크기 감소 배출구에서 종료되는 침액 튜브 유입구 및 상기 침액 튜브의 배출구와 상기 기포발생장치의 배출구 사이에 위치되고 배플 디스크와 상기 기포발생장치의 내측 벽 사이에 위치되어 상기 기포발생장치의 배출구로 액적이 유입되는 것을 최소화하는 좁은 환형 공간을 제공하도록 구성된 하나 이상의 배플 디스크를 포함하는
    기포발생장치.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 기포 크기 감소 배출구에서 종료되는 침액 튜브가 긴 원통형 확산기인
    기포발생장치.
  3. 제 2 항에 있어서,
    다공성 금속 플릿으로 구성되는
    확산기.
  4. 제 3 항에 있어서,
    상기 다공성 금속 플릿이 1 미크론 또는 그 보다 큰 입자를 걸러내기 위한 다공도를 가지는
    확산기.
  5. 제 4 항에 있어서,
    상기 다공성 금속 플릿이 1 미크론 또는 그보다 큰 입자의 90% 이상을 걸러내기 위한 다공도를 가지는
    확산기.
  6. 제 2 항에 있어서,
    상기 확산기가 기포발생장치의 바닥내의 집수부내에 위치되며, 상기 집수부는 가스 기포가 확산기의 외부로 빠져나갈 수 있게 허용하고 또 액체가 확산기를 둘러싸는 집수부내에 잔류하게 허용할 수 있도록 상기 확산기의 외부 치수 보다 큰 형상을 가지는
    기포발생장치.
  7. 제 6 항에 있어서,
    상기 집수부가 상기 확산기 보다 큰 부분적인 세장형 원통체인
    기포발생장치.
  8. 제 1 항에 있어서,
    상기 기포발생장치의 배출구로의 유입구가 상기 기포발생장치의 배출구로 액체가 유입되는 것을 최소화하기 위한 다공성 플릿을 구비하는
    기포발생장치.
  9. 제 1 항에 있어서,
    상기 기포발생장치의 배출구로의 유입구가 상기 기포발생장치의 배출구로 액체가 유입되는 것을 최소화하기 위한 엘보우 형상을 가지는
    기포발생장치.
  10. 제 1 항에 있어서,
    상기 기포발생장치의 배출구로의 유입구가 상기 기포발생장치의 배출구로 액 체가 유입되는 것을 최소화하기 위한 "T" 형상을 가지는
    기포발생장치.
  11. 제 1 항에 있어서,
    상부 배플 디스크 및 하부 배플 디스크를 포함하는 둘 이상의 배플 디스크를 구비하고,
    상기 하부 배플 디스크가 천공부를 구비하는
    기포발생장치.
  12. 제 1 항에 있어서,
    상부 배플 디스크 및 하부 배플 디스크를 포함하는 둘 이상의 배플 디스크를 구비하고,
    상기 상부 배플 디스크가 다공성 금속 플릿으로 제조되는
    기포발생장치.
  13. 제 1 항에 있어서,
    상기 기포발생장치가 원통 형상을 가지는
    기포발생장치.
  14. 제 13 항에 있어서,
    상기 배플 디스크가 원형 및 아래쪽으로 오목한 형상을 가지는
    기포발생장치.
  15. 원통형 증기 발생 기포발생장치 용기로서,
    기포발생장치 용기내로 캐리어 가스를 공급하기 위해 다공성 금속 플릿으로 이루어진 기포 크기 감소 확산기 배출구내에서 종료되는 침액 튜브 유입구와, 원형 및 아래쪽으로 오목한 형상을 가지고 상부 배플 디스크 및 하부 배플 디스크를 포함하며 상기 침액 튜브로의 배출구와 기포발생장치 용기의 배출구 사이에 위치되어 상기 기포발생장치 용기의 내측 벽과 배플 디스크의 외측 원주 둘레 엣지 사이에 좁은 환형 공간을 제공하도록 구성되어 기포발생장치 용기로부터 액체를 증기로 분배하기 위해 캐리어 가스가 기포발생장치 용기의 액체 내용물을 통해서 기포발생될 때 기포발생장치 용기로의 배출구로 액체 액적이 유입되는 것을 최소화할 수 있는 두 개의 배플 디스크를 포함하며, 상기 기포발생장치 용기의 배출구로의 유입구가 엘보우 및 T형상으로 이루어진 그룹으로부터 선택된 형상을 가지는
    원통형 증기 발생 기포발생장치 용기.
  16. 액체 분배 용기로서,
    다공성 금속 플릿 유입구 단부를 구비하는 침액 튜브 배출구 및 상기 용기내의 액체 화학물질 전구체의 액체 높이 위쪽의 용기로의 유입구를 구비하는
    액체 분배 용기.
  17. 제 16 항에 있어서,
    상기 침액 튜브 배출구로의 유입구 단부와 상기 액체 분배 용기의 유입구 사이에 위치되고 배플 디스크와 기포발생장치의 내측 벽 사이에 좁은 환형 공간을 제공하도록 구성되어 상기 액체 공급 용기로의 유입구로 액체 액적이 유입되는 것을 최소화할 수 있는 하나 이상의 배플 디스크를 포함하는
    액체 분배 용기.
  18. 기포발생장치로부터 화학물질 전구체 증기를 공급하는 방법으로서:
    기포발생장치의 침액 튜브를 통해서 그리고 추가적으로 기포 크기 감소 배출구를 통해서 캐리어 가스를 통과시키는 단계; 상기 기포발생장치로부터 캐리어 가스내로 액체 화학물질 전구체를 포획시키는 단계; 배플 디스크의 외측 둘레와 기포 발생장치 측벽의 내측 표면 사이의 좁은 환형 공간내에서 하나 이상의 배플 디스크를 통해 상기 포획된 화학물질 전구체 및 캐리어 가스를 통과시키는 단계를 포함하는
    기포발생장치로부터 화학물질 전구체 증기를 공급하는 방법.
  19. 제 18 항에 있어서,
    상기 캐리어 가스가 기포 크기 감소 배출구로서의 긴 원통 형상의 다공성 금속 플릿 확산기를 통과하는
    기포발생장치로부터 화학물질 전구체 증기를 공급하는 방법.
  20. 제 19 항에 있어서,
    상기 확산기가 기포발생장치의 베이스내의 집수부내에 위치되는
    기포발생장치로부터 화학물질 전구체 증기를 공급하는 방법.
  21. 제 18 항에 있어서,
    액체 화학물질 전구체가 포획된 상기 캐리어 가스가 엘보우 형상의 배출구내에서 상기 기포발생장치로부터 공급되는
    기포발생장치로부터 화학물질 전구체 증기를 공급하는 방법.
  22. 제 18 항에 있어서,
    액체 화학물질 전구체가 포획된 상기 캐리어 가스가 "T" 형상의 배출구내에서 상기 기포발생장치로부터 공급되는
    기포발생장치로부터 화학물질 전구체 증기를 공급하는 방법.
  23. 용기로부터 액체 화학물질 전구체를 공급하는 방법으로서:
    상기 용기의 침액 튜브 배출구로의 유입구로서의 금속 플릿 필터를 통해 액체 화학물질 전구체를 강제(force)하기 위해 상기 용기내의 액체 화학물질 전구체의 액체 높이 위쪽의 상기 용기로의 유입구내로 가압 가스를 도입하는 단계를 포함하는
    용기로부터 액체 화학물질 전구체를 공급하는 방법.
  24. 제 23 항에 있어서,
    상기 가압 가스가 상기 용기 측벽의 내측 표면과 상기 배플 디스크의 외측 둘레 사이의 좁은 환경 공간내의 하나 이상의 배플 디스크를 통과하는
    용기로부터 액체 화학물질 전구체를 공급하는 방법.
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