KR20070088145A - 발광 다이오드 및 그 제조방법 - Google Patents
발광 다이오드 및 그 제조방법 Download PDFInfo
- Publication number
- KR20070088145A KR20070088145A KR1020060018378A KR20060018378A KR20070088145A KR 20070088145 A KR20070088145 A KR 20070088145A KR 1020060018378 A KR1020060018378 A KR 1020060018378A KR 20060018378 A KR20060018378 A KR 20060018378A KR 20070088145 A KR20070088145 A KR 20070088145A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- nitride semiconductor
- type nitride
- semiconductor layer
- layer
- electrode
- Prior art date
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 20
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 claims abstract description 133
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims abstract description 132
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 42
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims description 22
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 13
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 11
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 11
- 238000001020 plasma etching Methods 0.000 claims description 6
- 238000009616 inductively coupled plasma Methods 0.000 claims description 4
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 claims description 2
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 230000008569 process Effects 0.000 abstract description 3
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N nickel Substances [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 14
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 12
- 229910052594 sapphire Inorganic materials 0.000 description 11
- 239000010980 sapphire Substances 0.000 description 11
- 239000000463 material Substances 0.000 description 10
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 5
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 5
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 5
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 4
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 3
- 238000004806 packaging method and process Methods 0.000 description 3
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 3
- JBRZTFJDHDCESZ-UHFFFAOYSA-N AsGa Chemical compound [As]#[Ga] JBRZTFJDHDCESZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 2
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 2
- 238000001312 dry etching Methods 0.000 description 2
- 238000002248 hydride vapour-phase epitaxy Methods 0.000 description 2
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 2
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 238000001451 molecular beam epitaxy Methods 0.000 description 2
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000000644 propagated effect Effects 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 2
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 2
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 2
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 2
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N Gallium Chemical compound [Ga] GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052785 arsenic Inorganic materials 0.000 description 1
- RQNWIZPPADIBDY-UHFFFAOYSA-N arsenic atom Chemical compound [As] RQNWIZPPADIBDY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002238 attenuated effect Effects 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 1
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 1
- 238000000295 emission spectrum Methods 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 1
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000001902 propagating effect Effects 0.000 description 1
- 230000006798 recombination Effects 0.000 description 1
- 238000005215 recombination Methods 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 230000004044 response Effects 0.000 description 1
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
- 238000001039 wet etching Methods 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L33/00—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L33/02—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor bodies
- H01L33/08—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor bodies with a plurality of light emitting regions, e.g. laterally discontinuous light emitting layer or photoluminescent region integrated within the semiconductor body
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L33/00—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L33/02—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor bodies
- H01L33/20—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor bodies with a particular shape, e.g. curved or truncated substrate
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Led Devices (AREA)
- Drying Of Semiconductors (AREA)
Abstract
본 발명은 발광 다이오드 및 그 제조방법에 관한 것으로서, 투명 전극(혹은 오믹층)부터 n형 질화물 반도체층의 일부분까지 식각하여 복수개의 상호 이격된 홈을 형성하는 것을 특징으로 한다.
본 발명에 의하면, 활성층에서 발생한 빛이 소자 내부를 진행하는 거리를 줄일 수 있어 외부로 방출되는 빛의 세기가 감소하는 것을 방지할 수있다.
그리고, 상기 홈의 내측면을 수직선상을 기준으로 하여 경사를 가지도록 함으로써, 상기 홈의 내측면에서의 임계각을 높일 수 있으며 활성층에서 발생한 빛이 상기 홈의 내측면에 도달했을때, 소자 내부로 전반사되는 확률을 줄일 수 있어 광 적출 효율을 향상시킬 수 있다.
흡수 계수, 광 적출 효율, ICP/RIE, 식각
Description
도 1은 종래의 질화물계 발광 다이오드의 단면도.
도 2는 활성층에서 발생한 빛이 질화물계 반도체 표면에서 전반사되는 상태를 나타낸 도면.
도 3은 본 발명의 발광 다이오드의 일 실시예를 나타낸 단면도.
도 4a 내지 도 4e는 본 발명의 발광 다이오드의 제조방법의 일 실시예를 나타낸 단면도.
도 5a 내지 도 5c는 본 발명에 있어서, 복수개의 홈의 형상을 나타낸 평면도.
도 6은 본 발명의 발광 다이오드의 다른 실시예를 나타낸 단면도.
도 7a 내지 도 7e는 본 발명의 발광 다이오드의 제조방법의 다른 실시예를 나타낸 단면도.
* 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 *
100, 200 : 기판 110, 210 : 버퍼층
120, 220 : n형 질화물 반도체층 130, 230 : 활성층
140, 240 : p형 질화물 반도체층 150, 250 : 투명 전극
160, 260 : p-전극 170, 270 : n-전극
180, 280 : 홈
본 발명은 발광 다이오드 및 그 제조방법에 관한 것으로서, 특히 투명 전극(혹은 오믹층)부터 n형 질화물 반도체층의 일부분까지 식각하여 복수개의 상호 이격된 홈을 형성함으로써, 소자의 광 적출 효율을 향상시킨 발광 다이오드 및 그 제조방법에 관한 것이다.
일반적으로 발광 다이오드(Light Emitting Diode : LED)는 화합물 반도체의 특성을 이용하여 전기를 빛으로 변환시켜서 신호를 주고 받거나, 광원으로 사용되는 반도체 소자의 일종이다.
발광 다이오드는 저전압으로 고효율의 광을 발생시키므로 에너지 절감 효과가 뛰어나며, 최근 들어 발광 다이오드의 한계였던 휘도 문제가 크게 개선되면서 백라이트 유닛(Backlight Unit), 전광판, 표시기, 가전제품, 각종 자동화 기기 등 산업 전반에 걸쳐 사용되고 있다.
특히, 질화물계 발광 다이오드는 활성층의 에너지 밴드 갭(Energy Band Gap)이 넓어 발광 스펙트럼이 자외선으로부터 적외선에 이르기까지 광범위하게 형성되며, 비소(As), 수은(Hg) 등의 환경 유해 물질을 포함하고 있지 않기 때문에 환경 친화적인 면에서도 높은 호응을 얻고 있다.
그리고, 보다 다양한 응용분야에 활용하기 위해서 고휘도의 발광 다이오드를 얻고자 하는 연구가 진행되고 있는데, 고휘도의 발광 다이오드를 얻는 방법에는 활성층의 품질을 개선하여 내부 양자 효율을 올리는 방법과 활성층에서 발생한 빛을 외부로 방출하는 것을 도와 주고, 필요한 방향으로 모아줌으로써 광 적출 효율을 증대시키는 방법이 있다.
현재, 이 내부 양자 효율 및 광 적출 효율 모두를 증진시키려는 시도가 이루어지고 있으나, 반도체 물질의 품질을 개선함으로 내부 양자 효율을 증진시키는 방법에 비하여 소자 전극 설계, 소자 자체의 모양, 패키징 방법 등으로 개선하는 광 적출 효율 증가 방법에 대한 시도가 활발히 이루어지고 있다.
여기서, 광 적출 효율(Light Extraction Efficiency)은 발광 다이오드에 주입된 전자와 발광 다이오드 밖으로 방출되는 광자의 비에 의하여 결정되며 적출 효율이 높을수록 밝은 발광 다이오드를 의미한다.
상기 발광 다이오드의 광 적출 효율은 칩의 모양이나 표면 형태, 칩의 구조, 패키징 형태에 의하여 많은 영향을 받기 때문에 발광 다이오드를 설계할 때 세심한 주의가 필요하다.
고출력 및 고휘도의 발광 다이오드에서는 상기 광 적출 효율이 발광 효율을 결정하는 중요한 변수로 작용한다. 그런데, 종래의 질화물계 발광 다이오드의 제조방법에는 광 적출 효율에 한계가 있었다.
도 1은 종래의 질화물계 발광 다이오드의 단면도이다. 이에 도시된 바와 같 이, 사파이어 기판(10) 상부에 버퍼층(11), n형 질화물 반도체층(12), 활성층(13), p형 질화물 반도체층(14)이 순차적으로 적층되어 있고,
상기 p형 질화물 반도체층(14)에서 상기 n형 질화물 반도체층(12)의 일부분까지 메사(Mesa) 식각 되어 상기 n형 질화물 반도체층(12)의 일부가 노출되어 있고,
상기 노출된 n형 질화물 반도체층(12) 상부에는 n-전극(15)이 형성되어 있으며, 상기 p형 질화물 반도체층(14) 상부에는 투명 전극(16)이 형성되어 있고, 상기 투명 전극 상부에는 p-전극(17)이 형성되어 있는 구조를 가지고 있다.
이와 같이 구성된 질화물계 발광 다이오드의 제조방법은, 먼저 사파이어 기판(10) 상부에 버퍼층(11), n형 질화물 반도체층(12), 활성층(13), p형 질화물 반도체층(14)을 순차적으로 형성한 다음, 상기 p형 질화물 반도체층(14)에서 상기 n형 질화물 반도체층(12)의 일부분까지 RIE(Reactive Ion Etching) 방식으로 메사(Mesa) 식각한다.
그 후, 상기 p형 질화물 반도체층(14) 상부에 오믹 특성을 개선하기 위한 투명 전극(16)을 형성하고, 상기 투명 전극(16) 상부에 p-전극(17)을 형성한다.
다음으로, 상기 메사 식각되어 노출된 n형 질화물 반도체층(12) 상부에 n-전극(15)을 형성한다.
여기서, 상기 발광 다이오드는 다음과 같은 방식으로 구동된다. 즉, 상기 p-전극(17) 및 n-전극(15)에 전압을 인가하면 상기 p형 질화물 반도체층(14) 및 n형 질화물 반도체층(12)으로부터 정공 및 전자가 활성층(13)으로 흘러 들어가 상기 활 성층(13)에서 전자-정공의 재결합이 일어나면서 발광을 하게 된다.
상기 활성층(13)으로부터 발광된 광은 활성층(13)의 위와 아래로 진행하게 되고, 위로 진행된 광은 상기 p형 질화물 반도체층(14) 상부에 얇게 형성된 투명 전극(16)을 통하여 밖으로 방출된다.
그리고, 활성층(13)의 아래로 진행된 광은 기판(10)의 하부로 빠져나가 발광 다이오드의 패키징시 사용되는 솔더(Solder)에 흡수되거나, 기판(10)에서 반사되어 다시 위로 진행하여 활성층(13)에 다시 흡수되기도 하고 투명 전극(16)을 통하여 밖으로 빠져 나오기도 한다.
종래의 질화물계 발광 다이오드에서는, 활성층에서 발생한 빛이 외부로 빠져 나갈때, 질화물계 반도체 물질과 외부와의 굴절율 차이에 의해 전반사 조건이 발생하게 되어 전반사의 임계각 이상의 각도로 입사된 광은 외부로 빠져나가지 못하고 반사되어 다시 소자 내부로 들어오게 된다.
즉, 도 2에 도시된 바와 같이, 활성층(30)에서 발생한 빛이 질화물계 반도체 물질(40)의 표면에 도달할 때, 입사되는 광의 입사각이 외부 굴절율과 질화물계 반도체 물질의 굴절율로 정해지는 임계각(θC) 이상인 경우는 광이 외부로 빠져나가지 못하고 소자 내부로 반사되며, 반사된 빛은 여러 경로를 거치면서 빛이 감쇄하게 된다.
여기서, 상기 임계각은 스넬의 법칙(Snell's Law)에 의해 정해지는데, 다음 식에 의해 구할 수 있다.
여기서, θC 는 임계각을 나타내며, N1 은 외부 굴절율, N2 는 소자 내부 굴절율을 나타낸다.
그리고, 발광 다이오드의 활성층에서 발생된 빛은 소자 내부를 진행하는 동안 흡수(Absorption) 및 산란 등에 의해 그 크기가 감소된다.
즉, 발광 다이오드의 활성층에서 발생하여 소자의 측면을 통하여 외부로 방출되는 빛은 소자의 상부면을 통하여 외부로 방출되는 빛보다 상대적으로 긴 거리를 진행하여야 하므로 흡수 및 산란 등에 의해 크기가 감소된다.
이와 같이, 발광 다이오드의 활성층에서 발생한 빛이 소자 내부로 전반사되거나 소자 내부를 진행하면서 흡수 및 산란되어 그 크기가 감소됨으로써, 광 적출 효율이 저하되는 문제점이 있다.
따라서, 본 발명의 목적은 투명 전극(혹은 오믹층)부터 n형 질화물 반도체층의 일부분까지 식각하여 복수개의 상호 이격된 홈을 형성함으로써, 활성층에서 발생한 빛이 소자 내부에서 흡수 및 산란되어 일정한 크기 이하로 되기 전에 외부로 방출시켜 광 적출 효율을 향상시키는 발광 다이오드 및 그 제조방법을 제공하는 데 있다.
본 발명의 발광 다이오드의 일 실시예는, 기판 상부에 버퍼층, n형 질화물 반도체층, 활성층, p형 질화물 반도체층이 순차적으로 형성되어 있고,
상기 p형 질화물 반도체층부터 상기 n형 질화물 반도체층의 일부분까지 메사(Mesa) 식각되어 상기 n형 질화물 반도체층의 일부가 상부로부터 노출되어 있고,
상기 p형 질화물 반도체층 상부에 투명 전극이 형성되어 있고,
상기 투명 전극부터 상기 n형 질화물 반도체층의 일부분까지 식각된 복수개의 홈이 상호 이격하여 형성되어 있고,
상기 투명 전극 상부에 p-전극이 형성되어 있고, 상기 노출된 n형 질화물 반도체층 상부에 n-전극이 형성되어 이루어지는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 발광 다이오드의 제조방법의 일 실시예는, 기판 상부에 버퍼층, n형 질화물 반도체층, 활성층, p형 질화물 반도체층을 순차적으로 형성하는 단계와, 상기 p형 질화물 반도체층부터 상기 n형 질화물 반도체층의 일부분까지 메사(Mesa) 식각하여 상기 n형 질화물 반도체층의 일부를 상부로부터 노출시키는 단계와, 상기 p형 질화물 반도체층 상부에 투명 전극을 형성하는 단계와, 상기 투명 전극부터 상기 n형 질화물 반도체층의 일부분까지 식각하여 상호 이격된 복수개의 홈을 형성하는 단계와, 상기 투명 전극 상부에 p-전극을 형성하고, 상기 노출된 n형 질화물 반도체층 상부에 n-전극을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 발광 다이오드의 다른 실시예는, n형 질화물 반도체층, 활성층, p형 질화물 반도체층, 오믹층이 순차적으로 형성되어 있고,
상기 오믹층부터 상기 n형 질화물 반도체층의 일부분까지 식각된 복수개의 홈이 상호 이격되어 형성되어 있고,
상기 오믹층 상부에 도전성 지지막이 형성되어 있고,
상기 n형 질화물 반도체층 하부에 형성되는 n-전극을 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 발광 다이오드 제조방법의 다른 실시예는, 기판 상부에 n형 질화물 반도체층, 활성층, p형 질화물 반도체층, 오믹층을 순차적으로 형성하는 단계와, 상기 오믹층부터 상기 n형 질화물 반도체층의 일부분까지 식각하여 복수개의 상호 이격된 홈을 형성하는 단계와, 상기 오믹층 상부에 도전성 지지막을 형성하는 단계와, 상기 기판을 상기 n형 질화물 반도체층으로부터 제거하는 단계와, 상기 n형 질화물 반도체층 하부에 n-전극을 형성하는 단계를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 한다.
이하, 도 3 내지 도 7을 참조하여 본 발명의 발광 다이오드 및 그 제조방법에 대해 상세히 설명한다. 도 3은 본 발명의 발광 다이오드의 실시예를 나타낸 단면도이다.
이에 도시된 바와 같이, 기판(100) 상부에 버퍼층(110), n형 질화물 반도체층(120), 활성층(130), p형 질화물 반도체층(140)이 순차적으로 형성되어 있고,
상기 p형 질화물 반도체층(140)부터 상기 n형 질화물 반도체층(120)의 일부 분까지 메사(Mesa) 식각되어 상기 n형 질화물 반도체층(120)의 일부가 상부로부터 노출되어 있고,
상기 p형 질화물 반도체층(140) 상부에 투명 전극(150)이 형성되어 있고,
상기 투명 전극(150)부터 상기 n형 질화물 반도체층(120)의 일부분까지 식각된 복수개의 홈(180)이 상호 이격하여 형성되어 있고,
상기 투명 전극(150) 상부에 p-전극(160)이 형성되어 있고, 상기 노출된 n형 질화물 반도체층(120) 상부에 n-전극(170)이 형성되어 이루어진다.
여기서, 상기 기판(100)으로는 사파이어(Al2O3) 기판, 실리콘 카바이드(SiC) 기판, 실리콘(Si) 기판, 갈륨 아세나이드(GaAs) 기판 등이 사용되며, 특히 사파이어 기판이 대표적으로 사용된다.
상기 버퍼층(110)은 상기 기판(100)과 질화물 반도체 물질의 격자 부정합 및 열 팽창 계수의 차이를 완화하기 위한 것으로, 저온 성장 GaN층 또는 AlN층이 사용된다.
상기 n형 질화물 반도체층(120)은 AlxInyGa(1-x-y)N 조성식(여기서, 0≤x≤1, 0≤y≤1, 0≤x+y≤1 임)을 갖는 n-도핑된 반도체 물질로 이루어지며, 특히 n-GaN이 널리 사용된다.
상기 활성층(130)은 다중 양자 우물(Multi-Quantum Well : MQW) 구조를 가지며, GaN 또는 InGaN으로 이루어질 수 있다.
상기 p형 질화물 반도체층(140)은 상기 n형 질화물 반도체층(120)과 마찬가 지로, AlxInyGa(1-x-y)N 조성식(여기서, 0≤x≤1, 0≤y≤1, 0≤x+y≤1 임)을 갖는 질화물 반도체 물질로 이루어지며, p-도핑된다.
상기 p형 질화물 반도체층(140)은 불순물 도핑 농도가 낮아 접촉 저항이 높으며 그로 인해 오믹 특성이 좋지 못하다. 따라서, 이러한 오믹 특성을 개선하기 위해 투명 전극(150)을 상기 p형 질화물 반도체층(140) 상부에 형성한다.
상기 투명 전극(150)으로는 Ni/Au의 이중층으로 구성된 투명 전극층이 널리 사용되며, 상기 Ni/Au의 이중층으로 구성된 투명 전극층은 전류 주입 면적을 증가시키면서 오믹 콘택을 형성하여 순방향 전압(Vf)을 저하시킨다.
한편, 약 60% 내지 70%의 낮은 투과율을 보이는 상기 Ni/Au의 이중층 대신 투과율이 약 90% 이상인 것으로 알려진 TCO(Transparent Conducting Oxide)층을 상기 p형 질화물 반도체층(140) 상부에 형성할 수도 있다.
상기 p-전극(160) 및 상기 n-전극(170)은 크롬(Cr), 니켈(Ni), 금(Au), 알루미늄(Al), 타이타늄(Ti), 백금(Pt) 중에서 선택된 어느 하나의 금속 또는 상기 금속들의 합금으로 이루어진다.
본 발명의 발광 다이오드는 광 적출 효율을 향상시키기 위해 상기 투명 전극(150)부터 상기 n형 질화물 반도체층(120)의 일부분까지 식각하여 형성되며, 상호 이격된 복수개의 홈(180)을 구비하고 있다.
상기 투명 전극(150)부터 상기 n형 질화물 반도체층(120)의 일부분까지 식각된 홈(180)을 구비함으로써, 활성층(130)에서 발생한 빛이 소자 내부를 진행하는 거리를 줄일 수 있게 되며, 빛이 소자 내부에서 흡수 및 산란되는 양을 줄일 수 있다.
즉, 종래의 발광 다이오드에서는 활성층에서 발생한 빛이 소자 내부를 진행하면서 소자 내의 물질층에 흡수 및 산란됨으로 인해 빛의 세기가 약해졌으며, 특히 소자의 측면으로 빠져나오는 빛의 경우 소자 내부에서 빛이 진행하는 거리가 길기 때문에 많은 양이 소자 내의 물질층에 흡수 및 산란되어 빛의 세기가 더욱 약해진다.
발광 다이오드에 있어서, 상기 활성층에서 발생한 빛은 소자 내부에서 진행하는 거리에 따라 빛의 세기가 감소하는데, 이는 다음과 같은 식으로 나타낼 수 있다.
여기서, I는 빛이 거리 L만큼 진행하였을 때의 세기를 말하고, I0는 최초의 빛의 세기를 말하며, α는 물질의 흡수 계수(Absorption Coefficient)를 말한다.
상기 수학식 1에 의하면 활성층에서 발생한 빛의 세기는 소자 내부에서 진행하는 거리 및 흡수 계수(α)에 따라 지수함수적으로 감소하는데, 발광 다이오드의 물질을 변경한다는 것은 어려운 일이며, 소자 내부에서 진행하는 거리를 줄이는 것이 빛의 세기가 감소하는 것을 방지하는 대안이 된다.
따라서, 본 발명에서는 상기 투명 전극(150)부터 상기 n형 질화물 반도체층 (120)의 일부분까지 식각하여 상호 이격된 복수개의 홈(180)을 형성함으로써, 상기 활성층(130)에서 발생한 빛이 짧은 거리만 이동한 후, 외부로 방출될 수 있게 하였다.
이에 의하면, 상기 활성층(130)에서 발생한 빛이 소자 내부에서 흡수 및 산란되는 양을 줄일 수 있으며, 그로 인해 외부로 방출되는 빛의 세기를 향상시킬 수 있게 된다.
여기서, 상기 복수개의 홈(180)들 간의 간격은 I/I0 가 0.5 이상이 되도록 형성하며, 상기 홈(180)의 폭은 1 ~ 10㎛ 정도로 하는 것이 바람직하다.
이와 같이 상기 복수개의 홈(180)들 간의 간격이 I/I0 가 0.5 이상이 되도록 형성하면, 상기 활성층(130)에서 발생한 빛은 빛의 세기가 최초 빛의 세기의 절반 이하가 되기 전에 소자 외부로 빠져나가게 된다.
따라서, 상기 활성층(130)에서 발생한 빛이 소자 내부에서 흡수 및 산란됨으로 인해 빛의 세기가 일정한 세기 이하로 줄어드는 것을 방지할 수 있게 된다.
그리고, 상기 홈(180)의 내측면이 상기 기판(100)에 수직한 선을 기준으로 일정한 각도를 가지도록 형성하면 발광 다이오드의 광 적출 효율을 보다 더 향상시킬 수 있다.
즉, 상기 홈(180)의 내측면이 수직선상을 기준으로 일정한 각도를 가지도록 형성하면, 상기 홈(180)의 내측면에서의 임계각을 높일 수 있으며 활성층(130)에서 발생한 빛이 상기 홈(180)의 내측면에 도달했을때, 소자 내부로 전반사되는 확률을 줄일 수 있다.
이때, 상기 홈(180)의 내측면은 수직선상을 기준으로 하였을때, 0 ~ 70 °의 경사를 가지도록 형성할 수 있다.
도 4a 내지 도 4e는 본 발명의 발광 다이오드의 제조방법의 실시예를 나타낸 단면도이다. 이에 도시된 바와 같이, 먼저 기판(200) 상부에 버퍼층(210), n형 질화물 반도체층(220), 활성층(230), p형 질화물 반도체층(240)을 순차적으로 형성한다(도 4a).
여기서, 상기 기판(200)으로는 사파이어(Al2O3) 기판, 실리콘 카바이드(SiC) 기판, 실리콘(Si) 기판, 갈륨 아세나이드(GaAs) 기판 등을 사용하며, 바람직하게는 사파이어 기판을 사용한다.
그리고, 상기 기판(200) 상부에 형성되는 버퍼층(210), n형 질화물 반도체층(220), 활성층(230), p형 질화물 반도체층(240)은 MOCVD(Metal Organic Chemical Vapor Deposition), MBE(Molecular Beam Epitaxy), HVPE(Hydride Vapor Phase Epitaxy)법과 같은 기상 증착법에 의해 성장시킨다.
다음으로, 상기 p형 질화물 반도체층(240)부터 상기 n형 질화물 반도체층(220)의 일부분까지 메사(Mesa) 식각하여 상기 n형 질화물 반도체층(220)의 일부분을 상부로부터 노출시킨다(도 4b).
사파이어 기판과 같이 절연성 기판을 사용하는 경우 기판 하부에 전극을 형 성할 수 없기 때문에, 상기 p형 질화물 반도체층(240)부터 상기 n형 질화물 반도체층(220)의 일부분까지 메사(Mesa) 식각함으로써, 전극을 형성할 수 있는 공간을 확보한다.
이어서, 상기 p형 질화물 반도체층(240) 상부에 투명 전극(250)을 형성한다(도 4c).
상기 투명 전극(250)은 전류 주입 면적을 증가시키면서 상기 p형 질화물 반도체층(240)과 오믹 콘택(Ohmic Contact)을 형성하여 순방향 전압(Vf)을 저하시켜 준다.
상기 투명 전극(250)으로는 Ni/Au의 이중층을 사용하거나, ITO(Indium Tin Oxide) 또는 ZnO 등과 같은 TCO(Transparent Conducting Oxide)층을 사용할 수도 있다.
그 후, 상기 투명 전극(250)부터 상기 n형 질화물 반도체층(220)의 일부분까지 식각하여 복수개의 상호 이격된 홈(280)을 형성한다(도 4d).
즉, 상기 투명 전극(250) 상부에 포토 레지스트를 도포하고 패터닝한 후, 패터닝된 포토 레지스트를 식가 마스크로 하여 상기 투명 전극(250)부터 상기 n형 질화물 반도체층(220)의 일부분까지 식각한다.
상기 식각은 ICP/RIE(Inductively Coupled Plasma/Reactive Ion Etching) 방식으로 건식 식각하며, 상기 홈(280)의 폭은 1 ~ 10㎛ 정도가 되도록 형성하는 것이 바람직하다.
이때, 상기 홈(280)의 내측면은 수직선상을 기준으로 하였을때, 0 ~ 70 °의 경사를 가지도록 형성하는 것이 바람직하다.
여기서, 상기 홈(280)의 내측면의 경사는 포토 레지스트나 플라즈마의 바이어스(Bias) 또는 밀도(Density) 등에 의해 조절할 수 있다.
즉, 패터닝한 포토 레지스트의 온도를 조절하여 상기 포토 레지스트의 측면이 일정 각도의 경사를 가지도록 할 수 있으며, 이를 식각 마스크로 이용하면 상기 홈(280)의 내측면 각을 조절할 수 있다.
그리고, 플라즈마의 바이어스나 밀도 등을 변화시키면 플라즈마의 방향성을 조절할 수 있으므로 상기 홈(280)의 내측면 각을 조절할 수 있다.
연이어, 상기 투명 전극(250) 상부에 p-전극(260)을 형성하고, 상기 노출된 n형 질화물 반도체층(220) 상부에 n-전극(270)을 형성한다(도 4e).
도 5a 내지 도 5c는 본 발명에 있어서, 복수개의 홈의 형상을 나타낸 평면도이다. 복수개의 홈의 형상은 이에 도시된 형상들 외에 다양한 형상으로 형성할 수 있다.
지금까지는 p-전극 및 n-전극이 같은 평면 상에 형성되는 수평 전극형 발광 다이오드에 대해서 살펴보았지만, 본 발명은 수직 전극형 발광 다이오드 즉, p-전극(도전성 지지막)이 발광 구조물의 상부에 형성되고 n-전극이 발광 구조물의 하부에 형성되는 발광 다이오드에도 동일하게 적용할 수 있다.
도 6은 본 발명의 발광 다이오드의 다른 실시예를 나타낸 단면도이다. 이에 도시된 바와 같이, n형 질화물 반도체층(300), 활성층(310), p형 질화물 반도체층(320), 오믹층(330)이 순차적으로 형성되어 있고,
상기 오믹층(330)부터 상기 n형 질화물 반도체층(300)의 일부분까지 식각된 복수개의 홈이 상호 이격되어 형성되어 있고,
상기 오믹층(330) 상부에 도전성 지지막(340)이 형성되어 있고,
상기 n형 질화물 반도체층(300) 하부에 n-전극(350)이 형성되어 이루어진다.
여기서, 상기 오믹층(330)은 니켈(Ni)/금(Au)의 금속 박막으로 이루어지며, 이러한 니켈을 기본으로 하는 금속 박막은 산소 분위기에서 열처리 됨으로써 10-3~10-4Ωcm2 정도의 비접촉 저항을 갖는 오믹 접촉(Ohmic Contact)을 형성한다.
상기 오믹층(330)으로서 니켈(Ni)/금(Au)의 금속 박막을 사용하는 경우, 반사율이 높아 활성층(310)으로부터 방출되는 빛을 효과적으로 반사시킬 수 있으므로, 별도의 반사막(Reflector)을 형성하지 않아도 반사 효과를 얻을 수 있다는 장점이 있다.
상기 도전성 지지막(340)은 p-전극의 역할을 하게 되므로, 전기 전도도가 우수한 금속을 사용하는 것이 바람직하다.
또한, 소자 작동시 발생하는 열을 충분히 발산시킬 수 있어야 하므로 열전도도가 높은 금속을 사용하며, 도전성 지지막(340) 형성시 전체 웨이퍼에 휨을 가져오지 않으면서, 스크라이빙(scribing) 공정 및 브레이킹(breaking) 공정을 통하여 별개의 칩으로 잘 분리시키기 위해서는 어느 정도의 기계적 강도를 갖추어야 한다.
따라서, 상기 도전성 지지막(340)으로는 금(Au), 구리(Cu), 은(Ag) 및 알루미늄(Al) 등의 열전도도가 좋은 연금속과 상기 금속들과 결정 구조 및 결정 격자 상수가 유사하여 합금시 내부 응력 발생을 최소화할 수 있으면서 기계적 강도가 있는 니켈(Ni), 코발트(Co), 백금(Pt) 및 팔라듐(Pd) 등 경금속의 합금으로 형성하는 것이 바람직하다.
도 7a 내지 도 7e는 본 발명의 발광 다이오드의 제조방법의 다른 실시예를 나타낸 단면도이다. 이에 도시된 바와 같이, 먼저 사파이어 기판(400) 상부에 n형 질화물 반도체층(410), 활성층(420), p형 질화물 반도체층(430), 오믹층(440)을 순차적으로 형성한다(도 7a).
다음으로, 상기 오믹층(440)부터 상기 n형 질화물 반도체층(410)의 일부분까지 식각하여 복수개의 상호 이격된 홈(480)을 형성한다(도 7b).
이어서, 상기 오믹층(440) 상부에 도전성 지지막(450)을 형성한다(도 7c).
그 후, 상기 사파이어 기판(400)을 상기 n형 질화물 반도체층(410)으로부터 분리시킨다(도 7d). 여기서, 상기 사파이어 기판(400)의 제거는 엑시머 레이저 등을 이용한 레이저 리프트 오프(Laser Lift Off : LLO)의 방법으로 할 수도 있으며, 건식 및 습식 식각의 방법으로 할 수도 있다.
특히, 상기 기판(400)의 제거는 레이저 리프트 오프 방법으로 수행하는 것이 바람직하다. 즉, 상기 사파이어 기판(400)에 일정 영역의 파장을 가지는 엑시머 레 이저 광을 포커싱(focusing)하여 조사하면, 상기 사파이어 기판(400)과 상기 n형 질화물 반도체층(410)의 경계면에 열 에너지가 집중되어 상기 n형 질화물 반도체층(410)의 계면이 갈륨과 질소 분자로 분리되면서 레이저 광이 지나가는 부분에서 순간적으로 사파이어 기판(400)의 분리가 일어난다.
다음으로, 상기 n형 질화물 반도체층(410) 하부에 n-전극(460)을 형성한다(도 7e).
한편, 상기에서는 본 발명을 특정의 바람직한 실시예에 관련하여 도시하고 설명하였지만, 이하의 특허청구범위에 의해 마련되는 본 발명의 정신이나 분야를 이탈하지 않는 한도 내에서 본 발명이 다양하게 개조 및 변화될 수 있다는 것을 당업계에서 통상의 지식을 가진 자는 용이하게 알 수 있다.
본 발명에 의하면, 투명 전극(혹은 오믹층)부터 n형 질화물 반도체층의 일부분까지 식각하여 복수개의 상호 이격된 홈을 형성함으로써, 활성층에서 발생한 빛이 소자 내부를 진행하는 거리를 작게 하여 외부로 방출되는 빛의 세기가 감소하는 것을 방지할 수있다.
그리고, 상기 홈의 내측면을 수직선상을 기준으로 하여 경사를 가지도록 함으로써, 상기 홈의 내측면에서의 임계각을 높일 수 있으며 활성층에서 발생한 빛이 상기 홈의 내측면에 도달했을때, 소자 내부로 전반사되는 확률을 줄일 수 있어 광 적출 효율을 향상시킬 수 있다.
Claims (10)
- 기판 상부에 버퍼층, n형 질화물 반도체층, 활성층, p형 질화물 반도체층이 순차적으로 형성되어 있고,상기 p형 질화물 반도체층부터 상기 n형 질화물 반도체층의 일부분까지 메사(Mesa) 식각되어 상기 n형 질화물 반도체층의 일부가 상부로부터 노출되어 있고,상기 p형 질화물 반도체층 상부에 투명 전극이 형성되어 있고,상기 투명 전극부터 상기 n형 질화물 반도체층의 일부분까지 식각된 복수개의 홈이 상호 이격하여 형성되어 있고,상기 투명 전극 상부에 p-전극이 형성되어 있고, 상기 노출된 n형 질화물 반도체층 상부에 n-전극이 형성되어 이루어지는 발광 다이오드.
- 제1항에 있어서,상기 투명 전극은 Ni/Au의 이중층 또는 ITO(Indium Tin Oxide)층인 것을 특징으로 하는 발광 다이오드.
- n형 질화물 반도체층, 활성층, p형 질화물 반도체층, 오믹층이 순차적으로 형성되어 있고,상기 오믹층부터 상기 n형 질화물 반도체층의 일부분까지 식각된 복수개의 홈이 상호 이격되어 형성되어 있고,상기 오믹층 상부에 도전성 지지막이 형성되어 있고,상기 n형 질화물 반도체층 하부에 형성되는 n-전극을 포함하여 이루어지는 발광 다이오드.
- 제1항 내지 제3항 중 어느 하나의 항에 있어서,상기 홈의 폭은 1 ~ 10㎛인 것을 특징으로 하는 발광 다이오드.
- 제1항 내지 제3항 중 어느 하나의 항에 있어서,상기 홈은 스트라이프형의 형상을 가지는 것을 특징으로 하는 발광 다이오드.
- 제1항 내지 제3항 중 어느 하나의 항에 있어서,상기 홈의 내측면은 수직선상을 기준으로 0 ~ 70 °의 각도로 경사진 것을 특징으로 하는 발광 다이오드.
- 기판 상부에 버퍼층, n형 질화물 반도체층, 활성층, p형 질화물 반도체층을 순차적으로 형성하는 단계;상기 p형 질화물 반도체층부터 상기 n형 질화물 반도체층의 일부분까지 메사(Mesa) 식각하여 상기 n형 질화물 반도체층의 일부를 상부로부터 노출시키는 단계;상기 p형 질화물 반도체층 상부에 투명 전극을 형성하는 단계;상기 투명 전극부터 상기 n형 질화물 반도체층의 일부분까지 식각하여 상호 이격된 복수개의 홈을 형성하는 단계; 및상기 투명 전극 상부에 p-전극을 형성하고, 상기 노출된 n형 질화물 반도체층 상부에 n-전극을 형성하는 단계를 포함하여 이루어지는 발광 다이오드의 제조방법.
- 제7항에 있어서,상기 버퍼층, n형 질화물 반도체층, 활성층, p형 질화물 반도체층은 MOCVD(Metal Organic Chemical Vapor Deposition)법에 의해 성장시키는 것을 특징으로 하는 발광 다이오드의 제조방법.
- 제7항에 있어서,상기 투명 전극부터 상기 n형 질화물 반도체층의 일부분까지의 식각은 ICP/RIE(Inductively Coupled Plasma/Reactive Ion Etching) 방식으로 수행하는 것을 특징으로 하는 발광 다이오드의 제조방법.
- 기판 상부에 n형 질화물 반도체층, 활성층, p형 질화물 반도체층, 오믹층을 순차적으로 형성하는 단계;상기 오믹층부터 상기 n형 질화물 반도체층의 일부분까지 식각하여 복수개의 상호 이격된 홈을 형성하는 단계;상기 오믹층 상부에 도전성 지지막을 형성하는 단계;상기 기판을 상기 n형 질화물 반도체층으로부터 제거하는 단계; 및상기 n형 질화물 반도체층 하부에 n-전극을 형성하는 단계를 포함하여 이루어지는 발광 다이오드의 제조방법.
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1020060018378A KR20070088145A (ko) | 2006-02-24 | 2006-02-24 | 발광 다이오드 및 그 제조방법 |
| EP07290172A EP1826833A3 (en) | 2006-02-24 | 2007-02-12 | Light emitting device and method of manufacturing the same |
| US11/709,197 US7732822B2 (en) | 2006-02-24 | 2007-02-22 | Light emitting device and method of manufacturing the same |
| CN2007100058144A CN101026213B (zh) | 2006-02-24 | 2007-02-25 | 发光器件及其制造方法 |
| JP2007045407A JP2007227939A (ja) | 2006-02-24 | 2007-02-26 | 発光素子及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1020060018378A KR20070088145A (ko) | 2006-02-24 | 2006-02-24 | 발광 다이오드 및 그 제조방법 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR20070088145A true KR20070088145A (ko) | 2007-08-29 |
Family
ID=38048323
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1020060018378A KR20070088145A (ko) | 2006-02-24 | 2006-02-24 | 발광 다이오드 및 그 제조방법 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US7732822B2 (ko) |
| EP (1) | EP1826833A3 (ko) |
| JP (1) | JP2007227939A (ko) |
| KR (1) | KR20070088145A (ko) |
| CN (1) | CN101026213B (ko) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20110093037A (ko) * | 2010-02-11 | 2011-08-18 | 삼성엘이디 주식회사 | 질화물 반도체 발광소자 |
| WO2012020896A1 (en) * | 2010-08-11 | 2012-02-16 | Seoul Opto Device Co., Ltd. | Uv light emitting diode and method of manufacturing the same |
| KR101138422B1 (ko) * | 2010-04-14 | 2012-04-26 | 희성전자 주식회사 | 엘이디 및 그 제조방법 |
| US8242509B2 (en) | 2009-02-18 | 2012-08-14 | Lg Innotek Co., Ltd. | Light emitting device |
| US8263985B2 (en) | 2008-04-24 | 2012-09-11 | Lg Innotek Co., Ltd. | Semiconductor light emitting device having one or more recesses on a layer |
| KR101312661B1 (ko) * | 2011-01-12 | 2013-09-27 | 국립대학법인 울산과학기술대학교 산학협력단 | 나노체 기반 발광 다이오드 및 그 제조 방법 |
Families Citing this family (20)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5333226B2 (ja) * | 2007-09-26 | 2013-11-06 | 日亜化学工業株式会社 | 発光素子及びそれを用いた発光装置 |
| KR101428088B1 (ko) * | 2008-08-12 | 2014-08-07 | 엘지이노텍 주식회사 | 반도체 발광소자 및 그 제조방법 |
| KR100969146B1 (ko) * | 2009-02-18 | 2010-07-08 | 엘지이노텍 주식회사 | 반도체 발광소자 및 그 제조방법 |
| TWI437731B (zh) * | 2009-03-06 | 2014-05-11 | Advanced Optoelectronic Tech | 一種具有提升光取出率之半導體光電元件及其製造方法 |
| US8471288B2 (en) * | 2009-09-15 | 2013-06-25 | Toyoda Gosei Co., Ltd. | Group III nitride semiconductor light-emitting device including an auxiliary electrode in contact with a back surface of an n-type layer |
| GB2487917B (en) * | 2011-02-08 | 2015-03-18 | Seren Photonics Ltd | Semiconductor devices and fabrication methods |
| JP2012186195A (ja) * | 2011-03-03 | 2012-09-27 | Toshiba Corp | 半導体発光素子及びその製造方法 |
| JP5479391B2 (ja) * | 2011-03-08 | 2014-04-23 | 株式会社東芝 | 半導体発光素子及びその製造方法 |
| JP2012204397A (ja) * | 2011-03-23 | 2012-10-22 | Toshiba Corp | 半導体発光装置およびその製造方法 |
| JP2012231000A (ja) * | 2011-04-26 | 2012-11-22 | Toshiba Corp | 半導体発光装置 |
| JP5462333B1 (ja) | 2012-09-21 | 2014-04-02 | 株式会社東芝 | 半導体発光素子及びその製造方法 |
| TWI514613B (zh) * | 2013-10-18 | 2015-12-21 | Lextar Electronics Corp | 發光元件結構 |
| JP2014064012A (ja) * | 2013-10-28 | 2014-04-10 | Toshiba Corp | 半導体発光素子及びその製造方法 |
| CN104701437A (zh) * | 2015-03-09 | 2015-06-10 | 武汉大学 | 一种三维led发光器件 |
| CN104659178A (zh) * | 2015-03-09 | 2015-05-27 | 武汉大学 | 一种功率型三维led发光器件及其制造方法 |
| DE102015111493B4 (de) * | 2015-07-15 | 2021-09-23 | OSRAM Opto Semiconductors Gesellschaft mit beschränkter Haftung | Bauelement mit verbesserten Auskoppeleigenschaften |
| CN105609609B (zh) * | 2016-01-22 | 2018-02-16 | 华灿光电(苏州）有限公司 | 一种倒装结构的发光二极管芯片及其制备方法 |
| DE102016101442A1 (de) * | 2016-01-27 | 2017-07-27 | Osram Opto Semiconductors Gmbh | Konversionselement und strahlungsemittierendes Halbleiterbauelement mit einem solchen Konversionselement |
| TWI712180B (zh) | 2019-10-22 | 2020-12-01 | 錼創顯示科技股份有限公司 | 微型發光二極體晶粒及微型發光二極體晶圓 |
| CN110707191B (zh) * | 2019-10-22 | 2021-11-16 | 錼创显示科技股份有限公司 | 微型发光二极管晶粒及微型发光二极管晶圆 |
Family Cites Families (21)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS50105286A (ko) * | 1974-01-24 | 1975-08-19 | ||
| DE19629920B4 (de) * | 1995-08-10 | 2006-02-02 | LumiLeds Lighting, U.S., LLC, San Jose | Licht-emittierende Diode mit einem nicht-absorbierenden verteilten Braggreflektor |
| WO1999031738A2 (en) * | 1997-12-16 | 1999-06-24 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Aiii-nitride channeled led |
| JP3691951B2 (ja) * | 1998-01-14 | 2005-09-07 | 東芝電子エンジニアリング株式会社 | 窒化ガリウム系化合物半導体発光素子 |
| JP3973799B2 (ja) | 1999-07-06 | 2007-09-12 | 松下電器産業株式会社 | 窒化ガリウム系化合物半導体発光素子 |
| US6410942B1 (en) * | 1999-12-03 | 2002-06-25 | Cree Lighting Company | Enhanced light extraction through the use of micro-LED arrays |
| JP2002026386A (ja) * | 2000-07-10 | 2002-01-25 | Toyoda Gosei Co Ltd | Ｉｉｉ族窒化物系化合物半導体発光素子 |
| US20020017652A1 (en) * | 2000-08-08 | 2002-02-14 | Stefan Illek | Semiconductor chip for optoelectronics |
| DE10142541B9 (de) * | 2001-08-30 | 2014-05-28 | Osram Opto Semiconductors Gmbh | Elektrolumineszierender Körper |
| JP2005503043A (ja) * | 2001-08-30 | 2005-01-27 | オスラム オプト セミコンダクターズ ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング | エレクトロルミネセンス体 |
| CN100595938C (zh) * | 2002-08-01 | 2010-03-24 | 日亚化学工业株式会社 | 半导体发光元件及其制造方法、使用此的发光装置 |
| JP2004079972A (ja) * | 2002-08-22 | 2004-03-11 | Fuji Photo Film Co Ltd | 面発光型発光素子 |
| TW569474B (en) * | 2002-10-25 | 2004-01-01 | Nat Univ Chung Hsing | Superluminent light emitting diode with plated substrate having reflecting mirror and the manufacturing method thereof |
| US7595511B2 (en) * | 2003-08-08 | 2009-09-29 | Sang-Kyu Kang | Nitride micro light emitting diode with high brightness and method of manufacturing the same |
| US20050051781A1 (en) * | 2003-09-08 | 2005-03-10 | United Epitaxy Company, Ltd. | Light emitting diode and method of making the same |
| CN100386890C (zh) | 2004-04-05 | 2008-05-07 | 清华大学 | 一种GaN基发光二极管的制作方法 |
| KR100601381B1 (ko) | 2004-11-29 | 2006-07-13 | 삼성에스디아이 주식회사 | 평판표시장치 및 그 제조방법 |
| KR100715500B1 (ko) | 2004-11-30 | 2007-05-07 | (주)케이디티 | 미세공동 유기 발광 소자와 광 여기 발광층을 이용한 광원 |
| KR20060102446A (ko) | 2005-03-23 | 2006-09-27 | 삼성에스디아이 주식회사 | 유기전계 발광표시장치 및 그 제조방법 |
| JP4670489B2 (ja) * | 2005-06-06 | 2011-04-13 | 日立電線株式会社 | 発光ダイオード及びその製造方法 |
| KR100668964B1 (ko) * | 2005-09-27 | 2007-01-12 | 엘지전자 주식회사 | 나노 홈을 갖는 발광 소자 및 그의 제조 방법 |
-
2006
- 2006-02-24 KR KR1020060018378A patent/KR20070088145A/ko not_active Application Discontinuation
-
2007
- 2007-02-12 EP EP07290172A patent/EP1826833A3/en not_active Withdrawn
- 2007-02-22 US US11/709,197 patent/US7732822B2/en active Active
- 2007-02-25 CN CN2007100058144A patent/CN101026213B/zh active Active
- 2007-02-26 JP JP2007045407A patent/JP2007227939A/ja active Pending
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8263985B2 (en) | 2008-04-24 | 2012-09-11 | Lg Innotek Co., Ltd. | Semiconductor light emitting device having one or more recesses on a layer |
| US8648355B2 (en) | 2008-04-24 | 2014-02-11 | Lg Innotek Co., Ltd. | Semiconductor light emitting device having one or more recesses on a layer |
| US8242509B2 (en) | 2009-02-18 | 2012-08-14 | Lg Innotek Co., Ltd. | Light emitting device |
| KR20110093037A (ko) * | 2010-02-11 | 2011-08-18 | 삼성엘이디 주식회사 | 질화물 반도체 발광소자 |
| KR101138422B1 (ko) * | 2010-04-14 | 2012-04-26 | 희성전자 주식회사 | 엘이디 및 그 제조방법 |
| WO2012020896A1 (en) * | 2010-08-11 | 2012-02-16 | Seoul Opto Device Co., Ltd. | Uv light emitting diode and method of manufacturing the same |
| KR101312661B1 (ko) * | 2011-01-12 | 2013-09-27 | 국립대학법인 울산과학기술대학교 산학협력단 | 나노체 기반 발광 다이오드 및 그 제조 방법 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US20070200122A1 (en) | 2007-08-30 |
| EP1826833A3 (en) | 2010-11-10 |
| JP2007227939A (ja) | 2007-09-06 |
| US7732822B2 (en) | 2010-06-08 |
| CN101026213A (zh) | 2007-08-29 |
| CN101026213B (zh) | 2012-07-04 |
| EP1826833A2 (en) | 2007-08-29 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR20070088145A (ko) | 발광 다이오드 및 그 제조방법 | |
| KR100844722B1 (ko) | 나노콘 성장방법 및 이를 이용한 발광 다이오드의제조방법 | |
| US7436001B2 (en) | Vertical GaN-based LED and method of manufacturing the same | |
| US7521329B2 (en) | Semiconductor light emitting diode having textured structure and method of manufacturing the same | |
| US10014442B2 (en) | Method for manufacturing vertical type light emitting diode, vertical type light emitting diode, method for manufacturing ultraviolet ray light emitting diode, and ultraviolet ray light emitting diode | |
| KR101000311B1 (ko) | 반도체 발광소자 및 그 제조방법 | |
| JP2000174339A (ja) | ＧａＮ系半導体発光素子およびＧａＮ系半導体受光素子 | |
| JP2008140918A (ja) | 発光素子の製造方法 | |
| KR101274651B1 (ko) | 발광 다이오드 및 이의 제조 방법 | |
| KR100663016B1 (ko) | 수직형 발광 다이오드 및 그 제조방법 | |
| KR101158126B1 (ko) | 질화 갈륨계 발광 다이오드 | |
| KR101073249B1 (ko) | 수직형 발광 다이오드 및 그 제조방법 | |
| KR101132885B1 (ko) | 질화물계 발광 다이오드 및 그 제조방법 | |
| KR20090090114A (ko) | 투명 전극을 갖는 발광 다이오드 및 그 제조 방법 | |
| KR100652346B1 (ko) | 발광 다이오드 및 그 제조방법 | |
| KR100751632B1 (ko) | 발광 소자 | |
| KR100622819B1 (ko) | 패턴된 기판의 제조방법 및 그 기판을 이용한 발광다이오드의 제조방법 | |
| KR101131349B1 (ko) | 질화물 발광 다이오드 | |
| KR100691123B1 (ko) | 수직형 발광 다이오드의 제조방법 | |
| KR101580213B1 (ko) | 자외선 발광다이오드 제조 방법 및 자외선 발광다이오드 | |
| KR20060032167A (ko) | 질화갈륨계 반도체 발광소자 | |
| KR100813598B1 (ko) | 질화물계 반도체 발광다이오드 | |
| KR20060134490A (ko) | 플립 칩 질화물반도체 발광 다이오드 및 그의 제조 방법 | |
| KR100601144B1 (ko) | 질화갈륨계 반도체 발광소자 | |
| KR101506961B1 (ko) | 수직형 발광다이오드 제조 방법 및 수직형 발광다이오드 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A201 | Request for examination | ||
| E601 | Decision to refuse application |