KR20070029064A - 플라즈마 디스플레이의 차광성 패턴 형성용 감광성수지조성물 - Google Patents

플라즈마 디스플레이의 차광성 패턴 형성용 감광성수지조성물 Download PDF

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Abstract

본 발명은 직선성이 높고, 박리나 찌꺼기가 없는 양호한 흑색 전극 및 블랙 스트라이프로 대표되는 차광성 패턴을 쉽게 형성할 수 있는 플라즈마 디스플레이의 차광성 패턴 형성용 감광성 수지조성물을 제공한다. 감광성 수지조성물은 화학식 1로 나타내어지는 광중합 개시제, 차광성 물질, 바인더 수지 및 광중합성 화합물을 함유한다. 이 화합물들을 함유함으로써 감광성 수지조성물은 광에 대한 감도가 높아지고, 패턴의 형상 마진이 높아진다. 따라서, 감광성 수지조성물이 차광성 물질을 다량으로 함유하는 경우에도, 직선성이 좋고 박리나 찌꺼기가 없는 패턴을 쉽게 형성할 수 있으며, 컨트라스트가 높고 발색이 아름다운 PDP를 쉽게 제공할 수 있다.
[화학식 1]
Figure 112006064351188-PAT00001
차광성 패턴, 플라즈마 디스플레이

Description

플라즈마 디스플레이의 차광성 패턴 형성용 감광성 수지조성물{Photosensitive composition for forming light shielding pattern of plasma display}
본 발명은 기체방전을 사용하는 자발광 형식의 플라즈마 디스플레이에서의 플라즈마 디스플레이 패널(이하, PDP라고 함)에 사용되는 차광성 패턴을 형성하기 위한 차광성 수지조성물에 관한 것이다.
방전현상을 이용하여 다수의 미세한 셀을 자기발광시킴으로써 화상을 형성하는 플라즈마 디스플레이는, 대화면, 박형, 경량, 편평함이라는 종래의 디스플레이에서는 실현할 수 없었던 뛰어난 특징을 가지기 때문에 그 보급이 도모되고 있다.
일반적으로 PDP는 서로 마주보는 2장의 글라스 기판에 각각 규칙적으로 배열된 한 쌍의 전극을 구비하고, 이 전극들 사이에 네온, 크세논, 헬륨 등을 주체로 하는 희(希)가스가 밀봉된 구성이다. 전극 사이에 전압을 인가하면 전극 주변의 미소한 셀 안에서 방전이 일어나, 이에 의해 각 셀이 발광하여 표시가 이루어진다. PDP는 규칙적으로 배치된 셀을 선택적으로 방전발광시킴으로써 정보를 표시하고 있다.
PDP에는 직류형(DC형) 및 교류형(AC형)이 포함되며, AC형 PDP로서는 와플구조형 셀을 가지는 PDP를 들 수 있다. PDP의 전면판에는 투명전극 및 버스전극으로 이루어지는 복합전극이 서로 평행하게 형성되며, 배면판에는 복합전극과 직교하도록 어드레스 전극이 서로 평행하게 형성되어 있다. 버스전극은 일본특허공개 2005-129319호 공보에 나타나 있는 바와 같이, 시트저항이 높은 흑색 전극과 금속전극인 백색전극으로 구성되는 경우도 있다. 이 전면판 및 배면판들은 대향배치되어 일체화되고, 복합전극과 어드레스 전극이 교차하는 공간에는 다수의 셀이 형성되어 있다. 다수의 셀의 내면 및 바닥면에는 형광체층이 설치되어 있다. 플라즈마 디스플레이에서는 전면판의 복합전극 사이에 교류전원으로부터 소정 전압을 인가하여 전기장을 형성함으로써 셀 안에서 방전이 이루어져, 발생하는 자외선에 의해 형광체층이 발광된다.
플라즈마 디스플레이에서의 화상의 컨트라스트 및 색순도의 저하를 방지하기 위하여, 블랙 스트라이프가 전면판 또는 가로세로로 배치된 블랙 매트릭스가 형성되어 있다. 블랙 스트라이프에는 흑색 전극과 마찬가지로, 뛰어난 차광성이 요구된다. 흑색 전극 및 블랙 스트라이프는 일본특허공개 평11-84125호 공보에 나타난 바와 같이, 감광성 수지성분 및 차광성 물질을 포함하는 감광성 수지조성물을 기판 위에 도포하여 건조시키고, 포토리소그래피에 의해 원하는 패턴을 형성함으로써 제작되었다.
하지만, 흑색 전극 및 블랙 스트라이프에 뛰어난 차광성을 부여하기 위해서 는, 감광성 수지조성물 안의 차광성 물질의 함유량을 늘릴 필요가 있다. 상기 일본특허공개 2005-129319호 공보 및 일본특허공개 평11-84125호 공보에 나타난 기술의 경우, 차광성 물질의 함유량이 많아지면 광학농도가 높아져, 그 결과 광경화시에 광이 막의 깊숙한 곳까지 도달하지 않아 광경화가 충분히 진행하지 않는 경우가 있었다. 그 결과, 현상마진이 좁아져 패턴의 직진성이 낮아지거나, 기판으로부터의 패턴박리나 기판상의 찌꺼기가 발생하기 때문에, 흑색 전극이나 블랙 스트라이프의 양호한 패턴을 얻는 것이 어렵다는 문제가 있었다.
본 발명은 이상과 같은 문제를 해결하기 위하여 이루어진 것으로, 막의 깊은 곳까지 도달하는 광이 극히 소량이더라도 광중합성 화합물을 충분히 중합시킬 수 있어, 직진성이 좋고 박리나 찌꺼기가 없는 양호한 흑색 전극 패턴 및 블랙 스트라이프를 쉽게 형성할 수 있는 차광성 패턴을 형성하기 위한 감광성 수지조성물을 제공하는 것을 목적으로 한다.
상술한 과제를 해결하고 목적을 달성하기 위하여, 본 발명의 청구항 1에 기재된 플라즈마 디스플레이의 차광성 패턴 형성용 감광성 수지조성물은, (A) 차광성 물질과, (B) 바인더 수지와, (C) 광중합 개시제와, (D) 광중합성 화합물을 함유하고, (C) 광중합 개시제로서 하기 화학식 1로 나타내어지는 화합물의 적어도 1종을 함유하는 것을 특징으로 한다.
Figure 112006064351188-PAT00002
(식 중, X는 하기 화학식 2;
Figure 112006064351188-PAT00003
(식 중, R3~R7은 수소, 할로겐, 탄소수 1~12의 알킬기, 페닐기, 페닐술파닐기에서 선택되는 1종이다)
또는 하기 화학식 3;
Figure 112006064351188-PAT00004
(식 중, R3~R7은 수소, 할로겐, 탄소수 1~12의 알킬기, 페닐기에서 선택되는 1종이다)으로 나타내어지는 기이며, 상기 화학식 1에서의 R1은 페닐기, 탄소수 1~20의 알킬기, CN, NO2, 탄소수 1~4의 할로알킬기로부터 선택되는 1종이고, R2는 탄소수 2~12의 아실기, 탄소수 4~6의 알케닐기로부터 선택되는 1종이다).
청구항 1에 따른 발명에 따르면, 감광성 수지조성물은 (A) 차광성 물질과, (B) 바인더 수지와, (C) 광중합 개시제와, (D) 광중합성 화합물을 함유하고, (C) 광중합 개시제로서 화학식 1로 나타내어지는 화합물의 적어도 1종을 함유한다. 여기서, 화학식 1로 나타내어지는 화합물은 광에 대한 감수성이 강하여, 소량의 광 조사량으로도 활성화하는 화합물이다. 따라서, 감광성 수지조성물이 차광성 물질로서 흑색안료를 함유하고, 기판에 도포된 막의 깊은 곳에 도달하는 광의 조사량이 매우 적은 경우에도, 광중합성 화합물을 충분히 중합시킬 수 있다. 따라서, 감도가 높고 패턴 부분의 현상 마진이 큰 감광성 수지조성물을 제공할 수 있다.
감광성 수지조성물의 감도를 높이고 패턴 부분의 현상 마진을 늘림으로써, 광조사된 감광성 수지조성물은 흑색안료의 함유량이 많아도 효율적으로 경화한다. 따라서, 차광성이 뛰어나고 직선성이 높으며, 박리나 찌꺼기가 없는 양호한 흑색 전극 및 블랙 스트라이프로 대표되는 차광성 패턴을 기판 위에 형성할 수 있다. 이에 의해 컨트라스트가 높고, 적, 녹, 청의 발색이 아름다운 PDP를 쉽게 제공할 수 있다.
또한, 본 발명의 청구항 2에 기재된 플라즈마 디스플레이의 차광성 패턴 형성용 감광성 수지조성물은, 광중합 개시제로서 함유되는 화학식 1로 나타내어지는 화합물의 1종이 하기 화학식 4로 나타내어지는 1,2-옥탄디온, 1-[4-(페닐티오)페닐]-, 2-(o-벤조일옥심)인 것을 특징으로 한다.
Figure 112006064351188-PAT00005
화학식 4로 나타내어지는 1,2-옥탄디온, 1-[4-(페닐티오)페닐]-, 2-(o-벤조일옥심)은, 화학식 1로 나타내어지는 화합물 중에서도 특히 광에 대한 감수성이 높다. 따라서, 청구항 2에 따른 발명에 따르면, 청구항 1에 따른 발명과 마찬가지의 효과를 더욱 확실하게 얻을 수 있다.
또한, 본 발명의 청구항 3에 기재된 플라즈마 디스플레이의 차광성 패턴 형성용 감광성 수지조성물은, 광중합 개시제로서 함유되는 화학식 1로 나타내어지는 화합물의 1종이 하기 화학식 5로 나타내어지는 에타논, 1-[9-에틸-6-(2-메틸벤조일)-9H-카르바졸-3-일]-, 1-(o-아세틸옥심)인 것을 특징으로 한다.
Figure 112006064351188-PAT00006
화학식 5로 나타내어지는 에타논, 1-[9-에틸-6-(2-메틸벤조일)-9H-카르바졸- 3-일]-, 1-(o-아세틸옥심)은, 화학식 1로 나타내어지는 화합물 중에서도 특히 광에 대한 감수성이 높다. 따라서, 청구항 3에 따른 발명에 따르면, 청구항 1에 따른 발명과 마찬가지의 효과를 더욱 확실하게 얻을 수 있다.
또한, 본 발명의 청구항 4에 기재된 플라즈마 디스플레이의 차광성 패턴 형성용 감광성 수지조성물은, 광중합 개시제로서 화학식 1로 나타내어지는 화합물에 더하여, 이미다졸릴 화합물, 트리아진 화합물 및 아미노케톤 화합물의 적어도 1종을 더욱 함유하는 것을 특징으로 한다.
청구항 4에 따른 발명에 따르면, 광중합 개시제로서 화학식 1로 나타내어지는 화합물에 더하여 이미다졸릴 화합물, 아미노케톤 화합물 및 트리아진 화합물의 적어도 1종이 더욱 함유되어 있기 때문에, 광중합 화합물으로서의 흡광농도가 폭넓은 파장영역에서 상승되어, 매우 적은 조사량의 광으로도 활성화할 수 있다. 따라서, 청구항 1에 기재된 발명과 마찬가지의 효과를 더욱 확실하게 얻을 수 있다.
또한, 본 발명의 청구항 5에 기재된 플라즈마 디스플레이의 차광성 패턴 형성용 감광성 수지조성물은, (B) 바인더 수지로서 아크릴계 수지 및 셀룰로오스 유도체의 적어도 1종을 함유하는 것을 특징으로 한다.
청구항 5에 의한 발명에 따르면, 감광성 수지조성물에 바인더 수지가 함유되어 있기 때문에, 내현상성이 향상되어 현상 찌꺼기의 발생이 방지된다. 이에 의해, 높은 정밀도의 흑색 전극 및 블랙 스트라이프로 대표되는 차광성 패턴을 형성할 수 있다.
이하, 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이의 차광성 패턴 형성용 감광성 수 지조성물에 대하여 설명한다. 한편, 본 발명은 이 실시예에 의해 한정되지 않는다.
본 발명에 따른 감광성 수지조성물은 PDP에서의 전면판인 글라스 기판 위에 흑색 전극 및 블랙 스트라이프로 대표되는 차광성 패턴을 형성하기 위하여 사용되며, 광중합 개시제, 광중합성 화합물, 차광성 물질, 및 바인더 수지를 함유한다. 한편, 본 발명의 감광성 수지조성물은 블랙 스트라이프가 가로세로로 형성된 블랙 매트릭스에 대해서도 마찬가지로 적용할 수 있으며, 아래에서는 블랙 스트라이프에 대하여 설명한다. 또한, 본 발명의 차광성 패턴은 (A) 차광성 물질을 함유하고 차광능력을 가지는 패턴을 가리키며 블랙 스트라이프를 포함하는데, 차광능력을 가지는 한 흑색으로 한정되지 않는다. 본 발명의 차광성 패턴은 도전성을 가지고 있어도 좋고, 특별히 한정되지 않지만 흑색 전극을 포함한다.
(C) [광중합 개시제]
먼저, 광중합 개시제에 대하여 설명한다. 광중합 개시제로서는 화학식 1로 나타내어지는 화합물의 적어도 1종이 사용된다.
[화학식 1]
Figure 112006064351188-PAT00007
(식 중, X는 하기 화학식 2;
[화학식 2]
Figure 112006064351188-PAT00008
(식 중, R3~R7은 수소, 할로겐, 탄소수 1~12의 알킬기, 페닐기, 페닐술파닐기에서 선택되는 1종이다)
또는 하기 화학식 3;
[화학식 3]
Figure 112006064351188-PAT00009
(식 중, R3~R7은 수소, 할로겐, 탄소수 1~12의 알킬기, 페닐기에서 선택되는 1종이다)으로 나타내어지는 기이며, 상기 화학식 1에서의 R1은 페닐기, 탄소수 1~20의 알킬기, CN, NO2, 탄소수 1~4의 할로알킬기로부터 선택되는 1종이고, R2는 탄소수 2~12의 아실기, 탄소수 4~6의 알케닐기로부터 선택되는 1종이다).
화학식 1로 나타내어지는 화합물은 일본특허공개 2000-80068호 공보에 기재된 방법에 의해 얻어진다. 이 화합물은 다른 기존의 광중합 개시제에 비하여 광에 대하여 매우 높은 감수성을 가지기 때문에, 매우 적은 조사량의 광에 의해 효율적으로 활성화하여 광중합 개시제를 경화시킬 수 있다. 이와 같이 이 화합물에 따르 면, 감광성 수지조성물의 감도, 현상 마진을 향상시킬 수 있다. 따라서, 흑색 전극 및 블랙 스트라이프로 대표되는 차광성 패턴을 직선성이 높고 박리나 찌꺼기가 없는 양호한 형태로 형성할 수 있기 때문에, 표시 컨트라스트가 높고, 적, 녹, 청의 발색이 아름다운 PDP를 제공할 수 있다.
o-아실옥심 화합물 중에서는 화학식 4로 나타내어지는 1,2-옥탄디온, 1-[4-(페닐티오)페닐]-, 2-(o-벤조일옥심)이 광에 대한 감도나 쉽게 얻을 수 있다는 점에서 바람직하다. 화학식 4로 나타내어지는 화합물은 화학식 1에서의 R1이 n-헥실(C6H13-)이고, R2가 벤조일기이며, X는 화학식 2에서의 R3, R4, R6, R7이 H이고, R5가 페닐술파닐기(C6H5S-)인 화합물이다.
[화학식 4]
Figure 112006064351188-PAT00010
또한, 상기 o-아실옥심 화합물 중에서는, 화학식 5로 나타내어지는 에타논, 1-[9-에틸-6-(2-메틸벤조일)-9H-카르바졸-3-일]-, 1-(o-아세틸옥심)이 광에 대한 감도나 쉽게 얻을 수 있다는 점에서 바람직하다. 화학식 5로 나타내어지는 화합물은 화학식 1에서의 R1이 메틸이고, R2가 아세틸기이며, X는 화학식 3에서의 R8이 에 틸기이고, R9가 메틸기인 화합물이다.
[화학식 5]
Figure 112006064351188-PAT00011
광중합 개시제로서 화학식 1로 나타내어지는 화합물에 더하여, 화학식 1로 나타내어지는 화합물 이외의 화합물의 적어도 1종이 함유되어 있어도 좋다. 화학식 1로 나타내어지는 화합물 이외의 광중합 개시제로서는 아세토페논, 2,2-디에톡시아세토페논, p-디메틸아세토페논, p-디메틸아미노프로피오페논, 디클로로아세토페논, 트리클로로아세토페논, p-tert-부틸아세토페논 등의 아세토페논류나, 벤조페논, 2-클로로벤조페논, p,p'-비스디메틸아미노벤조페논 등의 벤조페논류나, 벤질, 벤조인, 벤조인메틸에테르, 벤조인이소프로필에테르, 벤조인이소부틸에테르 등의 벤조인에테르류나, 벤질디메틸케탈, 티오크산텐, 2-클로로티오크산텐, 2,4-디에틸티오크산텐, 2-메틸티오크산텐, 2-이소프로필티오크산텐 등의 설퍼화합물이나, 2-에틸안트라퀴논, 옥타메틸안트라퀴논, 1,2-벤즈안트라퀴논, 2,3-디페닐안트라퀴논 등의 안트라퀴논류나, 아조비스이소부티로니트릴, 벤조일퍼옥사이드, 쿠멘퍼옥사이드 등의 유기과산화물이나, 2-메르캅토벤조이미다졸, 2-메르캅토벤조옥사졸, 2-메르캅토벤조티아졸 등의 티올(thiol) 화합물이나, 2-(o-클로로페닐)-4,5-디(m-메톡시페 닐)-이미다졸릴 이량체 등의 이미다졸릴 화합물이나, p-메톡시트리아진 등의 트리아진 화합물이나, 2,4,6-트리스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-메틸-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-[2-(5-메틸푸란-2-일)에테닐]-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-[2-(푸란-2-일)에테닐]-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-[2-(4-디에틸아미노-2-메틸페닐)에테닐]-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트라아진, 2-[2-(3,4-디메톡시페놀)에테닐]-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-(4-메톡시페닐)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-(4-에톡시스티릴)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-(4-n-부톡시페닐)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진 등의 할로메틸기를 가지는 트리아진 화합물이 사용될 수 있다.
또한, 화학식 1로 나타내어지는 화합물 이외의 광중합 개시제로서는 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)-부탄-1온 등의 아미노케톤 화합물이 사용될 수 있다. 본 발명에서는 트리아진 화합물, 이미다졸일 화합물 및 아미노케톤 화합물이 바람직하게 사용된다.
화학식 1에서의 X가 화학식 2로 나타내어지는 광중합 개시제와 조합되는 광중합 개시제로서는 상기 화합물 중에서 트리아진 화합물이 바람직하고, 하기 화학식 6, 화학식 7, 화학식 8(R1, R2는 C1~C3의 알킬기를 나타낸다)로 나타내어지는 트리아진 화합물이 특히 바람직하다. 한편, 화학식 1에서의 X가 화학식 2로 나타내어지는 광중합 개시제와 조합되는 광중합 개시제로서는 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)-부탄-1온도 효과적이다.
Figure 112006064351188-PAT00012
Figure 112006064351188-PAT00013
Figure 112006064351188-PAT00014
화학식 1에서의 X가 화학식 3으로 나타내어지는 광중합 개시제와 조합되는 광중합 개시제로서는 상기 화학식 안에서는 상술한 트리아진 화합물을 들 수 있는데, 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)-부탄-1온이 바람직하다.
광중합 개시제로서 상술한 화합물의 2종 이상을 감광성 수지조성물에 함유시킴으로써, 매우 적은 조사량의 광으로도 효율적으로 활성화할 수 있다. 이는 전자밴드 스펙트럼이 서로 다른 화합물이 공존함으로써, 광중합 개시제가 고감도를 가지는 광의 실질적인 파장영역을 넓히거나, 혹은 적어도 2종의 화합물이 상호작용하 는 것에 의한 것이다.
이와 같이 하여 감광성 수지조성물의 감도나 현상 미잔을 더욱 높임으로써, 흑색 전극 및 블랙 스트라이프로 대표되는 차광성 패턴을 직선성이 높고 박리나 찌꺼기가 없는 양호한 형태로 형성하는 것이 더욱 쉬워진다.
여기서, 화학식 1로 나타내어지는 화합물과, 화학식 1로 나타내어지는 화합물 이외의 화합물(특히, 트리아진 화합물, 이미다졸일 화합물, 및 아미노케톤 화합물)의 배합비율은 중량비로 10:90~90:10인 것이 바람직하고, 20:80~80:20인 것이 보다 바람직하다. 화학식 1로 나타내어지는 화합물과, 화학식 1로 나타내어지는 화합물 이외의 화합물의 배합비율이 상술한 범위내이면, 두 화합물이 효과적으로 상호작용하기 때문에, 감광성 수지조성물의 감도 및 현상 마진을 더욱 향상시킬 수 있다.
(C) 광중합 개시제는, (B) 바인더 수지와 (C) 광중합 개시제와 (D) 광중합성 화합물의 합계 100 질량부에 대하여, 0.1~20 질량부, 바람직하게는 0.2~10 질량부의 범위에서 함유되는 것이 바람직하다. 함유량이 0.1 질량부 이상인 경우, 실용적으로 적합한 경화성이 얻어지고, 20 질량부 이하인 경우, 개시제의 과잉 흡수에 의한 바닥부 경화의 불량을 방지할 수 있다.
(D) [광중합성 화합물]
이어서, 광중합성 화합물에 대하여 설명한다. 광중합성 화합물은 자외선 등의 광이 조사되면 중합하여 경화하는 물질이다. 광중합성 화합물로서는 에틸렌성 이중결합을 가지는 화합물이 바람직하고, 구체적으로는 아크릴산, 메타크릴산, 푸 마르산, 말레산, 푸마르산 모노메틸, 푸마르산 모노에틸, 2-히드록시에틸아크릴레이트, 2-히드록시에틸메타크릴레이트, 에틸렌글리콜모노메틸에테르아크릴레이트, 에틸렌글리콜모노메틸에테르메타크릴레이트, 에틸렌글리콜모노에틸에테르아크릴레이트, 에틸렌글리콜모노에틸에테르메타크릴레이트, 글리세롤아크릴레이트, 글리세롤메타크릴레이트, 아크릴산아미드, 메타크릴산아미드, 아크릴로니트릴, 메타크릴로니트릴, 메틸아크릴레이트, 메틸메타크릴레이트, 에틸아크릴레이트, 에틸메타크릴레이트, 이소부틸아크릴레이트, 이소부틸메타크릴레이트, 2-에틸헥실아크릴레이트, 2-에틸헥실메타크릴레이트, 벤질아크릴레이트, 벤질메타크릴레이트, 에틸렌글리콜디아크릴레이트, 에틸렌글리콜디메타크릴레이트, 디에틸렌글리콜디아크릴레이트, 트리에틸렌글리콜디아크릴레이트, 트리에틸렌글리콜디메타크릴레이트, 테트라에틸렌글리콜디아크릴레이트, 테트라에틸렌글리콜디메타크릴레이트, 부틸렌글리콜디메타크릴레이트, 프로필렌글리콜디아크릴레이트, 프로필렌글리콜디메타크릴레이트, 트리메틸롤프로판트리아크릴레이트, 트리메틸롤프로판트리메타크릴레이트, 테트라메틸롤프로판테트라아크릴레이트, 테트라메틸롤프로판테트라메타크릴레이트, 펜타에리스리톨트리아크릴레이트, 펜타에리스리톨트리메타크릴레이트, 펜타에리스리톨테트라아크릴레이트, 펜타에리스리톨테트라메타크릴레이트, 디펜타에리스리톨펜타아크릴레이트, 디펜타에리스리톨펜타메타크릴레이트, 디펜타에리스리톨헥사아크릴레이트, 디펜타에리스리톨헥사메타크릴레이트, 1,6-헥산디올디아크릴레이트, 1,6-헥산디올디메타크릴레이트, 카르도에폭시디아크릴레이트 등의 모노머, 올리고머류; 다가 알코올류와 1염기산 또는 다염기산이 축합하여 얻어지는 폴리에스테르 프리폴리머에 (메타)아크릴산을 반응하여 얻어지는 폴리에스테르(메타)아크릴레이트, 폴리올기와 2개의 이소시아네이트기를 가지는 화합물이 반응된 후, (메타)아크릴산이 반응하여 얻어지는 폴리우레탄(메타)아크릴레이트; 비스페놀 A형 에폭시 수지, 비스페놀 F형 에폭시 수지, 비스페놀 S형 에폭시 수지, 페놀 또는 크레졸 노볼락형 에폭시 수지, 레졸형 에폭시수지, 트리페놀메탄형 에폭시 수지, 폴리카르복시산 폴리글리시딜에스테르, 폴리올폴리글리시딜에스테르, 지방족 또는 지환식 에폭시 수지, 아민에폭시 수지, 디히드록시벤젠형 에폭시 수지 등의 에폭시 수지와 (메타)아크릴산이 반응하여 얻어지는 에폭시(메타)아크릴레이트 수지 등을 들 수 있다. 더욱이 에폭시(메타)아크릴레이트 수지에 다염기산 무수물이 반응된 수지도 바람직하게 사용할 수 있다.
(D) 광중합성 화합물은, (B) 바인더 수지와 (C) 광중합 개시제와 (D) 광중합성 화합물의 합계 100 질량부에 대하여, 50~90 질량부의 범위에서 함유되는 것이 바람직하다. 함유량이 50 질량부 이상인 경우, 현상에 필요한 광중합성이 얻어져 실용상 충분한 화상형성능력을 얻을 수 있다. 90 질량부 이하인 경우, 미세한 화상의 해상성이 향상된다.
(A) [차광성 물질]
이어서, 차광성 물질에 대하여 설명한다. 차광성 물질로서는 카본블랙이나 티탄블랙을 바람직하게 사용할 수 있으며, 그 밖에 Cu, Fe, Mn, Cr, Co, Ni, V, Zn, Se, Mg, Ca, Sr, Ba, Pd, Ag, Cd, In, Sn, Sb, Hg, Pb, Bi, Si 및 Al 등의 각종 금속산화물, 복합산화물, 금속황화물, 금속황산연 또는 금속탄산염 등의 무기안 료도 사용할 수 있다.
카본블랙으로는 채널블랙, 퍼네이스블랙(furnace black), 서멀블랙, 램프블랙 등 공지의 카본블랙을 사용할 수 있는데, 채널블랙은 차광성이 특히 뛰어나기 때문에 바람직하게 사용할 수 있다. 또한, 수지피복 카본블랙도 사용할 수 있다. 구체적으로는 카본블랙과 카본블랙 표면에 존재하는 카르복실기, 히드록실기, 카르보닐기에 대한 반응성을 가지는 수지가 혼합되어 50~380도로 가열됨으로써 얻어지는 수지피복 카본블랙이나, 물-유기용제 혼합계 또는 물-계면활성제 혼합계에 에틸렌성 모노머가 분산되어, 중합개시제의 존재하에서 라디컬 중합 또는 라디컬 공중합되어 얻어지는 수지피복 카본블랙 등을 들 수 있다. 또한, 유기안료가 상기 무기안료에 보조안료로서 첨가되어도 좋다.
(A) 차광성 물질은, (A) 차광성 물질과 (B) 바인더 수지와 (C) 광중합 개시제와 (D) 광중합성 화합물의 합계 100 질량부에 대하여, 10~70 질량부의 범위에서 함유되는 것이 바람직하다. 함유량이 10 질량부 이상인 경우, 필요한 차광성이 얻어진다. 70 질량부 이하인 경우, 노광후의 경화불량을 억제할 수 있다.
또한, 차광성 물질의 농도는 본 발명의 감광성 수지조성물을 사용하여 형성되는 흑색 전극 또는 블랙 매트릭스의 막두께 1㎛당 반사 OD(Optical Density)값이 1.5 이상이 되도록 조정되는 것이 바람직하다. 감광성 수지조성물의 막두께 1㎛당 반사 OD 값이 1.5 이상이면, 이 막이 PDP의 흑색 전극 및 블랙 스트라이프로 대표되는 차광성 패턴에 사용되는 경우, 충분한 표시 컨트라스트를 얻을 수 있다.
(B) [바인더 수지]
이어서, 바인더 수지에 대하여 설명한다. 본 발명의 감광성 수지조성물을 사용하여 흑색 전극 및 블랙 스트라이프로 대표되는 차광성 패턴을 형성하기 위해서는, 후술하는 바와 같이 기판 위에 본 발명의 감광성 수지조성물을 도포하고 건조하여 막을 형성할 필요가 있다. 바인더 수지는 상용성, 피막형성성, 현상성, 접착성 등 개선해야 할 성질에 따라 적절히 선택되어도 좋다.
바인더 수지로서는 아크릴산, 메타크릴산, 메틸아크릴레이트, 메틸메타크릴레이트, 에틸아크릴레이트, 에틸메타크릴레이트, 프로필아크릴레이트, 프로필메타크릴레이트, 이소프로필아크릴레이트, 이소프로필메타크릴레이트, n-부틸아크릴레이트, n-부틸메타크릴레이트, tert-부틸아크릴레이트, tert-부틸메타크릴레이트, 2-히드록시에틸아크릴레이트, 2-히드록시에틸메타크릴레이트, 2-히드록시프로필아크릴레이트, 2-히드록시프로필메타크릴레이트, 벤질아크릴레이트, 벤질메타크릴레이트, 페녹시아크릴레이트, 페녹시메타크릴레이트, 이소보르닐아크릴레이트, 이소보르닐메타크릴레이트, 글리시딜메타크릴레이트, 스틸렌, 아크릴아미드, 메타아크릴아미드, 아크릴로니트릴, 메타크릴로니트릴 등으로부터 선택되는 단량체가 공중합되어 얻어지는 것이나, 측쇄에 카르복실기를 가지는 산성 셀룰로오스 변성물, 폴리에틸렌옥시드, 폴리비닐피롤리돈, 아크릴로니트릴과 염화비닐 또는 염화비닐리덴과의 공중합체, 염화비닐리덴, 염소화 폴리오레핀 또는 염화비닐과 초산비닐과의 공중합체, 폴리초산비닐, 아크릴로니트릴과 스틸렌과의 공중합체, 아크릴로니트릴과 스틸렌, 부타디엔과의 공중합체, 폴리비닐알킬에테르, 폴리비닐알킬케톤, 폴리스틸렌, 폴리아미드, 폴리우레탄, 폴리에틸렌테레프탈레이트이소프탈레이트, 아세 틸셀룰로오스 및 폴리비닐부티랄 등을 들 수 있다. 특히 알킬리성 수용액에서의 현상성을 개선하기 위해서는, 아크릴산, 메타크릴산 등의 카르복실기를 가지는 단량체를 공중합 성분으로서 사용하는 것이 바람직하다. 아크릴산, 메타크릴산 등의 함유량은 공중합 성분 중 5~40 중량%의 범위인 것이 바람직하다. 또한, 카르복시메틸셀룰로오스, 카르복시에틸셀룰로오스, 카르복시프로필셀룰로오스나, 히드록시메틸셀룰로오스, 히드록시에틸셀룰로오스, 히드록시프로필셀룰로오스의 히드록실기에 다염기산 무수물이 반응된 셀룰로오스 유도체도 바람직하게 사용할 수 있다.
아크릴레이트 유도체나 메타크릴레이트 유도체 등의 아크릴계 수지, 및 셀룰로오스 유도체의 적어도 1종이 특히 바람직하다.
(B) 바인더 수지는, (B) 바인더 수지와 (C) 광중합 개시제와 (D) 광중합성 화합물의 합계 100 질량부에 대하여, 10~50 질량부의 범위에서 함유되는 것이 바람직하다. 함유량이 이 범위내인 경우, 필요한 패턴을 형성하는 정밀도의 저하를 억제할 수 있다.
[다른 첨가성분]
본 발명에 따른 감광성 수지조성물은 필요에 따라 도전성 물질, 자외선 흡수제, 증감제, 증감조제, 중합금지제, 가소제, 증점제, 유기용매, 분산제, 소포제, 유기 또는 무기 침전방지제 등의 첨가제 성분을 더욱 함유할 수 있다.
도전성 물질로서는 도전성을 가지는 한 특별히 한정되지 않지만, 금속 또는 그 산화물이 특히 바람직하다. 구체적으로는 Ni, Zn, Pd, Ag, Au, In, Sn, Sb, Bi, Al, Ru, Cr, Fe, Co, Mn, Cu로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1종의 금속 또 는 그 산화물을 함유하는 도전성의 금속분말이 바람직하다. 비용, 금속 이용 효율의 향상이라는 점에서, 표면이 상기 금속으로 피복된 금속분말도 바람직하다. 도전성을 가지는 물질인 한, 상기 차광성 물질에 사용되는 무기분말도 바람직하게 사용할 수 있다.
도전성 물질은, (A) 차광성 물질과 (B) 바인더 수지와 (C) 광중합개시제와 (D) 광중합성 화합물의 합계 100 질량부에 대하여, (A) 차광성 물질과 합하여D 10~70 질량부의 범위에서 함유되는 것이 바람직하다. 함유량이 10 질량부 이상인 경우, 필요한 차광성 및 도전성을 얻을 수 있다. 70 질량부 이하인 경우, 노광후의 경화불량을 억제할 수 있다.
증감제는 감도를 향상시키기 위하여 첨가된다. 증감제로서는 2,4-디에틸티오크산톤, 이소프로필티오크산톤, 2,3-비스(4-디에틸아미노벤잘)시클로펜타논, 2,6-비스(4-디메틸아미노벤잘)시클로헥사논, 2,6-비스(4-디메틸아미노벤잘)-4-메틸시클로헥사논, 미히라케톤, 4,4-비스(디에틸아미노)-벤조페논, 4,4-비스(디메틸아미노)칼콘(chalcone), 4,4-비스(디에틸아미노)칼콘, p-디메틸아미노신나밀리덴인다논, p-디메틸아미노벤질리덴인다논, 2-(p-디메틸아미노페닐비닐렌)-이소나프트티아졸, 1,3-비스(4-디메틸아미노벤잘)아세톤, 1,3-카르보닐-비스(4-디에틸아미노벤잘)아세톤, 3,3-카르보닐-비스(7-디에틸아미노쿠말린), N-페닐-N-에틸에탄올아민, N-페닐에탄올아민, N-트릴디에탄올아민, N-페닐에탄올아민, 디메틸아미노 안식향산 이소아밀, 디에틸아미노 안식향산 이소아밀, 3-페닐-5-벤조일티오테트라졸, 1-페닐-5-에톡시카르보닐티오테트라졸 등을 들 수 있으며, 1종 단독 또는 2종 이상 조합하여 사용되어도 좋다.
중합금지제는 보존시의 열안정성을 향상시키기 위하여 첨가된다. 중합금지제로서는 히드로퀴논, 히드로퀴논의 모노에스테르화물, N-니트로소디페닐아민, 페노티아진, p-t-부틸카테콜, N-페닐나프틸아민, 2,6-디-t-부틸-p-메틸페놀, 클로라닐, 피로갈롤 등을 들 수 있다.
가소제는 기판에 대한 추종성 향상을 위해 첨가된다. 가소제로서는 디부틸프탈레이트(DBP), 디옥틸프탈레이트(DOP), 프탈산디시클로헥실, 폴리에틸렌글리콜, 글리세린, 주석산 디부틸 등을 들 수 있다.
소포제는 페이스트 또는 필름 안의 기포를 감소시켜 소성후의 구멍을 감소시키기 위하여 첨가된다. 소포제로서는 폴리에틸렌글리콜(분자량 400~800) 등의 알킬렌글리콘계, 실리콘계, 고급 알코올계의 소포제 등을 들 수 있다.
본 발명의 광경화성 수지조성물은 결착제로서 글라스 분말을 더 함유하여도 좋다. 글라스 분말로서는 노광광원에 대하여 필요한 투명성을 가지는 것인 한 특별히 한정되지 않고, 예를 들어, PbO-SiO2, PbO-B2O3-SiO2계, ZnO-SiO2계, ZnO-B2O3-SiO2계, BiO-SiO2계, BiO-B2O3-SiO2계의 붕규산연 글라스, 붕규산아연 글라스, 붕규산 비스무트 글라스 등의 글라스 분말을 들 수 있다.
제작해야 할 패턴의 형상에 의존하지만, 글라스 분말의 평균입자직경은 0.5~10㎛인 것이 바람직하고, 1~8㎛인 것이 보다 바람직하다. 평균입자직경이 10㎛을 넘으면, 높은 정밀도의 패턴을 형성할 때 표면에 굴곡이 생기고, 평균입자직경 이 1㎛ 미만이면, 소성시에 미세한 공동(空洞)이 형성되어 이 공동이 절연 불량 발생의 원인이 된다. 글라스 분말의 형상으로서는 구 형상, 블록 형상, 박편(flake) 형상, 덴드라이트(dendrite) 형상 등을 들 수 있으며, 1가지 형상의 글라스 분말이 단독으로 사용되어도 좋고, 2종류 이상의 형상의 글라스 분말을 조합하여 사용되어도 좋다.
본 발명의 광경화성 수지조성물은 용제에 용해 또는 분산됨으로써 조제된다. 사용되는 용제로서는 무기성분과의 친화성 및 유기성분의 용해성이 뛰어나고, 수지조성물에 적당한 점성을 부여할 수 있으며, 건조로 용이하게 증발제거할 수 있는 것인 한 특별히 한정되지 않는다. 이와 같은 용제로서는 디에틸케톤, 메틸부틸케톤, 디프로필케톤, 시클로헥사논 등의 케톤류; n-펜탄올, 4-메틸-2-펜탄올, 시클로헥산올, 디아세톤알코올 등의 알코올류; 에틸렌글리콜모노메틸에테르, 에틸렌글리콜모노에틸에테르, 에틸렌글리콜모노부틸에테르, 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 프로필렌글리콜모노에틸에테르, 디에틸렌글리콜모노메틸에테르, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르, 디에틸렌글리콜디메틸에테르, 디에틸렌글리콜디에틸에테르 등의 에테르계 알코올류; 초산-n-부틸, 초산아밀 등의 포화지방족 모노카르복시산 알킬에스테르류; 유산에틸, 유산-n-부틸 등의 유산에스테르류; 메틸세로솔브아세테이트, 에틸세로솔브아세테이트, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 에틸-3-에톡시프로피오네이트, 2-메톡시부틸아세테이트, 3-메톡시부틸아세테이트, 4-메톡시부틸아세테이트, 2-메틸-3-메톡시부틸아세테이트, 3-메틸-3-메톡시부틸아세테이트, 3-에틸-3-메톡시부틸아세테이트, 2-에톡시 부틸아세테이트, 4-에톡시부틸아세테이트, 4-프로폭시부틸아세테이트, 2-메톡시펜틸아세테이트 등의 에테르계 에스테르류 등을 들 수 있다. 이것들은 단독으로 또는 2종 이상이 조합되어 사용되어도 좋다.
용제의 함유비율은 감광성 수지조성물의 점도를 바람직한 범위로 유지하기 위하여, 고형분의 총합 100 질량부에 대하여 바람직하게는 300 질량부 이하이며, 보다 바람직하게는 10~70 질량부, 가장 바람직하게는 25~35 질량부 함유된다.
[차광성 패턴의 형성방법]
이어서 본 발명의 감광성 수지조성물을 사용한 흑색 전극 및 블랙 스트라이프로 대표되는 차광성 패턴의 형성방법에 대하여 설명한다. 먼저, 기판 위에 도포 또는 전사되어 형성된 감광성 수지조성물층에 자외선, 엑시머레이저, X선, 전자선 등의 활성광선을 마스크를 통하여 조사함으로써 화상노광한다. 이어서, 알칼리 용액 또는 물을 사용하여 현상처리를 실시하고, 미조사부를 용해시켜 제거함으로써 기판 위에 패턴을 형성하여, 다시 소성한다. 패턴을 산소존재하에서 소성시켜 흑색화함으로써, 흑색 전극, 블랙 스트라이프로 대표되는 차광성 패턴이 형성된다.
보다 높은 정밀도의 패턴을 형성하는 경우에는, 감광성 필름이 사용된다. 감광성 필름은 건조막두께가 예를 들어, 10~50㎛가 되도록 지지필름 위에 감광성 수지조성물을 성막화(도포 및 건조)함으로써 감광성 페이스트막을 작성하고, 이 감광성 페이스트막을 미사용시에 안정적으로 확보하기 위한 보호필름을 접착함으로서 제작된다. 먼저, 감광성 필름으로부터 보호필름을 제거하고, 기판에 감광성 페이스트막을 전사하여 화상노광한 후 지지필름을 제거한다. 이어서, 현상처리하여 산소 존재하에서 소성함으로써 흑색 전극 및 블랙 스트라이프로 대표되는 차광성 패턴이 형성된다.
기판으로서는 예를 들어, 글라스 기판, 글라스 기판 위에 버스전극 등의 전극이 설치된 기판, 세라믹 기판 등을 들 수 있다. 예를 들어, 백색전극이 형성된 버스전극 위에 적층됨으로써 흑색 전극을 형성할 수 있다. 노광으로 사용되는 방사선 조사장치로서는 포토리소그래피법에서일반적으로 사용되고 있는 자외선 조사장치, 반도체 및 액정표시장치를 제조할 때 사용되고 있는 노광장치 등을 사용할 수 있다.
상기 방법에 의해 얻어지는 흑색 전극 및 블랙 스트라이프로 대표되는 차광성 패턴은 감광성 수지조성물의 막두께 1㎛당 광학밀도(반사 OD값)가 1.5 이상인 것이다.
상기 방법에 의해 얻어지는 블랙 매트릭스는 PDP, 유기 EL, 무기 EL, 필드에미션 디스플레이 등의 각종 디스플레이를 작성하는 재료로서 사용되는데, 특히 PDP에 바람직하게 사용할 수 있다. 또한, 상기 방법에 의해 얻어지는 흑색 전극은 PDP의 버스전극으로서 바람직하게 사용할 수 있다.
이어서, 실시예에 근거하여 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이의 차광성 패턴 형성용 감광성 수지조성물을 더욱 구체적으로 설명한다. 한편, 문장에서 '부'는 특별히 한정하지 않는 한 '질량부'를 나타낸다.
(실시예 1)
(B) 바인더 수지로서의 n-라우릴메타크릴레이트/n-부틸메타크릴레이트/메타 크릴산=20/60/20(질량%) 공중합체(Mw=150,000) 100 질량부와, (C) 광중합 개시제로서의 에타논, 1-[9-에틸-6-(2-메틸벤조일)-9H-카르바졸-3-일]-, 1-(o-아세틸옥심)(CGI 242, 일본 치바스페셜리티케미컬사 제품) 10 질량부와, (D) 광중합성 화합물로서의 펜타에리스리톨테트라아크릴레이트 20 질량부 및 EO 변성 트리메틸롤프로판트리아크릴레이트(일본 토아고세이사 제품 M-350) 20 질량부와, 도전성을 가지는 (A) 차광성 물질로서의 Ni 분말(평균입자직경 0.02㎛) 150 질량부와, 도전성 물질로서의 Ag 분말(평균입자직경 0.05㎛) 50 질량부를 쓰리롤(three-roll)로 반죽하여 감광성 수지조성물을 조합하였다. 이 감광성 수지조성물을 PET 필름(38㎛ 두께) 위에 균일하게 도포하고 70℃의 열풍대류건조기로 약 5분간 건조한 후, 보호필름(이형성 PET필름 두께 25㎛)을 라미네이트함으로써 감광성 드라이필름을 얻었다. 한편, 감광성 수지조성물의 감음막두께는 15㎛였다.
이어서, 일본 아사히글라스사 제품 글라스판(PD 200)을 물로 세정하고 건조하여 얻어진 기판 위에 보호필름을 제거하면서 롤 온도 105℃, 롤 압력 2.9×10-3Pa, 롤 속도 1m/min로 감광성 드라이필름을 라미네이트하였다. 이어서, 3.5 kw 초고압 수은등(일본 하쿠토사 제품)을 사용하여 200mJ/cm2로 노광한 후, 0.3 질량% 탄산소다 수용액으로 45초간 스프레이 현상함으로써 패턴을 형성하였다. 패턴 형성후, 580℃에서 30분 소성하고 수지를 태워버림으로써 양호한 블랙 스트라이프 및 흑색 전극의 기능을 가지는 차광성 패턴을 얻었다. 얻어진 차광성 패턴은 직선성이 양호하고 박리나 찌꺼기가 없는 양호한 패턴이었다. 반사 OD값은 1.7이었다.
(실시예 2)
(C) 광중합 개시제로서 1,2-옥탄디온, 1-[4-(페닐티오)페닐]-, 2-(o-벤조일옥심)(CGI 124, 일본 치바스페셜리티케미컬사 제품) 10 질량부를 사용한 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지로 하여 감광성 수지조성물을 조합하고, 감광성 드라이필름을 얻었다.
이어서, 일본 아사히글라스사 제품 글라스판(PD 200)을 물로 세정하고 건조하여 얻어진 기판 위에 보호필름을 제거하면서 롤 온도 105℃, 롤 압력 2.9×10-3Pa, 롤 속도 1m/min로 감광성 드라이필름을 라미네이트하였다. 이어서, 3.5 kw 초고압 수은등(일본 하쿠토사 제품)을 사용하여 300mJ/cm2로 노광한 후, 0.3 질량% 탄산소다 수용액으로 45초간 스프레이 현상함으로써 패턴을 형성하였다. 패턴 형성후, 580℃에서 30분 소성하고 수지를 태워버림으로써 양호한 블랙 스트라이프 및 흑색 전극의 기능을 가지는 차광성 패턴을 얻었다. 얻어진 차광성 패턴은 직선성이 양호하고 박리나 찌꺼기가 없는 양호한 패턴이었다. 반사 OD값은 1.7이었다.
(실시예 3)
(C) 광중합 개시제로서 실시예 1의 광중합 개시제에 더하여, 이미다졸릴화합물인 2-(o-클로로페닐)-4,5-디페닐이미다졸 2량체(일본 호도가야카가쿠사 제품 B-CIM) 5 질량부를 사용한 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지로 하여 감광성 수지조성물을 조합하고, 감광성 드라이필름을 얻었다.
이어서, 일본 아사히글라스사 제품 글라스판(PD 200)을 물로 세정하고 건조 하여 얻어진 기판 위에 보호필름을 제거하면서 롤 온도 105℃, 롤 압력 2.9×10-3Pa, 롤 속도 1m/min로 감광성 드라이필름을 라미네이트하였다. 이어서, 3.5 kw 초고압 수은등(일본 하쿠토사 제품)을 사용하여 150mJ/cm2로 노광한 후, 0.3 질량% 탄산소다 수용액으로 45초간 스프레이 현상함으로써 패턴을 형성하였다. 패턴 형성후, 580℃에서 30분 소성하고 수지를 태워버림으로써 양호한 블랙 스트라이프 및 흑색 전극의 기능을 가지는 차광성 패턴을 얻었다. 얻어진 차광성 패턴은 직선성이 양호하고 박리나 찌꺼기가 없는 양호한 패턴이었다. 반사 OD값은 1.7이었다.
(비교예)
(C) 광중합 개시제로서 2,2-디메톡시-1,2-디페닐에탄-1-온 10 질량부를 사용한 것 이외에는 실시예 1과 마찬가지로 하여 감광성 수지조성물을 조합하고 감광성 드라이필름을 얻었다. 노광량 200mJ/cm2에서는 노광량이 불충분하여 아래까지 노광할 수 없어 현상시에 양호한 패턴을 얻을 수 없었다. 그 후, 노광량을 1000mJ/cm2까지 올렸지만, 직선성이 양호하고 박리나 찌꺼기가 없는 양호한 차광성 패턴을 얻을 수 없었다.
이상과 같이 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이의 차광성 패턴 형성용 감광성 수지조성물은, 막의 깊은 곳까지 도달하는 광이 매우 적더라도 광중합성 화합물을 충분히 중합시킬 수 있어, 직선성이 좋고 박리나 찌꺼기가 없는 양호한 흑색 전극 패턴 및 블랙 스트라이프로 대표되는 차광성 패턴을 기판 위에 쉽게 형성할 수 있다. 따라서, 컨트라스트가 높고, 적, 녹, 청의 발색이 아름다운 플라즈마 디스플레이에 유용하다.
본 발명에 따르면, 광에 대한 감수성이 뛰어난 광중합 개시제를 감광성 수지조성물에 적용함으로써, 직선성이 뛰어나고 박리나 찌꺼기가 없으며, 표시 컨트라스트가 뛰어난 양호한 흑색 전극 패턴 및 블랙 스트라이프로 대표되는 차광성 패턴을 기판 위에 쉽게 형성할 수 있다. 이에 의해, 컨트라스트가 높고, 적, 녹, 청의 발색이 아름다운 플라즈마 디스플레이를 제공할 수 있다.

Claims (5)

  1. 플라즈마 디스플레이의 차광성 패턴 형성용 감광성 수지조성물로서,
    (A) 차광성 물질과, (B) 바인더 수지와, (C) 광중합 개시제와, (D) 광중합성 화합물을 함유하고,
    (C) 광중합 개시제로서 하기 화학식 1로 나타내어지는 화합물의 적어도 1종을 함유하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이의 차광성 패턴 형성용 감광성 수지조성물:
    [화학식 1]
    Figure 112006064351188-PAT00015
    (식 중, X는 하기 화학식 2;
    [화학식 2]
    Figure 112006064351188-PAT00016
    (식 중, R3~R7은 수소, 할로겐, 탄소수 1~12의 알킬기, 페닐기, 페닐술파닐기에서 선택되는 1종이다)
    또는 하기 화학식 3;
    [화학식 3]
    Figure 112006064351188-PAT00017
    (식 중, R3~R7은 수소, 할로겐, 탄소수 1~12의 알킬기, 페닐기에서 선택되는 1종이다)으로 나타내어지는 기이며, 상기 화학식 1에서의 R1은 페닐기, 탄소수 1~20의 알킬기, CN, NO2, 탄소수 1~4의 할로알킬기로부터 선택되는 1종이고, R2는 탄소수 2~12의 아실기, 탄소수 4~6의 알케닐기로부터 선택되는 1종이다).
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 (C) 광중합 개시제로서 함유되는 상기 화학식 1로 나타내어지는 화합물의 1종이 하기 화학식 4로 나타내어지는 1,2-옥탄디온, 1-[4-(페닐티오)페닐]-, 2-(o-벤조일옥심)인 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이의 차광성 패턴 형성용 감광성 수지조성물:
    [화학식 4]
    Figure 112006064351188-PAT00018
    .
  3. 제 1 항에 있어서,
    상기 (C) 광중합 개시제로서 함유되는 상기 화학식 1로 나타내어지는 화합물의 1종이 하기 화학식 5로 나타내어지는 에타논, 1-[9-에틸-6-(2-메틸벤조일)-9H-카르바졸-3-일]-, 1-(o-아세틸옥심)인 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이의 차광성 패턴 형성용 감광성 수지조성물:
    [화학식 5]
    Figure 112006064351188-PAT00019
    .
  4. 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 (C) 광중합 개시제로서 상기 화학식 1로 나타내어지는 화합물에 더하여, 이미다졸릴 화합물, 트리아진 화합물 및 아미노케톤 화합물의 적어도 1종을 더 욱 함유하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이의 차광성 패턴 형성용 감광성 수지조성물.
  5. 제 1 항에 있어서,
    상기 (B) 바인더 수지로서 아크릴계 수지 및 셀룰로오스 유도체의 적어도 1종을 함유하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이의 차광성 패턴 형성용 감광성 수지조성물.
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