JPH06283400A - 間隙計測装置 - Google Patents

間隙計測装置

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JPH06283400A
JPH06283400A JP5092444A JP9244493A JPH06283400A JP H06283400 A JPH06283400 A JP H06283400A JP 5092444 A JP5092444 A JP 5092444A JP 9244493 A JP9244493 A JP 9244493A JP H06283400 A JPH06283400 A JP H06283400A
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JP
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gap
plate
light
mask
light receiving
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JP5092444A
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English (en)
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Toshinobu Morioka
利伸 森岡
Masaji Tanaka
正司 田中
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Nikon Corp
Original Assignee
Nikon Corp
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Publication of JPH06283400A publication Critical patent/JPH06283400A/ja
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    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F9/00—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically
    • G03F9/70—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically for microlithography
    • G03F9/7003—Alignment type or strategy, e.g. leveling, global alignment
    • G03F9/7023—Aligning or positioning in direction perpendicular to substrate surface
    • G03F9/703—Gap setting, e.g. in proximity printer
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor

Abstract

(57)【要約】 【目的】第１の部材及び第２の透明部材間に形成される
間隙量を計測する間隙計測装置において、間隙の計測を
簡易な構成かつ容易に行うようにする。 【構成】第１の部材Ｍ及び第２の透明部材Ｐの対向面に
対して側方から第１の部材Ｍ及び第２の透明部材Ｐ間の
間隙方向に延びた平行光束ＬA を第２の透明部材Ｐの入
射面Ｐ１の長手方向に傾けて斜入射させ、第２の透明部
材Ｐを透過した光ＬP 及び間隙Ｇを通過した光ＬG をそ
れぞれ分離し、第２の透明部材Ｐを透過した光ＬP 及び
又は間隙Ｇを通過した光ＬG に基づいて第１の部材Ｍ及
び第２の透明部材Ｐ間の間隙量を計測するようにしたこ
とにより、第１の部材Ｍ及び第２の透明部材Ｐのそれぞ
れの対向面に対してほぼ直交する方向から露光光を照射
する露光動作を妨げることなく第１の部材Ｍ及び第２の
透明部材Ｇ間の間隙量を計測し得る。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は間隙計測装置に関し、例
えば液晶表示板又は集積回路等を製造する際にプロキシ
ミテイ方式の露光装置を用いてマスクのパターンをプレ
ート上に露光転写する際にマスク及びプレート間の間隙
量を計測する間隙計測装置に適用して好適なものであ
る。
【０００２】
【従来の技術】従来、例えばプロキシミテイ方式の露光
装置においては、マスク及びプレート間の間隙量を数十
〜数百 [μm]に保つて露光を行うようになされている。
プロキシミテイ方式の露光装置の解像力はこの間隙量に
大きく依存し、設定される間隙量は通常、プロセスによ
つて異なるが、安定した露光を行う為には同一プロセス
におけるプレートごとの間隙量の設定がばらつかないよ
うにする必要がある。この為、マスク及びプレート間に
形成された間隙量が正確に必要な間隙量に設定されてい
ることを確認しながら当該間隙量を設定し得る計測シス
テムが重要である。
【０００３】ここでマスク及びプレートの間隙量を計測
する方法として、計測すべき面に対して斜入射した光束
の反射光を検出する方法でマスクのプレートに対向する
面及びプレートのマスクに対向する面の位置をそれぞれ
求め、これらの距離差を求める方法が用いられている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】ところがこのような方
法によつてマスク及びプレート間の間隙量を計測しよう
とすると、マスク及びプレート双方のそれぞれについて
位置計測を行う必要があり、この分計測時間が長くなる
問題があつた。
【０００５】またこのように面の位置を計測する場合、
マスクを介してプレート面の位置計測を行うため、マス
クにパターンが入つている位置においてはプレート面の
位置計測を行うことができない。従つてマスクのパター
ンに応じて面位置計測装置を移動するような移動手段を
設け、パターンを避けて面位置計測を行う等、装置全体
として複雑化する問題を避け得ないと共に、露光時にお
いて面位置計測装置が露光の妨げになる場合には、当該
面位置計測装置を退避させる等、工程が煩雑になる問題
があつた。
【０００６】本発明は以上の点を考慮してなされたもの
で、間隙の計測を簡易な構成かつ容易に行うことができ
る間隙計測装置を提案しようとするものである。
【０００７】
【課題を解決するための手段】かかる課題を解決するた
め本発明においては、第１の部材Ｍ及び第２の透明部材
Ｐ間に形成される間隙量を計測する間隙計測装置１０に
おいて、第２の透明部材Ｐの側面Ｐ１方向から、一様な
強度に整形され間隙Ｇ方向に延びた平行光ＬAを、第２
の透明部材Ｐの側面Ｐ１の長手方向に傾けて斜入射する
入射手段１１、１２、１３と、第２の透明部材Ｐを透過
する際に屈折によつて平行光ＬA から分離された光ＬP
だけを検出し、当該検出結果に基づいて間隙量を計測す
る検出手段１４とを備えるようにする。
【０００８】また本発明においては、第１の部材Ｍ及び
第２の透明部材Ｐ間に形成される間隙量を計測する間隙
計測装置２０において、第２の透明部材Ｐの側面Ｐ１方
向から、一様な強度に整形され間隙Ｇ方向に延びた平行
光ＬA を、第２の透明部材Ｐの側面Ｐ１の長手方向に傾
けて斜入射する入射手段１１、１２、１３と、平行光Ｌ
A のうち、第２の透明部材Ｐの側面Ｐ１に斜入射され光
路を折り曲げられた第２の透明部材の透過光ＬP を分離
してなる間隙の通過光ＬG だけを検出し、当該検出結果
に基づいて間隙量を計測する検出手段１４とを備えるよ
うにする。
【０００９】
【作用】第２の透明部材Ｐの側面Ｐ１方向から平行光Ｌ
A を入射して、第１の部材Ｍ及び第２の透明部材Ｐ間の
間隙量を計測することにより、第１の部材Ｍ及び第２の
透明部材Ｐのそれぞれの対向面に対してほぼ直交する方
向から露光光を照射する露光動作を妨げることなく間隙
量を計測し得る。
【００１０】
【実施例】以下図面について、本発明の一実施例を詳述
する。
【００１１】（１）第１実施例 図１において１０は全体として間隙計測装置を示し、露
光装置のマスクＭ及び矢印Ｚで示す方向又はこれとは逆
方向に移動し得るプレートＰ間に形成される間隙Ｇの大
きさを計測するようになされている。図１では便宜上、
マスク及びプレートの１隅についての構成を示すが、マ
スク及びプレートの全面で一様なかんけき量を設定する
ため実際の装置では図２に示すように、マスク及びプレ
ートの４隅に対して図１の構成を配置する。
【００１２】すなわち間隙計測装置１０はレーザダイオ
ード等でなる光源１１から射出されたレジストを感光さ
せない波長でなる光束をレンズ１２及びスリツト１３を
介して、プレートＰの側面Ｐ１から間隙Ｇ方向に延びた
強度一様な平行光束ＬA とし、その一部を側面Ｐ１に斜
入射する。
【００１３】この入射方向はプレートＰのマスクＭに対
向した対向面Ｐ２と平行かつ入射面（側面Ｐ１）の長手
方向に傾斜した方向でなり、当該平行光束ＬA のうちプ
レートＰの側面Ｐ１に斜入射した光はプレートＰの内部
を通過して側面Ｐ１に隣合う側面Ｐ３からプレート透過
光ＬP として出射する。
【００１４】従つて図３に示すように、プレートＰの側
面Ｐ１から入射角度θで入射した平行光束ＬA の一部は
屈折率をｎとして次式
【数１】 の関係式を満足する屈折角θ´で屈折する。
【００１５】また平行光束ＬA のうちマスクＭ及びプレ
ートＰ間に形成された間隙Ｇ内を通過した間隙通過光Ｌ
G は、光路を変えずに間隙Ｇから出射する。従つてプレ
ートＰ及び間隙Ｇに入射された平行光束ＬA はプレート
Ｐ内を透過するプレート透過光ＬP 及び間隙Ｇを通過す
る間隙通過光ＬG に分離され、それぞれ異なる光路でプ
レートＰ及び間隙Ｇから出射する。このときマスクの側
面Ｍ１及びプレートの側面Ｐ１に対する光束ＬA の入射
各は、スリツト１３による光束の幅を考慮して、透過光
ＬP 及びＬG が完全に分離するようにする必要があり、
このことを考慮して入射角及び光束の幅（スリツト幅）
を決定する必要がある。
【００１６】ここで図４は間隙計測装置１０の側面図で
あり、プレートＰの側面Ｐ１から間隙Ｇ方向に延びた平
行光束ＬA は、プレートＰを載置したステージＳの側面
Ｓ１からマスクＭの側面Ｍ１に亘る範囲に照射される。
このときステージＳの側面Ｓ１に入射した平行光束ＬA
の一部は、当該ステージＳが光を透過しない部材によつ
て形成されていることにより、当該側面Ｓ１において遮
光される。これに対して光を透過するマスクＭの側面Ｍ
１には遮光塗料が塗布されていることにより、当該側面
Ｍ１に入射した平行光束ＬA の一部は、当該側面Ｍ１に
おいて遮光される。従つて平行光束ＬA のうち透明部材
でなるプレートＰ及び間隙Ｇに入射した光だけがプレー
ト透過光ＬP 及び間隙通過光ＬG に分離されて出射す
る。
【００１７】ここでプレートＰを透過したプレート透過
光ＬP はＰＳＤ（ポジシヨンセンシテイブデバイス）等
でなる受光素子１４において受光される。すなわち図５
は受光素子１４の受光状態を示し、当該受光素子１４は
プレートＰが移動する方向（矢印Ｚで示す方向）に延長
された受光部１４Ａを有し、プレートＰの移動に伴つて
受光部１４Ａに入射するプレート透過光ＬP の受光位置
が矢印Ｚで示す方向又はこれとは逆方向に移動する。図
４の場合、プレート透過光ＬP の受光位置がＬP0である
場合にプレートＰを矢印Ｚで示す方向（すなわち間隙Ｇ
が小さくなる方向）に上昇させると、これに応じて受光
位置がＬP1に変化する。
【００１８】ここでプレートＰ及びマスクＭの間隙Ｇを
予め設定された間隙量Ｚ0 とした場合の受光素子１４の
受光位置をＬP0とすると共に、当該受光位置ＬP0におけ
る受光素子１４の位置出力をＳ0 とし、さらにこの状態
からプレートＰが矢印Ｚ方向に上昇した際の受光位置を
ＬP1とすると共に、当該受光位置ＬP1における受光素子
１４の位置出力をＳ1 とすると、受光位置が当該ＬP1と
なつた際のプレートＰ及びマスクＭ間の間隙量Ｚ1 は、
受光素子１４の位置出力の変換定数をｋとして、次式
【数２】 によつて表される。従つて当該（２）式からプレートＰ
及びマスクＭ間に形成された間隙Ｇの間隙量を求めるこ
とができる。
【００１９】以上の構成において、間隙計測装置１０は
プレートＰの側面Ｐ１から入射された平行光束ＬA の一
部を、プレートＰを透過する際の屈折によつて間隙Ｇを
通過する間隙通過光ＬG から分離する。この分離された
プレート透過光ＬP だけを受光素子１４において受光す
ることにより、当該プレート透過光ＬP の受光素子１４
における受光位置はプレートＰの矢印Ｚ方向の位置に対
応することになる。
【００２０】従つてプレートＰ及びマスクＭ間の間隙量
を既知の値となるようにプレートＰを保持した際のプレ
ート透過光ＬP の受光位置を基準受光位置とし、この状
態からプレートＰを移動した際のプレート透過光ＬP の
受光位置の基準受光位置に対する変化を計測することに
より、プレートＰの移動量を求めることができる。従つ
て当該プレートＰの移動量及び上記既知の間隙量からプ
レートＰ及びマスクＭ間の間隙量を求めることができ
る。
【００２１】ここでプレートＰ及びマスクＭを有する露
光装置においては、マスクＭのパターン形成面Ｍ２に対
して矢印Ｚで示す方向に対して逆方向に露光光を照射す
ることにより、当該パターン形成面Ｍ２に形成されたパ
ターンがプレートＰに転写される。
【００２２】従つて間隙計測装置１０においてプレート
Ｐの側面Ｐ１方向から平行光束ＬAを入射してプレート
Ｐ及びマスクＭ間の間隙量Ｇを計測するように構成する
ことにより、当該平行光束ＬA の光源１１、レンズ１２
及びスリツト１３でなる入射手段及び受光素子１４を、
露光装置の露光光の光路外に配置することができる。
【００２３】以上の構成によれば、間隙計測装置１０の
入射手段（光源１１、レンズ１２及びスリツト１３）及
び受光素子１４を露光装置の露光光の光路外に設けたこ
とにより、露光動作を妨げることなくプレートＰ及びマ
スクＭ間の間隙量を計測することができる。従つて露光
光の光路内にオートフオーカス装置を配置した従来の場
合に比して、露光時において露光光の光路外に間隙計測
装置を退避させる必要がなく、この分露光装置のスルー
プツトを向上することができる。
【００２４】また従来の場合にはマスクＭのパターン形
成面Ｍ２を介してマスクＭ及びプレートＰの対向面にそ
れぞれフオーカス合わせを行つて間隙Ｇを計測したこと
により、マスクＭに形成されたパターンを避けてフオー
カス合わせを行うといつた煩雑な操作が必要であつた
が、本実施例によればプレートＰの側面Ｐ１から間隙計
測用の平行光束ＬA を入射することにより、かかる煩雑
な操作を回避して間隙計測を一段と簡易化することがで
きる。
【００２５】（２）第２実施例 図６は本発明による間隙計測装置２０の第２実施例を示
し、露光装置のマスクＭ及び矢印Ｚで示す方向又はこれ
とは逆方向に移動し得るプレートＰ間に形成される間隙
Ｇの大きさを計測するようになされている。
【００２６】すなわち間隙計測装置２０はレーザダイオ
ード等でなる光源１１から射出された光束をレンズ１２
及びスリツト１３を介して、プレートＰの側面Ｐ１から
間隙Ｇ方向に延びた強度一様な平行光束ＬA とし、その
一部を側面Ｐ１に斜入射する。
【００２７】この入射方向はプレートＰのマスクＭに対
向した対向面Ｐ２と平行かつ入射面（側面Ｐ１）の長手
方向に傾斜した方向でなり、当該平行光束ＬA のうちプ
レートＰの側面Ｐ１に斜入射した光はプレートＰの内部
を通過して側面Ｐ１に隣合う側面Ｐ３からプレート透過
光ＬP として出射する。従つて図３について上述した場
合と同様にして、プレートＰの側面Ｐ１から入射角度θ
で入射した平行光束ＬA の一部は屈折率をｎとして上述
の（１）式の関係式を満足する屈折角θ´で屈折する。
【００２８】また平行光束ＬA のうちマスクＭ及びプレ
ートＰ間に形成された間隙Ｇ内を通過した間隙通過光Ｌ
G は、光路を変えずに間隙Ｇから出射する。従つてプレ
ートＰ及び間隙Ｇに入射された平行光束ＬA はプレート
Ｐ内を透過するプレート透過光ＬP 及び間隙Ｇを通過す
る間隙通過光ＬG に分離され、それぞれ異なる光路でプ
レートＰ及び間隙Ｇから出射する。また平行光束ＬA の
一部は、マスクＭの側面Ｍ１にも入射することになる
が、この場合当該マスクＭの側面Ｍ１に入射した平行光
束ＬA の一部はプレートＰ内を透過したプレート透過光
ＬP と同様の方向に透過することにより、間隙Ｇを通過
した間隙通過光ＬG だけをプレート透過光ＬP 及びマス
ク透過光から分離させることができる。
【００２９】ここで間隙Ｇを通過した間隙通過光ＬG は
ＰＳＤ等でなる受光素子１４において受光される。すな
わち図７は受光素子１４の受光状態を示し、当該受光素
子１４はプレートＰが移動する方向（矢印Ｚで示す方
向）に延長された受光部１４Ａを有し、プレートＰの移
動に伴つて受光部１４Ａに入射する間隙通過光ＬG の受
光面積が変化する。図７の場合、間隙通過光ＬG の受光
面積がＬG0である場合に、プレートＰを矢印Ｚで示す方
向（すなわち間隙Ｇが小さくなる方向）に上昇させる
と、これに応じてプレートＰのマスクＭに対向した対向
面Ｐ２で決まる受光面積の下端部が矢印Ｚで示す方向に
移動し、受光面積がＬG1に変化する。ここで受光面積Ｌ
G0、ＬG1の上端部はマスクＭのプレートＰに対向した対
向面で決まり、この実施例の場合マスクＭを固定してい
ることにより、当該上端部は変化しない。
【００３０】ここでプレートＰ及びマスクＭの間隙Ｇを
予め設定された間隙量Ｚ0 とした場合の受光素子１４の
受光面積をＬG0とすると共に、当該受光面積ＬG0の重心
をＣ0 、重心位置が当該Ｃ0 である場合における受光素
子１４の重心位置出力をＳ0とし、さらにこの状態から
プレートＰが矢印Ｚ方向に上昇した際の受光面積をＬG1
とすると共に、当該受光面積ＬG1の重心をＣ1 、重心1
が当該Ｃ1 である場合における受光素子１４の重心位置
出力をＳ1 とすると、受光面積が当該ＬG1となつた際の
プレートＰ及びマスクＭ間の間隙量Ｚ1 は、受光素子１
４の重心位置出力の変換定数をｋとして、次式
【数３】 によつて表される。従つて当該（３）式からプレートＰ
及びマスクＭ間に形成された間隙Ｇの間隙量を求めるこ
とができる。
【００３１】以上の構成において、間隙計測装置２０は
プレートＰの側面Ｐ１から入射された平行光束ＬA の一
部を、プレートＰを透過する際の屈折によつて間隙Ｇを
通過する間隙通過光ＬG から分離する。従つてプレート
Ｐ及びマスクＭ間に形成された間隙Ｇを通過する間隙通
過光ＬG だけを受光素子１４において受光することによ
り、当該間隙通過光ＬG の受光素子１４における受光面
積はプレートＰの矢印Ｚ方向の位置に対応することにな
る。
【００３２】従つてプレートＰ及びマスクＭ間の間隙量
を既知の値となるようにプレートＰを保持した際の間隙
通過光ＬG の受光面積ＬG0の重心Ｃ0 を基準重心位置と
し、この状態からプレートＰを移動した際の間隙通過光
ＬG の受光面積ＬG1の重心位置Ｃ1 の変化を計測するこ
とにより、プレートＰの移動量を求めることができる。
従つて当該プレートＰの移動量及び上記既知の間隙量か
らプレートＰ及びマスクＭ間の間隙量を求めることがで
きる。
【００３３】ここでプレートＰ及びマスクＭを有する露
光装置においては、マスクＭのパターン形成面Ｍ２に対
して矢印Ｚで示す方向に対して逆方向に露光光を照射す
ることにより、当該パターン形成面Ｍ２に形成されたパ
ターンがプレートＰに転写される。従つて間隙計測装置
１０においてプレートＰの側面Ｐ１方向から平行光束Ｌ
Aを入射してプレートＰ及びマスクＭ間の間隙量Ｇを計
測するように構成することにより、当該平行光束ＬA の
光源１１、レンズ１２及びスリツト１３でなる入射手段
及び受光素子１４を、露光装置の露光光の光路外に配置
することができる。
【００３４】以上の構成によれば、間隙計測装置２０の
入射手段（光源１１、レンズ１２及びスリツト１３）及
び受光素子１４を露光装置の露光光の光路外に設けたこ
とにより、露光動作を妨げることなくプレートＰ及びマ
スクＭ間の間隙量を計測することができる。従つて露光
光の光路内にオートフオーカス装置を配置した従来の場
合に比して、露光時において露光光の光路外に間隙計測
装置を退避させる必要がなく、この分露光装置のスルー
プツトを向上することができる。
【００３５】また従来の場合にはマスクＭのパターン形
成面Ｍ２を介してマスクＭ及びプレートＰの対向面にそ
れぞれフオーカス合わせを行つて間隙Ｇを計測したこと
により、マスクＭに形成されたパターンを避けてフオー
カス合わせを行うといつた煩雑な操作が必要であつた
が、本実施例によればプレートＰの側面Ｐ１から間隙計
測用の平行光束ＬA を入射することにより、かかる煩雑
な操作を回避して間隙計測を一段と簡易化することがで
きる。
【００３６】（３）他の実施例 上述の第２実施例においては、受光素子１４としてＰＳ
Ｄ素子を用いた場合について述べたが、本発明はこれに
限らず、検出光量に比例した出力が得られるＳＰＤ（シ
リコンフオトダイオード）素子を用いるようにしても良
い。
【００３７】すなわち図８は、ＳＰＤ素子でなる受光素
子２４によつて図６について上述した間隙通過光ＬG を
受光する状態を示し、当該受光素子２４はプレートＰが
移動する方向（矢印Ｚで示す方向）に延長された受光部
２４Ａを有し、プレートＰの移動に伴つて受光部２４Ａ
に入射する間隙通過光ＬG の受光面積が変化する。図８
の場合、間隙通過光ＬG の受光面積がＬG0である場合
に、プレートＰを矢印Ｚで示す方向（すなわち間隙Ｇが
小さくなる方向）に上昇させると、これに応じてプレー
トＰのマスクＭに対向した対向面Ｐ２で決まる受光面積
の下端部が矢印Ｚで示す方向に移動し、受光面積がＬG1
に変化する。
【００３８】ここで受光面積ＬG0、ＬG1の上端部はマス
クＭのプレートＰに対向した対向面で決まり、この実施
例の場合マスクＭを固定していることにより、当該上端
部は変化しない。
【００３９】ここでプレートＰ及びマスクＭの間隙Ｇを
予め設定された間隙量Ｚ0 とした場合の受光素子１４の
受光面積をＬG0とすると共に、受光面積がＬG0である場
合の当該受光素子２４の光量出力をＶ0 とし、さらにこ
の状態からプレートＰが矢印Ｚ方向に上昇した際の受光
面積をＬG1とすると共に、受光面積が当該ＬG1である場
合の光量出力をＶ1 とすると、検出光量はプレートＰ及
びマスクＭ間の間隙量に比例することにより、受光面積
が当該ＬG1となつた際のプレートＰ及びマスクＭ間の間
隙量Ｚ1 は、次式
【数４】 によつて表される。従つて当該（４）式からプレートＰ
及びマスクＭ間に形成された間隙Ｇの間隙量を求めるこ
とができる。
【００４０】また上述の第１実施例及び第２実施例にお
いては、受光素子１４としてＰＳＤ素子を用いた場合に
ついて述べたが、本発明はこれに限らず、ＣＣＤ（固体
撮像素子）を用いるようにしても良い。すなわち図１に
ついて上述した間隙計測装置１０の受光素子１４として
ＣＣＤを用いる場合、プレートＰ及びマスクＭの間隙量
が０でなければ、プレートＰ及びマスクＭを透過した光
は上下方向に分離することにより、信号処理によつてプ
レートＰを透過したプレート透過光だけを検出すること
ができ、これによりマスクＭの側面Ｍ１を遮光しないよ
うにし得る。
【００４１】これに対して図６について上述した間隙計
測装置２０の受光素子１４としてＣＣＤを用いる場合、
当該ＣＣＤにおいて受光する領域の矢印Ｚ方向の大きさ
がそのまま間隙量となることにより、信号処理によつて
容易に間隙量を計測することができる。
【００４２】また上述の実施例においては、プレートＰ
を上下動するようになされた露光装置のプレートＰ及び
マスクＭ間の間隙量を計測する場合について述べたが、
本発明はこれに限らず、マスクＭを上下動するようにな
された露光装置の間隙量を計測する場合についても本発
明を適用し得る。この場合、マスクＭの側面Ｍ１を遮光
せずに、当該マスクＭを透過したマスク透過光を受光素
子によつて受光する方法及び、プレートＰ及びマスクＭ
間の間隙を通過した間隙通過光を受光素子によつて受光
する方法を適用することができる。
【００４３】また上述の実施例においては、プレートＰ
の側面Ｐ１に入射した平行光束ＬAを当該側面Ｐ１に隣
合う側面Ｐ３から出射させる場合について述べたが、本
発明はこれに限らず、側面Ｐ１に相対する側面Ｐ４から
出射させるようにしても良い。
【００４４】また上述の実施例においては、一対の入射
手段（光源１１、レンズ１２及びスリツト１３）及び受
光素子１４を用いてプレートＰ及びマスクＭ間の間隙Ｇ
の一部の間隙量を計測した場合について述べたが、本発
明はこれに限らず、複数対の入射手段（光源１１、レン
ズ１２及びスリツト１３）及び受光素子１４を用いて間
隙量を複数個所において計測するようにしても良い。こ
のようにすれば、プレートＰ及びマスクＭ間の間隙量が
均一であるか否かを検査することもできる。
【００４５】また上述の実施例においては、プレートＰ
を透過したプレート透過光ＬP 又は間隙Ｇを通過した間
隙通過光ＬG を検出する場合について述べたが、本発明
はこれに限らず、プレート透過光ＬP 及び間隙通過光Ｌ
G の双方を検出するようにしても良い。このようにすれ
ば、計測結果の確実性を一段と向上することができる。
【００４６】さらに上述の実施例においては、本発明を
露光装置のプレートＰ及びマスクＭ間の間隙量を計測す
る際の間隙計測装置に適用した場合について述べたが、
本発明はこれに限らず、他の種々の装置において第１及
び第２の部材の間隙量を計測する間隙計測装置に広く適
用することができる。
【００４７】
【発明の効果】上述のように本発明によれば、第１の部
材及び第２の透明部材の対向面に対して側方から第１の
部材及び第２の透明部材間の間隙方向に延びた平行光束
を第２の透明部材の入射面の長手方向に傾けて斜入射さ
せ、第２の透明部材を透過した光及び間隙を通過した光
をそれぞれ分離し、第２の透明部材を透過した光及び又
は間隙を通過した光に基づいて第１の部材及び第２の透
明部材間の間隙量を計測するようにしたことにより、第
１の部材及び第２の透明部材のそれぞれの対向面に対し
てほぼ直交する方向から露光光を照射する露光動作を妨
げることなく第１の部材及び第２の透明部材間の間隙量
を計測し得る間隙計測装置を実現できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明による間隙計測装置の第１実施例の主要
部を示す斜視図である。
【図２】第１実施例の概略的な全体構成を示す平面図で
ある。
【図３】平行光束を分離する際の説明に供する平面図で
ある。
【図４】間隙計測装置の側面図である。
【図５】第１実施例による受光素子の受光状態を示す略
線図である。
【図６】本発明による間隙計測装置の第２実施例の主要
部を示す斜視図である。
【図７】第２実施例による受光素子の受光状態を示す略
線図である。
【図８】他の実施例による受光素子を示す略線図であ
る。
【符号の説明】
１０、２０……間隙計測装置、１１……光源、１２……
レンズ、１３……スリツト、１４、２４……受光素子、
Ｐ……プレート、Ｍ……マスク、ＬA ……平行光束、Ｌ
P ……プレート透過光、ＬG ……間隙通過光。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】第１の部材及び第２の透明部材間に形成さ
    れる間隙量を計測する間隙計測装置において、 上記第２の透明部材の側面方向から、一様な強度に整形
    され上記間隙方向に延びた平行光を、上記第２の透明部
    材の上記側面の長手方向に傾けて斜入射する入射手段
    と、 上記第２の透明部材を透過する際に屈折によつて上記平
    行光から分離された光だけを検出し、当該検出結果に基
    づいて上記間隙量を計測する検出手段とを具えることを
    特徴とする間隙計測装置。
  2. 【請求項２】第１の部材及び第２の透明部材間に形成さ
    れる間隙量を計測する間隙計測装置において、 上記第２の透明部材の側面方向から、一様な強度に整形
    され上記間隙方向に延びた平行光を、上記第２の透明部
    材の上記側面の長手方向に傾けて斜入射する入射手段
    と、 上記平行光のうち、上記第２の透明部材の上記側面に斜
    入射され光路を折り曲げられた上記第２の透明部材の透
    過光を分離してなる上記間隙の通過光だけを検出し、当
    該検出結果に基づいて上記間隙量を計測する検出手段と
    を具えることを特徴とする間隙計測装置。
JP5092444A 1993-03-26 1993-03-26 間隙計測装置 Pending JPH06283400A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4916828A (en) * 1988-08-31 1990-04-17 Tosoh Akzo Corporation Method of producing saturated vapor of solid metal organic compounds in the metal organic chemical vapor deposition method
US8708320B2 (en) 2006-12-15 2014-04-29 Air Products And Chemicals, Inc. Splashguard and inlet diffuser for high vacuum, high flow bubbler vessel

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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