KR20080024997A - 액정 혼합물용 플루오로페닐 화합물 - Google Patents
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Abstract
Description
본 발명은 하기에 정의된 바와 같은 화학식 1의 화합물, 이 화합물의 제조방법 및 액정 매질 내 성분으로서의 화합물의 용도에 관한 것이다. 또한, 본 발명은 액정 및 본 발명에 따른 액정 매질을 포함하는 전기광학 디스플레이 소자(element)에 관한 것이다. 본 발명에 따른 화합물은 구조 성분으로서 일정한 방식으로 플루오르화된 바이페닐기 상의 디플루오로메틸렌옥시기를 포함한다.
지난 여러 해 동안, 액정 화합물의 적용 영역이 디스플레이 디바이스, 전기광학 디바이스, 전자 구성요소, 센서 등의 여러 유형으로 상당히 확대되었다. 이러한 이유로, 다수의 상이한 구조가 제안되었는데, 특히 네마틱 액정의 영역에서 그러하였다. 네마틱 액정 혼합물은 지금까지 평면 디스플레이 디바이스에서 널리 사용되어 왔다. 네마틱 액정 혼합물은 특히 수동 TN 또는 STN 매트릭스 디스플레이 또는 TFT 능동 매트릭스를 갖는 시스템에 사용되었다.
본 발명에 따른 액정 화합물은 액정 매질, 특히 트위스티드 셀(twisted cell), 게스트-호스트 효과(guest-host effect), 정렬상의 변형(deformation of aligned phases; DAP) 또는 전기적으로 제어된 복굴절(electrically controlled birefringence; ECB), 동일평면 스위칭(in-plane switching) 효과 또는 동적 산란(dynamic scattering) 효과의 원리를 기초로 하는 디스플레이에서 액정 매질의 성분으로서 사용할 수 있다.
디플루오로메틸렌옥시 다리(-CF2O-)를 포함하는 특정 유도체의 액정 물질로서의 사용은 당해 분야의 숙련자에게 공지되어 있다. 디플루오로메틸렌옥시 다리를 포함하는 다양한 화합물이 액정 물질, 이의 제법의 형태로 예를 들어, 특허 EP 0786445 A1에 기재되어 있다.
본 발명은 액정 매질의 성분으로서 적합한 신규하고 안정한 화합물의 발견을 목적으로 한다. 특히, 상기 화합물은 양성 영역에서 비교적 낮은 점도 및 유전 비등방성을 동시에 나타내야 한다. 액정 분야에서 현재의 많은 혼합물 개념에 있어서, 높은 유전 비등방성 Δε를 갖는 화합물을 사용하는 것이 유용하다.
높은 Δε를 갖는 이러한 유형의 화합물이 적용되는 매우 광범위한 분야를 고려하여, 바람직하게는 높은 네마토제네이티(nematogeneity)를 갖는, 특정 적용분야에 적합하도록 제조된 특성을 갖는 입수가능한 추가의 화합물을 갖는 것이 바람직하다.
본 발명의 목적은 액정 매질, 특히 예를 들어, TN, STN, IPS 및 TN-TFT 디스플레이의 성분으로서 적합한 신규하고 안정한 화합물을 발견하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은 그 자체 또는 혼합물의 형태에서 높은 유전 비등방성 Δε, 높은 투명점(clearing point) 및 낮은 회전 점도 γ1을 갖는 화합물을 제공하는 것이다. 또한, 본 발명의 화합물은 적용 분야에서 주어지는 조건 하에서 열적으로 및 광화학적으로 안정하다. 게다가, 본 발명의 화합물은 가능한 한 넓은 네마틱 상을 갖게 된다. 메소젠(mesogens)과 같이, 화합물은 액정 공동성분을 갖는 혼합물 형태의 넓은 네마틱 상을 촉진시키며 특히 낮은 온도에서 네마틱 기저 혼합물과의 높은 혼화성을 갖는다. 마찬가지로, 낮은 용융점 및 낮은 용융 엔탈피를 갖는 물질이 바람직한데, 이는 이러한 정량적 성질들이 앞서 언급되어진 예를 들 어, 높은 용해성, 넓은 액정 상 및 저온에서 혼합물에서의 낮은 자발적 결정화 경향과 같은 바람직한 특성의 표시이기 때문이다. 특히, 어떤 결정화가 지연되는 동안 저온에서의 용해성은 차량, 항공기 및 야외에서 디스플레이의 신뢰할 수 있는 작동과 운송에 있어 중요하다.
놀랍게도, 본 발명의 화합물이 액정 매질의 성분으로서 매우 안정함을 발견하였다. 이 화합물은 특히 높은 유전 비등방성이 요구되는 디스플레이, 특히 TN-TFT 및 STN 디스플레이뿐만 아니라 IPS 시스템 또는 좀더 최근의 구상을 위한 액정 매질을 얻기 위해 사용할 수 있다. 본 발명의 화합물은 충분한 안정성을 가지며 무색이다. 이 화합물은 또한 광학 스위칭 소자에서 사용시 요구되는 역치 전압을 낮추기 때문에 강한 양성 유전 비등방성 Δε를 특징으로 한다. 이 화합물은 특히 넓은 네마틱 상 범위를 갖는다. 또한, 본 발명의 화합물은 높은 투명점을 가지며 동시에 회전 점도에 대한 낮은 수치를 갖는다. 당해 기술분야의 종래 물질과 비교시, 상당히 낮은 용융점 및 용융 엔탈피가 관찰된다.
본 발명의 화합물은 액정 혼합물의 제조시 다양한 적용분야로부터 매우 일반적으로 상당히 광범위한 범위의 적절한 액정 성분으로 제공된다.
본 발명의 화합물은 광범위한 적용범위를 갖는다. 치환체의 선택에 따라, 이러한 화합물들은 액정 매질을 주로 구성하는 기본 물질로서 작용할 수 있다. 그러나, 예를 들어 유전체 및/또는 이러한 유형의 유전체의 광학 비등방성을 변형시키고/변형시키거나 그것의 역치 전압 및/또는 점도를 최적화하기 위해 다른 부류의 화합물로부터의 액정 기저 물질을 본 발명의 화합물에 첨가하는 것 또한 가능하다.
본 발명은 하기 화학식 1을 갖는 화합물에 관한 것이다:
화학식 1
상기 식에서,
R1은 H, F, Cl, Br, 1 내지 15개 C 원자를 갖는 할로겐화 또는 비치환 알킬 라디칼로서, 여기에서 이러한 라디칼 상의 하나 또는 그 이상의 CH2기가 O 원자가 서로 직접적으로 연결되지 않은 방식으로 각각 서로 독립적으로 -C≡C-, -CH=CH-, -(CO)O-, -O(CO)-, -(CO)- 또는 -O-로 치환될 수 있으며,
A1은
a) 트란스-1,4-사이클로헥실렌 또는 사이클로헥세닐렌으로, 여기에서 추가로 하나 또는 그 이상의 비-인접 CH2기를 -O- 및/또는 -S-로 치환할 수 있고 H를 F로 치환할 수 있고, 또는
b) 1,4-페닐렌으로, 여기에서 하나 또는 두 개의 CH기를 N으로 치환할 수 있고 하나 또는 그 이상의 H 원자를 Br, Cl, F, CN, 메틸, 메톡시 또는 모노- 또는 폴리플루오르화 메틸 또는 메톡시기로 치환할 수 있으며,
Z1은 단일 결합, -CH2O-, -(CO)O-, -CF2O-, -CH2CH2CF2O-, CF2CF2-, -CH2CF2-, -CH2CH2-, -(CH2)4-, -CH=CH-, -CH=CF-, -CF=CF- 또는 -C≡C-으로, 여기에서 비대칭적인 다리는 양쪽 방향으로 향할 수 있으며,
L1 및 L2는 서로 독립적으로 H 또는 F이며,
X1은 F, Cl, CN, NCS, SF5, 할로겐화 알킬 라디칼, 할로겐화 알콕시 라디칼, 할로겐화 알케닐 라디칼 또는 할로겐화 알케닐옥시 라디칼로서, 각각은 7개 이하의 C 원자를 가지며,
a는 0, 1 또는 2, 바람직하게는 0 또는 1이다.
게다가, 본 발명은 또한 액정 매질에서의 화학식 1의 화합물의 용도에 관한 것이다.
마찬가지로, 본 발명은 하나 이상의 화학식 1의 화합물을 포함하는 2개 이상의 액정 성분을 갖는 액정 매질에 관한 것이다.
순수한 상태에서, 화학식 1의 화합물은 전기광학 용도에 대해 유리하게 정해지는 온도 범위에서 무색이고 그 자체로 또는 혼합물 형태로 형성되며 액정 준결정상이다. 본 발명의 화합물은 달성될 수 있는 광범위한 네마틱 상 범위를 가능하게 한다. 액정 혼합물에서, 본 발명에 따른 성분은 스멕틱 상을 억제하며 저온 저장 안정성을 상당히 증가시킨다.
화학식 1을 갖는 화합물은 a가 0 또는 1, 특히 a가 0인 것이 바람직하다.
Z1이 존재할 경우, Z1은 단일결합, -CF2O-, OCF2-, -C2F4-, -CH2O-, -OCH2- 또는 -(CO)O-이며, 특히 단일 결합이다.
A1은 바람직하게는 하기 화합물
및 다음의 추가 화합물이다:
A1 및 Z1은 대부분의 경우(특히, a > 1인 경우), 각각 동일하거나 상이한 성분을 채택할 수 있다.
R1은 8개 이하의 탄소 원자를 갖는 알킬, 알콕시, 알케닐 또는 알케닐옥시이다. R1이 비분지 알킬 또는 알케닐인 것이 특히 바람직하다.
X1은 바람직하게는 F, Cl, CN, CF3, CHF2, OCF3, OCHF2, OCFHCF3, OCFHCHF2, OCFHCHF2, OCF2CH3, OCF2CHF2, OCF2CHF2, OCF2CF3, OCFHCF2CF3, OCFHCF2CHF2, OCF2CF2CF3, OCF2CF2CClF2, OCClFCF2CF3 또는 CH=CHF2이다. 본 발명의 화학식 1을 갖 는 화합물에서 X1이 F, Cl, CF3, OCF3, OCHF2 또는 CN으로부터의 기인 것이 특히 바람직하며, 그중에서도 특히 F 또는 OCF3가 바람직하다.
하기 화학식 1a의 화합물이 특히 바람직하다:
상기 식에서,
R1, A1, L1, L2, X1 및 a는 화학식 1에 대하여 상기 기재된 것과 동일하다.
L1 및 L2 중 적어도 하나가 플루오르, 특히 둘 다 F인 화학식 1 및 1a의 화합물이 바람직하다.
특히 바람직한 화학식 1 또는 1a의 화합물은 하기 식 I1 내지 I8의 화합물이다:
상기 화학식들에서, R1 및 X1은 상기 기재된 것과 동일하며, 특히 상기에서 바람직한 예로 기재된 것 또는 이의 조합이 바람직하다. L2는 F인 것이 바람직하다. 화학식 I1 내지 I8의 화합물 중에서, 화학식 I1, I2 및 I4, 추가로 I7의 화합물이 바람직하며, 특히 화학식 I1 및 I4의 화합물이 바람직하다.
화학식 1의 화합물은 반응에 적합하고 공지된 반응 조건하에서, 문헌(예를 들어, Houben-Weyl, Methoden der organischen Chemie[Methods of Organic Chemistry], Georg-Thieme-Verlag, Stuttgart와 같은 표준 작업)에 기재된 바와 같은 알려진 방법에 의해 제조할 수 있다. 용도는 또한 본원에서 자세히 설명하지는 않지만 그 자체의 다양한 방법에 의해 만들어질 수 있다.
화학식 1의 화합물은 다음의 예시적인 합성과정 및 예(반응식 1)에 의해 나타나는 바와 같이 유용하게 제조할 수 있다:
반응식 1. 화학식 1의 화합물(특히 6)의 예시적인 제조.
일반적으로, 상응하는 출발물질은 문헌에 의해 공지된 합성 방법을 통해 본 분야의 숙련자에 의해 쉽게 제조될 수 있다. 보론산 에스테르(4)의 알킬 라디칼을 다른 알킬기 또는 수소 원자로 치환할 수 있다. 상응하는 보론산 또는 보론산 에스테르 유사체의 보론산 에스테르(4)로의 합성은 유사하게, 또는 예를 들어, 알킬 보레이트와 같은 적절한 간단한 보론 화합물과 순차적인 반응을 통해 매우 낮은 온도에서 화합물 2의 금속화에 의해 진행된다.
합성 유닛 5는 공개공보 WO 01/064667 A1에 기재된 방법에 의해 제조한다: p-브로모벤조산을 프로판디티올 및 트리플루오로메탄술폰산이 존재하는 수분 분리기(water separator) 상에서 대응하는 디티아닐륨 트리플레이트로 전환시킨다. 디티아닐륨 트리플레이트는 DBH 및 트리에틸아민 트리스히드로플루오리드를 플루오르화제로서 사용하여 산화성 플루오르화에 의해 합성 유닛 5로 전환된다(반응식 2).
반응식 2. 합성 유닛 5의 제조
화합물 5의 브로마이드 대신, 아이오다이드 또는 비슷한 반응성을 갖는 이탈기(예를 들어 트리플레이트기)를 사용하는 것 또한 가능하다.
그러므로, 본 발명은 또한 전이금속 촉매의 존재하에 하기 화학식 2a의 보론산 또는 하기 화학식 2b의 열린 사슬 또는 사이클릭 보론산 에스테르를 하기 화학식 3의 화합물과 반응시키는 단계를 포함하는 화학식 1의 화합물의 제조 방법에 관한 것이다:
상기 식에서,
R1, A1, Z1 및 a는 화학식 1에서 정의된 바와 같으며,
R3, R4는 1 내지 12개의 C 원자를 갖는 알킬이며, 또는 또한 R3+R4는 함께 2 내지 10개의 C 원자를 갖는 알킬렌, 특히 -CH2-(CH2)p-CH2- 및 -C(CH3)2C(CH3)2- 또는 1,2-페닐렌이며, 여기에서 페닐렌, R3, R4 및 R3+R4는 또한 치환될 수 있으며 p는 0 또는 1이다.
상기 식에서,
L1, L2 및 X1은 화학식 1에서 정의된 바와 같으며,
Hal은 Cl, Br, I 또는 O(SO2)CF3이다. 화학식 1의 화합물을 제조한다.
전이금속 촉매는 바람직하게는 산화 상태 0, II 또는 IV의 팔라듐 착체이다. 반응은 바람직하게는 수용성 촉매를 사용하여 균질상에서 실행된다. 착체는 비스(트리페닐포스핀)팔라듐(II) 클로라이드가 특히 바람직하다. 사용된 반응 방법 및 시약은 문헌에 의해 일반적으로 알려진 것이다. 또한, 반응 조건은 실시예에 나타나 있다.
기재된 방법의 대체는 반응물의 반응기(보론산 유도체 및 할로겐화물)를 교환하여 이루어진다.
이는 전이금속 촉매의 존재하에 하기 화학식 4의 이탈기 Hal'을 포함하는 화합물이 하기 화학식 5의 보론산 또는 열린 사슬이나 사이클릭 보론산 에스테르와 반응하는 단계를 포함하는 화학식 1의 화합물의 제조에 대한 본 발명의 추가 방법을 제공한다:
상기 식에서,
R1, A1, Z1 및 a는 화학식 1에서 정의된 바와 같으며,
Hal'은 -O(SO2)CF3, Cl, Br 또는 I이다.
상기 식에서,
L1, L2 및 X1은 화학식 1에서 정의된 바와 같으며,
R3, R4는 수소, 1 내지 12개의 C 원자를 갖는 알킬이며, 또는 또한 R3+R4는 함께 2 내지 10개의 C 원자를 갖는 알킬렌, 특히 -CH2-(CH2)p-CH2- 및 -C(CH3)2C(CH3)2- 또는 1,2-페닐렌이며, 여기에서 페닐렌, R3, R4 및 R3+R4는 또한 치환될 수 있으며 p는 0 또는 1이다.
페닐렌, R3, R4 및 R3+R4는 1 내지 5개의 C 원자를 갖는 알킬 또는 알콕시, Cl, CN, -(CO)O-알킬 등과 같은 단순한 비반응기에 의해 모노- 또는 폴리치환될 수 있다.
상기에 언급되지 않은 추가적인 바람직한 방법의 변형이 실시예 또는 청구범위에 나타나 있다.
본 발명은 또한 하나 또는 그 이상의 본 발명의 화학식 1의 화합물을 포함하는 액정 매질에 관한 것이다. 액정 매질은 적어도 두 개의 성분을 포함한다. 바람직하게는, 액정 매질은 상기 성분들을 서로 혼합하여 얻어진다. 그러므로, 액정 매질을 제조하기 위한 본 발명의 방법은 적어도 하나의 화학식 1의 화합물이 적어도 하나의 추가 메소제닉 화합물과 혼합되고 첨가제가 선택적으로 추가되는 것을 특징으로 한다.
투명점, 저온에서의 점도, 열 및 UV 안정성 및 유전체 비등방성의 달성가능한 조합은 본 분야의 종래 물질에 비해 우수하다.
본 발명의 액정 매질은 본 발명의 하나 또는 그 이상의 성분 외에 추가 성분으로서 2 내지 40, 특히 바람직하게는 4 내지 30개의 성분을 포함한다. 특히, 이러한 매질은 본 발명의 하나 또는 그 이상의 화합물 외에 7 내지 25개의 성분을 포함한다. 이러한 추가 성분은 네마틱 또는 네마토제닉(단변성 또는 등방성) 성분, 특히 다음과 같은 성분을 포함하는 것이 바람직하다: 아족실벤젠, 벤질리덴아닐린, 바이페닐, 터페닐, 페닐 또는 사이클로헥실 벤조에이트, 사이클로헥산카르복시산의 페닐 또는 사이클로헥실 에스테르, 사이클로벤조산의 페닐 또는 사이클로헥실 에스테르, 사이클로헥실사이클로헥산카르복시산의 페닐 또는 사이클로헥실 에스테르, 벤조산, 사이클로헥산카르복시산 또는 사이클로헥실사이클로헥산카르복시산의 사이 클로페닐 에스테르, 페닐-사이클로헥산, 사이클로헥실바이페닐, 페닐사이클로헥실사이클로헥산, 사이클로헥실사이클로헥산, 사이클로헥실사이클로헥실사이클로헥산, 1,4-비스사이클로헥실벤젠, 4,4-비스사이클로헥실바이페닐, 페닐- 또는 사이클로헥실피리미딘, 페닐- 또는 사이클로헥실피리딘, 페닐- 또는 사이클로헥실디옥산, 페닐- 또는 사이클로헥실-1,3-디티안, 1,2-디페닐에탄, 1,2-디사이클로헥실에탄, 1-페닐-2-사이클로헥실에탄, 1-사이클로헥실-2-(4-페닐사이클로헥실)에탄, 1-사이클로헥실-2-바이페닐에탄, 1-페닐-2-사이클로헥실페닐에탄, 선택적으로 할로겐화된 스틸벤, 벤질 페닐 에테르, 톨란 및 치환된 신남산. 이러한 화합물의 1,4-페닐렌기를 또한 플루오르화시킬 수 있다.
본 발명의 매질에 추가 성분으로서 적합한 가장 중요한 화합물은 하기 식 A, B, C, D 및 E에 의해 특정화될 수 있다:
식 A, B, C, D 및 E에서, 서로 독립적으로 동일하거나 상이한 L 및 E는 구조 요소 Phe-, -Cyc-, -Phe-Phe-, -Phe-Cyc-, -Cyc-Cyc-, -Pyr-, -Dio-, -Py-, G-Phe-, -G-Cyc 및 이의 거울상으로 구성되는 군으로부터 선택되는 2가 라디칼이며, 여기에서 Phe는 비치환 또는 플루오르-치환 1,4-페닐렌이고, Cyc는 트란스-1,4-사이클로헥실렌이고, Pyr은 피리미딘-2,5-디일 또는 피리딘-2,5-디일이고, Dio는 1,3-디옥산-2,5-디일이고, Py는 테트라히드로피란-2,5-디일이며, G는 2-(트란스- 1,4-사이클로헥실)에틸이다.
라디칼 L 및 E 중 하나는 Cyc, Phe 또는 Pyr인 것이 바람직하다. E는 Cyc, Phe 또는 Phe-Cyc인 것이 바람직하다. 본 발명의 매질은 다음을 포함하는 것이 바람직하다: 라디칼 L 및 E를 Cyc, Phe 또는 Pyr 중에서 선택한 식 A, B, C, D 및 E의 화합물 중에서 선택한 하나 또는 그 이상의 성분, 및 동시에 라디칼 L 및 E를 Cyc, Phe, Py 및 Pyr, 및 -Phe-Phe-, -Phe-Cyc-, -Cyc-Cyc-, G-Phe- 및 -G-Cyc 중에서 선택한 그외 라디칼 중에서 선택한 식 A, B, C, D 및 E의 화합물 중에서 선택한 하나 또는 그 이상의 성분, 및 선택적으로 라디칼 L 및 E를 -Phe-Cyc-, -Cyc-Cyc-, G-Phe- 및 -G-Cyc 중에서 선택한 식 A, B, C, D 및 E의 화합물 중에서 선택한 하나 또는 그 이상의 성분.
R' 및/또는 R"은 각각 서로 독립적으로 8개 이하의 C 원자를 갖는 알킬, 알케닐, 알콕시, 알콕시알킬, 알케닐옥시 또는 알카노일옥시, -F, -Cl, -CN, -NCS 또는 -(O)iCH3 - kFk이며, 여기에서 i는 0 또는 1이고 k는 1, 2 또는 3이다.
식 A, B, C, D 및 E의 화합물의 좀더 작은 서브그룹(sub-group)에서, R' 및 R" 각각은 서로 독립적으로 8개 이하의 C 원자를 갖는 알킬, 알케닐, 알콕시, 알콕시알킬, 알케닐옥시 또는 알카노일옥시이다. 이러한 서브그룹은 하기에서 그룹 I라고 지칭하며 화합물은 서브-식 A1, B1, C1, D1 및 E1로 나타내진다. 이러한 화합물의 대부분에서, R' 및 R"은 서로 상이하며, 이중 하나의 라디칼은 일반적으로 알킬, 알케닐, 알콕시 또는 알콕시알킬이다.
그룹 II로 명명된 식 A, B, C, D 및 E의 화합물의 좀더 작은 다른 서브그룹에서, R"는 -F, -Cl, -NCS 또는 -(O)iCH3 - kFk이며, 여기에서 i는 0 또는 1이고 k는 1, 2 또는 3이다. R"가 상기와 같은 화합물은 서브-식 A2, B2, C2, D2 및 E2로 나타낸다. R"가 -F, -Cl, -NCS, -CF3, -OCHF2 또는 -OCF3인 서브-식 A2, B2, C2, D2 및 E2의 화합물이 특히 바람직하다.
서브-식 A2, B2, C2, D2 및 E2의 화합물에서, R'은 서브-식 A1 내지 E1의 화합물의 경우에서와 같으며, 바람직하게는 알킬, 알케닐, 알콕시 또는 알콕시알킬이다.
식 A, B, C, D 및 E의 화합물의 좀더 작은 그외 서브그룹에서, R"는 -CN이다. 이 서브그룹은 하기에서 그룹 III로 언급되며, 이 서브그룹의 화합물은 서브-식 A3, B3, C3, D3 및 E3으로서 기재된다. 서브-식 A3, B3, C3, D3 및 E3의 화합물에서, R'은 서브-식 A1 내지 E1의 화합물의 경우에서와 같으며, 바람직하게는 알킬, 알콕시 또는 알케닐이다.
그룹 I, II 및 III의 바람직한 화합물 이외에, 제안된 치환체의 다른 변이체를 갖는 식 A, B, C, D 및 E의 다른 화합물 또한 통상적이다. 이러한 모든 성분들은 문헌에 의해 공지된 방법 또는 이와 유사한 방법에 의해 제조할 수 있다.
본 발명에 따른 화학식 1의 화합물 이외에, 본 발명의 매질은 바람직하게는 그룹 I, II 및 III 중에서 선택한 하나 또는 그 이상의 화합물을 포함한다. 본 발명의 매질에서 이러한 그룹의 화합물의 중량비는 바람직하게는 다음과 같다:
그룹 I: 0 내지 90%, 바람직하게는 20 내지 90%, 특히 바람직하게는 30 내지 90%;
그룹 II: 0 내지 80%, 바람직하게는 10 내지 80%, 특히 바람직하게는 10 내지 65%;
그룹 III: 0 내지 80%, 바람직하게는 0 내지 80%, 특히 바람직하게는 0 내지 50%;
여기에서, 본 발명의 각각의 매질 내 그룹 I, II 및/또는 III 화합물의 중량비의 합은 바람직하게는 5 내지 90%, 특히 바람직하게는 10 내지 90%이다.
본 발명에 따른 매질은 본 발명의 화합물을 바람직하게는 1 내지 40%, 특히 바람직하게는 5 내지 30% 포함한다.
본 발명에 따른 액정 혼합물은 통상적인 방식으로 제조한다. 일반적으로, 적은 양으로 사용되는 성분의 바람직한 양은 바람직하게는 상승된 온도에서 주요 구성을 구성하는 성분에 용해된다. 또한, 예를 들어 아세톤, 클로로포름 또는 메탄올과 같은 유기 용매에 성분 용액을 혼합하고 완전히 혼합한 후에 예를 들어 증류에 의해 용매를 다시 제거하는 것이 가능하다. 게다가, 다른 통상적인 방법, 예를 들어 균질성 혼합물과 같은 프리믹스를 사용하거나 "멀티보틀(multibottle)"이라고 명명된 시스템을 사용하여 혼합물을 제조할 수 있다.
유전체(dielectrics)는 또한 당해 분야의 숙련자에게 공지되고 문헌에 기재된 추가 첨가물을 포함할 수 있다. 예를 들어, 0 내지 15%, 바람직하게는 0 내지 10%의 다색성 염료, 키랄 도펀트, 안정화제 또는 나노입자를 첨가할 수 있다. 첨 가된 각각의 화합물은 0.01 내지 6%, 바람직하게는 0.1 내지 3%의 농도로 사용된다. 그러나, 액정 혼합물의 다른 구성성분, 즉 액정 또는 메소제닉 화합물의 농도 데이타가 이러한 첨가제의 농도를 고려하지 않고 제시되었다.
본 발명의 액정 혼합물은 가능한 파라미터 범위를 상당히 넓힐 수 있다.
본 발명은 또한 이러한 유형의 매질을 포함하는 전기광학 디스플레이(특히 셀로부터의 프레임과 함께 외부 플레이트 상에 개별 픽셀을 스위칭하기 위한 비선형 소자에 혼입되는 2평면-평행 외부 플레이트를 갖는 TFT 디스플레이, 양성 유전체 비등방성 및 셀 내에 위치한 높은 비저항을 갖는 네마틱 액정 혼합물) 및 전기광학 목적을 위한 이러한 매질의 용도에 관한 것이다.
표현 "알킬"은 1 내지 9개의 탄소 원자를 갖는 비분지 및 분지 알킬기, 특히 비분지기 메틸, 에틸, 프로필, 부틸, 펜틸, 헥실 및 헵틸을 포함한다. 2 내지 5개의 탄소 원자를 가지는 기가 일반적으로 바람직하다.
표현 "알케닐"은 9개 이하의 탄소 원자를 갖는 비분지 및 분지 알케닐, 특히 비분지기를 포함한다. 특히 바람직한 알케닐기는 C2-C7-1E-알케닐, C4-C7-3E-알케닐, C5-C7-4-알케닐, C6-C7-5-알케닐 및 C7-6-알케닐, 특히 C2-C7-1E-알케닐, C4-C7-3E-알케닐 및 C5-C7-4-알케닐이다. 바람직한 알케닐기의 예는 비닐, 1E-프로페닐, 1E-부테닐, 1E-펜테닐, 1E-헥세닐, 1E-헵테닐, 3-부테닐, 3E-펜테닐, 3E-헥세닐, 3E-헵테닐, 4-펜테닐, 4Z-헥세닐, 4E-헥세닐, 4Z-헵테닐, 5-헥세닐, 6-헵테닐 등이다. 5개 이하의 탄소 원자를 갖는 기가 일반적으로 바람직하다.
표현 "할로겐화 알킬 라디칼"은 바람직하게는 모노- 또는 폴리플루오르화 및/또는 -염소화 라디칼을 포함한다. 퍼할로겐화 라디칼이 포함된다. 플루오르화 알킬, 특히 CF3, CH2CF3, CH2CHF2, CHF2, CH2F, CHFCF3 및 CH2CHFCF3가 특히 바람직하다. 표현 "할로겐화 알케닐 라디칼" 및 관련된 표현은 상응하여 설명된다.
본 발명에 따른 혼합물에서의 화학식 1의 화합물의 총량은 중요하지 않다. 그러므로 혼합물은 다양한 특성을 최적화시키기 위한 목적을 위해 하나 또는 그 이상의 추가 성분을 포함할 수 있다.
편광체, 전극 기저판 및 표면처리 전극으로 이루어진 본 발명에 따른 매트릭스 디스플레이의 구성은 이러한 유형의 디스플레이용 일반 설계에 상응한다. 본 명세서에 기재된 바, 일반적인 설계라 함은 또한 매트릭스 디스플레이의 모든 변이체 및 변형, 특히 폴리-Si TFT를 기저로 하는 매트릭스 소자를 포함한다.
그러나, 본 발명에 따른 디스플레이와 트위스티드 네마틱 셀을 기저로 하는 지금까지의 통상적인 디스플레이 사이의 현격한 차이는 액정층의 액정 파라미터의 선택에 의한 것이다.
하기 실시예는 이에 제한됨이 없이 본 발명을 설명하고자 하는 것이다. 당해 분야의 숙련자는 본 발명의 일반적인 설명에서 상세히 설명되지 않는 세부사항을 하기 실시예로부터 도출할 수 있을 것이며, 일반적인 경험적 지식을 이용하여 구체적인 문제에 적용할 수 있을 것이다.
상기 및 하기에서 백분율 데이타는 중량퍼센트이다. 모든 온도는 섭씨로서 나타낸다. 또한, C = 액정, N = 네마틱상, Sm = 스멕틱상, I = 등방성상을 나타낸다. 이러한 기호들 사이의 수치는 전이온도를 나타낸다. Δn은 광학 비등방성(589nm, 20℃), Δε는 유전체 비등방성(1kHz, 20℃), γ1은 회전 점도(20℃; 단위 mPa·s)이다.
물리적, 물리화학적 및 전기광학적 파라미터는 일반적으로 공지된 방법, 특히 소책자 "Merck Liquid Crystals-Licristal®-Physical Properties of Liquid Crystals-Description of Measurement Method", 1998, Merck KGaA, Darmstadt에 기재된 방법에 의해 결정된다.
각 물질의 유전체 비등방성 Δε은 20℃ 및 1kHz에서 결정된다. 이 때문에, 5 내지 10중량%의 연구될 물질은 유전체적으로 양성인 혼합물 ZLI-4792(Merck KGaA)에 용해되어 측정되며 측정치는 100%의 농도에 대하여 외삽된 것이다. 광학 비등방성 Δn은 20℃ 및 589.3nm의 파장에서 결정된 것이며 회전 점도 γ1은 20℃에서 결정된 것으로, 마찬가지로 둘 다 선형 외삽법에 의해 결정된 것이다.
다음의 약자들이 사용된다:
p-TsOH p-톨루엔술폰산
THF 테트라히드로푸란
MTB 에테르 메틸 t-부틸 에테르
DBH 1,3-디브로모-5,5-디메틸히단토인
Cyc 사이클로헥실
dppf 1,1'-비스(디페닐포스파닐)페로센
DMAP 4-(N,N-디메틸아미노)피리딘
RT 실온
실시예
1
단계 1.1
71g(276mmol)의 보론 화합물(3), 67g(690mmol)의 아세트산칼륨 및 5g(7mmol)의 PdCl2-dppf를 590㎖의 디옥산에 용해된 50g(230mmol)의 브로마이드(2) 용액에 첨가하고 혼합물을 100℃에서 17시간 동안 가온시켰다. 물을 냉각된 배치에 첨가하고 MTB 에테르로 추출하였다. 유기상을 황산나트륨으로 건조시킨 후 증발시켰다. 잔여물을 실리카겔(n-헵탄)을 통해 여과하였다. 수득한 잔류물(4)를 추가 정제 없이 다음 단계에 사용하였다.
단계 1.2
21g(75mmol)의 소듐 메타보레이트 옥타히드레이트를 우선 38㎖의 물에 가하고, 40㎖의 THF, 0.15㎖(1mmol)의 수산화 히드라지늄 및 0.7g(1mmol)의 비스(트리페닐포스핀)팔라듐(II) 클로라이드를 첨가한 후 혼합물을 실온에서 5분간 교반하였다. 14.8g(89%; 50mmol)의 보론산 에스테르(4) 및 17.7g(50mmol)의 브로마이드(5)를 순차적으로 배치에 첨가하였다. 6시간 동안 환류시키면서 교반한 후, 반응 혼합물을 MTB 에테르로 희석하였다. 유기상을 증발시켰다. 잔여물을 실리카겔(n-헵탄)을 통해 여과시켰다. 헵탄으로부터의 결정화를 실행하여 산물을 최종 정제하였다.
C 26 I
Δε 20
Δn 0.131
γ1 62mPa·s
하기 식을 갖는 하기의 화합물을 위와 유사하게 제조하였다(표 1):
실시예
2
14.6g(53mmol)의 소듐 메타보레이트 옥타히드레이트를 우선 52㎖의 물에 가한 후 50㎖의 THF, 1.0g(1.4mmol)의 (PPh3)2Pd(II)Cl2 및 0.07㎖(1.4mmol)의 수산화 히드라지늄을 첨가하였다. 5분 뒤, 18.5g(70mmol)의 보론산(7), 24.7g(70mmol)의 브로마이드(5) 및 56㎖의 THF를 배치에 가하고 이를 6시간 동안 끓이면서 가열하였다. 냉각시킨 반응 용액을 200㎖의 MTB 에테르로 희석하였다. 유기상을 분리시키고 증발시켰다. 잔여물을 실리카겔(톨루엔/n-헵탄 1:1)에 통과시켰다. n-헵탄으로부터 결정화하여 최종 정제하였다.
C 76 N 161 I
Δε 19
Δn 0.158
실시예
3
13.9g(50mmol)의 소듐 메타보레이트 옥타히드레이트를 우선 37㎖의 물 및 40㎖의 THF에 가한 후 716㎎(1mmol)의 (PPh3)2Pd(II)Cl2 및 0.05㎖(1mmol)의 수산화 히드라지늄을 첨가하였다. 5분 뒤, 12.9g(50mmol)의 보론산(9), 17.7g(50mmol)의 브로마이드(5) 및 90㎖의 THF를 배치에 첨가하고 이를 6시간 동안 끓이면서 가열하였다. 냉각시킨 반응 용액을 200㎖의 MTB 에테르로 희석하였다. 유기상을 분리시키고 증발시켰다. 잔여물을 실리카겔(톨루엔/n-헵탄 1:1)에 통과시켰다. n-헵탄/MTB 에테르 4:1으로부터 결정화하여 최종 정제하였다.
C 102 SmA 150 N 178 I
Δε 22
Δn 0.240
실시예
4
반응 단계 4.1
19.0g(69mmol)의 소듐 메타보레이트 옥타히드레이트를 우선 27㎖의 물 및 40㎖의 THF에 가한 후 643㎎(0.9mmol)의 (PPh3)2Pd(II)Cl2 및 0.05㎖(1mmol)의 수산화 히드라지늄을 첨가하였다. 5분 뒤, 10.9g(37mmol)의 보론산 에스테르(2), 7.5g(38mmol)의 페놀(11) 및 65㎖의 THF를 배치에 첨가하고 이를 8시간 동안 끓이면서 가열하였다. 냉각시킨 반응 용액을 100㎖의 MTB 에테르로 희석하였다. 유기상을 분리시키고 증발시켰다. 잔여물을 추가 정제 없이 사용하였다.
반응 단계 4.2
0℃에서, 8.3㎖(51mmol)의 트리플루오로메탄술포닉 무수물을 150㎖ 디클로로메탄 중의 14.4g(42mmol)의 페놀(12), 10㎖의 트리에틸아민 및 125㎎의 DMAP 용액에 첨가한 후 혼합물을 18시간 동안 실온에서 교반하였다. 배치를 얼음물로 2회 세척하고 증발시켰다. 잔여물을 실리카겔(톨루엔/n-헵탄 1:4)에 통과시켰다. 수득한 액체를 추가 정제 없이 반응시켰다.
반응 단계 4.3
135g(520mmol)의 보론 화합물(3), 102g(1.04mol)의 아세트산칼륨 및 7.6g(10mmol)의 PdCl2-dppf를 900㎖의 디옥산 중의 122g(350mmol)의 브로마이드(5) 용액에 첨가하고 혼합물을 4시간 동안 100℃에서 가온시켰다. 물을 냉각된 배치에 첨가하고 MTB 에테르로 추출하였다. 유기상을 황산나트륨 상에서 건조시키고 증발시켰다. 잔여물을 실리카겔(톨루엔)을 통해 여과하고 에탄올로부터 결정화시켰다.
반응 단계 4.4
10.7g(37mmol)의 소듐 메타보레이트 옥타히드레이트를 우선 15㎖의 물 및 15㎖의 THF에 가한 후 351㎎(0.5mmol)의 (PPh3)2Pd(II)Cl2 및 0.03㎖(0.5mmol)의 수산화 히드라지늄을 첨가하였다. 5분 뒤, 10.0g(24mmol)의 보론산 에스테르(14), 9.2g(24mmol)의 트리플레이트(13) 및 90㎖의 THF를 배치에 첨가하고 이를 6시간 동안 끓이면서 가열하였다. 냉각시킨 반응 용액을 100㎖의 MTB 에테르로 희석하였다. 유기상을 분리시키고 증발시켰다. 잔여물을 실리카겔(톨루엔)에 통과시켰다. n-헵탄으로부터 결정화하여 최종 정제하였다.
C 93 SmA 104 N 152 I
Δε 24
Δn 0.220
실시예
5
13.9g(50mmol)의 소듐 메타보레이트 옥타히드레이트를 우선 19㎖의 물 및 18㎖의 THF에 가한 후 738㎎(1mmol)의 (PCyc3)2Pd(II)Cl2 및 0.1㎖(1mmol)의 수산화 히드라지늄을 첨가하였다. 5분 뒤, 20.8g(80mmol)의 보론산 에스테르(14), 13.7g(50mmol)의 클로라이드(16) 및 55㎖의 THF를 배치에 첨가하고 이를 8시간 동안 끓이면서 가열하였다. 냉각시킨 반응 용액을 200㎖의 MTB 에테르로 희석하였다. 유기상을 분리시키고 증발시켰다. 잔여물을 실리카겔(톨루엔/n-헵탄 1:1)에 통과시켰다. n-헵탄으로부터 결정화하여 최종 정제하였다.
C 66 SmA 87 N 147 I
Δε 22
Δn 0.155
합성 유닛 16은 WO 2004/048501 A1의 반응식 1과 유사하게 제조하였다.
실시예
6
반응 단계 6.1
3.2g(20mmol)의 알데하이드(18) 및 4.7g(30mmol)의 1,3-디올을 50㎖의 톨루엔에 용해시키고 0.4g의 p-톨루엔술폰산을 첨가한 후 혼합물을 2시간 동안 물 분리기 상에서 가열하였다. 냉각된 용액을 포화된 소듐 하이드로젠카보네이트 용액으로 세척하고 증류시켰다. 잔여물을 실리카겔에 통과시켰다.
반응 단계 6.2
13.9g(50mmol)의 소듐 메타보레이트 옥타히드레이트를 우선 19㎖의 물 및 18㎖의 THF에 가한 후 738㎎(1mmol)의 (PCyc3)2Pd(II)Cl2 및 0.1㎖(1mmol)의 수산화 히드라지늄을 첨가하였다. 5분 뒤, 20.8g(80mmol)의 보론산 에스테르(14), 12.9g(50mmol)의 클로라이드(19) 및 55㎖의 THF를 배치에 첨가하고 이를 8시간 동안 끓이면서 가열하였다. 냉각시킨 반응 용액을 200㎖의 MTB 에테르로 희석하였다. 유기상을 분리시키고 증발시켰다. 잔여물을 실리카겔(톨루엔/n-헵탄 1:1)에 통과시켰다. 아세토니트릴 및 n-헵탄으로부터 결정화하여 최종 정제하였다.
C 109 SmA (95) N 153 I
Δε 28
Δn 0.165
실시예
7
13.9g(50mmol)의 소듐 메타보레이트 옥타히드레이트를 우선 19㎖의 물 및 18㎖의 THF에 가한 후 738㎎(1mmol)의 (PCyc3)2Pd(II)Cl2 및 0.1㎖(1mmol)의 수산화 히드라지늄을 첨가하였다. 5분 뒤, 20.8g(80mmol)의 보론산 에스테르(14), 14.2g(50mmol)의 클로라이드(21) 및 55㎖의 THF를 배치에 첨가하고 이를 8시간 동안 끓이면서 가열하였다. 냉각시킨 반응 용액을 200㎖의 MTB 에테르로 희석하였다. 유기상을 분리시키고 증발시켰다. 잔여물을 실리카겔(톨루엔/n-헵탄 1:1)에 통과시켰다. 아세토니트릴 및 n-헵탄으로부터 결정화하여 최종 정제하였다.
합성 유닛 21을 하기 반응식에 따라 제조하였다:
23의 알데하이드기는 비티히(Wittig) 반응 및 뒤이은 수소화에서 알킬 사슬(여기서는 프로필 사슬)로 전환된다. 플루오르 원자간의 방향족 화합물의 탈양성자 반응 및 트리메틸 보레이트와의 반응에 의해 산성 가수분해 후 보론산(26)이 얻어졌으며 이를 할로겐화 벤젠(27)과 팔라둠-촉매화 보론산 커플링하여 유닛(21)으로 전환시켰다.
C 120 N 123 I
Δε 29
Δn 0.206
다음의 추가 성분은 기재된 합성에 따라 제조하였다(표 2):
발명의 상세한 설명에 따른 본 발명의 실시형태 및 그 변형의 추가적인 조합은 또한 하기의 청구범위로부터 기인한다.
Claims (12)
- 하기 화학식 1을 갖는 화합물:화학식 1상기 식에서,R1은 H, F, Cl, Br, 1 내지 15개의 C 원자를 갖는 할로겐화 또는 비치환 알킬 라디칼로서, 여기에서 이러한 라디칼 상의 하나 또는 그 이상의 CH2기가 O 원자가 서로 직접적으로 연결되지 않는 방식으로 각각 서로 독립적으로 -C≡C-, -CH=CH-, -(CO)O-, -O(CO)-, -(CO)- 또는 -O-로 치환될 수 있으며,A1은a) 트란스-1,4-사이클로헥실렌 또는 사이클로헥세닐렌으로서, 여기에서 추가로 하나 또는 그 이상의 비인접 CH2기를 -O- 및/또는 -S-로 치환할 수 있고, H를 F로 치환할 수 있고, 또는b) 1,4-페닐렌으로서, 여기에서 하나 또는 두 개의 CH기를 N으로 치환할 수 있고 하나 또는 그 이상의 H 원자를 Br, Cl, F, CN, 메틸, 메톡시 또는 모노- 또는 폴리플루오르화 메틸 또는 메톡시기로 치환할 수 있으며,Z1은 단일 결합, -CH2O-, -(CO)O-, -CF2O-, -CH2CH2CF2O-, CF2CF2-, -CH2CF2-, -CH2CH2-, -(CH2)4-, -CH=CH-, -CH=CF-, -CF=CF- 또는 -C≡C-으로, 여기에서 비대칭적인 다리는 양쪽 방향으로 향할 수 있으며,L1 및 L2는 서로 독립적으로 H 또는 F이며,X1은 F, Cl, CN, NCS, SF5, 할로겐화 알킬 라디칼, 할로겐화 알콕시 라디칼, 할로겐화 알케닐 라디칼 또는 할로겐화 알케닐옥시 라디칼로서, 각각은 7개 이하의 C 원자를 가지며,a는 0, 1 또는 2이다.
- 제1항 또는 제2항에 있어서,R1이 8개 이하의 탄소 원자를 갖는 알킬, 알콕시, 알케닐 또는 알케닐옥시임을 특징으로 하는 화합물.
- 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,L1이 플루오르이고 L2가 플루오르 또는 수소임을 특징으로 하는 화합물.
- 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서,L1 및 L2는 플루오르임을 특징으로 하는 화합물.
- 전이금속 촉매의 존재하에, 하기 화학식 2a의 보론산 또는 하기 화학식 2b의 열린 사슬 또는 사이클릭 보론산 에스테르를 하기 화학식 3의 화합물과 반응시키는 단계를 포함하는, 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 따른 화학식 1의 화합물의 제조 방법:화학식 2a화학식 2b[상기 식에서,R1, A1, Z1 및 a는 제1항에서 정의된 바와 같으며,R3, R4는 1 내지 12개의 C 원자를 갖는 알킬이거나 또한 R3+R4는 함께 알킬렌 또는 1,2-페닐렌을 나타내며, 여기에서 페닐렌, R3, R4 및 R3+R4는 또한 치환될 수 있으며 p는 0 또는 1이다]화학식 3[상기 식에서,L1, L2 및 X1은 제1항에서 정의된 바와 같으며,Hal은 O(SO2)CF3, Cl, Br 또는 I이다]
- 전이금속 촉매의 존재하에, 이탈기 Hal'을 포함하는 하기 화학식 4의 화합물을 하기 화학식 5의 보론산 또는 열린 사슬이나 사이클릭 보론산 에스테르와 반응시키는 단계를 포함하는 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 따른 화학식 1의 화합물의 제조 방법:화학식 4[상기 식에서,R1, A1, Z1 및 a는 제1항에서 정의된 바와 같으며,Hal'은 -O(SO2)CF3, Cl, Br 또는 I이다]화학식 5[상기 식에서,L1, L2 및 X1은 제1항에서 정의된 바와 같으며,R3, R4는 수소, 1 내지 12개의 C 원자를 갖는 알킬이거나 또한 R3+R4는 함께 알킬렌 또는 1,2-페닐렌이며, 여기에서 페닐렌, R3, R4 및 R3+R4는 또한 치환될 수 있으며 p는 0 또는 1이다]
- 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 따른 하나 이상의 화학식 1의 화합물의 액정 매질 내의 성분으로서의 용도.
- 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 따른 하나 이상의 화학식 1의 화합물을 포함함을 특징으로 하는, 두 개 이상의 메소제닉 화합물을 포함하는 액정 매질.
- 전기광학 목적으로서의 제10항에 따른 액정 매질의 용도.
- 제10항에 따른 액정 매질을 포함하는 전기광학 액정 디스플레이.
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