KR20080047415A - 열처리 장치, 컴퓨터 프로그램 및 기억 매체 - Google Patents
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Abstract
Description
Claims (30)
- 피처리체에 대하여 소정의 열처리를 실시하는 열처리 장치에 있어서,배기 가능하게 이루어진 처리 용기와,상기 처리 용기내에 마련되어, 그 상면측에 상기 피처리체를 탑재시키기 위한 탑재대와,상기 탑재대의 상부에 마련된 복수의 열전 변환 소자와,상기 처리 용기의 천장부를 기밀히 덮는 광투과창과,상기 처리 용기내를 향해서 필요한 가스를 도입하는 가스 도입 수단과,상기 광투과창의 상방에 마련되어, 상기 피처리체를 향해서 광투과창을 거쳐서 가열용의 빛을 사출함과 동시에 각각이 반도체 광사출 소자를 포함하는 복수의 가열 광원으로 이루어지는 가열 수단을 구비한 것을 특징으로 하는 열처리 장치.
- 제 1항에 있어서, 상기 각 가열 광원의 근방에, 해당 가열 광원으로부터의 빛을 반사하여 상기 피처리체를 향하는 제 1 리플렉터가 각각 마련되는 것을 특징으로 하는 열처리 장치.
- 제 2항에 있어서, 상기 각 제 1 리플렉터로부터의 반사광은, 각각 상기 피처 리체의 다른 영역을 향해서 집광하도록 설정되어 있는 것을 특징으로 하는 열처리 장치.
- 제 2항 또는 제 3항에 있어서, 상기 제 1 리플렉터의 반사면은 곡면 형상으로 성형되어 있는 것을 특징으로 하는 열처리 장치.
- 제 1항 내지 제 4항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 각 가열 광원은, 히트 파이프로 이루어지는 소자 부착봉을 갖고, 상기 반도체 광사출 소자는, 해당 소자 부착봉의 선단부에 부착되어 있는 것을 특징으로 하는 열처리 장치.
- 제 5항에 있어서, 상기 가열 수단은, 상기 광투과창의 상방을 덮는 소자 부착용 하우징을 갖고, 상기 각 소자 부착봉의 베이스부가, 상기 소자 부착용 하우징에 지지되어 있는 것을 특징으로 하는 열처리 장치.
- 제 6항에 있어서, 상기 소자 부착용 하우징은, 돔 형상으로 성형되어 있고, 그 내측은 곡면 형상으로 성형되어 제 2 리플렉터로서 기능하는 반사면으로 이루어 지는 것을 특징으로 하는 열처리 장치.
- 제 6항 또는 제 7항에 있어서, 상기 소자 부착용 하우징에는, 상기 소자 부착봉의 베이스부측을 냉각하기 위한 소자 냉각 수단이 마련되는 것을 특징으로 하는 열처리 장치.
- 제 5항 내지 제 8항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 각 소자 부착봉은, 연직 방향 또는 연직 방향에 근사한 방향을 따라서 마련되는 것을 특징으로 하는 열처리 장치.
- 제 1항 내지 제 9항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 피처리체의 온도를 측정하기 위한 방사 온도계를 갖고, 해당 방사 온도계의 측정 파장 대역을, 상기 반도체 광사출 소자부터의 빛의 파장 대역과는 다르도록 설정하고 있는 것을 특징으로 하는 열처리 장치.
- 제 1항 내지 제 10항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 반도체 광사출 소자는, LED 소자 또는 반도체 레이저 소자로 이루어지는 것을 특징으로 하는 열처리 장치.
- 제 1항에 있어서, 상기 가열 수단은, 상기 광투과창의 상방을 덮는 소자 부착용 하우징을 갖고, 해당 소자 부착용 하우징의 하면은 상기 탑재대에 대향하도록 평탄한 소자 부착면으로 이루어져, 해당 소자 부착면에 상기 복수의 가열 광원의 반도체 광사출 소자가 마련되는 것을 특징으로 하는 열처리 장치.
- 제 12항에 있어서, 상기 소자 부착면 중 반도체 광사출 소자를 마련하는 영역은, 상기 탑재대 상에 탑재되는 상기 피처리체의 투영 면적보다도 넓게 이루어져 있는 것을 특징으로 하는 열처리 장치.
- 제 12항 또는 제 13항에 있어서, 상기 반도체 광사출 소자는, 소정의 수마다 하나의 작은 소자 설치 기판에 부착되어, 단일의 소자 설치 기판과, 이것에 대응하는 반도체 광사출 소자에 의해서 블럭화된 모듈을 구성하고 있는 것을 특징으로 하는 열처리 장치.
- 제 14항에 있어서, 각 소자 설치 기판은, 열전도성이 좋은 금속 재료를 단면 오목부 형상으로 성형하게 되는 것을 특징으로 하는 열처리 장치.
- 제 14항 또는 제 15항에 있어서, 각 모듈의 소자 설치 기판에 부착되는 복수의 반도체 광사출 소자는 각각 전기적으로 직렬로 접속되는 것을 특징으로 하는 열처리 장치.
- 제 14항 내지 제 16항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 소자 부착용 하우징의 소자 부착면 및 / 또는 상기 소자 설치 기판의 표면은 각각 반사면으로 이루어져 리플렉터로서 기능을 하는 것을 특징으로 하는 열처리 장치.
- 제 12항 내지 제 17항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 반도체 광사출 소자는, LED 소자 또는 반도체 레이저 소자로 이루어지는 것을 특징으로 하는 열처리 장치.
- 제 12항 내지 제 17항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 반도체 광사출 소자는, LED 칩 또는 반도체 레이저 칩으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 열처리 장치.
- 제 18항 또는 제 19항에 있어서, 상기 반도체 광사출 소자는, 면발광형의 소자인 것을 특징으로 하는 열처리 장치.
- 제 12항 내지 제 20항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 복수의 반도체 광사출 소자는, 복수의 존으로 구획되어 있고, 각 존마다 독립하여 제어 가능하게 이루어져 있는 것을 특징으로 하는 열처리 장치.
- 제 1항 내지 제 21항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 복수의 열전 변환 소자의 근방에는, 필요시에 전열 매체를 흐르게 하는 전열 매체 유로가 마련되어 있는 것을 특징으로 하는 열처리 장치.
- 제 1항 내지 제 22항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 열처리 장치는, 해당 열 처리 장치 전체의 동작을 제어하기 위한 제어 수단을 갖고, 해당 제어 수단은, 상기 피처리체의 가열시에는 상기 가열 수단을 온함과 동시에, 상기 열전 변환 소자에 열전 변환 소자 제어부를 거쳐서 상기 피처리체를 가열하도록 전류를 흐르게 하고,상기 피처리체의 냉각시에는 상기 가열 수단을 오프함과 동시에, 상기 열전 변환 소자에 열전 변환 소자 제어부를 거쳐서 상기 피처리체를 냉각하도록 전류가 흐르도록 하는 제어하는 것을 특징으로 하는 열처리 장치.
- 피처리체에 대하여 소정의 열처리를 실시하는 열처리 장치에 있어서,배기 가능하게 이루어진 처리 용기와,상기 처리 용기내에 마련되어, 그 상면측에 상기 피처리체를 탑재시키기 위한 탑재대와,상기 탑재대에, 또는 상기 탑재대의 하방에 마련되어, 상기 피처리체를 가열하는 하측 가열 수단과,상기 처리 용기의 천장부를 기밀히 덮는 광투과창과,상기 처리 용기내를 향해서 필요한 가스를 도입하는 가스 도입 수단과,상기 광투과창의 상방에 마련되어 상기 피처리체를 향해서 광투과창을 거쳐서 가열용의 빛을 사출함과 동시에 각각이 반도체 광사출 소자를 포함하는 복수의 가열 광원으로 이루어지는 가열 수단을 구비한 것을 특징으로 하는 열처리 장치.
- 제 24항에 있어서, 상기 하측 가열 수단은, 복수의 열전 변환 소자, 저항 가열 히터, 또는 가열 램프 중 어느 것인가에 의해 이루어지는 것을 특징으로 하는 열처리 장치.
- 제 24항 또는 제 25항에 있어서, 상기 열처리 장치는, 해당 열처리 장치 전체의 동작을 제어하기 위한 제어 수단을 갖고, 해당 제어 수단은, 상기 피처리체의 가열시에는, 상기 하측 가열 수단을 온하여 상기 피처리체를 소정의 온도까지 예비 가열하고, 그 후, 상기 가열 수단을 온하여 상기 피처리체를 소정의 처리 온도까지 승온하도록 제어하는 것을 특징으로 하는 열처리 장치.
- 피처리체에 대하여 소정의 열처리를 실시하는 열처리 장치로서,배기 가능하게 이루어진 처리 용기와,상기 처리 용기내에 마련되어, 그 상면측에 상기 피처리체를 탑재시키기 위한 탑재대와,상기 탑재대의 상부에 마련된 복수의 열전 변환 소자와,상기 처리 용기의 천장부를 기밀히 덮는 광투과창과,상기 처리 용기내를 향해서 필요한 가스를 도입하는 가스 도입 수단과,상기 광투과창의 상방에 마련되어, 상기 피처리체를 향해서 광투과창을 거쳐서 가열용의 빛을 사출함과 동시에 각각이 반도체 광사출 소자를 포함하는 복수의 가열 광원으로 이루어지는 가열 수단을 구비한 열처리 장치를 이용하여 피처리체에 대하여 소정의 열처리를 실시함에 있어서,상기 피처리체의 가열시에는 상기 가열 수단을 온함과 동시에 상기 열전 변환 소자에 상기 피처리체를 가열하도록 전류를 흐르게 하고,상기 피처리체의 냉각시에는 상기 가열 수단을 오프함과 동시에 상기 열전 변환 소자에 상기 피처리체를 냉각하도록 전류가 흐르도록 하는 제어하는 컴퓨터 프로그램.
- 피처리체에 대하여 소정의 열처리를 실시하는 열처리 장치로서,배기 가능하게 이루어진 처리 용기와,상기 처리 용기내에 마련되어, 그 상면측에 상기 피처리체를 탑재시키기 위한 탑재대와,상기 탑재대에, 또는 상기 탑재대의 하방에 마련되어, 상기 피처리체를 가열하는 하측 가열 수단과,상기 처리 용기의 천장부를 기밀히 덮는 광투과창과,상기 처리 용기내를 향해서 필요한 가스를 도입하는 가스 도입 수단과,상기 광투과창의 상방에 마련되어 상기 피처리체를 향해서 광투과창을 거쳐 서 가열용의 빛을 사출함과 동시에 각각이 반도체 광사출 소자를 포함하는 복수의 가열 광원으로 이루어지는 가열 수단을 구비한 열처리 장치를 이용하여 피처리체에 대하여 소정의 열처리를 실시함에 있어서,상기 피처리체의 가열시에는, 상기 하측 가열 수단을 온하여 상기 피처리체를 소정의 온도까지 예비 가열하고, 그 후, 상기 가열 수단을 온하여 상기 피처리체를 소정의 처리 온도까지 승온하도록 제어하는 컴퓨터 프로그램.
- 피처리체에 대하여 소정의 열처리를 실시하는 열처리 장치로서,배기 가능하게 이루어진 처리 용기와,상기 처리 용기내에 마련되어, 그 상면측에 상기 피처리체를 탑재시키기 위한 탑재대와,상기 탑재대의 상부에 마련된 복수의 열전 변환 소자와,상기 처리 용기의 천장부를 기밀히 덮는 광투과창과,상기 처리 용기내를 향해서 필요한 가스를 도입하는 가스 도입 수단과,상기 광투과창의 상방에 마련되어, 상기 피처리체를 향해서 광투과창을 거쳐서 가열용의 빛을 사출함과 동시에 각각이 반도체 광사출 소자를 포함하는 복수의 가열 광원으로 이루어지는 가열 수단을 구비한 열처리 장치를 이용하여 피처리체에 대하여 소정의 열처리를 실시함에 있어서,상기 피처리체의 가열시에는 상기 가열 수단을 온함과 동시에 상기 열전 변 환 소자에 상기 피처리체를 가열하도록 전류를 흐르게 하고,상기 피처리체의 냉각시에는 상기 가열 수단을 오프함과 동시에 상기 열전 변환 소자에 상기 피처리체를 냉각하도록 전류가 흐르도록 하는 제어하는 컴퓨터 프로그램을 기억한 기억 매체.
- 피처리체에 대하여 소정의 열처리를 실시하는 열처리 장치로서,배기 가능하게 이루어진 처리 용기와,상기 처리 용기내에 마련되어, 그 상면측에 상기 피처리체를 탑재시키기 위한 탑재대와,상기 탑재대에, 또는 상기 탑재대의 하방에 마련되어, 상기 피처리체를 가열하는 하측 가열 수단과,상기 처리 용기의 천장부를 기밀히 덮는 광투과창과,상기 처리 용기내를 향해서 필요한 가스를 도입하는 가스 도입 수단과,상기 광투과창의 상방에 마련되어 상기 피처리체를 향해서 광투과창을 거쳐서 가열용의 빛을 사출함과 동시에 각각이 반도체 광사출 소자를 포함하는 복수의 가열 광원으로 이루어지는 가열 수단을 구비한 열처리 장치를 이용하여 피처리체에 대하여 소정의 열처리를 실시함에 있어서,상기 피처리체의 가열시에는, 상기 하측 가열 수단을 온하여 상기 피처리체를 소정의 온도까지 예비 가열하고, 그 후, 상기 가열 수단을 온하여 상기 피처리 체를 소정의 처리 온도까지 상온하도록 제어하는 컴퓨터 프로그램을 기억한 기억매체.
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