KR20080051748A - 화상 균일성이 우수한 토너 - Google Patents

화상 균일성이 우수한 토너 Download PDF

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Abstract

본 발명은 화상 균일성이 우수한 토너에 관한 것으로, 보다 상세하게는 토너 모입자의 형상을 개량하고, 상기 토너 모입자 표면에 적절한 외첨제를 첨가함으로써 대전분포가 좁고 높은 대전성을 가지며, 화상오염이 적으며, 장기적인 안정성, 전사효율 및 화상균일성이 우수한 토너에 관한 것이다.
본 발명의 토너는 구형화 처리된 토너 모입자; 및 상기 토너 모입자 표면에 코팅된 외첨제;를 포함하는 토너로서, 상기 외첨제는 유기분말, 실리카 및 구형 이산화티타늄 분말로 이루어진 것을 특징으로 한다.
본 발명에 의해 제공되는 토너는 높은 대전성을 가지며 대전균일성 및 대전분포가 좁은 상태로 장기적으로 유지될 수 있도록 하여 화상균일성이 우수하고 화상 오염이 적으며, 전사효율 및 장기안정성이 우수하므로 상기 본 발명의 토너를 사용할 경우 장기적으로도 매우 균일한 고품질 화상을 얻을 수 있게 된다.
토너, 구형화, 전사효율, 장기안정성, 외첨제

Description

화상 균일성이 우수한 토너{TONER HAVING EXCELLENT IMAGE UNIFORMITY}
도 1은 화상균일성을 검사하기 위하여 인쇄 용지에서 화상 밀도(image density) 측정용 시료를 채취하는 위치를 나타내는 개략도이다.
본 발명은 화상 균일성이 우수한 토너에 관한 것으로, 보다 상세하게는 토너 모입자의 형상을 개량하고, 상기 토너 모입자 표면에 적절한 외첨제를 첨가함으로써 대전분포가 좁고 높은 대전성을 가지며, 화상오염이 적으며, 장기적인 안정성, 전사효율 및 화상균일성이 우수한 토너에 관한 것이다.
최근 사무실내 PC 보급율의 향상과 사무 자동화 등으로 복사기 및 레이져 프린트 등에 대한 수요는 점점 증가하고 있다. 상기 복사기 및 레이져 프린터는 인쇄용지에 원하는 화상을 표현하기 위하여 토너를 전사하는 형태의 화상형성장치로서 화상형성에 토너를 필수적으로 이용하는 장치이다.
시장의 수요 증가와 함께 상기 복사기 및 레이져 프린터 등에 대한 소비자들의 요구도 점점 엄격해지게 되었는데, 보다 선명한 화질, 장기간 사용하여도 토너의 대전특성이 저하되지 않도록 하는 내구성, 복사기 또는 프린터 자체에 대한 소형화, 저가격화, 인쇄속도의 고속화, 에너지 절감 및 리사이클링 용이성 등에 대한 요구가 바로 그것이다.
그 중에서도 토너 자체의 특성으로서는 선명한 화질을 지속적으로 유지하기 위하여 장기간 사용하여도 토너의 대전특성이 저하되지 않는 내구성을 들 수 있는데, 토너 제조분야에서는 내구성을 갖춘 토너를 제조하기 위하여 다각도의 연구가 진행되고 있다.
토너라 함은 상술한 바와 같이 프린터나 복사기에 사용되어 전사작업시 피전사물에 화상을 형성하는 도료를 말한다. 선명한 화질을 지속적으로 유지하는 내구성을 가지는 토너를 제조하기 위해서는 복사기나 레이져 프린터 등에서 토너가 인쇄에 사용되는 과정을 우선 이해할 필요가 있다.
복사기나 레이져 프린터와 같이 토너를 전사하여 인쇄하는 방식의 화상형성 장치는 일반적으로 아래와 같은 과정을 통하여 인쇄를 수행한다.
1. 우선, 드럼 표면을 균일하게 대전하는 대전 과정이 수행된다. 상기 드럼 으로는 유기감광체(OPC, Organic Photo Conductor) 드럼 등을 사용하는 것이 일반적이다. 대전은 상기 드럼 표면에 충전용 레이온 솔 등을 이용하여 정전기를 발생시키는 방식으로 이루어진다.
2. 이후, 드럼의 표면을 노광하여 정전 잠상을 형성하는 노광 과정이 후속된다. 균일하게 대전된 드럼 표면의 유기감광체 등과 같은 대전체는 빛이 조사되지 않을 경우에는 부도체가 되지만, 빛이 존재할 경우에는 대전된 전하를 흘려보내는 도체와 같은 역할을 수행하므로 레이져 등의 빛에 의해 드럼 표면을 조사하면 조사된 부분만 전하가 제거된 상태가 된다.
3. 상기 드럼 표면의 대전과 별도로 현상 롤러의 표면에 토너를 부착시키는 과정이 진행된다. 본 과정은 이후 토너를 대전 드럼으로 형성시키기 위한 준비 단계이다.
4. 다음으로는 앞에서 준비된 현상 롤러의 표면에 형성된 토너를 이용하여 드럼의 표면에 형성된 잠상에 토너를 현상하여 화상을 얻는 현상 공정이 수행된다. 상술하였듯이, 드럼 표면을 노광시킬 경우에는 노광된 부분은 대전되지 않은 상태로 되는데, 토너를 드럼의 대전 상태와 동일한 상태로 대전시킬 경우 노광되지 않은 부분은 토너에 척력을 작용하여 토너가 부착되지 어렵게 하지만, 상기 노광된 부분은 토너에 척력을 작용하지 않으므로 토너가 원하는 화상 형태로 부착될 수 있게 되는 것이다.
5. 상기 현상공정 이후에는 드럼 표면의 토너 화상을 피전사지(즉, 인쇄용지)에 전사하는 전사공정이 수행된다. 전사는 피전사지의 표면을 토너와 반대의 전하로 대전되도록 하여 토너와 전사지간에 인력이 작용하도록 하고, 전사가 용이하도록 드럼과 피전사지를 가까이 위치시킴으로써 이루어진다.
6. 상기 전사공정에 의해 비록 토너가 피전사지에 전사는 되었지만, 피전사지와 토너가 영구 결합된 것은 아니므로 상기 피전사지에 전사된 토너 화상을 정착하는 정착공정이 후속된다. 상기 정착공정은 일빈적으로 가열 롤러와 압착 롤러로 이루어진 한쌍의 롤러 사이에 토너 화상이 형성된 피전사지를 통과시킴으로써 열과 압력에 의해 토너가 압착되고 토너 내부에 포함된 바인더가 토너 외곽의 코팅층을 형성하도록 함으로써 완성된다.
7. 마지막으로 드럼에 다음번 충전작업을 실시할 수 있도록 하기 위해, 충전전에 표면에 잔류하는 토너를 제거하는 클리닝 공정이 후속된다.
상술한 인쇄과정을 이해하면 인쇄과정 각 공정별로 토너에 요구되는 기본적인 특성을 이해할 수 있다.
우선, 토너를 현상 롤러에 부착한 후 다시 OPC 드럼에 현상하고 피전사지에 전사하기 위해서는 토너는 일정수준 이상의 적합한 토너 대전성을 갖출 필요가 있다. 즉, 토너는 토너 카트리지의 토너 호퍼(hopper) 내에서 현상 롤러에 부착되는 과정에서 닥터 블레이드와의 마찰을 겪으면서 대전 되게 되는데, 이후 현상롤러에서 대전 드럼으로, 대전 드럼에서 피전사지로의 현상 및 전사가 용이하게 일어나기 위해서는 적합한 토너 대전성을 갖출 필요가 있는 것이다.
그리고, 토너 입자들의 대전성은 대전분포가 좁게 유지되는 것이, 즉, 가급적이면 균일한 대전성을 가지도록 하는 바람직한데, 만일 대전분포가 넓을 경우 덜 대전된 입자들이나 과도하게 대전된 입자들에 토너 중에 존재하고 그 결과 배경오염이나 엣지(edge) 오염 같은 현상들이 발생되어 바람직한 화상을 얻을 수 없다.
또한, 토너는 대전된 이후 피전사지까지 전사될 때까지 지속적으로 대전된 상태로 유지될 필요가 있다. 이를 대전 유지성이라 하는데, 대전된 전하가 전도성 물체 또는 다른 토너와의 접촉에 의해 소실되지 않도록 하는 것이 그 관건이다.
상기와 같은 대전 유지성의 특별한 형태로서 환경안정성을 들 수 있다. 즉, 토너 입자가 수분 등이 많은 환경에 유지될 경우 수분은 상술한 전도성 물체에 해당 될 수 있으므로, 토너 입자 표면에 형성된 대전상태가 소실되는 원인이 될 수 있다. 따라서, 가급적이면 토너의 대전층 표면에 수분이 접촉하는 것을 방지하여야 높은 환경안정성을 가지는 토너를 얻을 수 있다.
또한, 이후 전사공정에서 토너가 피전사지에 용이하게 전사되기 위해서는 감광드럼에서 탈착되어 피전사지에 부착되는 성질인 피전사성(전사효율)이 우수할 필요가 있으며, 정착공정에서 고온에서 가열하지 않아도 용이하게 정착될 수 있는 저온 정착성과 잔류토너가 대전롤러 표면으로 옵셋(Offset)되는 현상에 대한 저항성이 우수한 내옵셋성 등이 요구된다.
그외에도 클리닝 공정에서는 클리닝 성능, 내 오염성 등이 요구되다.
특히 최근에는 고화질화, 고속화, 칼라화의 촉진에 의하여 상기의 특성들이 복잡하게 복합적으로 요구되어진다.
따라서, 상기와 같은 모든 요구특성을 만족시키기 위해서 토너는 일반적으로 색을 구현하는 착색제, 바인더 수지, 왁스, 분산제, 이형제 및 전하조절제 등으로 이루어진 토너 모입자와 상기 토너 모입자의 외부에 부착되는 외첨제로 이루어진다.
여기서 상기 바인더 수지는 토너의 정착 공정에서 가열에 의해 융해되어 피전사지 표면에 부착이 용이하도록 하는 역할을 하며, 왁스는 인쇄후 화상에 광택을 부여하며 모입자의 융점을 낮추는 역할을, 또한 분산제는 균일한 분산을 유도하며, 전하조절제는 토너 모입자의 표면에 대전량을 조절하는 역할을 한다.
그중에서도 특히, 상기 토너 모입자를 형성하는 전하조절제(Charge Control Agent, 간략히 CCA라 칭함)는 토너가 닥터 블레이드와 마찰할 때, 표면이 대전된 상태로 되도록 하는 역할을 하는 것으로서 가급적이면 토너 모입자의 표면에 균일하게 분포될 것이 요구된다. 즉, 토너 모입자의 내부에 존재하는 전하조절제는 토너의 대전에는 거의 영향을 미치지 못하므로 바람직하지 않다. 만일, 전하조절제 가 토너 표면에 적절히 존재하지 못하게 되면 토너의 대전 특성이 안정적으로 유지되지 못하여 불안정한 화상을 형성하게 된다.
또한, 대전되어 대전 드럼에 현상된 토너는 이후 피전사지로 용이하게 전사될 수 있어야 하는데, 토너 입자가 대전 드럼에 너무 강하게 부착되어 있을 경우에는 전사가 용이하지 못하여 전사효율이 떨어지는 등의 문제를 가질 수 있다.
특히, 이러한 문제는 칼라 프린터를 이용하여 칼라 화상을 인쇄할 때 더욱 심각해질 수 있다. 칼라 화상을 형성하는 방법으로는 감광 드럼에 직접 시안(cyan), 마젠타(magenta), 옐로(yellow) 및 블랙(black) 등과 같은 4색을 가진 토너를 현상하여 혼합한 후 바로 피전사지에 전사하는 방법과, 보다 정밀한 색 재현성을 위하여 중간 전사체를 이용하는 간접 전사형 방법이 사용되고 있다. 상기 간접 전사형 장치를 이용하는 방법은 드럼 표면의 토너 화상을 중간 전사체에 칼라별로 중첩 전사한 후, 중간 전사체에서 피전사체로 전사하는 방법을 말하는데, 고속 및 고화질에 대한 실현 가능성으로 최근 풀 칼라 프린터에 주로 사용되고 있다.
더욱이, 최근의 고속화 추세에 발맞추어 각 칼라별로 각각의 드럼을 가지도록 하여 고속으로 인쇄하기에 적합한 탠덤 방식의 현상 방식도 풀 칼라 프린터에서는 널리 사용되고 있다. 상기 탠덤 방식의 현상 방식도 상기 간접전사의 일종으로서 전사 벨트(중간전사체)를 이용하는 방식이다.
그러나 상기 간접 전사형 화상 장치는 토너의 전사 단계수가 증가하기 때문에 고화질을 위해서는 보다 높고 정확한 전사 성능이 필요해지고, 따라서 토너도 이를 위하여 안정된 대전 성능을 가지고 있으며, 또한 높은 전사효율을 가져야 하기 때문에 토너 모입자 표면에 전하조절제가 밀집되어 있을 뿐 아니라 드럼과의 부착력도 가급적 감소된 특성을 가지고 있을 필요가 있다.
상기와 같은 부착력 조절은 클리닝 공정을 위해서도 필요한데, 잔류 토너의 양을 적게 할수록 클리닝이 간편하므로, 또한 잔류된 토너도 가급적이면 용이하게 드럼으로부터 제거될 수 있도록 하는 것이 필요하므로 토너와 대전 드럼 사이의 부착력을 저하시키는 것이 바람직하다.
종래, 토너와 감광 드럼 사이의 부착력을 저하시키기 위한 방법으로는, 토너에 실리카 등의 박리성 미립자를 포함하는 방법이 제안된 바 있다. 상기 방법은 미립자를 토너 포면에 부착시킴으로써 상기 미립자가 토너와 드럼 사이에 개재되도록 하여 토너와 드럼의 부착력을 낮추는 방법이다. 상기 방법에 의해 전사효율을 향상시키기 위해서는 미립자에 의한 토너 표면의 피복율을 높게 설정을 해야 한다. 그러나, 단순히 부착력 조절을 통하여 전사효율을 높일 경우 미립자의 첨가량을 증가시켜야 하는데, 이러할 경우에는 토너 대전성이 악화되고 정전 잠상 담지체 등에 의한 미립자의 부착, 필르밍(filming), 정착성 장애 등이 발생한다는 문제가 있다. 특히, 실리카 입자는 환경 의존성이 크기 때문에 저온 저습에서는 정전기 등에 의 하여 화상 농도의 얼룩이 발생하거나, 고온 고습 상태에서는 비화상부가 오염된다는 등의 문제가 발생할 수 있어 장기적으로 저장할 경우 안정성(장기 안정성, 내구성)에 문제가 일어날 수 있다..
따라서, 상기 토너의 환경 의존성을 개선하기 위해서 실리카 입자 대신에 실리카 입자에 비해 전기저항성이 낮고 전하 교환성이 좋은 산화 티탄 등의 무기밀 미립자를 첨가하는 방법이 알려져 있다. 그러나, 전기 저항성이 낮은 무기물 미립자를 이용할 경우 토너의 전하 분포가 변하기 쉽고, 중간 전사체를 이용하는 경우의 2차 전사지의 불량전사나 풀 칼라 토너의 다중 전사 시에 역극성 토너의 재전사(retransfer)가 일어나기 쉽다는 문제점이 있어 실리카나 산화티탄 등을 단순히 첨가하는 것 만으로는 토너의 대전량을 적절한 범위로 조절하면서 부착력도 감소시킨다는 과제를 해결할 수는 없었다.
이를 해결하기 위한 방법으로 산화 티탄 등의 저항성이 낮은 무기물 미립자를 실란 커플링제(silane coupling)등으로 표면 처리하여 저항을 높게 제어하는 방법이 있으나, 이는 미립자의 응집성이 강해져 토너 표면에서의 분산성이 악화되고, 본래의 전화 교환성을 높이는 기능이 저하되어 토너의 유동성 악화나 유리된 응집 입자에 의한 블로킹(blocking)의 발생 등의 우려가 있다.
또한, 토너 모입자는 상술한 여러 성분들을 함께 융합하여 시트상으로 제조 한 후 기계적으로 분쇄하여 가공되는 경우와 중합하여 제조하는 방법으로 제조되는 것이 일반적인데, 기계적으로 분쇄하여 가공되는 방식의 경우는 상대적으로 제조가 용이하다는 관점에서 아직까지도 많이 사용되고 있다. 그러나, 기계적으로 분쇄하여 가공되는 방식의 경우에는 분쇄과정에서 토너 모입자의 표면에 수많은 균열을 생성하게 되는데, 균열을 가진 토너 모입자에 대전특성을 부여하기 위하여 마찰 및 그에 따른 응력을 부여할 경우 토너 모입자에 균열부위에 응력이 집중되면서 토너모입자가 미세하게 세분되어 버린다는 문제를 가질 수 있었다.
그뿐만 아니라, 기계적 분쇄법에 의해 제조된 토너 모입자는 중합법에 의해 제조된 토너 모입자에 비하여 그 모양이 구형일 수는 없으며 그 결과 토너 호퍼에서 현상 롤러에 부착되어 닥터 블레이드와 접촉할 경우 적정한 범위의 마찰력을 받으면서 상기 토너 호퍼 밖으로 빠져 나갈 수 있어야 하는데, 토너 입자가 구형이 아닌 불규칙한 형상을 가질 경우에는 닥터 블레이드에 의해 과도한 압력을 받게 되며 그에 따라 발생된 높은 열과 변형력에 의해 토너 모입자가 닥터 블레이드에 부착 또는 응집되어 버리거나 현상 롤러를 오염시키는 문제가 초래될 수 있다.
또한, 이러할 경우 토너 후속되어 배출되는 토너 모입자는 닥터 블레이드와의 접촉기회가 감소하여 대전이 원활하게 되지 않으며 그 결과 화상의 윗부분과 아랫부분이 균일하지 않게 형성되는 화상균일성에도 문제를 일으킬 수 있다.
본 발명은 상술한 종래기술의 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 기계적 분쇄법에 의해 제조된 토너 모입자라 하여도 닥터 블레이드와의 접촉시 닥터 블레이드에 의하여 화상균일성이 저하되지 않으면서, 좁은 대전 분포특성과 높은 대전성을 가지고 있으며, 화상오염이 적으며, 장기적인 안정성, 전사효율 및 화상균일성이 우수한 토너를 제공하는 것을 그 목적으로 한다.
상기 목적을 달성하기 위한 본 발명의 토너는 구형화 처리된 토너 모입자; 및 상기 토너 모입자 표면에 코팅된 외첨제;를 포함하는 토너로서, 상기 외첨제는 유기분말, 실리카 및 하기 수학식 1로 표시되는 구형화도 0.6이상의 구형 이산화티타늄 분말로 이루어진 것을 특징으로 한다.
[수학식 1]
구형화도 = 구형일때의 원주/입자의 둘레
이때, 상기 구형화 처리된 토너 모입자는 상기 수학식 1에 따른 구형화도가 0.5~0.8인 것이 바람직하다.
그리고, 상기 구형화 처리는 열기류와 함께 토너 입자를 분무함으로서 토너 입자의 계면장력을 이용하여 토너 입자를 구형화하는 방법 또는 토너 입자에 대하 여 기계적인 응력과 마찰력을 제공하여 토너 입자를 구형으로 그라인딩하는 방법 중에서 선택된 방법으로 실시되는 것이 바람직하다.
또한, 상기 유기분말은 평균입경이 600~1000nm인 대형입자와 평균입경이 50~120nm인 소형입자로 이루어진 것이 바람직하다.
그리고, 상기 유기분말은 PTFE(폴리테트라플루오로에틸렌), PMMA(폴리메틸메타크릴레이트) 및 PVDF(폴리비닐리덴 플루오라이드) 중에서 선택된 것이 효과적이다.
또한, 상기 소형입자와 대형입자의 함량은 각각 토너 모입자 100 중량부당 0.4~1.0중량부, 0.4~2.0중량부의 범위인 것이 좋다.
또한, 상기 구형 이산화티타늄 분말은 루타일(rutile)상 이산화티타늄으로 이루어진 것이 바람직하다.
그리고, 상기 구형 이산화티타늄 분말의 평균입경은 300nm~1000nm인 것이 효과적이다.
또한, 상기 구형 이산화티타늄 분말의 함량은 토너 모입자 100 중량부당 1.5~4 중량부인 것이 바람직하다.
그리고, 상기 실리카 입자는 5~20nm 의 크기를 가지는 것이 좋다.
또한, 상기 실리카 입자의 함량은 토너 모입자 100 중량부당 2~4 중량부인 것이 바람직하다.
그리고, 상기 토너의 크기는 10㎛ 이하인 것이 바람직하며, 3~9㎛인 것이 더욱 바람직하다.
이하, 본 발명에 대하여 상세히 설명한다.
본 발명의 발명자들은, 우선 기계적 분쇄법에 의해 제조된 토너 모입자가 가지고 있던 종래의 문제점을 해결하기 위하여 검토한 결과, 기계적 분쇄법에 의해 제조된 토너 모입자의 형상이 불규칙한 형상을 가지고 있기 때문에 이들을 구형화 처리하여 구형에 가까운 형태를 가지게 할 경우 닥터 블레이드와 접촉시 과도한 압력 및 열에 의해 토너가 현상 롤러 또는 닥터 블레이드에 고착되어 버리는 형태를 최대한 피할 수 있다는 것을 확인할 수 있었다. 또한, 부정형 입자가 대전될 때에는 입자의 표면에 존재하기 쉬운 돌출부(특히 뾰족한 돌출부) 끝부분에 정전하가 집중되어 과대전 현상이 생기고 이에 의한 부작용으로 엣지오염 등의 현상이 발생 하기 쉬운 반면, 상술한 바와 같이 토너 모입자를 구형화시킬 경우에는 보다 균일한 대전 분포를 가지게 될 가능성이 크게 되므로 토너 모입자의 구형화는 본 발명의 목적을 달성하기에 유리하다.
다만, 구형화 처리하더라도 완전한 구형상으로 제조한다는 것은 매우 어렵고 비용 측면에서도 바람직하지 않을 뿐만 아니라, 완전한 구형과 그와 유사한 형태 사이의 효과차이는 크지 않기 때문에 토너에 적합한 구형화도를 정하는 것이 중요하다.
통상, 입자의 구형화도는 다음 수학식 1에 의해 정의된다.
구형화도 = 구형일때의 원주/입자의 둘레
상기 구형화도는 주사전자현미경(SEM)으로 입자의 형상을 2차원적으로 촬영하여 상기 입자의 2차원적 형상의 둘레를 상기 '입자의 둘레'로 구하고, 상기 입자와 동일한 2차원 면적을 가지는 원의 원둘레(원주)를 '구형일때의 원주'로 정의함으로써 산출가능하다.
본 발명의 발명자들의 연구결과에 따르면 토너 모입자의 상기 구형화도는 최 소 0.5이상은 되어야 하는 것이 바람직하다. 구형화도가 상기 0.5 미만일 경우에는 앞에서 언급한 것과 같이 인쇄시 토너가 닥터 블레이드 또는 현상롤러 등에 고착되는 현상으로 말미암아 화상 균일도가 현저히 저하되므로 바람직하지 않다. 또한, 구형화도가 0.8을 초과할 경우에는 전형적으로 감광드럼의 표면에서 구형화된 입자들이 쉽게 세정되지 않는다는 문제점이 있을 수 있으며, 이러한 문제가 지속될 경우 클리닝 블레이드와 감광 드럼의 표면과의 마찰에 의해 감광 드럼 표면에 토너가 융착되는 현상이 일어나게 되어 화상오염을 일으키고 감광드럼의 수명을 저하시키기 때문에 상기 구형화도의 상한은 0.8로 제한하는 것이 바람직하다.
기계적으로 분쇄한 토너 모입자의 구형화도를 상술한 범위내로 제어하기 우해서는 구형화 작업을 거칠 필요가 있다. 상기 구형화 작업을 통하여 구형토너 모입자를 제조하는 방법에는 열적인 방법과 기계적인 방법의 두 가지가 있다. 열적인 방법에서는 열기류와 함께 토너 입자를 분무함으로서 토너 입자의 계면장력을 이용하여 토너 입자를 구형화할 수 있다. 기계적인 방법으로는 토너 입자에 대하여 기계적인 응력과 마찰력을 제공하여 토너 입자를 구형으로 그라인딩하는 방법을 들 수 있다. 상기 열적인 방법과 기계적인 방법 모두 각각의 장점을 가지고 사용될 수 있다. 다만 열적인 방법으로 구형화 처리를 할 경우에는 입자끼리 응집하여 입경이 큰 입자들이 생성되기가 쉽고 기계적으로 구형화 처리를 하는 경우에는 그라인딩 과정에서 미분이 발생하는 경향이 있다는 단점이 있다.
상기와 같이 토너 모입자의 구형화도를 제어함에 의해 토너 모입자로 인한 화상균일성 저하는 방지할 수 있지만, 보다 화상균일도를 향상시킬 분만 아니라, 좁은 대전분포와 높은 대전성을 얻고, 화상오염이 적으며, 장기적인 안정성, 전사효율 및 화상균일성이 우수한 토너를 제공하기 위해서는 또다른 처리를 하는 것이 보다 바람직하다. 또한, 동일한 화상균일도를 얻기 위해서 첨가되는 외첨제의 양을 대폭 감소시킬 수 있다.
상술한 본 발명의 목적을 달성하기 위해서는 상기 유리한 효과를 가지는 토너 모입자의 표면에 외첨제 코팅을 하는 것이 바람직하다. 즉, 본 발명에서는 토너의 윤활성을 더욱 증대시켜 화상균일성을 확보하고, 높은 대전성을 가지면서도 대전 분포가 좁고, 화상오염이 감소시키고, 장기적인 안정성, 전사효율 및 화상균일성을 향상시키기 위하여 토너 모입자의 표면에 외첨제로서 입도가 서로 다른 유기분말 입자와 실리카 및 이산화티타늄 입자를 코팅하여 상기 목적을 달성하는 것을 또 하나의 특징으로 한다. 이때 상기 유기분말 입자는 그 구형도가 높을수록 유리하다.
여기서 상기 외첨제 중 입도가 다른 유기 분말은 슬리브와 닥터 블레이드 사이의 마찰을 적절히 조절하여 높은 대전성을 가지며 대전 유지성을 높이는 역할을 한다. 즉, 유기분말은 상술한 구형 토너 모입자에 비하여 그 크기가 매우 미세하기 때문에 토너와 닥터 블레이드 사이의 마찰력을 저감하는데 효과가 크다. 또한, 유기 분말은 그 자체의 절연특성으로 인하여 토너 모입자의 대전상태를 깨트리는 악영향을 미치지 않으며 높은 대전성을 가지고 대전된 상태를 유지하기에 유리하다.
특히, 입경이 서로 다른 유기분말을 표면에 외첨하는 이유는 큰 크기의 구형유기분말만 코팅하였을 경우 생성되는 공극사이에 작은 구형유기분말을 채워 넣음으로써 상술한 대전 유지성을 더욱 향상시킬 뿐만 아니라, 토너 모입자의 마찰특성을 더욱 향상시킬 수 있게 되기 때문이다. 또한, 서로 다른 입경의 입자들을 사용하여 장기적으로도 프린트를 계속 진행함에 따라 고대전성이 저하되지 않도록 해 주는 역할을 하도록 하는 효과도 얻을 수 있다. 이하, 평균입경이라 함은 구의 직경으로 환산하였을 때의 직경(체적 평균입경)을 의미한다.
상술한 이유로, 상기 유기입자중 대형입자는 평균입경이 600~1000nm의 크기를 가지는 것이 바람직하며, 소형입자는 평균입경이 50~120nm의 크기를 가지는 것이 바람직하다.
상기 입경이 다른 두 가지 유기분말로는 고대전성의 PTFE(폴리테트라플루오로에틸렌), PMMA(폴리메틸메타크릴레이트), PVDF(폴리비닐리덴 플루오라이드), 스티렌 아크릴레이트, 폴리에스테르 입자, 실리콘 입자 또는 ST-MMA를 사용하는 것이 대전특성이 부정형에 비해 균일화된 구형토너의 표면을 보다 고대전성을 가지는 토 너로 제조하는데 유리하다.
이때, 상기 유기분말 입자의 경우에는 그 각각이 토너 모입자 100 중량부당 0.4~1.0중량부, 0.4~2.0중량부의 범위에서 사용되는 것이 적절하며, 그 함량이 0.4 중량부 미만인 경우에는 그 효과가 미미하게 되고 그 함량이 각각 1 중량부, 2 중량부를 넘어서는 경우에는 그 함량이 너무 많아서 PCR오염을 일으키거나 오히려 토너의 대전을 방해하게 되어 고 대전성의 토너를 만들기 위한 목적을 달성할 수가 없게 된다.
이상과 같이 구형화된 토너에 입경이 서로 다른 유기분말을 사용하여 슬리브와 닥터 블레이드 사이의 마찰을 적절히 조절하여 고 대전성을 가지며 대전 유지성이 우수한 구형화 토너를 제조 하였으나, 이상과 같이 제조한 토너의 경우에는 고 대전성과 대전 유지성은 좋으나, 대전 분포가 넓어져서 지나치게 낮은 대전성을 띠거나 또는 지나치게 높은 대전특성을 보이는 보임으로서 전사성능을 떨어뜨리고 배경오염 및 엣지오염을 발생시키는 경우가 있다.
본 발명에서는 이러한 화상특성의 저하를 해결하기 위해서 구형 이산화티타늄을 사용하여 토너 입자들의 대전분포를 좁게(분포 곡선의 형태를 sharp하게) 유지시킴으로서 배경오염이나, 엣지오염과 같은 현상들을 방지하고자 하였다. 상기 구형 이산화티타늄의 구형화도는 0.6이상인 것이 더욱 바람직하다.
이러한 이산화티탄은 그 형태로 나누어 볼 때 아나타제(anatase), 루타일(rutile) 상(相) 등과 같은 안정상과 브룩카이트 상과 같은 준안정상 등 여러가지 형태의 상을 가질 수 있으나, 본 발명에서 사용하기 적합한 이산화티타늄의 경우는 루타일상인 것이 바람직하다.
또한, 상기 이산화티타늄 입자의 크기는 그 평균입경으로 보아 300nm~1000nm 인 것이 바람직하다. 만일, 상기 평균입경이 1000nm 를 초과할 경우에는 입자 크기가 지나치게 커서 토너 입자 표면에의 부착성이 저하되는 문제가 있으며, 300nm 미만인 경우에는 대전분포 조절능력이 떨어져서 목적하는 바인 대전분포의 균일성을 확보하기 힘들어진다.
이러한 형태의 이산화티타늄 입자를 사용함으로써, 토너의 대전분포를 보다 좁게 다시 말하면, 역극성이나 저대전된 입자와 과도하게 대전된 입자들의 대전량을 조절하여 이와 같은 입자들에 의해서 야기되는 엣지 오염 이나 배면 오염과 같은 현상들이 장기적으로 인쇄할 경우에도 발생하지 않고 균일한 화상을 유지할 수 있다.
상기와 같은 유리한 효과를 가지는 이산화 티타늄 입자의 함량은 토너 모입자 100 중량부당 1.5~4 중량부인 것이 적당한데 1.5 중량부 미만일 경우에는 그 함 량이 적어서 효과가 미미하고 4 중량부를 초과할 경우에는 너무 과량이라 코팅이 잘되지 않는 부분들이 생기게 되고 경우에 따라서는 감광드럼의 표면에 스크래치와 같은 데미지를 주게 되어 다른 오염의 원인이 된다. 따라서 이러한 영향을 없애기 위해서 이산화티탄 입자의 함량은 상기한 범위로 조절하는 것이 바람직하다.
본 발명에서는 또한 이와는 별도로 실리카 입자를 토너 모입자 표면에 코팅하는 것이 바람직하다. 상기 실리카 입자는 본 발명의 토너의 부착력을 조절하는 역할을 한다. 즉, 실리카 입자가 토너 모입자 코팅되어 있는 형태로 토너가 제공되면 상기 토너는 대전 드럼으로부터 피전사지 또는 중간 전사체로 전사시 용이하게 대전 드럼에서 탈리되어 전사지로 전사될 수 있으며, 토너들 사이의 부착력도 감소하여 토너 유동이 촉진될 수 있다.
이때, 상기 실리카 입자는 5~20nm 의 크기를 가지는 것이 바람직하다. 5nm이하의 입자들은 너무 입경이 작아서 장기적으로 토너의 표면에서 임베딩(embedding)되는 현상이 발생될 뿐만이 아니라, 토너 입자들과 외첨제가 박리되는 현상을 나타내어 입자들간의 응집방지 효과가 떨어지고 따라서 토너 대전특성에 나쁜 영향을 미치게 된다. 그리고 입경이 20nm 이상인 경우에는 토너 입자들에 충분히 코팅이 잘되지 않을 뿐만이 아니라, 유동촉진제(flow agent)로서의 역할이 부족하게 되어 토너 입자들의 유동성이 감소하여 실제 사용 시에 카트리지에 토너가 남아있음에도 토너가 부족한 것으로 인식되는 등의 문제를 일으키게 된다. 따라서 구형화된 토너의 경우, 사용하는 실리카의 경우에는 그 입경이 5-20nm의 범위에 들어오는 입자를 사용하는 것이 바람직하다.
이러한 실리카 입자의 함량은 토너 모입자 100 중량부당 2~4 중량부인 것이 적당한데, 만일 그 함량이 2 중량부 미만인 경우에는 상기 유동촉진제로서의 역할이 충분하지 못하게 되고, 4 중량부를 초과하는 경우에는 정착성이 나빠지는 부작용이 발생할 수 있다.
상술한 바와 같이 본 발명의 토너는 토너 모입자와 유기분말 입자, 구형 이산화 티타늄 입자(구형화도 0.6 이상) 및 실리카로 이루어진 외첨제를 포함하는 토너이다. 이러한 본 발명의 토너는, 그 평균입경이 최대 10 ㎛ 이하이며, 바람직하게는 3 내지 9 ㎛이다. 상기 평균입경이 3 ㎛ 보다 작으면 토너의 비화상부 오염현상이 현저히 증가하며, 상기 평균입경이 10 ㎛ 보다 크면 화상 해상도가 떨어지고 인쇄 실수율이 떨어지는 문제점이 있다.
본 발명의 토너에서, 상기 토너 모입자는 바인더 수지와 착색제를 포함할 수 있으며, 또한 상술한 바와 같은 토너 모입자의 성질을 훼손하지 않는 범위라면 기타 토너 모입자의 첨가제로 포함될 수 있는 모든 종류의 것을 필요에 따라 포함할 수 있다.
상기 바인더 수지로는 폴리 아크릴산 메틸, 폴리 아크릴산 에틸, 폴리 아크릴산 부틸, 폴리 아크릴산 2-에틸 헥실, 또는 폴리 아크릴산 라우릴 등의 아크릴산 에스테르 중합체; 폴리 메타크릴산 메틸, 폴리 메타크릴산 부틸, 폴리 메타크릴산 헥실, 폴리 메타크릴산 2-에틸 헥실 또는 폴리 메타크릴산 라우릴 등의 메타크릴산 에스테르 중합체; 아크릴산 에스테르와 메타아크릴산 에스테르와의 공중합체; 스타이렌계 단량체와 아크릴산 에스테르 또는 메타크릴산 에스테르와의 공중합체; 폴리 초산 비닐, 폴리 프로피온산 비닐, 폴리 낙산 비닐, 폴리에틸렌, 또는 폴리프로필렌 등의 에틸렌계 중합체; 및 그 공중합체; 스타이렌 부타디엔 공중합체, 스타이렌 이소프렌 공중합체, 또는 스타이렌 말레산 공중합체 등의 스타이렌계 공중합체; 폴리스타이렌계 수지; 폴리비닐 에테르계 수지; 폴리비닐 케톤계 수지; 폴리에스테르계 수지; 폴리우레탄계 수지; 에폭시 수지; 또는 실리콘 수지 등을 단독 또는 혼합하여 사용하며, 바람직하게는 폴리스타이렌계 수지, 폴리에스테르계 수지, 폴리에틸렌 수지, 폴리프로필렌 수지, 스티렌 아크릴산 알킬 공중합체, 스타이렌 메타크릴산 알킬 공중합체, 스타이렌 아크릴로니트릴 공중합체, 스타이렌 부타디엔 공중합체, 스타이렌 말레산 공중합체를 사용한다.
상기 착색제로는 탄소 블랙, 자성분, 염료 또는 안료를 사용할 수 있으며, 그 구체적인 예로는 니구로신 염료, 아닐린 블루, 카르코일 블루, 크롬 옐로, 군청색 블루, 듀폰 오일 레드, 메틸렌 블루 염화물, 프탈로시아닌 블루, 램프 블랙, 로즈벤갈, C.I.안료·레드 48:1, C.I.안료·레드 48:4, C.I.안료·레드 122, C.I.안 료·레드 57:1, C.I.안료·레드 257, C.I.안료·레드 296, C.I.안료·옐로 97, C.I.안료·옐로 12, C.I.안료·옐로 17, C.I.안료·옐로 14, C.I.안료·옐로 13, C.I.안료·옐로 16, C.I.안료·옐로 81, C.I.안료·옐로 126, C.I.안료·옐로 127, C.I.안료·블루 9, C.I.안료·블루 15, C.I.안료·블루 15:1, 또는 C.I.안료·블루 15:3 등을 사용할 수 있다.
또한, 본 발명의 토너 모입자는 이형제 및 전하조절제를 추가로 첨가할 수 있다.
상기 이형제로는 일반적으로 분자량이 낮은 폴리에틸렌 왁스 또는 폴리프로필렌 왁스 등이 사용될 수 있다. 또한 상기 전하조절제는 함크롬의 아조금속착체, 살리실산 금속 착화합물, 함크롬 유기염료, 또는 4급 암모늄염, 스타이렌 아크릴릭 레진타입 전하제어제 등을 사용할 수 있다.
이상과 같이 본 발명에 따른 비자성 일성분계 칼라 토너는 최근 칼라화 및 고속화의 경향에 따라 많이 이용되는 간접전사방식이나 탠덤방식의 고속칼라 프린터 등에 바람직하게 적용된다.
상술한 내용에 의하여 본 발명에 따른 토너 조성물 및 그 제조방법을 상세히 설명하였다. 이하에서는, 보다 구체적인 실시예를 통하여 본 발명의 토너 조성물 과 그 제조방법에 대하여 설명하기로 한다. 다만, 하기 실시예는 본 발명의 이해를 돕기 위하여 제시한 본 발명의 예시일 뿐 본 발명의 권리범위를 한정하기 위한 것은 아니라는 점에 유의할 필요가 있다. 본 발명의 권리범위는 특허청구범위에 기재된 사항과 이로부터 합리적으로 유추되는 사항에 의해 결정되는 것이기 때문이다.
(실시예)
1. 토너 제조 과정
표 1 및 표 2에 기재된 구형화도, 유기분말 A, 유기분말 B, 실리카 및 이산화 티탄의 조건을 변경하면서 각 실시예 및 비교예 별로 토너를 제조하였다.
1-1. 마젠타 토너 모입자 제조
폴리에스테르수지(분자량: 2.5 ×104) 92 중량부, 퀴나크리돈 Red 122 5 중량부, 레진 type CCA 5중량부 , 저분자량 폴리프로필렌 2 중량부를 헨셀믹서로 혼합하였다. 이를 2축 용융 혼련에서 155 ℃의 온도로 용융 혼련하고, 제트밀 분쇄기로 미분쇄한 후, 풍력분급기에서 분급하여 체적 평균입경이 8.0 ㎛인 토너 모입자를 제조하였다.
1-2. 구형화 칼라토너의 제조
상기와 같이 제조한 토너 모입자를 기계적 방법으로 구형화하였다. 이때 구 형화의 정도는 각 실시예 및 비교예 별로 상이하게 조절하였으며, 기계적 방법으로 구형화시에 사용하는 rpm은 8000 rpm의 조건에서 구형화시간을 달리하면서 진행하였다. 토너 모입자의 재질, 원래의 구형화도 및 최종 목표 구형화도에 따라서 구형화시간은 달라지지만 상술한 조건의 토너 모입자를 사용한 예를 들면 표에 기재된 대로 구형화도가 0.2, 0.4, 0.6, 0.7, 0.8, 0.9, 1.0으로 증가됨에 따라 각각 4분, 8분, 12분, 18분, 30분, 40분, 60분으로 관리하여야 됨을 확인할 수 있었다.
1-3. 비자성 일성분계 칼라 토너 입자의 제조
상기 제조예에서 얻어진 토너 모입자의 표면을 코팅하기 위해 상기 토너 모입자 100 중량부를 하이브리다이저에 주입한 다음, 하기 표 1 및 표 2에 기재된 분량대로 PTFE, PMMA 또는 PVDF 분말과, 옥틸실란으로 개질된 실리카 분말, 루타일 구조의 이산화티타늄을 첨가한 다음 5000 rpm으로 5분간 교반하여 토너 입자를 제조하였다.
구분 구형화도 구형 유기 분말 A 구형 유기 분말 B 실리카 이산화티타늄
실시예1 0.7 100nm PMMA 0.5중량부 800nm PMMA 1.0중량부 6nm 실리카 2.0중량부 900nm 이산화티타늄 3.0중량부
실시예2 0.6 60nm PMMA 0.8중량부 800nm PMMA 1.5중량부 6nm 실리카 2.5중량부 500nm 이산화티타늄 4.0중량부
실시예3 0.6 60nm PMMA 0.8중량부 800nm PMMA 1.5중량부 6nm 실리카 2.5중량부 800nm 이산화티타늄 2.0중량부
실시예4 0.6 60nm PMMA 0.8중량부 800nm PMMA 1.5중량부 6nm 실리카 2.5중량부 800nm 이산화티타늄 4.0중량부
실시예5 0.6 60nm PMMA 0.8중량부 800nm PMMA 1.5중량부 16nm 실리카 2.5중량부 500nm 이산화티타늄 2.0중량부
실시예6 0.6 60nm PMMA 0.8중량부 800nm PMMA 1.5중량부 16nm 실리카 2.5중량부 500nm 이산화티타늄 4.0중량부
실시예7 0.6 60nm PMMA 0.8중량부 800nm PMMA 1.5중량부 16nm 실리카 2.5중량부 800nm 이산화티타늄 2.0중량부
실시예8 0.6 60nm PMMA 0.8중량부 800nm PMMA 1.5중량부 16nm 실리카 2.5중량부 800nm 이산화티타늄 4.0중량부
실시예9 0.6 60nm PMMA 0.8중량부 800nm PMMA 1.5중량부 6nm 실리카 3.5중량부 500nm 이산화티타늄 2.0중량부
실시예10 0.6 60nm PMMA 0.8중량부 800nm PMMA 1.5중량부 6nm 실리카 3.5중량부 500nm 이산화티타늄 4.0중량부
실시예11 0.6 60nm PMMA 0.8중량부 800nm PMMA 1.5중량부 6nm 실리카 3.5중량부 800nm 이산화티타늄 2.0중량부
실시예12 0.6 60nm PMMA 0.8중량부 800nm PMMA 1.5중량부 6nm 실리카 3.5중량부 800nm 이산화티타늄 4.0중량부
실시예13 0.6 60nm PMMA 0.8중량부 800nm PMMA 1.5중량부 16nm 실리카 3.5중량부 500nm 이산화티타늄 2.0중량부
실시예14 0.6 60nm PMMA 0.8중량부 800nm PMMA 1.5중량부 16nm 실리카 3.5중량부 500nm 이산화티타늄 4.0중량부
실시예15 0.6 60nm PMMA 0.8중량부 800nm PMMA 1.5중량부 16nm 실리카 3.5중량부 800nm 이산화티타늄 2.0중량부
실시예16 0.6 60nm PMMA 0.8중량부 800nm PMMA 1.5중량부 16nm 실리카 3.5중량부 800nm 이산화티타늄 4.0중량부
실시예17 0.8 100nm PTFE 0.5중량부 900nm PTFE 0.5중량부 6nm 실리카 2.5중량부 500nm 이산화티타늄 2.0중량부
실시예18 0.8 100nm PTFE 0.5중량부 900nm PTFE 0.5중량부 6nm 실리카 2.5중량부 500nm 이산화티타늄 4.0중량부
실시예19 0.8 100nm PTFE 0.5중량부 900nm PTFE 0.5중량부 6nm 실리카 2.5중량부 800nm 이산화티타늄 2.0중량부
실시예20 0.8 100nm PTFE 0.5중량부 900nm PTFE 0.5중량부 6nm 실리카 2.5중량부 800nm 이산화티타늄 4.0중량부
실시예21 0.8 100nm PTFE 0.5중량부 900nm PTFE 0.5중량부 16nm 실리카 2.5중량부 500nm 이산화티타늄 2.0중량부
실시예22 0.8 100nm PTFE 0.5중량부 900nm PTFE 0.5중량부 16nm 실리카 2.5중량부 500nm 이산화티타늄 4.0중량부
실시예23 0.8 100nm PTFE 0.5중량부 900nm PTFE 0.5중량부 16nm 실리카 2.5중량부 800nm 이산화티타늄 2.0중량부
실시예24 0.8 100nm PTFE 0.5중량부 900nm PTFE 0.5중량부 16nm 실리카 2.5중량부 800nm 이산화티타늄 4.0중량부
실시예25 0.8 100nm PTFE 0.5중량부 900nm PTFE 0.5중량부 6nm 실리카 3.5중량부 500nm 이산화티타늄 2.0중량부
실시예26 0.8 100nm PTFE 0.5중량부 900nm PTFE 0.5중량부 6nm 실리카 3.5중량부 500nm 이산화티타늄 4.0중량부
실시예27 0.8 100nm PTFE 0.5중량부 900nm PTFE 0.5중량부 6nm 실리카 3.5중량부 800nm 이산화티타늄 2.0중량부
실시예28 0.8 100nm PTFE 0.5중량부 900nm PTFE 0.5중량부 6nm 실리카 3.5중량부 800nm 이산화티타늄 4.0중량부
실시예29 0.8 100nm PTFE 0.5중량부 900nm PTFE 0.5중량부 16nm 실리카 3.5중량부 500nm 이산화티타늄 2.0중량부
실시예30 0.8 100nm PTFE 0.5중량부 900nm PTFE 0.5중량부 16nm 실리카 3.5중량부 500nm 이산화티타늄 4.0중량부
실시예31 0.8 100nm PTFE 0.5중량부 900nm PTFE 0.5중량부 16nm 실리카 3.5중량부 800nm 이산화티타늄 2.0중량부
실시예32 0.8 100nm PTFE 0.5중량부 900nm PTFE 0.5중량부 16nm 실리카 3.5중량부 800nm 이산화티타늄 4.0중량부
실시예33 0.6 70nm PMMA 0.5중량부 700nm PVDF 1.8중량부 6nm 실리카 2.5중량부 500nm 이산화티타늄 2.0중량부
실시예34 0.6 70nm PMMA 0.5중량부 700nm PVDF 1.8중량부 6nm 실리카 2.5중량부 500nm 이산화티타늄 4.0중량부
실시예35 0.6 70nm PMMA 0.5중량부 700nm PVDF 1.8중량부 6nm 실리카 2.5중량부 800nm 이산화티타늄 2.0중량부
실시예36 0.6 70nm PMMA 0.5중량부 700nm PVDF 1.8중량부 6nm 실리카 2.5중량부 800nm 이산화티타늄 4.0중량부
실시예37 0.6 70nm PMMA 0.5중량부 700nm PVDF 1.8중량부 6nm 실리카 2.5중량부 500nm 이산화티타늄 2.0중량부
실시예38 0.6 70nm PMMA 0.5중량부 700nm PVDF 1.8중량부 16nm 실리카 3.5중량부 500nm 이산화티타늄 4.0중량부
실시예39 0.6 70nm PMMA 0.5중량부 700nm PVDF 1.8중량부 16nm 실리카 3.5중량부 800nm 이산화티타늄 2.0중량부
실시예40 0.6 70nm PMMA 0.5중량부 700nm PVDF 1.8중량부 16nm 실리카 3.5중량부 800nm 이산화티타늄 4.0중량부
실시예41 0.6 70nm PMMA 0.5중량부 700nm PVDF 1.8중량부 16nm 실리카 3.5중량부 500nm 이산화티타늄 2.0중량부
실시예42 0.6 70nm PMMA 0.5중량부 700nm PVDF 1.8중량부 16nm 실리카 3.5중량부 500nm 이산화티타늄 4.0중량부
실시예43 0.6 70nm PMMA 0.5중량부 700nm PVDF 1.8중량부 16nm 실리카 3.5중량부 800nm 이산화티타늄 2.0중량부
실시예44 0.6 70nm PMMA 0.5중량부 700nm PVDF 1.8중량부 16nm 실리카 3.5중량부 800nm 이산화티타늄 4.0중량부
실시예45 0.6 70nm PMMA 0.5중량부 700nm PVDF 1.8중량부 16nm 실리카 3.5중량부 500nm 이산화티타늄 2.0중량부
실시예46 0.6 70nm PMMA 0.5중량부 700nm PVDF 1.8중량부 16nm 실리카 3.5중량부 500nm 이산화티타늄 4.0중량부
실시예47 0.6 70nm PMMA 0.5중량부 700nm PVDF 1.8중량부 16nm 실리카 3.5중량부 800nm 이산화티타늄 2.0중량부
실시예48 0.6 70nm PMMA 0.5중량부 700nm PVDF 1.8중량부 16nm 실리카 3.5중량부 800nm 이산화티타늄 4.0중량부
실시예49 0.8 110nm PTFE 0.9중량부 900nm PVDF 0.5중량부 6nm 실리카 2.5중량부 500nm 이산화티타늄 2.0중량부
실시예50 0.8 110nm PTFE 0.9중량부 900nm PVDF 0.5중량부 6nm 실리카 2.5중량부 500nm 이산화티타늄 4.0중량부
실시예51 0.8 110nm PTFE 0.9중량부 900nm PVDF 0.5중량부 6nm 실리카 2.5중량부 800nm 이산화티타늄 2.0중량부
실시예52 0.8 110nm PTFE 0.9중량부 900nm PVDF 0.5중량부 6nm 실리카 2.5중량부 800nm 이산화티타늄 4.0중량부
실시예53 0.8 110nm PTFE 0.9중량부 900nm PVDF 0.5중량부 6nm 실리카 2.5중량부 500nm 이산화티타늄 2.0중량부
실시예54 0.8 110nm PTFE 0.9중량부 900nm PVDF 0.5중량부 16nm 실리카 3.5중량부 500nm 이산화티타늄 4.0중량부
실시예55 0.8 110nm PTFE 0.9중량부 900nm PVDF 0.5중량부 16nm 실리카 3.5중량부 800nm 이산화티타늄 2.0중량부
실시예56 0.8 110nm PTFE 0.9중량부 900nm PVDF 0.5중량부 16nm 실리카 3.5중량부 800nm 이산화티타늄 4.0중량부
실시예57 0.8 110nm PTFE 0.9중량부 900nm PVDF 0.5중량부 16nm 실리카 3.5중량부 500nm 이산화티타늄 2.0중량부
실시예58 0.8 110nm PTFE 0.9중량부 900nm PVDF 0.5중량부 16nm 실리카 3.5중량부 500nm 이산화티타늄 4.0중량부
실시예59 0.8 110nm PTFE 0.9중량부 900nm PVDF 0.5중량부 16nm 실리카 3.5중량부 800nm 이산화티타늄 2.0중량부
실시예60 0.8 110nm PTFE 0.9중량부 900nm PVDF 0.5중량부 16nm 실리카 3.5중량부 800nm 이산화티타늄 4.0중량부
실시예61 0.8 110nm PTFE 0.9중량부 900nm PVDF 0.5중량부 16nm 실리카 3.5중량부 500nm 이산화티타늄 2.0중량부
실시예62 0.8 110nm PTFE 0.9중량부 900nm PVDF 0.5중량부 16nm 실리카 3.5중량부 500nm 이산화티타늄 4.0중량부
실시예63 0.8 110nm PTFE 0.9중량부 900nm PVDF 0.5중량부 16nm 실리카 3.5중량부 800nm 이산화티타늄 2.0중량부
실시예64 0.8 110nm PTFE 0.9중량부 900nm PVDF 0.5중량부 16nm 실리카 3.5중량부 800nm 이산화티타늄 4.0중량부
구분 구형화도 구형 유기 분말 A 구형 유기 분말 B 실리카 이산화티탄
비교예1 - - 7nm 실리카 2.0중량부 200nm 이산화티타늄 1.0중량부
비교예2 0.8 - 6nm 실리카 2.5중량부 500nm 이산화티타늄 4.0중량부
비교예3 0.8 - 6nm 실리카 2.5중량부 800nm 이산화티타늄 2.0중량부
비교예4 0.8 - 6nm 실리카 2.5중량부 800nm 이산화티타늄 4.0중량부
비교예5 0.8 - 16nm 실리카 2.5중량부 500nm 이산화티타늄 2.0중량부
비교예6 0.8 - 16nm 실리카 2.5중량부 500nm 이산화티타늄 4.0중량부
비교예7 0.8 - 16nm 실리카 2.5중량부 800nm 이산화티타늄 2.0중량부
비교예8 0.7 30nm PMMA 0.2중량부 200nm PMMA 0.2중량부 40nm 실리카 1.0중량부 200nm 이산화티타늄 1.0중량부
비교예9 0.8 30nm PMMA 0.2중량부 200nm PMMA 0.2중량부 40nm 실리카 1.0중량부 200nm 이산화티타늄 5.0중량부
비교예10 0.8 30nm PMMA 0.2중량부 200nm PMMA 0.2중량부 40nm 실리카 1.0중량부 100nm 이산화티타늄 1.0중량부
비교예11 0.8 30nm PMMA 0.2중량부 200nm PMMA 0.2중량부 40nm 실리카 1.0중량부 100nm 이산화티타늄 5.0중량부
비교예12 0.8 30nm PMMA 0.2중량부 200nm PMMA 0.2중량부 40nm 실리카 1.0중량부 1200nm 이산화티타늄 1.0중량부
비교예13 0.8 30nm PMMA 0.2중량부 200nm PMMA 0.2중량부 40nm 실리카 1.0중량부 1200nm 이산화티타늄 5.0중량부
비교예14 0.8 30nm PMMA 0.2중량부 200nm PMMA 0.2중량부 40nm 실리카 1.0중량부 500nm 이산화티타늄 2.0중량부
비교예15 0.8 30nm PMMA 0.2중량부 200nm PMMA 0.2중량부 40nm 실리카 1.0중량부 800nm 이산화티타늄 4.0중량부
비교예16 0.8 30nm PMMA 0.2중량부 200nm PMMA 0.2중량부 40nm 실리카 1.0중량부 -
비교예17 0.8 30nm PMMA 0.2중량부 200nm PMMA 0.2중량부 40nm 실리카 2.0중량부 20nm 이산화티타늄 0.1중량부
비교예18 0.2 30nm PMMA 0.2중량부 200nm PMMA 0.2중량부 7nm 실리카 3.0중량부 200nm 이산화티타늄 1.0중량부
비교예19 0.2 30nm PMMA 0.2중량부 200nm PMMA 0.2중량부 7nm 실리카 3.0중량부 500nm 이산화티타늄 4.0중량부
비교예20 0.2 30nm PMMA 0.2중량부 200nm PMMA 0.2중량부 7nm 실리카 3.0중량부 800nm 이산화티타늄 2.0중량부
비교예21 0.2 30nm PMMA 0.2중량부 200nm PMMA 0.2중량부 7nm 실리카 3.0중량부 800nm 이산화티타늄 4.0중량부
비교예22 0.2 30nm PMMA 0.2중량부 200nm PMMA 0.2중량부 7nm 실리카 3.0중량부 500nm 이산화티타늄 2.0중량부
비교예23 0.2 30nm PMMA 0.2중량부 200nm PMMA 0.2중량부 7nm 실리카 3.0중량부 500nm 이산화티타늄 4.0중량부
비교예24 0.2 30nm PMMA 0.2중량부 200nm PMMA 0.2중량부 7nm 실리카 3.0중량부 800nm 이산화티타늄 2.0중량부
비교예25 0.2 30nm PMMA 0.2중량부 200nm PMMA 0.2중량부 7nm 실리카 3.0중량부 200nm 이산화티타늄 1.0중량부
비교예26 0.2 150nm PMMA 0.2중량부 1500nm PTFE 0.2중량부 7nm 실리카 3.0중량부 500nm 이산화티타늄 3.0중량부
비교예27 0.2 150nm PMMA 0.2중량부 1500nm PTFE 0.2중량부 7nm 실리카 3.0중량부 20nm 이산화티타늄 0.1중량부
비교예28 0.2 150nm PMMA 0.2중량부 1500nm PTFE 0.2중량부 7nm 실리카 3.0중량부 20nm 이산화티타늄 3.0중량부
비교예29 0.2 150nm PMMA 0.2중량부 1500nm PTFE 0.2중량부 7nm 실리카 5.0중량부 500nm 이산화티타늄 0.1중량부
비교예30 0.2 150nm PMMA 0.2중량부 1500nm PTFE 0.2중량부 50nm 실리카 2.0중량부 500nm 이산화티타늄 3.0중량부
비교예31 0.2 150nm PMMA 0.2중량부 1500nm PTFE 0.2중량부 7nm 실리카 5.0중량부 20nm 이산화티타늄 3.0중량부
비교예32 0.2 150nm PMMA 0.2중량부 1500nm PTFE 0.2중량부 50nm 실리카 5.0중량부 500nm 이산화티타늄 3.0중량부
비교예33 0.2 150nm PMMA 0.2중량부 1500nm PTFE 0.2중량부 7nm 실리카 2.0중량부 0.1㎛ PVDF 0.5
비교예34 0.7 300nm PVDF 1.5중량부 1500nm PTFE 2.5중량부 7nm 실리카 2.0중량부 20nm 이산화티타늄 0.1중량부
비교예35 0.7 300nm PVDF 1.5중량부 1500nm PTFE 2.5중량부 7nm 실리카 2.0중량부 20nm 이산화티타늄 3.0중량부
비교예36 0.7 300nm PVDF 1.5중량부 1500nm PTFE 2.5중량부 7nm 실리카 2.0중량부 500nm 이산화티타늄 0.1중량부
비교예37 0.7 300nm PVDF 1.5중량부 1500nm PTFE 2.5중량부 7nm 실리카 2.0중량부 500nm 이산화티타늄 3.0중량부
비교예38 0.7 300nm PVDF 1.5중량부 1500nm PTFE 2.5중량부 7nm 실리카 2.0중량부 20nm 이산화티타늄 0.1중량부
비교예39 0.7 300nm PVDF 1.5중량부 1500nm PTFE 2.5중량부 7nm 실리카 2.0중량부 20nm 이산화티타늄 3.0중량부
비교예40 0.7 300nm PVDF 1.5중량부 1500nm PTFE 2.5중량부 7nm 실리카 2.0중량부 500nm 이산화티타늄 0.1중량부
비교예41 0.7 300nm PVDF 1.5중량부 1500nm PTFE 2.5중량부 7nm 실리카 2.0중량부 500nm 이산화티타늄 3.0중량부
비교예42 0.7 300nm PVDF 1.5중량부 1500nm PTFE 2.5중량부 7nm 실리카 2.0중량부 20nm 이산화티타늄 0.1중량부
비교예43 0.4 300nm PVDF 1.5중량부 1500nm PTFE 2.5중량부 7nm 실리카 2.0중량부 20nm 이산화티타늄 3.0중량부
비교예44 0.4 300nm PVDF 1.5중량부 1500nm PTFE 2.5중량부 7nm 실리카 2.0중량부 500nm 이산화티타늄 0.1중량부
비교예45 0.4 300nm PVDF 1.5중량부 1500nm PTFE 2.5중량부 7nm 실리카 2.0중량부 500nm 이산화티타늄 3.0중량부
비교예46 0.4 300nm PVDF 1.5중량부 1500nm PTFE 2.5중량부 50nm 실리카 2.0중량부 20nm 이산화티타늄 0.1중량부
비교예47 0.4 300nm PVDF 0.2중량부 1500nm PTFE 0.2중량부 50nm 실리카 5.0중량부 20nm 이산화티타늄 3.0중량부
비교예48 0.4 300nm PVDF 0.2중량부 1500nm PTFE 0.2중량부 16nm 실리카 5.0중량부 500nm 이산화티타늄 0.1중량부
비교예49 0.4 300nm PVDF 0.2중량부 1500nm PTFE 0.2중량부 16nm 실리카 5.0중량부 500nm 이산화티타늄 3.0중량부
비교예50 0.4 300nm PVDF 0.2중량부 1500nm PTFE 0.2중량부 50nm 실리카 2.0중량부 20nm 이산화티타늄 0.1중량부
비교예51 0.4 300nm PVDF 0.2중량부 1500nm PTFE 0.2중량부 50nm 실리카 5.0중량부 20nm 이산화티타늄 3.0중량부
비교예52 0.4 100nm PMMA 1.5중량부 800nm PTFE 2.5중량부 16nm 실리카 5.0중량부 500nm 이산화티타늄 0.1중량부
비교예53 0.4 100nm PMMA 1.5중량부 800nm PTFE 2.5중량부 16nm 실리카 5.0중량부 500nm 이산화티타늄 3.0중량부
비교예54 0.4 100nm PMMA 1.5중량부 800nm PTFE 2.5중량부 50nm 실리카 5.0중량부 140nm 이산화티타늄 1.0중량부
비교예55 1.0 100nm PMMA 1.5중량부 800nm PTFE 2.5중량부 16nm 실리카 5.0중량부 250nm 이산화티타늄 0.5중량부
비교예56 1.0 100nm PMMA 1.5중량부 800nm PTFE 2.5중량부 7nm 실리카 2.0중량부 500nm 이산화티타늄 2.0중량부
비교예57 1.0 100nm PMMA 1.5중량부 800nm PTFE 2.5중량부 7nm 실리카 2.0중량부 500nm 이산화티타늄 4.0중량부
비교예58 1.0 100nm PMMA 1.5중량부 800nm PTFE 2.5중량부 7nm 실리카 2.0중량부 800nm 이산화티타늄 2.0중량부
비교예59 1.0 100nm PMMA 1.5중량부 800nm PTFE 2.5중량부 7nm 실리카 5.0중량부 200nm 이산화티타늄 1.0중량부
비교예60 1.0 100nm PMMA 1.5중량부 800nm PTFE 2.5중량부 7nm 실리카 2.0중량부 200nm 이산화티타늄 5.0중량부
비교예61 1.0 100nm PMMA 1.5중량부 800nm PTFE 2.5중량부 7nm 실리카 2.0중량부 100nm 이산화티타늄 1.0중량부
비교예62 1.0 100nm PMMA 1.5중량부 800nm PTFE 2.5중량부 7nm 실리카 2.0중량부 100nm 이산화티타늄 5.0중량부
비교예63 1.0 100nm PMMA 1.5중량부 800nm PTFE 2.5중량부 22nm 실리카 2.0중량부 1200nm 이산화티타늄 1.0중량부
비교예64 1.0 100nm PMMA 1.5중량부 800nm PTFE 2.5중량부 22nm 실리카 2.0중량부 500nm 이산화티타늄 2.0중량부
비교예65 0.9 100nm PMMA 1.5중량부 800nm PTFE 2.5중량부 7nm 실리카 2.0중량부 500nm 이산화티타늄 4.0중량부
비교예66 0.9 100nm PMMA 1.5중량부 800nm PTFE 2.5중량부 7nm 실리카 2.0중량부 500nm 이산화티타늄 2.0중량부
비교예67 0.9 100nm PMMA 1.5중량부 800nm PTFE 2.5중량부 7nm 실리카 2.0중량부 500nm 이산화티타늄 4.0중량부
비교예68 0.9 100nm PMMA 1.5중량부 800nm PTFE 2.5중량부 7nm 실리카 2.0중량부 800nm 이산화티타늄 2.0중량부
비교예69 0.9 100nm PMMA 1.0중량부 800nm PTFE 2.0중량부 50nm 실리카 3.0중량부 200nm 이산화티타늄 1.0중량부
비교예70 0.9 100nm PMMA 1.0중량부 800nm PTFE 2.0중량부 50nm 실리카 3.0중량부 200nm 이산화티타늄 5.0중량부
비교예71 0.9 100nm PMMA 1.0중량부 800nm PTFE 2.0중량부 50nm 실리카 3.0중량부 100nm 이산화티타늄 1.0중량부
비교예72 0.9 100nm PMMA 1.0중량부 800nm PTFE 2.0중량부 50nm 실리카 3.0중량부 100nm 이산화티타늄 5.0중량부
비교예73 0.9 100nm PMMA 1.0중량부 800nm PTFE 2.0중량부 50nm 실리카 3.0중량부 1200nm 이산화티타늄 1.0중량부
비교예74 0.8 100nm PMMA 1.0중량부 800nm PTFE 2.0중량부 50nm 실리카 3.0중량부 500nm 이산화티타늄 1.0중량부
특성 분석
상기 실시예1~64 및 비교예1~74에 의해 제조된 토너 모입자의 특성을 평가하기 위하여 다음과 같은 방식으로 실험을 수행하였다. 실험을 위해서 토너를 접촉식 현상기구로 구성된 시판되는 비자성 일성분 현상방식의 프린터(HP4600, Hewlett-Packard사)를 이용하여 5,000 매까지 프린트하여 하기의 방법으로 프린트 환경 조건에 따른 화상 균일성, 화상농도, 전사효율 및 장기성을 측정하였고, 그 결과는 하기 표 3과 같다.
1) 화상 균일성
도 1에 도시한 바와 같이 솔리드(Solid) 면적 화상의 9군데 위치를 정하여 그 각각의 위치에서의 화상 밀도(image density)를 측정하여 그 균일성을 확인하였다. 상기 균일성은 장기간 화상을 유지하는 중요한 특성으로서, 프린트를 장기간 계속할 경우 균일성을 일정하게 유지시킬 수 있도록 하는 것이 반드시 필요하다.
솔리드(solid) 면적 화상의 9곳을 맥베스 반사 농도계 RD918로 측정하였다. 측정한 결과를 하기의 기준에 따라 분류하엿다.
A: 화상의 이미지 밀도의 차이가 0.1 이하
B: 화상의 이미지 밀도의 차이가 0.3 이하
C: 화상의 이미지 밀도의 차이가 0.8 이하
D: 화상의 이미지 밀도의 차이가 1.2 이하
화상샘플은 각 1000매 단위로 채취하였으며, 5000매까지의 화상 농도(image density)를 측정하였다.
2) 화상 오염
PCR(Primary Charge Roller) 오염을 기준으로 측정하였다.
A : PCR 오염 거의 없음
B : PCR 오염 약간 있음
C : PCR 오염 많음
D : PCR 오염 아주 많음
3) 전사효율
상기 프린트한 5,000 매에 대하여 각 500 매 단위로 소모량에서 낭비량을 뺀 순 소모량을 계산하여 순수하게 종이로 전사된 토너의 %를 계산하였다.
A: 전사효율 80 % 이상
B: 전사효율 70∼80 %
C: 전사효율 60∼70 %
D: 전사효율 50∼60 %
4) 장기성
5,000 매까지 프린트하여 화상농도(I.D) 및 전사효율이 유지되는지를 확인하였다.
A: 5,000 매까지 I.D. 1.4 이상, 전사효율 75 % 이상
B: 5,000 매까지 I.D. 1.3 이상, 전사효율 70 % 이상
C: 5,000 매까지 I.D. 1.2 이하, 전사효율 60 % 이상
D: 5,000 매까지 I.D. 1.0 이하, 전사효율 40 % 이상
이상과 같은 실험을 실시하여 그 차이를 관찰하였으며, 그 결과는 다음의 표 3 및 표 4에 나타내었다.
구분 화상 균일성 화상오염 전사효율 장기성
실시예 1 A A A A
실시예 2 A A A A
실시예 3 A A A A
실시예 4 A A A A
실시예 5 A A A A
실시예 6 A A A A
실시예 7 A A A A
실시예 8 A A A A
실시예 9 A A A A
실시예10 A A A A
실시예 11 A A A A
실시예 12 A A A A
실시예 13 A A A A
실시예 14 A A A A
실시예 15 B A A A
실시예 16 A A A A
실시예 17 A A A A
실시예 18 A A A A
실시예 19 A A A A
실시예 20 A A A A
실시예 21 A A A A
실시예 22 A A A A
실시예 23 A A A A
실시예 24 A A A A
실시예 25 A A A A
실시예 26 A A A A
실시예 27 A A A A
실시예 28 A A A A
실시예 29 A A A A
실시예 30 A A A A
실시예 31 A A A A
실시예 32 A A A A
실시예 33 A A A A
실시예 34 A A A A
실시예 35 A A A A
실시예 36 A A A A
실시예 37 A A A A
실시예 38 A A A A
실시예 39 A A A A
실시예 40 A A A A
실시예 41 A A A A
실시예 42 A A A A
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실시예 46 A A A A
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실시예 48 A A A A
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실시예 53 A A A A
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실시예 55 A A A A
실시예 56 A A A A
실시예 57 A A A A
실시예 58 A A A A
실시예 59 A A A A
실시예 60 A A A A
실시예 61 A A A A
실시예 62 A A A A
실시예 63 A A A A
실시예 64 A A A A
구분 화상 균일성 화상오염 전사효율 장기성
비교예 1 D D D D
비교예 2 D D D D
비교예 3 D D D D
비교예 4 D D D D
비교예 5 D D D D
비교예 6 D D D D
비교예 7 D D D D
비교예 8 D D D D
비교예 9 D C D D
비교예 10 D D D D
비교예 11 D D D D
비교예 12 D D D D
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비교예 20 D D D D
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비교예 71 D D D D
비교예 72 D D D D
비교예 73 D D D D
비교예 74 D D D D
상기 표 3과 4에 나타난 바와 같이, 상기 구형화된 토너 모입자에 서로 다른 입경의 구형유기분말, 실리카,및 이산화티탄을 동시에 사용한 실시예 1-64는 비교예 1-74의 경우에 비해서 화상균일성, 화상농도, 전사효율 및 장기성 측면에서 모두 우수한 특성을 나타내는 것을 확인할 수가 있었다.
이러한 효과들은 앞서 기술한 바와 같이, 높은 대전성을 유지하고 대전 균일성 및 대전 분포를 보다 sharp하게 유지 할 수 있도록 할 수 있는 토너 모입자에 대한 표면개질 및 외첨 물질들을 이용한 대전특성개선의 효과임을 알 수 있다.
앞에서 살펴본 바와 같이, 본 발명에 의해 제공되는 토너는 높은 대전성을 가지며 대전균일성 및 대전분포가 좁은 상태로 장기적으로 유지될 수 있도록 하여 화상균일성이 우수하고 화상 오염이 적으며, 전사효율 및 장기안정성이 우수하므로 상기 본 발명의 토너를 사용할 경우 장기적으로도 매우 균일한 고품질 화상을 얻을 수 있게 된다.

Claims (13)

  1. 구형화 처리된 토너 모입자; 및
    상기 토너 모입자 표면에 코팅된 외첨제;를 포함하는 토너로서,
    상기 외첨제는 유기분말, 실리카 및 하기 수학식 1에 따른 구형화도 0.6 이상의 구형 이산화티타늄 분말로 이루어진 것을 특징으로 하는 화상 균일성이 우수한 토너.
    [수학식 1]
    구형화도 = 구형일때의 원주/입자의 둘레
  2. 제 1 항에 있어서, 상기 구형화 처리된 토너 모입자는 상기 수학식 1에 따른 구형화도가 0.5~0.8인 것을 특징으로 하는 화상 균일성이 우수한 토너.
  3. 제 2 항에 있어서, 상기 구형화 처리는 열기류와 함께 토너 입자를 분무함으로서 토너 입자의 계면장력을 이용하여 토너 입자를 구형화하는 방법 또는 토너 입자에 대하여 기계적인 응력과 마찰력을 제공하여 토너 입자를 구형으로 그라인딩하는 방법 중에서 선택된 방법으로 실시되는 것을 특징으로 하는 화상 균일성이 우수한 토너.
  4. 제 1 항에 있어서, 상기 유기분말은 평균입경이 600~1000nm인 대형입자와 평균입경이 50~120nm인 소형입자로 이루어진 것을 특징으로 하는 화상 균일성이 우수한 토너.
  5. 제 4 항에 있어서, 상기 유기분말은 PTFE(폴리테트라플루오로에틸렌), PMMA(폴리메틸메타크릴레이트) 및 PVDF(폴리비닐리덴 플루오라이드) 중에서 선택된 것을 특징으로 하는 화상 균일성이 우수한 토너.
  6. 제 4 항에 있어서, 상기 소형입자와 대형입자의 함량은 각각 토너 모입자 100 중량부당 0.4~1.0중량부, 0.4~2.0중량부의 범위인 것을 특징으로 하는 화상 균일성이 우수한 토너.
  7. 제 1 항에 있어서, 상기 구형 이산화티타늄 분말은 루타일(rutile)상 이산화티타늄으로 이루어진 것을 특징으로 하는 화상 균일성이 우수한 토너.
  8. 제 7 항에 있어서, 상기 구형 이산화티타늄 분말의 평균입경은 300nm~1000nm인 것을 특징으로 하는 화상 균일성이 우수한 토너.
  9. 제 7 항에 있어서, 상기 구형 이산화티타늄 분말의 함량은 토너 모입자 100 중량부당 1.5~4 중량부인 것을 특징으로 하는 화상 균일성이 우수한 토너.
  10. 제 1 항에 있어서, 상기 실리카 입자는 5~20nm 의 크기를 가지는 것을 특징으로 하는 화상 균일성이 우수한 토너.
  11. 제 10 항에 있어서, 상기 실리카 입자의 함량은 토너 모입자 100 중량부당 2~4 중량부인 것을 특징으로 하는 화상 균일성이 우수한 토너.
  12. 제 1 항 내지 제 11 항에 있어서, 상기 토너의 크기는 10㎛ 이하인 것을 특징으로 하는 화상 균일성이 우수한 토너.
  13. 제 12 항에 있어서, 상기 토너의 크기는 3~9㎛인 것을 특징으로 하는 화상 균일성이 우수한 토너.
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