KR20080011317A - 분산 아조 염료 및 이를 포함하는 혼합물 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 하기 화학식 I의 염료, 그의 제조방법 및 염료 혼합물 내에서 그의 용도에 관한 것이다:
[화학식 I]
Figure 112007088320855-PCT00049
상기 식에서,
Ra는 -C6H5-치환된 C1 -4-알킬이고;
Rb는 메톡시 또는 에톡시이고;
Rc는 메틸 또는 에틸이다.

Description

분산 아조 염료 및 이를 포함하는 혼합물{DISPERSE AZO DYES AND MIXTURES COMPRISING THESE DISPERSE AZO DYES}
본 발명은 분산 아조 염료, 그의 제조방법 및 소수성 합성 물질을 염색하고 날염하기 위한 그들의 용도에 관한 것이다.
또한, 본 발명은 분산 아조 염료 혼합물, 그의 제조방법 및 소수성 합성 물질을 염색하고 날염하기 위한 그들의 용도에 관한 것이다.
본 발명의 목적은 우수한 도포 특성을 갖는 분산 염료 및 우수한 도포 특성을 갖는 남색 내지 흑색의 분산 염료 혼합물을 제공하는 것이다.
상기 목적은 하기 화학식 I의 염료에 의해 달성된다:
Figure 112007088320855-PCT00001
상기 식에서,
Ra는 -C6H5-치환된 C1 -4-알킬이고;
Rb는 메톡시 또는 에톡시이고;
Rc는 메틸 또는 에틸이다.
특히 바람직한 화학식 I의 염료에서
Ra는 -C6H5-치환된 C1 -2-알킬이되, 특히 벤질이고;
Rb는 메톡시이고;
Rc는 메틸이다.
또한, 본 발명은 화학식 I의 염료를 제조하는 방법에 관한 것이다.
화학식 I의 신규한 염료를 제조하는 방법은, 하기 화학식 2의 다이아조화 아민과 하기 화학식 III의 화합물을 커플링(coupling)시키고, 추가 단계로 다이아조 성분 중 Br 치환체를 -CN으로 치환하는 것을 특징으로 한다:
Figure 112007088320855-PCT00002
Figure 112007088320855-PCT00003
다이아조화 및 커플링은 통상적으로 공지된 방법에 따라 수행될 수 있다. 다이아조 성분 중 Br 치환체의 -CN로의 치환은, Cu(I)-다이메틸 설폭사이드 복합제제 또는 문헌 및 당 분야 숙련자에게 공지된 기타 교환 방법에 의해 달성할 수 있다.
화학식 2 및 III의 화합물은 공지되어 있거나 또는 당 분야 숙련자에게 공지된 방법에 의해 공지된 화합물로부터 쉽게 제조할 수 있다.
또한 본 발명은 하나 이상의 화학식 I의 염료 및 추가의 분산 염료를 포함하는 염료 혼합물을 제공한다.
본 발명의 염료 혼합물은 하나 이상의 화학식 I의 염료 및 하나 이상의 화학식 II의 염료를 포함한다:
Figure 112007088320855-PCT00004
상기 식에서,
D는 치환되거나 치환되지 않은 방향족 아민으로부터 유래한 다이아조 성분이고;
K는 하기 화학식 K1, K2 또는 K3의 방향족 라디칼이고:
Figure 112007088320855-PCT00005
Figure 112007088320855-PCT00006
Figure 112007088320855-PCT00007
R1은 수소, 염소, C1 -2-알킬, C1 -2-알콕시, 하이드록실 또는 아실아미노이고;
R2는 수소, C1 -4-알콕시, C1 -2-알콕시에톡시, 염소, 브롬 또는 R3와 조합하여 화학식 -*CH(CH3)CH2C(CH3)2-(*는 모핵에 붙어있음)의 기를 형성하고;
R3은 수소, C1 -6-알킬, C3 -4-알케닐, 클로로- 또는 브로모-C3 -4-알케닐, C3 -4-알키닐, 페닐-C1 -3-알킬, C1 -4-알콕시카보닐-C1 -3-알킬, C3 -4-알케닐옥시카보닐-C1 -3-알킬, C3 -4-알키닐옥시카보닐-C1 -3-알킬, 페녹시-C2 -4-알킬, 할로, 사이아노-, C1 -4-알콕시-, C1 -4- 알킬카보닐옥시-, 또는 C1 -4-알콕시카보닐옥시-치환된 C2 -4-알킬 또는 화학식 -CH2-CH(R8)CH2-R9의 기이고;
R4는 수소 또는 C1 -2-알킬이고;
R5는 페닐, 또는 메틸, 염소, 브롬 및 나이트로로 구성된 군으로부터 선택된 1개 또는 2 개의 치환체에 의해 치환될 수 있는 페닐이거나, R4와 조합하여 c-펜탄온 또는 c-헥산온 고리를 형성하고;
R6은 수소 또는 하이드록실이고;
R7은 수소 또는 메틸이고;
R8은 하이드록실 또는 C1 -4-알킬카보닐옥시이고;
R9는 염소, C1 -4-알콕시, 페녹시, 알릴옥시 또는 C1 -4-알킬카보닐옥시이고;
Y는 C1 -3-알킬렌이며;
단, K가 화학식 K2 또는 K3의 라디칼인 경우, R3은 수소 이외의 의미는 없다.
화학식 II의 바람직한 염료의 군은 하기 화학식 IIa와 같다:
Figure 112007088320855-PCT00008
상기 식에서,
D1은 3-페닐-1,2,4-싸이아다이아졸일 또는 하기 화학식 중 하나이고:
Figure 112007088320855-PCT00009
여기에서,
(a)는 수소, 염소, 브롬, 사이아노, 나이트로-, C1 -4-알콕시카보닐, C1 -3-알킬-설포닐, 바람직하게는 수소, 염소, 사이아노 또는 나이트로이고,
(b)는 염소, 브롬, 나이트로, 메틸, C1 -2-알킬설포닐, C1 -4-알킬카보닐, 아미노설폰일, 모노- 또는 다이-C1 -4-알킬아미노설폰일, 페닐아미노설폰일, C1 -4-알콕시카보닐, 벤질옥시카보닐, 테트라하이드로푸르푸릴-2-옥시카보닐, C3 -4-알케닐옥시카보닐, C3 -4-알키닐옥시카보닐, 아미노카보닐, 모노- 또는 다이-C1 -4-알킬아미노카보닐, 페닐아미노카보닐 또는 페닐아조이고,
(c)는 수소 또는 염소이거나, 또는 (d)가 수소인 경우, 하이드록실 또는 로단이고;
(d)는 수소, 염소, 브롬, 하이드록실 또는 사이아노이고,
(e)는 나이트로, C1 -4-알킬카보닐, C1 -4-알콕시카보닐, 사이아노, 아미노카보닐, 모노- 또는 다이-C1 -4-알킬아미노카보닐이고,
(f)는 수소, 염소, 브롬, C1 -2-알킬 또는 페닐이고,
(g)는 나이트로, 사이아노, 포르밀, 다이사이아노비닐 또는 화학식 -CH=CH-NO2, -CH=C(CN)CO-OC1-4-알킬, H5C6-N=N- 또는 3- 또는 4-NO2-C6H4-N=N-이고,
(h)는 사이아노 또는 C1 -4-알콕시카보닐이고,
(i)는 C1 -4-알킬 또는 페닐이고,
(j)는 -CN, -CH=CH2 또는 페닐이고,
(k)는 C1 -4-알킬이고,
(l)은 수소, 염소, 브롬, 사이아노, 로단, 나이트로, C1 -4-알콕시카보닐 또는 다이-C1-4-알킬아미노설폰일이고,
(p)는 수소, 염소 또는 브롬이고,
(q)는 C1 -4-알킬 또는 C1 -4-알콕시카보닐-C1 -4-알킬이며,
이때, 이들 치환체의 페닐 핵은 염소, 브롬, 메틸 및 C1 -2-알콕시로 이루어진 군으로부터 선택된 1개 또는 2개의 치환체를 가질 수 있고;
R'1은 수소, 메틸, 염소 또는 아실아미노이고;
R'2는 수소, 염소, C1 -2-알콕시, 또는 C1 -2-알콕시에톡시이거나, 또는 R3과 조합하여 화학식 -CH(CH3)CH2C(CH3)2-의 기를 형성하고;
R3 및 R5는 각각 상기에서 정의한 바와 같고;
R'4는 수소 또는 메틸이고;
Y는 화학식 -CH2CH2- 또는 -CH2CH(CH3)-의 기이다.
하기 화학식 IIb의 분산 염료가 특히 바람직하다:
Figure 112007088320855-PCT00010
상기 식에서,
D2는 2,6-다이사이아노-4-클로로-, 2,6-다이사이아노-4-브로모-, 2,6-다이사이아노-4-메틸, 2,6-다이사이아노-4-나이트로페닐, 2,4-다이나이트로-6-클로로-, 2,4-다이나이트로-6-브로모- 또는 2,4-다이나이트로-6-사이아노페닐, 2-클로로-4-나이트로-6-사이아노페닐, 2-브로모-4-나이트로-6-사이아노페닐, 2,4-다이나이트로페닐, 2,6-다이클로로-4-나이트로페닐, 2,6-다이브로모-4-나이트로페닐, 2-클로로-4-나이트로-6-브로모페닐, 2-클로로-4-나이트로페닐, 2-사이아노-4-나이트로페닐, 2,4-다 이나이트로-5,6-다이클로로페닐, 2,5-다이클로로-4-나이트로페닐, 4-나이트로페닐, 4-페닐아조페닐, 4-C1 -4-알콕시카보닐페닐, 2-C1 -4-알콕시카보닐-4-나이트로페닐, 4-벤질옥시카보닐페닐, 4-(테트라하이드로푸르푸릴-2'-옥시카보닐)페닐, 3,5-다이사이아노-4-클로로-싸이엔일-2, 3,5-다이사이아노-싸이엔일-2, 3-사이아노-5-나이트로-싸이엔일-2, 3-아세틸-5-나이트로-싸이엔일-2, 3,5-다이나이트로-싸이엔일-2,3-(C1-4-알콕시카보닐)-5-나이트로-싸이엔일-2, 5-페닐아조-3-사이아노-싸이엔일-2, 5-페닐아조-3-사이아노-4-메틸-싸이엔일-2, 5-나이트로-싸이아졸일-2, 5-나이트로벤조아이소-싸이아졸일-3, 3-메틸-4-사이아노-아이소싸이아졸일-5, 3-페닐-1,2,4-싸이아다이아졸일-2, 5-(C1 -2-알킬머캡토)-1,3,4-싸이아다이아졸일-2, 3-(C1 -2-알콕시카보닐에틸-머캡토)-1,2,4-싸이아다이아졸일-5, 1-사이아노메틸-4,5-다이사이아노-이미다졸일-2, 6-나이트로벤조싸이아졸일-2, 5-나이트로벤조싸이아졸일-2, 6-로단벤조싸이아졸일-2, 6-클로로벤조싸이아졸일-2, (5),6,(7)-다이클로로벤조싸이아졸일-2 또는 하기 화학식의 다이아조 성분의 잔기이고:
Figure 112007088320855-PCT00011
[상기 식에서,
B는 산소 또는 화학식 =(CN)2, =CN-NO2, =(CN)-COOC1 -4-알킬 또는 =(CN)-COOC3 -4-알케닐의 기이다];
R'1, R'2, R3, R'4, R5 및 Y는 각각 상기에서 정의한 바와 같다.
추가로 화학식 II의 분산 염료로서 특히 바람직한 것은,
D가 2,4-다이나이트로-6-클로로페닐, 2,4-다이나이트로-6-브로모페닐, 2,4-다이나이트로-6-사이아노페닐 및 2,6-다이사이아노-4-나이트로페닐로 이루어진 군으로부터 선택된 다이아조 성분이고;
K가 화학식 K1의 라디칼이고;
R1이 브롬, 염소, 하이드록실 또는 C1 -2-알콕시로 치환되거나 치환되지 않는 C1 -2-알킬카보닐아미노, 페닐아미노카보닐, 메틸설폰일아미노, 메틸 또는 수소이고;
R2가 C1 -2-알콕시 또는 수소이고;
R3이 수소, C1 -4-알킬, 사이아노에틸, C1 -2-알콕시에틸 또는 C3 -4-알케닐이고;
R4가 수소이고;
R5가 페닐이고;
Y가 화학식 -CH2CH2-의 기인 것이다.
유용한 다이아조 성분은 특히 수용성 치환체, 즉 특히 설폰산 기를 제외한 통상적인 분산 염료 치환체를 가질 수 있는 모든 1핵 내지 2핵 탄소환식 또는 이종환식 유기 라디칼 또는 방향족 특성의 잔기를 포함한다. 유용한 다이아조 성분은 추가로 모노아조 화합물의 잔기를 포함한다. 다이아조 성분의 예는 바람직하게는 치환된 페닐, 싸이엔일, 싸이아졸일, 아이소싸이아졸일, 싸이아다이아졸일, 피라졸 일, 이미다졸일, 트라이아졸일, 벤조싸이아졸일 또는 벤즈아이소싸이아졸일 라디칼이다.
달리 언급되지 않는 한, 언급된 모든 알킬기는 1 내지 8 및 특히 1 내지 4 개의 탄소 원자를 포함하고, 이들은 직쇄 또는 분지쇄일 수 있고, 예를 들면 할로겐 원자, 바람직하게는 브롬 또는 염소 원자, 하이드록실, 알콕시, 페닐, 페녹시, 사이아노, 로단, 아실, 아실옥시 또는 아실아미노기로 치환될 수 있다.
Y 연결 고리(interlink)는 바람직하게는 화학식 -CH2CH2- 또는 -CH2CH(CH3)-, 특히 -CH2CH2-의 기이다.
달리 언급되지 않는 한, 모든 알킬, 알킬렌 및 알케닐 라디칼은 직쇄이다.
화학식 II의 염료를 제조하는 방법은 하기 화학식 AII의 다이아조화 아민을 하기 화학식 BII의 화합물과 커플링시키는 것을 특징으로 한다:
D-NH2
H-K
다이아조화 및 커플링은 통상적으로 공지된 방법에 따라 수행된다.
화학식 AII 및 BII의 화합물은 공지되어 있거나, 또는 당 분야 숙련자에게 공지된 방법에 의해 공지된 화합물로부터 쉽게 제조된다.
본 발명자들은 하나 이상의 화학식 I의 염료 및 하나 이상의 화학식 Ⅲ의 염 료를 포함하는 염료 혼합물을 추가로 발견하였고, 이때 화학식 Ⅲ의 염료는, R5가 -O-R6 치환체이고, R6이 페닐 또는 메틸, 염소, 브롬 및 나이트로 기로 구성된 군으로부터 선택된 1개 또는 2개의 치환체로 치환된 페닐이거나 R4와 조합하여 c-펜탄온 또는 c-헥산온 고리를 형성하는, 화학식 II의 염료에 해당한다.
화학식 III의 염료는 예를 들면 영국 특허 제 2271573 호 또는 독일 특허 제 4335261 호에 공지되어 있다.
본 발명자들은 하나 이상의 화학식 I의 염료 및 하나 이상의 하기 화학식 IV의 염료를 포함하는 염료 혼합물을 추가로 발견하였다:
Figure 112007088320855-PCT00012
상기 식에서,
R'a는 C1 -4-알킬 또는 화학식 -A'-O-R'b의 기이고;
R'b는 페닐 또는 나프틸 또는 C1 -4-알킬 또는 할로겐-치환된 페닐 또는 C1 -4-알킬- 또는 할로겐-치환된 나프틸이고;
R'c는 C1 -4-알킬 또는 페닐 또는 C1 -4-알킬 또는 할로겐-치환된 C1 -4-알킬 또는 페닐이 고;
A'는 C1 -4-알킬이다.
바람직하게는,
R'a는 C1 -4-알킬이고;
R'b는 페닐 또는 나프틸 또는 메틸-, 에틸-, 또는 할로겐-치환된 페닐 또는 메틸-, 에틸- 또는 할로겐-치환된 나프틸이고;
R'c는 메틸 또는 에틸 또는 페닐 또는 메틸-, 에틸- 또는 할로겐-치환된 메틸 또는 에틸 또는 페닐이고;
A'는 에틸렌이다.
화학식 IV의 염료는 예를 들면 영국 특허 제 1395022 호에 공지되어 있다.
본 발명자들은 하나 이상의 화학식 I의 염료 및 하나 이상의 하기 화학식 V의 염료를 포함하는 염료 혼합물을 추가로 발견하였다:
Figure 112007088320855-PCT00013
상기 식에서,
Y'는 C1 -3-알킬엔이고;
R10은 페닐 또는 메틸-, 에틸- 또는 할로겐-치환된 페닐이고;
R11은 수소 또는 C1 -4-알킬 또는 C1 -4-알콕시이고;
R12는 수소 또는 C1 -4-알킬 또는 C1 -4-알콕시이고;
R13은 수소 또는 C1 -4-알킬 또는 C1 -4-알콕시이고;
R14는 C1 -4-알킬이다.
R11, R12 및 R13은 각각 독립적으로 바람직하게는 수소이다. R14는 바람직하게는 n-부틸이다. Y는 바람직하게는 에틸렌이다.
화학식 V의 염료는 예를 들면 영국 특허 제 2300863 호 또는 독일 특허 제 19618586 호에 공지되어 있다.
본 발명자들은 하나 이상의 화학식 I의 염료 및 하나 이상의 하기 화학식 VI의 염료를 포함하는 염료 혼합물을 추가로 발견하였다:
Figure 112007088320855-PCT00014
상기 식에서,
R15는
Figure 112007088320855-PCT00015
이고;
R16은 수소 또는 C1 -4-알킬 또는 C1 -4-알콕시이고;
R17은 수소 또는 C1 -4-알킬 또는 C1 -4-알콕시 또는 브롬 또는 염소이고;
R18은 수소 또는 C1 -4-알킬 또는 C1 -4-알콕시 또는 브롬 또는 염소이고;
Y''는 C1 -4-알킬렌이고;
n은 1 또는 2 또는 3 또는 4이고;
m은 0 또는 1이다.
화학식 VI의 바람직한 화합물에서 n은 2이다. 바람직한 화합물에서, R16은 수소 또는 C1 -4-알킬이고, 가장 바람직하게는 R16은 수소이며, R16 및 R17은 각각 독립적으로 수소 또는 C1 -4-알킬 또는 브롬 또는 염소이고, 가장 바람직하게는 R16 및 R17은 각각 독립적으로 수소 또는 브롬 또는 염소이다. Y''는 바람직하게는 에틸렌 기이다.
화학식 VI의 염료는 예를 들면 영국 특허 제 2287035 호 또는 독일 특허 제 19500228 호에 공지되어 있다.
바람직하게 할로겐은 염소 또는 브롬이고, 가장 바람직하게는 할로겐은 염소 치환체이다.
본 발명은 하나 이상의 화학식 I의 염료 및 부가적으로 화학식 II의 염료 및/또는 화학식 III의 염료 및/또는 화학식 III의 염료 및/또는 화학식 IV 염료 및/또는 화학식 V의 염료 및/또는 화학식 VI의 염료를 포함하는 염료 혼합물을 추가로 제공한다. 적당하다면, 추가의 염료가 본 발명의 혼합물에 존재할 수도 있다.
본 발명은 하나 이상의 화학식 I의 염료 및 하나 이상의 화학식 II의 염료 및 하나 이상의 화학식 III의 염료 및 부가적으로 화학식 III의 염료 및/또는 화학식 IV 염료 및/또는 화학식 V의 염료 및/또는 화학식 VI의 염료를 포함하는 염료 혼합물을 추가로 제공한다. 적당하다면, 추가의 염료가 본 발명의 혼합물에 존재할 수도 있다.
바람직하게, 본 발명의 염료 혼합물은 염료 분획의 총 합이 100%이라는 가정하에, 염료의 총량을 기준으로 하여 1 내지 99중량%, 더욱 바람직하게는 1 내지 80중량%, 특히 5 내지 60중량%의 하나 이상의 화학식 I의 염료 및 1 내지 99중량%, 더욱 바람직하게는 5 내지 60중량%, 특히 5 내지 40중량%의 하나 이상의 화학식 II, III, IV, V 또는 VI 염료를 포함한다.
본 발명의 염료 혼합물은 특히 상기에 개시한 혼합비 내에서 매우 우수한 흡수성(exhaustion) 및 높은 광 견뢰도에 주목할 만한 남색을 유도한다.
본 발명의 혼합물은 특히 우수한 승화 견뢰도 및 양호한 흡수성에 주목할 만하다. 본 발명의 혼합물로 염색된 폴리에스테르-엘라스틴 배합 직물은 특히 우수한 세척 견뢰도에 주목할 만하다. 본 발명의 혼합물로 염색된 폴리에스테르-엘라스틴 배합 직물은 인접한 나일론 직물, 특히 나일론 6.6, 또는 아세테이트를 착색 시키지 않는다. 본 발명의 혼합물로 염색된 폴리에스테르-엘라스틴 배합 직물은 반복세척 후 황색 색조를 띄지 않는다. 본 발명의 혼합물로 염색된 기질은 50℃에서 ISO 105/C06 세척 조건 및 또한 60℃에서 ISO 105/C06 세척 조건 하에서 우수한 견뢰도를 나타낸다. 본 발명의 혼합물은 높은 빌드업(build-up)력에 주목할 만하고, 이는 매우 진한 어두운 색, 특히 진한 흑색을 유도한다.
또한 본 발명의 염료 혼합물은 분산 염료를 추가로 포함한다.
본 발명은 또한 본 발명의 혼합물을 제조하는 방법을 제공하고, 이 방법은 염료 I을 염료 II 및/또는 III 및/또는 III 및/또는 IV 및/또는 V 및/또는 VI 및 적당하다면 추가의 염료와 조합한 염료 혼합물의 개별 염료를 분산제의 존재하에 물에서 분쇄한 후 혼합하고, 적당하다면 건조하는 것을 특징으로 하거나, 또는 염료 I을 염료 II 및/또는 III 및/또는 III 및/또는 IV 및/또는 V 및/또는 VI 및 적당하다면 추가의 염료를 혼합하고 분산제의 존재하에 물에서 분쇄하고 적당하다면 건조하는 것을 특징으로 한다.
화학식 I과 II 및/또는 III 및/또는 III 및/또는 IV 및/또는 V 및/또는 VI의 염료 및 적당하다면 하나 이상의 추가의 염료로 구성된 본 발명에 따른 염료 혼합물은 상기 성분들을 간단히 혼합함으로써 제조 가능하다. 상기 혼합은 별도로 완성된 개별 성분들을 염색액 내에서 혼합하거나, 또는 그밖에 바람직하게는, 혼합되어 함께 완성된 개별 성분들의 압착 덩어리(presscake)에 의해 수행될 수 있다.
완성물은 염료가 분산제의 존재하에 분쇄 작업에 의해 수성 분산액, 즉 액체 염료 제형으로 전환되거나, 또는 건조 후 가루형태의 염료 제형으로 전환되는 것을 특징으로 하고, 이때 개별 염료는 처음에 별도로 완성된 후 혼합되거나 또는 개별 염료는 처음에 혼합되고 난 후 함께 완성될 수 있다. 상기 분쇄는 바람직하게는 밀(mill), 예를 들면 볼밀, 스윙밀, 비드밀 또는 샌드밀에서 수행되거나, 또는 반죽기(kneader)에서 수행된다. 분쇄 후, 염료 입자의 크기는 바람직하게는 약 0.1 내지 10㎛, 특히 약 1㎛이다. 분쇄는 바람직하게는 비이온 또는 음이온-활성일 수 있는 분산제의 존재 하에서 수행된다. 비이온 분산제는 예를 들면 지방 알콜, 지방 아민, 지방산, 페놀, 알킬페놀 및 카복스아마이드와 같은 알킬화될 수 있는 화합물과 산화에틸렌 또는 산화프로필렌과 같은 산화 알킬렌의 반응산물이다. 음이온-활성 분산제는 예를 들면 리그닌설포네이트 및 그의 염, 알킬- 또는 알킬아릴설포네이트, 알킬아릴 폴리글리콜 에테르 설페이트, 나프탈렌설폰산 및 포름알데하이드의 축합 생성물의 알칼리 금속 염, 폴리비닐설포네이트 및 에톡실화된 노볼락을 들 수 있다.
따라서 본 발명은 또한 본 발명의 염료 혼합물 10 내지 60중량% 및 분산제 40 내지 90중량%를 포함하는 염료 제형을 제공한다.
염료 제형은 액체 또는 고체 형태로 존재할 수 있고, 액체 제형인 경우 바람직하게는 수성 염료 분산액으로 존재하고, 고체 제형인 경우 분말 또는 과립으로 존재한다.
바람직한 수성 염료 제형은 물, 분산 제형을 기준으로 하여 15 내지 50중량%의 본 발명의 염료 혼합물 및 10 내지 25중량%의 분산제를 포함한다.
상기 언급한 비이온 및 음이온 분산제가 바람직한 분산제이다.
또한 본 발명의 염료 제형은 추가의 보조제, 예를 들면 산화제로 작용하는 것, 예를 들면 소듐 m-나이트로벤젠설포네이트, 또는 살진균제, 예를 들면 소듐 o-페닐펜옥사이드 및 소듐 펜타클로로펜옥사이드를 포함한다. 또한 습윤제, 항동결제, 방진제 또는 친수제가 존재할 수 있다.
고체 제형, 예를 들면 가루형 또는 과립형 종류가 바람직한 특정 적용 분야가 있다. 바람직한 고체 염료 제형은 본 발명의 염료 혼합물 30 내지 50중량% 및 분산제 70 내지 50중량%를 포함한다.
적당하다면 이들은 보조제, 예를 들면 습윤제, 산화제, 보존제 및 방진제를 추가로 포함한다.
고체 염료 제형의 바람직한 제조방법은 상기 언급한 액체 염료 제형의 액체를 제거하는 것을 포함하고, 예를 들면 증기 건조, 동결 건조, 드럼 건조기에 의한 건조, 바람직하게는 분무 건조에 의해 수행된다.
그러나, 본 발명의 염료 혼합물은 바람직하게는 혼합 성분의 공동 완성(cojoint finishing)에 의해서 생산 가능하다.
마지막으로, 상기 혼합 성분들은 상기에서 언급한 적합한 혼합 비율로 분쇄 작업에 의해 물에서 분산되고, 적당하다면 물을 제거함으로써 고체 염료 제형으로 전환된다.
염료 제형의 특성을 향상시키기 위하여, 혼합한 성분을 분쇄하기 전에 열처리하는 것이 유리하다. 열처리는 25 내지 98℃, 바람직하게는 30 내지 80℃, 더욱 바람직하게는 40 내지 60℃에서 수행된다. 열처리 후 중간 단리 없이 최종 작업, 즉 상업적인 고체 또는 액체 제형으로의 전환을 바로 수행하는 것이 유리하다. 이러한 목적으로, 열처리된 현탁액을 분쇄를 통해 분산액으로 전환시킨다. 상기 열처리는 완성된 고체 또는 액체 제형에 존재할 분산제 및 또한 적당하다면 보조제의 존재 하에서 수행되는 것이 유리하다. 이들은 상기 언급한 표면-활성 물질에 동일하다. 이러한 분산제 및 보조제의 총량이 열처리 동안 첨가되지 않았다면, 나머지를 분쇄 전에 첨가한다. 이 경우에, 열처리를 위해 첨가되는 표면-활성 물질의 양은 통상적으로 염료 혼합물을 기준으로 하여 10 내지 400중량%, 바람직하게는 20 내지 200중량%의 범위이다.
염색액을 제조하기 위하여, 상기 지시에 따라 제조된 필요량의 염료 제형을 염색 매질, 바람직하게는 물로 5:1 내지 50:1의 범위의 액체 비율로 희석한다. 또한, 통상적으로 상기 액에 추가의 염색 보조제, 예를 들면 담체, 분산제 및 습윤제를 첨가한다.
본 발명의 염료 혼합물을 텍스타일 날염에 사용하는 경우, 필요량의 염료 제형을 바람직하게는 비후제(thickner), 예를 들면 알칼리 금속 알기네이트 등과, 또한 적당하다면 추가의 보조제, 예를 들면 고정 강화제, 습윤제 및 수화제와 함께 반죽하여 날염 페이스트를 형성한다.
본 발명의 염료 혼합물은 추가의 염료를 부수적으로 포함할 수 있고, 소수성 합성 물질을 염색 및 날염하는데 매우 적합하다. 유용한 소수성 합성 물질은 예를 들면 셀룰로스 트라이아세테이트 및 고분자량 폴리에스테르를 포함한다. 바람직하게, 본 발명의 염료 혼합물은 고분자량 폴리에스테르로 구성된 염색 및 날염 물질, 특히 폴리에틸렌 글리콜 테레프탈레이트를 기초로 한 것 또는 이들과 천연 섬유 물질, 예를 들면 특히 울 또는 셀룰로스와의 배합물, 또는 셀룰로스 트라이아세테이트로 구성된 물질을 염색 및 날염하는데 유용하다. 본 발명의 염료 혼합물은 특히 폴리에스테르-폴리우레탄 결합 직물 및 폴리에스테르-폴리우레탄 배합 섬유 직물을 염색 및/또는 날염하는데 특히 적합하다.
소수성 합성 물질은 시트형(sheet)- 또는 실형(threadlike)의 구조로 존재할 수 있고, 예를 들면 방적사(yarn), 또는 직물, 편환-형성식(loop-formingly)으로 뜨개질되거나 또는 편환-드로잉식(loop-drawingly)으로 뜨개질된 텍스타일 물질로 가공된다. 본 발명의 염료 혼합물로 상기 언급한 섬유 물질을 염색하는 것은 통상적인 방법, 바람직하게는 수성 분산액으로부터 적당하다면 담체의 존재하에 80 내지 약 110℃에서 염착(exhaust) 공정에 의해서 또는 약 110 내지 140℃의 염색 멸균기내에서 HT 공정에 의해서 수행될 수 있으며, 또한 소위 열고정(thermofixing) 공정에 의해서도 수행되는데, 여기서 섬유는 염색액으로 패딩(padding)한 후 약 180 내지 230℃에서 고정된다. 상기 물질의 날염은 본 발명의 염료 혼합물을 날염 페이스트에 혼합하고 이것으로 날염된 직물을 HT 증기 또는 180 내지 230℃의 온도의 건조한 열로, 적당하다면 담체의 존재 하에서, 처리하여 염료를 고정시키는 통상적인 방식으로 수행될 수 있다. 이것은 매우 진한 황록색, 남색 또는 흑색, 특히 진한 남색 또는 흑색의, 매우 우수한 견뢰도, 특히 매우 우수한 광, 마찰, 열고정, 세척, 물 및 승화 견뢰도를 갖는 염색 및 날염을 제공한다. 본 발명의 염료 혼합물을 염색 및/또는 날염하는 통상적인 염색 공정은 예를 들면 문헌[M. Peter and H.K. Rouette: "Grundlagen der Testilveredelung; Handbuch der Technologie, Verfahren und Maschinen", thirteenth, revised edition, 1989, Deutscher Fachverlag GmbH, Frankfurt am Main, Germany, ISBN 3-87150-277-4, 여기서 특히 관련된 페이지는 다음과 같다: 페이지 460-461, 482-495, 556-566 및 574-589]에 개시되어 있다.
본 발명의 염료 혼합물은 염색 및 패딩 액체 및 날염 페이스트를 제조할 때, 우수한 습윤 특성을 나타내고, 값비싸고 불편한 수동식 또는 기계식 교반 없이도 빠르게 분산될 수 있다. 상기 액체 및 날염 페이스트는 균질하고, 또한 노즐을 막히게 하지 않으면서, 최신 염색소 약품가게에서 가공하기 쉽다.
본 발명의 액체 제형은 상 분리될 경향 및 특히 침전되며 접착 침착물을 형성하는 경향이 없다. 그러므로 염료 제거 이전에 콘테이너에서 유사하게 값비싸고 불편한 염료의 균질화를 이룰 필요가 없다.
고체 제형의 생산과정에서 분산제 및 보조제의 존재 하에서 염료를 분쇄한 후 수득된 밀베이스(millbase)는 승온 및 연장된 기간동안 안정하다. 밀베이스는 밀에서 또는 밀로부터 제거된 후에 냉각될 필요가 없고, 분무 건조 이전에 연장된 기간 동안 수거 용기에 저장될 수 있다.
또한 본 발명의 염료 혼합물의 열 안정성은, 분무 건조작업이 고온에서 응집(agglomeration)되며 건조되는 물질 없이 실행될 수 있다는 사실로부터 명백하다. 소정의 건조기 출구 온도, 더 높은 입구 온도는 더 높은 건조기 성능을 나타내게 하고 따라서 제조 비용을 낮추는 결과를 낳는다.
상기에서 기술한 염료 제형은 날염 페이스트 및 염료액을 제조하는데 매우 유리하게 유용하다. 이들은 예를 들면 염색액의 염료 농도가 작업 장치 내로 지속적으로 염료를 공급함으로써 일정하게 유지되어야 하는 지속 공정과 관련하여 특히 이점을 제공한다.
본 발명의 염료 혼합물의 잇점은, 최신의 상업적 조건 하에서 수성 염욕으로부터 염색할 때 특히 뚜렷하다.
최신의 상업적 조건은, 패키지(package) 및 빔(beam) 염색에서의 높은 팩(pack) 밀도, 부족한 액체 비율, 즉 높은 염료 농도, 및 높은 펌핑(pumping)력으로 인한 염색액 내의 높은 전단력에 의해서 특징되어 진다. 심지어 이러한 조건 하에서도 본 발명의 염료 혼합물은 응집되지 않고, 염색될 텍스타일 물질 상에서 여과되지도 않는다. 따라서, 수득한 염색은 균질하고, 감긴 패키지의 안쪽 및 바깥쪽 코일간에 색상 농도의 차이가 없고, 염색은 임의의 침전물도 함유하지 않는다. 본 발명의 염료 혼합물을 이용한 패드 염색 및 날염은 균질하고, 얼룩 없는 외관을 만든다.
또한 본 발명의 염료 혼합물은 공지된 용매-염색 방법에 의해서 유기 용매로부터 상기 언급한 소수성 물질을 염색하고 대량 착색하는데 유용하다.
따라서, 또한 본 발명은 소수성 합성 물질, 특히 섬유 물질을 염색 및 날염하고, 소수성 합성 물질을 대량 착색하기 위한 본 발명의 염료 혼합물의 용도를 제공한다.
하기 실시예로 본 발명을 예시한다. 달리 언급하지 않는 한, 본원, 실시예 및 청구항에서의 부 및 %는 중량에 의한다.
실시예 I-1
다이아조화
적당한 반응 용기에 황산(100%) 112.3g, 얼음 5.7g을 넣고 1-아미노-2-브로모-4,6-다이나이트로아닐린 52.4g을 온도가 40℃를 넘지 않게 하는 방식으로 20분 동안 점차적으로 첨가하였다. 생성된 현탁액을 하룻밤동안 교반하고, 다음날 나이트로실황산(40%) 65.5g을 40-45℃에서 30분 이내로 첨가하고, 이 혼합물을 1시간 더 추가로 교반하였다.
커플링
교반기가 장착된 2L 유리 비커에 1:1 에탄올/아세트산 64.7g에 용해된 3-(N-벤질-N-사이아노에틸아미노)-4-메톡시-1-아세트아닐라이드 54.7g의 용액을 넣고, 여기에 아미노설폰산 1.0g, 설피놀 104E(Sulfynol 104E)(2,4,7,9-테트라메틸-5-데킨-4,7-다이올) 1.6g 및 얼음 100g을 -10 내지 -5℃의 온도에서 교반하며 첨가하였다.
상기로부터 제조된 다이아조늄 염 용액을 60분 이내로 완전히 교반하면서 적가하고, 온도가 -5 내지 0℃로 유지되도록 얼음 400g을 조금씩 첨가하였다.
다이아조늄 염 용액을 완전히 첨가하였을때 온도가 점차적으로 약 15℃로 올라가도록 두었다.
생성된 산물을 여과하고, 세척액에 황산염이 존재하지 않을 때까지 물로 세척하였다.
하기 염료를 중간체(ZP)로서 수득하였다:
Figure 112007088320855-PCT00016
사이안화( cyanation )
DMSO(dimethyl sulphoxide) 220g을 질소 존재하의 적당한 반응기 용기 내로 전달하고, 약 75℃로 가열하였다. 소듐 사이아나이드(NaCN) 2.45g을 교반하며 첨가한 후, 용액이 형성될 때까지 15분 동안 교반하였다. 이어 사이안화구리(I)(Cu(I)CN) 4.48g을 첨가하였다. 이 과정에서 온도를 약 80℃로 올렸다.
1M 포스페이트 완충액 1g을 상기 용액에 첨가하고, 완전히 교반하면서 중간체(ZP) 54.25g을 90℃에서 90분동안 점차적으로 첨가한 후, 온도를 90℃로 1 내지 2시간 동안 더 유지하였다. 이후, 황산(50%) 1.4g을 첨가하였다. 이 과정에서 반응 혼합물의 온도는 약 60℃로 감소하였다.
이후 현탁액을 여과하고, 여과 잔류물을 DMSO 33.0g 및 물 6.0g으로 세척하였다.
여과덩어리(filtercake)를 55℃의 뜨거운 물 200g 및 염화철(III) 0.81g의 혼합물 내로 도입시켰다. 상기 현탁액을 65℃에서 매우 철저하게 2시간 동안 교반 한 후 여과하고 물로 세척하였다.
그 결과 41.1g(85%)의 화학식 1의 염료를 얻었다:
Figure 112007088320855-PCT00017
수득된 염료는 청색이고, 627nm의 람다 최대값(DMF에서 측정함)(λmax(DMF))을 가졌다.
표 1은 하기 화학식 I의 추가의 염료를 개시하고, 이들은 실시예 I과 유사한 방식으로 제조된다:
[화학식 I]
Figure 112007088320855-PCT00018
Figure 112007088320855-PCT00019
실시예 1
2-사이아노-4-나이트로아닐린 16.3부를 차가운 황산(93%) 100부에 현탁하고 0 내지 5℃에서 30분동안 나이트로실황산(40%) 32부와 혼합하였다. 이어서, 0 내지 5℃에서 3 내지 4시간동안 교반하고, 이어서 생성되는 다이아조늄 염 용액을 교반하면서, 페닐카보닐메틸 3-(N-메틸-N-페닐아미노)-프로피오네이트 29.7부, 빙초산 100부, 설팜산 2부, 물 200부 및 얼음 300부의 혼합물에 붓는다. 침전된 염료를 여과하고, 물로 세척하여 산을 제거하고, 감압하에 60℃에서 건조하였다. 수득된 염료는 하기 화학식의 구조를 갖는다:
Figure 112007088320855-PCT00020
상기 염료는 폴리에스테르 섬유 물질을 우수한 견뢰도, 특히 열 안정화 후의 매우 양호한 습윤 견뢰도를 갖는 진홍색으로 염색하고, 단독으로 또는 혼합물로, 예를 들어 포론(Foron, 등록상표명) RD 방법과 같은 최신의 고속-염색 방법에 매우 유용하다. λmax = 530nm(DMF)
실시예 2
2-브로모-4,6-다이나이트로아닐린 26.2부를 15 내지 20℃에서 황산(93%) 150부에 현탁하고, 30분동안 나이트로실황산(40%) 32부와 혼합한다. 이어서, 2 내지 3시간동안 교반하고, 다이아조늄 염 용액을 교반하면서 페닐카보닐메틸 3-(N-에틸-N-(3'-아세틸아미노-페닐아미노))프로피오네이트 36.8부, 빙초산 100부, 설팜산 2부, 물 100부 및 얼음 200부의 혼합물에 연속적으로 붓는다. 침전된 염료를 여과하고, 물로 세척하여 산을 제거하고, 감압하에 60℃에서 건조하였다. 수득된 염료는 하기 화학식의 구조를 갖고, 폴리에스테르 섬유 물질을 우수한 견뢰도를 갖는 자색으로 염색한다:
Figure 112007088320855-PCT00021
λmax = 559nm(DMF)를 갖는 이 염료는 단독으로 또는 남색 또는 흑색 혼합물로, 예를 들어 포론(등록상표명) RD 방법과 같은 최신의 고속-염색 방법에 매우 유용하다.
실시예 3
2-브로모-4,6-다이나이트로아닐린-1-아조 염료(실시예 2에 따라 제조됨) 64.1부 및 포타슘 요오다이드 1부를 60℃에서 다이메틸 설폭사이드 200부에 현탁하고, 사이안화구리(Ⅰ) 9.8부와 혼합하고, 2 내지 3시간동안 교반한다. 반응 산물을 약 50℃에서 여과하고, 1:1 DMSO/물 50부로 나누어 세척하고, 감압하에 60℃에서 건조한다. 수득된 염료는 하기 화학식의 구조를 갖고, 폴리에스테르 섬유 물질을 우수한 견뢰도, 특히 우수한 습윤 견뢰도를 갖는 청색으로 염색한다:
Figure 112007088320855-PCT00022
λmax = 604nm(DMF)를 갖는 이 염료는 단독으로 또는 남색 또는 흑색 혼합물로, 예를 들어 포론(등록상표명) RD 방법과 같은 최신의 고속-염색 방법에 매우 유용하다.
실시예 4
2-아미노-4-클로로-5-포르밀싸이아졸 16.3부를 황산(93%) 100부에 용해시키고 0 내지 5℃에서 30분동안 나이트로실황산(40%) 32부와 혼합한다. 이어서, 빙욕에서 3시간동안 교반하고, 다이아조늄 염 용액을 페닐카보닐메틸 3-[N-알릴-N-(5'-아세틸아미노-2'-메톡시-페닐아미노)]-프로피오네이트 41.0부, 빙초산 100부, 설팜산 2부 및 얼음/물 300부의 혼합물에 연속적으로 붓는다. 침전된 염료를 여과하고, 물로 세척하여 산을 제거하고, 감압하에 60℃에서 건조한다. λmax가 625nm(DMF)인 수득된 염료는 하기 화학식의 구조를 갖고, 폴리에스테르 물질을 녹색을 띤 남색으로 염색하고, 매우 양호한 견뢰도를 갖는, 개별 염료 또는 남색 및 흑색의 혼합물로서 포론(등록상표명) RD 고속-염색 방법에 유용하다:
Figure 112007088320855-PCT00023
실시예 5
2-아미노-4-클로로-3-사이아노-5-폼일싸이오펜 18.6부를 차가운 황산(85%) 200부에 용해시킨다. 나이트로실황산(40%) 32부를 0 내지 5℃에서 30분동안 교반하면서 적가한다. 이어서, 빙욕에서 3시간동안 교반하고, 다이아조늄 염 용액을 페닐카보닐메틸 3-[N-에틸-N-(3'-메틸페닐아미노)]-프로피오네이트 32.5부, 황산(5%) 50부, 설팜산 2부 및 얼음 300부의 혼합물에 연속적으로 붓는다. 침전된 염료를 여과하고, 물로 세척하여 산을 제거하고, 감압하에 60℃에서 건조한다. λmax가 610nm(DMF)인 수득된 염료는 하기 화학식의 구조를 갖고, 폴리에스테르 물질을 양호한 견뢰도를 갖는 밝은 적색을 띤 청색으로 염색한다:
Figure 112007088320855-PCT00024
하기 표 2는 실시예 1 내지 5와 유사한 방식으로 제조되는 하기 화학식 IIc의 추가의 염료를 개시한다:
Figure 112007088320855-PCT00025
Figure 112007088320855-PCT00026
Figure 112007088320855-PCT00027
Figure 112007088320855-PCT00028
Figure 112007088320855-PCT00029
혼합물 실시예
실시예 M1
a) 실시예 I-1의 염료(1) 30.2g과 실시예 1의 염료 25.0g을 물 300ml 및 리그닌설포네이트(나트륨 염) 53g과 함께 비드밀 또는 샌드밀에서 3시간동안 분쇄한 후 분무 건조하였다(입구 온도 130℃, 출구 온도 60℃). 이렇게 얻어진 약 0.7중량%의 잔류 함습량을 갖는 분말(약 100g)은 물에 쉽게 분산될 수 있다.
b) 상기에서 제조한 분말 0.4g을 폴리에스테르 텍스타일 물질 10g과 함께 pH 4.5 및 130℃에서 60분동안 정상적인 HT 염색 공정으로 처리하였다. 세척하고 헹구고 건조한 후, 매우 우수한 견뢰도를 갖는 청색 폴리에스테르 염색물을 얻었다.
실시예 M2
실시예 I-1의 염료(1) 26g 및 실시예 2의 염료 21g을 사용한 것을 제외하고는, 실시예 M1을 반복하여 폴리에스테르-염색에 사용되는 추가 염색 혼합물을 제조하였다. 매우 우수한 견뢰도를 갖는 청색 폴리에스테르 염색물을 얻었다.
실시예 M3
실시예 I-1의 염료(1) 26g 및 실시예 3의 염료 21g을 사용한 것을 제외하고는, 실시예 M1을 반복하여 폴리에스테르-염색에 사용되는 추가 염색 혼합물을 제조하였다. 매우 우수한 견뢰도를 갖는 청색 폴리에스테르 염색물을 얻었다.
혼합 실시예 M1 내지 M3에서 기술된 것과 동일한 방법으로, 상기에 기술된 실시예 I-1의 염료(1) 대신 실시예 I-2 내지 실시예 I-5의 염료가 사용될 수 있다.
실시예 M4
실시예 M1을 반복하여 폴리에스테르 염색에 사용되는 추가의 염료 혼합물을 제조하였다.
진한 청색 내지 남색의 염료 혼합물은 다음과 같다:
화학식 1의 염료 49.7%(건조 색소 기준)
하기 화학식의 염료 24.3%(건조 색소 기준)
Figure 112007088320855-PCT00030
하기 화학식의 염료 24.3%(건조 색소 기준)
Figure 112007088320855-PCT00031
하기 화학식의 염료 1.7%(건조 색소 기준)
Figure 112007088320855-PCT00032
매우 우수한 견뢰도를 갖는 남색 폴리에스테르 염색물을 얻었다.
실시예 M5
실시예 M1을 반복하여 폴리에스테르 염색에 사용되는 추가의 염료 혼합물을 제조하였다.
흑색의 염료 혼합물은 다음과 같다:
화학식 1의 염료 15%(건조 색소 기준)
하기 화학식의 염료 23%(건조 색소 기준)
Figure 112007088320855-PCT00033
하기 화학식의 염료 30%(건조 색소 기준)
Figure 112007088320855-PCT00034
하기 화학식의 염료 32%(건조 색소 기준)
Figure 112007088320855-PCT00035
매우 우수한 견뢰도를 갖는 흑색 폴리에스테르 염색물을 얻었다.
실시예 M6
실시예 M1을 반복하여 폴리에스테르 염색에 사용되는 추가의 염료 혼합물을 제조하였다.
진한 청색의 염료 혼합물은 다음과 같다:
화학식 1의 염료 22.3부(건조 색소 기준)
하기 화학식의 염료 0.75부
Figure 112007088320855-PCT00036
하기 화학식의 염료 11부
Figure 112007088320855-PCT00037
하기 화학식의 염료 11부
Figure 112007088320855-PCT00038
매우 우수한 습윤 견뢰도를 갖는 진한 청색 폴리에스테르 염색물을 얻었다.
실시예 M7
실시예 M1을 반복하여 폴리에스테르 염색에 사용되는 추가의 염료 혼합물을 제조하였다.
화학식 1의 염료 6.7부(건조 색소 기준)
하기 화학식의 염료 14부
Figure 112007088320855-PCT00039
하기 화학식의 염료 11부
Figure 112007088320855-PCT00040
하기 화학식의 염료 10부
Figure 112007088320855-PCT00041
높은 빌드업력, 높은 승화 견뢰도 및 매우 우수한 견뢰도를 갖는 흑색 폴리에스테르 염색물을 얻었다.

Claims (8)

  1. 하기 화학식 I의 염료:
    [화학식 I]
    Figure 112007088320855-PCT00042
    상기 식에서,
    Ra는 -C6H5-치환된 C1 -4-알킬이고;
    Rb는 메톡시 또는 에톡시이고;
    Rc는 메틸 또는 에틸이다.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 치환체 Ra가 -C6H5-치환된 C1 -2-알킬이되, 특히 벤질이고; Rb는 메톡시이고; Rc는 메틸인 것을 특징으로 하는 염료.
  3. 하기 화학식 2의 다이아조화된 아민과 하기 화학식 III의 화합물을 결합시키고, 추가의 단계에서 다이아조 성분 중 Br 치환체를 -CN로 치환하는 것을 특징으로 하는, 제 1 항의 염료의 제조방법:
    [화학식 2]
    Figure 112007088320855-PCT00043
    [화학식 III]
    Figure 112007088320855-PCT00044
    상기 식에서,
    Ra, Rb 및 Rc는 제 1 항에서 정의한 바와 같다.
  4. 소수성 섬유 물질, 특히 폴리에스테르, 2차 아세테이트 및/또는 트라이아세테이트 섬유 물질을 염색 및/또는 날염하기 위한 제 1 항에 따른 염료의 용도.
  5. 잉크 젯 날염 공정 또는 열 융해(hot melt) 잉크 젯 날염 공정에 의해 소수성 섬유 물질을 날염하기 위한 제 1 항에 따른 염료의 용도.
  6. 하나 이상의 제 1 항에 따른 염료를 포함하는 조성물.
  7. 제 6 항에 있어서,
    조성물 내에 하나 이상의 화학식 II의 추가 염료가 존재하는 것을 특징으로 하는 조성물:
    [화학식 II]
    Figure 112007088320855-PCT00045
    상기 식에서,
    D는 치환되거나 또는 치환되지 않은 방향족 아민에서 유도된 다이아조 성분이고;
    K는 하기 화학식 K1, K2 또는 K3의 방향족 라디칼이고:
    [화학식 K1]
    Figure 112007088320855-PCT00046
    [화학식 K2]
    Figure 112007088320855-PCT00047
    [화학식 K3]
    Figure 112007088320855-PCT00048
    R1은 수소, 염소, C1 -2-알킬, C1 -2-알콕시, 하이드록실 또는 아실아미노이고;
    R2는 수소, C1 -4-알콕시, C1 -2-알콕시에톡시, 염소, 브롬 또는 R3와 조합하여 화학식 -*CH(CH3)CH2C(CH3)2-(*는 모핵에 붙어있음)의 기를 형성하고;
    R3은 수소, C1 -6-알킬, C3 -4-알케닐, 클로로- 또는 브로모-C3 -4-알케닐, C3 -4-알키닐, 페닐-C1 -3-알킬, C1 -4-알콕시카보닐-C1 -3-알킬, C3 -4-알케닐옥시카보닐-C1 -3-알킬, C3 -4-알키닐옥시카보닐-C1 -3-알킬, 페녹시-C2 -4-알킬, 할로, 사이아노-, C1 -4-알콕시-, C1 -4-알킬카보닐옥시-, 또는 C1 -4-알콕시카보닐옥시-치환된 C2 -4-알킬 또는 화학식 -CH2-CH(R8)CH2-R9의 기이고;
    R4는 수소 또는 C1 -2-알킬이고;
    R5는 페닐, 또는 메틸, 염소, 브롬 및 나이트로로 구성된 군으로부터 선택된 1개 또는 2개의 치환체에 의해 치환될 수 있는 페닐이거나, R4와 조합하여 c-펜탄온 또는 c-헥산온 고리를 형성하고;
    R6은 수소 또는 하이드록실이고;
    R7은 수소 또는 메틸이고;
    R8은 하이드록실 또는 C1 -4-알킬카보닐옥시이고;
    R9는 염소, C1 -4-알콕시, 페녹시, 알릴옥시 또는 C1 -4-알킬카보닐옥시이고;
    Y는 C1 -3-알킬렌이며;
    단, K가 화학식 K2 또는 K3의 라디칼인 경우, R3은 수소 이외의 의미는 없다.
  8. 하나 이상의 제 1 항에 따른 염료로 날염되거나 또는 염색된 섬유 물질.
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