KR20070099020A - 플라즈마 디스플레이 패널 - Google Patents

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KR20070099020A
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Abstract

유리 기판 상에 표시 전극과 유전체층과 보호층이 형성된 전면판과, 기판 상에 전극과 격벽과 형광체층이 형성된 배면판을 대향 배치함과 함께, 주위를 봉착하여 방전 공간을 형성한 플라즈마 디스플레이 패널로서, 표시 전극이 적어도 은을 함유함과 함께, 유전체층(8)이 표시 전극을 덮는 제1 유전체층(81)과, 제1 유전체층을 덮고 산화비스무트를 함유하는 제2 유전체층(82)에 의해 구성되고, 제1 유전체층의 두께가 5μm 이상, 13μm 이하이고 제1 유전체층의 표시 전극에 대한 두께의 비를 1보다 크고, 3 이하로 한 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널.

Description

플라즈마 디스플레이 패널{PLASMA DISPLAY PANEL}
본 발명은, 표시 디바이스 등에 이용하는 플라즈마 디스플레이 패널에 관한 것이다.
플라즈마 디스플레이 패널(이하, PDP라고 부른다)은, 고정밀화, 대화면화의 실현이 가능하므로, 65인치 클래스의 TV 등이 제품화되어 있다. 최근, PDP는 종래의 NTSC 방식에 비해 주사선수가 2배 이상인 풀스펙의 하이비전으로의 적용이 진행되고 있는 것과 함께, 환경 문제를 배려하여 납 성분을 포함하지 않는 PDP가 요구되고 있다.
PDP는, 기본적으로는, 전면판과 배면판으로 구성되어 있다. 전면판은, 플로트법에 따른 붕규산 나트륨계 유리의 유리 기판과, 그 한 쪽의 주면 상에 형성된 스트라이프 형상의 투명 전극과 금속 버스 전극으로 구성되는 표시 전극과, 이 표시 전극을 덮고 콘덴서로서의 기능을 하는 유전체층과, 이 유전체층 상에 형성된 산화마그네슘(MgO)으로 이루어지는 보호층으로 구성되어 있다. 한편, 배면판은, 유리 기판과, 그 한 쪽의 주면 상에 형성된 스트라이프 형상의 어드레스 전극과, 어드레스 전극을 덮는 하지(下地) 유전체층과, 하지 유전체층 상에 형성된 격벽과, 각 격벽 사이에 형성된 적색, 녹색 및 청색 각각으로 발광하는 형광체층으로 구성 되어 있다.
전면판과 배면판은, 그 전극 형성면측을 대향시켜 기밀 봉착되고, 격벽에 의해 분할된 방전 공간에 Ne-Xe의 방전 가스가, 53200Pa∼79800Pa의 압력으로 봉입되어 있다. PDP는, 표시 전극에 영상 신호 전압을 선택적으로 인가함으로써 방전시키고, 그 방전에 의해 발생한 자외선이 각색 형광체층을 여기하여 적색, 녹색, 청색의 발광을 시켜 컬러 화상 표시를 실현하고 있다.
표시 전극의 금속 버스 전극에는, 도전성을 확보하기 위한 은 전극이 이용되고, 유전체층으로서는 산화납을 주성분으로 하는 저융점 유리 재료가 이용되고 있지만, 최근의 환경 문제로의 배려로부터 유전체층으로서 납 성분을 포함하지 않는 예가 개시되어 있다(예를 들면, 특허 문헌 1, 2, 3 참조).
또 최근, PDP는 종래의 NTSC 방식에 비해 주사선수가 2배 이상인 풀스펙의 하이비전으로의 적용이 진행되고 있다. 이러한 하이비전화에 의해, 주사선수가 증가하여 표시 전극의 수가 증가하고, 또한 표시 전극 간격이 작아진다.
그 때문에, 표시 전극을 구성하는 은 전극으로부터 유전체층으로의 은 이온의 확산이 많아진다. 은 이온이 유전체층으로 확산되면, 유전체층 중의 알칼리 금속 이온에 의해 환원 작용을 받아, 콜로이드 형상의 산화은을 형성한다. 그리고, 이 산화은이 유전체층을, 황색이나 갈색으로 강하게 착색시키는 것과 함께, 일부의 산화은이, 환원 작용을 받아 산소의 기포를 발생하여, 그 기포가 절연 불량을 일으킨다.
그래서, 유전체층에 납 성분을 포함하지 않고, 은 전극과의 반응을 억제하는 산화비스무트 등의 저융점 유리 재료를 이용하는 것이 제안되어 있지만, 은 전극을 구비한 표시 전극의 두께에 대해서, 산화비스무트 등의 저융점 유리 재료를 이용한 유전체층의 두께를 적절하게 하는 것이 어려웠다. 즉, 표시 전극의 두께에 대해서 유전체층의 두께를 작게 하면, 은 전극에 대한 산화비스무트 등의 저융점 유리 재료가 적어지므로, 은 전극과의 반응을 억제하는 효과가 작아진다. 반대로, 표시 전극의 두께에 대해서 유전체층의 두께를 크게 하면, 산화비스무트 등의 저융점 유리 재료가, 은 전극과의 반응을 억제한다고는 하지만 형성된 산화은에서 발생하는 기포가 유전체층에서 빠져나가기 어려워져, 절연 불량의 원인이 된다.
이와 같이, 환경 문제로의 배려로부터 제안된, 납 성분을 포함하지 않는 종래의 유전체층에서는, 표시 전극의 두께에 대한 유전체층의 두께를 적절하게 설정하는 것이 어렵다는 과제를 갖고 있었다.
특허 문헌 1 : 일본 공개특허공보 2003-128430호 공보
특허 문헌 2 : 일본 공개특허공보 2002-053342호 공보
특허 문헌 3 : 일본 공개특허공보 평9-050769호 공보
본 발명의 PDP는, 유리 기판 상에 표시 전극과 유전체층과 보호층이 형성된 전면판과, 기판 상에 전극과 격벽과 형광체층이 형성된 배면판을 대향 배치함과 함께, 주위를 봉착하여 방전 공간을 형성한 PDP로서, 표시 전극이 적어도 은을 함유함과 함께, 유전체층이, 표시 전극을 덮는 제1 유전체층과, 제1 유전체층을 덮고 산화비스무트를 함유하는 제2 유전체층에 의해 구성되고, 제1 유전체층의 두께가 5μm 이상, 13μm 이하이고 제1 유전체층의 표시 전극에 대한 두께의 비를 1보다 크고, 3 이하로 한 구성이다.
은과의 반응을 억제하기 위해서 산화비스무트를 함유시킨 제1 유전체층과, 은을 함유하는 표시 전극의 두께의 비가 3을 넘으면, 산화은에서 발생하는 기포가 유전체층에서 빠져나가기 어려워져, 절연 불량의 원인이 된다. 그래서, 제1 유전체층의 표시 전극에 대한 두께의 비를 상술한 범위 내로 하면, 납 성분을 포함하지 않는 유전체층에서, 고정밀 표시여도, 은 전극과의 반응을 억제하여 기포의 발생을 적게 함과 함께, 발생한 기포도 빠지기 쉽게 하여 절연 불량을 발생하지 않는 PDP를 실현할 수 있다.
도 1은, 본 발명의 실시 형태에 의한 PDP의 구조를 도시한 사시도이다.
도 2는, 본 발명의 실시 형태에 의한 PDP의 유전체층의 구성을 도시한 전면판의 단면도이다.
도 3은, 본 발명의 실시 형태에 의한 PDP의 제1 유전체층의 확대 단면도이다.
[부호의 설명]
1…PDP 2…전면판
3…전면 유리 기판(유리 기판) 4…주사 전극
4a, 5a…투명 전극 4b, 5b…금속 버스 전극
5…유지 전극 6…표시 전극
7…블랙 스트라이프(차광층) 8…유전체층
9…보호층 10…배면판
11…배면 유리 기판(기판) 12…어드레스 전극(전극)
13…하지 유전체층 14…격벽
15…형광체층 16…방전 공간
81…제1 유전체층 82…제2 유전체층
이하, 본 발명의 실시 형태에 의한 PDP에 대해서 도면을 이용하여 설명한다.
도 1은, 본 발명의 실시 형태에 있어서의 PDP의 구조를 도시한 사시도이다. PDP의 기본 구조는, 일반적인 교류 면방전형 PDP와 동일하다. 도 1에 도시한 바와 같이, PDP(1)는 전면 유리 기판(유리 기판)(3) 등으로 이루어지는 전면판(2)과, 배면 유리 기판(기판)(11) 등으로 이루어지는 배면판(10)이 대향하여 배치되고, 그 외주부를 유리 프릿 등으로 이루어지는 봉착재에 의해 기밀 봉착되어 있다. 봉착된 PDP(1) 내부의 방전 공간(16)에는, 네온(Ne) 및 크세논(Xe) 등의 방전 가스가 53200Pa∼79800Pa의 압력으로 봉입되어 있다.
전면판(2)의 전면 유리 기판(3) 상에는, 주사 전극(4) 및 유지 전극(5)으로 이루어지는 한 쌍의 띠형상의 표시 전극(6)과 블랙 스트라이프(차광층)(7)가 서로 평행하게 각각 복수열 배치되어 있다. 전면 유리 기판(3) 상에는 표시 전극(6)과 차광층(7)을 덮도록 콘덴서로서의 기능을 하는 유전체층(8)이 형성되고, 또한 그 표면에 산화마그네슘(MgO) 등으로 이루어지는 보호층(9)이 형성되어 있다.
또, 배면판(10)의 배면 유리 기판(11) 상에는, 전면판(2)의 주사 전극(4) 및 유지 전극(5)과 직교하는 방향으로, 복수의 띠형상의 어드레스 전극(전극)(12)이 서로 평행하게 배치되고, 이것을 하지 유전체층(13)이 피복하고 있다. 또한, 어드레스 전극(12) 사이의 하지 유전체층(13) 상에는 방전 공간(16)을 구분하는 소정 높이의 격벽(14)이 형성되어 있다. 격벽(14) 사이의 홈에 어드레스 전극(12)마다, 자외선에 의해 적색, 청색 및 녹색으로 각각 발광하는 형광체층(15)이 순차적으로 도포하여 형성되어 있다. 주사 전극(4) 및 유지 전극(5)과 어드레스 전극(12)이 교차하는 위치에 방전 셀이 형성되고, 표시 전극(6) 방향으로 나열된 적색, 청색, 녹색의 형광체층(15)을 갖는 방전 셀이 컬러 표시를 위한 화소가 된다.
도 2는, 본 발명의 실시 형태에 있어서의 PDP(1)의 유전체층(8)의 구성을 도시한 전면판(2)의 단면도이다. 도 2는, 도 1을 상하 반전시켜 나타내고 있다. 도 2에 도시한 바와 같이, 플로트법 등에 의해 제조된 전면 유리 기판(3)에, 주사 전극(4)과 유지 전극(5)으로 이루어지는 표시 전극(6)과 블랙 스트라이프(7)가 패턴 형성되어 있다. 주사 전극(4)과 유지 전극(5)은, 각각 인듐 주석 산화물(ITO)이나 산화주석(SnO2)등으로 이루어지는 투명 전극(4a, 5a)과, 투명 전극(4a, 5a) 상에 형성된 금속 버스 전극(4b, 5b)에 의해 구성되어 있다. 금속 버스 전극(4b, 5b)은, 투명 전극(4a, 5a)의 길이 방향으로 도전성을 부여하는 목적으로서 이용되고, 은 재료를 주성분으로 하는 도전성 재료에 의해 형성되어 있다.
유전체층(8)은, 전면 유리 기판(3) 상에 형성된 이러한 투명 전극(4a, 5a)과 금속 버스 전극(4b, 5b)과 블랙 스트라이프(7)를 덮어 설치한 제1 유전체층(81)과, 제1 유전체층(81) 상에 형성된 제2 유전체층(82)의 2층 구성으로 한 경우이고, 또한 제2 유전체층(82) 상에 보호층(9)을 형성하고 있다.
다음에, PDP(1)의 제조 방법에 대해서 설명한다. 우선, 전면 유리 기판(3) 상에, 주사 전극(4) 및 유지 전극(5)과 차광층(7)을 형성한다. 이러한 투명 전극(4a, 5a)과 금속 버스 전극(4b, 5b)은, 포토리소그래피법 등을 이용하여 패터닝하여 형성된다. 투명 전극(4a, 5a)은 박막 프로세스 등을 이용하여 형성되고, 금속 버스 전극(4b, 5b)은 은 재료를 포함하는 페이스트를 원하는 온도로 소성하여 고체화하고 있다. 또, 차광층(7)도 동일하게, 흑색 안료를 포함하는 페이스트를 스크린 인쇄하는 방법이나 흑색 안료를 유리 기판(3)의 전면(全面)에 형성한 후, 포토리소그래피법을 이용하여 패터닝하여, 소성함으로써 형성된다.
다음에, 주사 전극(4), 유지 전극(5) 및 차광층(7)을 덮도록 전면 유리 기판(3) 상에 유전체 페이스트를 다이코트법 등에 의해 도포하여 유전체 페이스트층(유전체 재료층)을 형성한다. 유전체 페이스트를 도포한 후, 소정 시간 방치함으로써 도포된 유전체 페이스트 표면이 레벨링되어 평탄한 표면이 된다. 그 후, 유전체 페이스트층을 소성 고체화함으로써, 주사 전극(4), 유지 전극(5) 및 차광층(7)을 덮는 유전체층(8)이 형성된다. 또한, 유전체 페이스트는 유리 분말 등의 유전체 재료, 바인더 및 용제를 포함하는 도료이다. 다음에, 유전체층(8) 상에 산화마그네슘(MgO)으로 이루어지는 보호층(9)을 진공 증착법에 의해 형성한다. 이상의 공정에 의해 전면 유리 기판(3) 상에 소정의 구성물(주사 전극(4), 유지 전극(5), 차광층(7), 유전체층(8), 보호층(9))이 형성되어, 전면판(2)이 완성된다.
한편, 배면판(10)은 다음과 같이 하여 형성된다. 우선, 배면 유리 기판(11) 상에, 은 재료를 포함하는 페이스트를 스크린 인쇄하는 방법이나, 금속막을 전면에 형성한 후, 포토리소그래피법을 이용하여 패터닝하는 방법 등에 의해 어드레스 전극(12)용의 구성물이 되는 재료층을 형성하고, 그것을 원하는 온도로 소성함으로써 어드레스 전극(12)을 형성한다.
다음에, 어드레스 전극(12)이 형성된 배면 유리 기판(11) 상에 다이코트법 등에 의해 어드레스 전극(12)을 덮도록 유전체 페이스트를 도포하여 유전체 페이스트층을 형성한다. 그 후, 유전체 페이스트층을 소성함으로써 하지 유전체층(13)을 형성한다. 또한, 유전체 페이스트는 유리 분말 등의 유전체 재료와 바인더 및 용제를 포함한 도료이다.
다음에, 하지 유전체층(13) 상에 격벽 재료를 포함하는 격벽 형성용 페이스트를 도포하여 소정의 형상으로 패터닝함으로써, 격벽 재료층을 형성한 후, 소성함으로써 격벽(14)을 형성한다. 여기에서, 하지 유전체층(13) 상에 도포한 격벽용 페이스트를 패터닝하는 방법으로서는, 포토리소그래피법이나 샌드블라스트법을 이용할 수 있다.
다음에, 인접하는 격벽(14) 사이의 하지 유전체층(13) 상, 및 격벽(14)의 측면에 형광체 재료를 포함하는 형광체 페이스트를 도포하고, 소성함으로써 형광체층(15)이 형성된다. 이상의 공정에 의해, 배면 유리 기판(11) 상에 소정의 구성 부재를 갖는 배면판(10)이 완성된다.
이와 같이 하여 소정의 구성 부재를 구비한 전면판(2)과, 배면판(10)을, 주 사 전극(4)과 어드레스 전극(12)이 직교하도록 대향 배치하고, 그 주위를 유리 프릿으로 봉착하여, 방전 공간(16)에 네온, 크세논 등을 포함하는 방전 가스를 봉입함으로써 PDP(1)가 완성된다.
전면판(2)의 유전체층(8)을 구성하는 제1 유전체층(81)과, 제2 유전체층(82)에 대해서 상세하게 설명한다. 제1 유전체층(81)의 유전체 재료는, 다음의 재료 조성으로 구성되어 있다. 즉, 산화비스무트(Bi2O3)를 25중량%∼40중량%, 산화아연(ZnO)을 27.5중량%∼34중량%, 산화붕소(B2O3)를 17중량%∼36중량%, 산화규소(SiO2)를 1.4중량%∼4.2중량%, 산화알루미늄(Al2O3)을 0.5중량%∼4.4중량% 포함하고 있다. 또한, 산화칼슘(CaO), 산화스트론튬(SrO), 산화바륨(BaO)에서 선택되는 적어도 1종을 5중량%∼13중량% 포함하고, 산화몰리브덴(MoO3), 산화텅스텐(WO3)에서 선택되는 적어도 1종을 0.1중량%∼7중량% 포함하고 있다.
또한, 산화몰리브덴(MoO3), 산화텅스텐(WO3) 대신에, 산화세륨(CeO2), 산화구리(CuO), 이산화망간(MnO2), 산화크롬(Cr2O3), 산화코발트(Co2O3), 산화바나듐(V2O7), 산화안티몬(Sb2O3)에서 선택되는 적어도 1종을 0.1중량%∼7중량% 포함시켜도 된다.
이러한 조성 성분으로 이루어지는 유전체 재료를, 습식 제트밀이나 볼밀로 평균 입경이 0.5μm∼2.5μm가 되도록 분쇄하여 유전체 재료 분말을 작성한다. 다음에, 이 유전체 재료 분말 55중량%∼70중량%와, 바인더 성분 30중량%∼45중량%를 3개 롤로 잘 혼련하여, 다이코트용 혹은 인쇄용의 제1 유전체층용 페이스트를 작성 한다. 바인더 성분은 에틸 셀룰로오스, 혹은 아크릴 수지 1중량%∼20중량%를 포함하는 테르피네올, 혹은 부틸카르비톨 아세테이트이다. 또, 페이스트 중에는, 필요에 따라 가소제로서 프탈산 디옥틸, 프탈산 디부틸, 인산 트리페닐, 인산 트리부틸을 첨가하고, 분산제로서 글리세롤 모노올레이트, 소르비탄 세스퀴올레이트, 호모게놀(카오(주)의 등록 상표), 알킬알릴기의 인산 에스테르 등을 첨가하여, 인쇄성을 향상시켜도 된다.
다음에, 이 제1 유전체층용 페이스트를 이용하여, 표시 전극(6)을 덮도록 전면 유리 기판(3)에 다이코트법, 혹은 스크린 인쇄법으로 인쇄하여 건조시키고, 그 후, 유전체 재료의 연화점보다 조금 높은 온도인 575℃∼590℃로 소성한다.
다음에, 제2 유전체층(82)에 대해서 설명한다. 제2 유전체층(82)의 유전체 재료는, 다음의 재료 조성으로 구성되어 있다. 즉, 산화비스무트(Bi2O3)를 11중량%∼20중량%, 산화아연(ZnO)을 26.1중량%∼39.3중량%, 산화붕소(B2O3)를 23중량%∼32.2중량%, 산화규소(SiO2)를 1.0중량%∼3.8중량%, 산화알루미늄(Al2O3)을 0.1중량%∼10.2중량% 포함하고 있다. 또한, 산화칼슘(CaO), 산화스트론튬(SrO), 산화바륨(BaO)에서 선택되는 적어도 1종을 9.7중량%∼29.4중량% 포함하고, 산화세륨(CeO2)을 0.1중량%∼5중량% 포함하고 있다.
이러한 조성 성분으로 이루어지는 유전체 재료를, 습식 제트밀이나 볼밀로 평균 입경이 0.5μm∼2.5μm가 되도록 분쇄하여 유전체 재료 분말을 작성한다. 다음에, 이 유전체 재료 분말 55중량%∼70중량%와, 바인더 성분 30중량%∼45중량%를 3개 롤로 잘 혼련하여 다이코트용, 혹은 인쇄용의 제2 유전체층용 페이스트를 작성한다. 바인더 성분은 에틸 셀룰로오스, 혹은 아크릴 수지 1중량%∼20중량%를 포함하는 테르피네올, 혹은 부틸카르비톨 아세테이트이다. 또, 페이스트 중에는, 필요에 따라 가소제로서 프탈산 디옥틸, 프탈산 디부틸, 인산 트리페닐, 인산 트리부틸을 첨가하고, 분산제로서 글리세롤 모노올레이트, 소르비탄 세스퀴올레이트, 호모게놀(카오(주)의 등록 상표), 알킬알릴기의 인산 에스테르 등을 첨가하여, 인쇄성을 향상시켜도 된다.
다음에, 이 제2 유전체층용 페이스트를 이용하여, 제1 유전체층(81) 상에 스크린 인쇄법으로, 혹은 다이코트법으로 인쇄하여 건조시키고, 그 후, 유전체 재료의 연화점보다 조금 높은 온도인 550℃∼590℃로 소성한다.
여기에서, 유전체층(8)의 막두께에 대해서는, 제1 유전체층(81)과 제2 유전체층(82)을 합쳐, 가시광 투과율을 확보하기 위해서는 41μm 이하가 바람직하다. 제1 유전체층(81)은, 금속 버스 전극(4b, 5b)의 은(Ag)과의 반응을 억제하기 위해서, 산화비스무트의 함유량을 제2 유전체층(82)의 산화비스무트 함유량보다도 많게 하여, 25중량%∼40중량%로 하고 있다. 그 때문에, 제1 유전체층(81)의 가시광 투과율이, 제2 유전체층(82)의 가시광 투과율보다도 낮아지므로, 제1 유전체층(81)의 막두께를, 제2 유전체층(82)의 막두께보다도 얇게 하고 있다.
또한, 제2 유전체층(82)에 있어서 산화비스무트(Bi2O3)가 11중량% 이하이면, 가시광 투과율은 저하하기 어려워지지만, 제2 유전체층(82) 중에 기포가 발생하기 쉬워 바람직하지 않다. 또, 20중량%를 넘으면 가시광 투과율을 올리는 목적으로는 바람직하지 않다.
또, 유전체층(8)의 막두께가 작을수록, 패널 휘도의 향상과 방전 전압을 저감한다는 효과는 현저해진다. 그러나 유전체층(8)의 막두께를 너무 작게 하면, 필요한 절연 내압을 얻을 수 없게 된다. 이러한 관점에서, 본 발명의 실시 형태에서는, 유전체층(8)의 막두께를 41μm 이하로 설정하고, 제1 유전체층(81)을 5μm∼13μm, 제2 유전체층(82)을 28μm∼36μm로 하고 있다.
이와 같이, 금속 버스 전극(4b, 5b)의 은과의 반응을 억제하기 위해서, 금속 버스 전극(4b, 5b)을 덮는 제1 유전체층(81)은, 산화비스무트 함유량을 적절한 양으로 할 필요가 있다. 즉, 은 전극에 대한 산화비스무트의 양이 적어지면, 산화비스무트가 은 전극과의 반응을 억제하는 효과도 작아진다. 반대로, 은 전극에 대한 산화비스무트의 양이 많아지면, 은 전극과 유전체층(8) 중의 알칼리 금속 이온에 의해 환원 작용을 받아 형성된 산화은에서 발생하는 기포가 제1 유전체층(81)에서 빠져나가기 어려워져, 절연 불량의 원인이 된다.
도 3은, 본 발명의 실시 형태의 제1 유전체층(81)의 확대 단면도이다. 도 3에 도시한 바와 같이, 제1 유전체층(81)의 두께 D와, 은 전극인 금속 버스 전극(4b, 5b)을 구비한 표시 전극(6)의 두께 d의 비율을 변화시켜, 은 전극에 대한 산화비스무트의 적절한 양을 조사하였다. 단, D는 5μm 이상, 13μm 이하이다. D가 5μm 미만이면, 금속 버스 전극(4b, 5b)의 은(Ag)과의 반응을 억제할 수 없게 된다. 또 D가 13μm를 넘으면 가시광 투과율이 저하한다. 그 결과, 제1 유전체층(81)의 표시 전극(6)에 대한 두께의 비를 1보다 크고, 3 이하로 하는 것이 좋은 것을 알 수 있다. 즉, 제1 유전체층(81)이 적어도 표시 전극(6)을 덮을 필요가 있으므로, 이 두께의 비는 1보다 큰 것이 필요하고, 3을 넘으면, 산화은에서 발생하는 기포가 제1 유전체층(81)에서 빠져나가기 어려워진다.
다음에, 본 발명의 실시 형태에 있어서의 PDP(1)에 있어서, 이러한 유전체 재료에 의해 제1 유전체층(81)에서의 착색 및 기포의 발생이 억제되는 이유에 대해서 고찰한다. 즉, 산화비스무트(Bi2O3)를 포함하는 유전체 유리 재료에 산화몰리브덴(MoO3), 혹은 산화텅스텐(WO3)을 첨가함으로써, Ag2MoO4, Ag2Mo2O7, Ag2Mo4O13, Ag2WO4, Ag2W2O7, Ag2W4O13과 같은 화합물이 580℃ 이하의 저온에서 생성되기 쉬운 것이 알려져 있다. 본 발명의 실시 형태에서는, 유전체층(8)의 소성 온도가 550℃∼590℃이므로, 소성 중에 유전체층(8) 중으로 확산된 Ag 이온(Ag+)은 유전체층(8) 중의 산화몰리브덴(MoO3), 산화텅스텐(WO3)과 반응하여, 안정한 화합물을 생성하여 안정화한다. 즉, Ag 이온(Ag+)이 환원되지 않고 안정화되기 때문에, 응집하여 콜로이드를 생성하는 일이 없다. 따라서, Ag 이온(Ag+)이 안정화함으로써, 은(Ag)의 콜로이드화에 따른 산소의 발생도 적어지므로, 유전체층(8) 중으로의 기포의 발생도 적어진다.
한편, 이러한 효과를 유효하게 하기 위해서는, 산화비스무트(Bi2O3)를 포함하는 유전체 유리 재료 중에 산화몰리브덴(MoO3), 혹은 산화텅스텐(WO3)의 함유량을 0.1중량% 이상으로 하는 것이 바람직하지만, 0.1중량% 이상, 7중량% 이하가 더욱 바람직하다. 특히, 0.1중량% 이하에서는 착색을 억제하는 효과가 적고, 7중량% 이상이 되면 유전체 유리 재료에 착색이 일어나 바람직하지 않다.
이상과 같이, 본 발명의 실시 형태에 있어서의 PDP에 의하면, 유전체층으로서 가시광 투과율이 높고, 내절연 성능이 높으며, 또한, 납 성분을 포함하지 않는 환경에 배려한 PDP를 실현할 수 있다.
본 발명의 PDP는, 유전체층에서의 기포의 발생을 적게 함과 함께, 발생한 기포도 빠지기 쉽게 하여 절연 불량을 발생하지 않는 PDP를 실현하고 대화면의 표시 디바이스 등에 유용하다.

Claims (5)

  1. 유리 기판 상에 표시 전극과 유전체층과 보호층이 형성된 전면판과, 기판 상에 전극과 격벽과 형광체층이 형성된 배면판을 대향 배치함과 함께, 주위를 봉착하여 방전 공간을 형성한 플라즈마 디스플레이 패널로서, 상기 표시 전극이 적어도 은을 함유함과 함께, 상기 유전체층이, 상기 표시 전극을 덮는 제1 유전체층과, 상기 제1 유전체층을 덮고 산화비스무트를 함유하는 제2 유전체층에 의해 구성되고, 상기 제1 유전체층의 두께가 5μm 이상, 13μm 이하이고 상기 제1 유전체층의 상기 표시 전극에 대한 두께의 비를 1보다 크고, 3 이하로 한 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널.
  2. 청구항 1에 있어서,
    상기 유전체층은, 상기 표시 전극을 덮는 제1 유전체층과, 상기 제1 유전체층을 덮고 산화비스무트의 함유량이 상기 제1 유전체층의 산화비스무트의 함유량보다도 작은 제2 유전체층에 의해 구성되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널.
  3. 청구항 2에 있어서,
    상기 제1 유전체층이, 산화몰리브덴, 산화텅스텐 중 적어도 하나를 0.1중량% 이상, 7중량% 이하 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널.
  4. 청구항 2에 있어서,
    상기 제2 유전체층이, 산화비스무트를 11중량% 이상, 20중량% 이하 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널.
  5. 청구항 2 내지 청구항 4 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 제1 유전체층 및 상기 제2 유전체층이, 산화아연, 산화붕소, 산화규소, 산화알루미늄, 산화칼슘, 산화스트론튬, 산화바륨 중 적어도 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널.
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