KR20070006733A - 방사선을 방출하는 및/또는 수신하는 반도체 소자 및 그제조 방법 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 방사선을 방출하는 및/또는 방사선을 수신하는 반도체 소자에 관한 것으로, 상기 반도체 소자는 방사선을 방출하는 및/또는 방사선을 수신하는 반도체 칩, 상기 반도체 소자에 의해 방출되고 및/또는 수신되는 전자기 방사선을 투과시키고 상기 반도체 칩을 적어도 부분적으로 에워싸는 플라스틱 성형부 및 상기 반도체 칩의 전기 접촉면들과 전기적으로 연결되는 외부 전기 단자들을 포함한다. 상기 플라스틱 성형부는 반응경화형 실리콘 성형 재료로 형성된다. 본 발명은 또한 상기 반도체 소자를 제조하는 방법과도 관련된다.

Description

방사선을 방출하는 및/또는 수신하는 반도체 소자 및 그 제조 방법{RADIATION-EMITTING AND/OR RADIATION-RECEIVING SEMICONDUCTOR COMPONENT AND METHOD FOR THE PRODUCTION THEREOF}
본 발명은 방사선을 방출하는 및/또는 방사선을 수신하는 반도체 소자에 관한 것으로, 상기 반도체 소자는 방사선을 방출하는 및/또는 방사선을 수신하는 반도체 칩, 상기 반도체 소자에 의해 방출되고 및/또는 수신되는 전자기 방사선을 투과시키고 상기 반도체 칩을 적어도 부분적으로 에워싸는 플라스틱 성형부 및 상기 반도체 칩의 전기 접촉면들과 전기적으로 연결되는 외부 전기 단자들을 포함한다. 본 발명은 또한 상기 반도체 소자를 제조하는 방법과도 관련된다.
상기 유형의 반도체 소자가 예컨대 WO 01/50540으로부터 공지되어 있다. 거기에 기술된 소자의 경우, 반도체 칩이 리드프레임 위에 장착된다. 리드프레임의 부분 영역들과 반도체 칩이 트랜스퍼 성형된 플라스틱 성형체로 에워싸인다. 리드프레임의 외부 전기 단자들이 상기 플라스틱 성형체로부터 돌출되어 나온다. 플라스틱 성형체는 예컨대 에폭시 수지로 제조되며, 무기질 또는 유기질의 변환 원료 및 충전제를 포함할 수 있다.
예컨대 WO 99/07023에는 또 다른 유형의 광전자 소자들이 기술되어 있다. 여기서는 그 상부에 반도체 칩이 장착되는 리드프레임이 반사체 형태의 수용부를 포함하는 하우징 본체로 에워싸인다. 수용부 내에는 반도체 칩이 배치된다. 이 수용부는 반도체 칩이 장착된 후에 적어도 상기 반도체 칩이 밀봉될 때까지, 경우에 따라서는 칩으로부터 리드프레임으로 통하는 본딩 와이어가 밀봉될 때까지 방사선을 투과시키는, 주로 투명한 밀봉제로 채워진다. 그러한 구조적 형상을 위한 공지된 밀봉제로는 예컨대 투명한 주형용 에폭시 수지가 있다. 예컨대 WO 98/12757로부터 유사한 구조적 형상이 공지되어 있다.
US 6,274,924 B1에는, 내부에 반도체 칩이 배치되고 리드프레임의 외부 단자들과 전기적으로 연결되는 강성 플라스틱 바디가 예컨대 실리콘과 같은 연성의 방사선 투과성 캡슐화 재료로 채워지는 표면실장 LED 하우징 구조 형상이 기술되어 있다. 플라스틱 바디 위에 렌즈 캡이 배치된다. 이 렌즈 캡은 한 편으로는 캡슐화 재료에 소정의 형태를 부여하고, 다른 한 편으로는 상기 캡슐화 재료가 하우징 본체로부터 흘러나오는 것을 방지한다. 이러한 LED 하우징 구조형은 하우징 부품의 수가 비교적 많기 때문에 상대적으로 높은 제조 비용을 필요로 한다.
본 발명은, 한 편으로는 기술적으로 간단하게 제조할 수 있고, 다른 한 편으로는 특히 청색광 또는 UV 방사선을 방출하는 반도체 칩의 사용시 노후화에 충분히 안정적일 수 있도록 도입부에 언급한 유형의 반도체 소자를 개선하는 것을 목적으로 한다.
상기 목적은 청구항 1의 특징들을 갖는 반도체 소자 및 청구항 9의 특징들을 갖는 방법을 통해 달성된다. 상기 반도체 소자의 바람직한 개선예들은 청구항 2항 내지 8항에 제시된다.
본 발명에 따른, 방사선을 방출하는 및/또는 방사선을 수신하는 반도체 소자는
- 방사선을 방출하는 및/또는 방사선을 수신하는 반도체 칩,
- 상기 반도체 소자에 의해 방출되고 및/또는 수신되는 전자기 방사선을 투과시키고 상기 반도체 칩을 적어도 부분적으로 둘러싸며, 반응 경화형 실리콘 성형 재료로 형성되는 플라스틱 성형부, 및
- 상기 반도체 칩의 전기 접촉면들과 전기적으로 연결되는 외부 전기 단자들을 포함한다.
실리콘 성형 재료에는 실리콘만으로 이루어진 성형 재료뿐만 아니라 성형 프로세스에 의해 플라스틱 성형체로 가공될 수 있고, 성형 재료의 노후화 안정성이 종래의 성형 재료에 비해 충분히 개선될 정도의 함량의 실리콘으로 이루어진 성형 재료도 포함된다.
실리콘 성형 재료의 경화 시간은 주로 10분 이하이다. 이 경우, 바람직하게 경제적으로 유리한 기계 사이클 시간의 구현 하에 반도체 소자의 제조가 간편해진다.
실리콘 성형 재료는 경화된 상태에서 주로 65 Shore D 이상의 경도를 갖는다. 그럼으로써 바람직하게는 기계적 영향에 대한 플라스틱 성형체의 성형 안정성이 개선된다.
또한, 성형 재료는 실리콘 외에 적어도 하나의 추가 재료(예: 에폭시 수지)를 포함하는 실리콘 복합 재료인 것이 바람직하다. 그러한 복합 재료는 각각의 영도 및 사용 프로세스의 요건들에 매칭될 수 있다는 장점을 제공한다. 실리콘 에폭시 수지 복합 재료는 예컨대 일반적으로 순 실리콘 성형 재료보다 더 빠르게 경화되고, 더 높은 기계 강도를 갖는다. 이러한 이유에서 복합 재료는 대부분 보다 손쉽게 금형으로부터 분리될 수 있고, 프로세스 시간을 보다 단축시킬 수 있다.
혼합광을 방출하는 반도체 소자의 제조를 위해, 실리콘 성형 재료는 대부분 반도체 칩에 의해 방출된 및/또는 반도체 소자에 의해 수신된 제 1 파장 영역의 전자기 방사선의 적어도 일부를 흡수하고 상기 제 1 파장 영역과 상이한 제 2 파장 영역에서 유래하는 전자기 방사선을 방출하는 변환 물질을 함유한다. 특히 무기 발광물질 분말을 간단하게 실리콘 재료에 혼합할 수 있다. 그러한 분말의 예로 세륨 도핑된 이트륨알루미늄가닛 분말 및 세륨 도핑된 테르븀알루미늄가닛 분말이 있다. 또 다른 적합한 무기 발광재가 예컨대 WO 01/50540 및 WO 98/12757 A1에 기술되어 있으며, 상기 문서들의 공개 내용은 본 문서에 인용의 형태로 포함될 것이다.
바람직하게는 본 발명에 따른 플라스틱 성형부가 청색 또는 자외선 스펙트럼 영역의 전자기 방사선을 방출하는 반도체 칩을 포함하는 반도체 소자들에 사용된다.
한 바람직한 실시예에서는 반도체 칩이 반응경화형 실리콘 성형 재료로 된 일체형 단일 플라스틱 성형부에 의해 제조된다. 그러한 플라스틱 성형부의 기본 원리가 예컨대 WO 01/50540에 기술되어 있으며, 상기 문서의 공개 내용은 본 문서에 인용의 형태로 포함될 것이다.
또 다른 한 바람직한 실시예에서는 반도체 칩이 캐리어 기판 위 또는 반도체 칩의 전기 단자들로 통하는 전기 도체 스트립들을 포함하는 캐리어 박막 위에 제공되고, 상기 반도체 칩은 반응경화형 실리콘 밀봉재로 된 플라스틱 성형부로 캡슐화된다.
본 발명에 따른 반도체 소자를 제조하기 위한 한 바람직한 방법에서는 반도체 칩이 외부 전기 단자들을 포함하는 리드프레임 위에 고정되어 상기 외부 전기 단자들과 전기적으로 연결된다. 이어서 반도체 칩이 리드프레임의 부분 영역들을 포함하여 사출성형 프로세스 또는 트랜스퍼 성형 프로세스를 통해 실리콘 성형 재료로 에워싸인다.
또 다른 한 바람직한 방법예에서는 반도체 칩이 캐리어 기판 위 또는 반도체 칩의 전기 단자들로 통하는 전기 도체 스트립들을 포함하는 캐리어 박막 위에 제공되어, 상기 전기 도체 스트립들과 전기적으로 연결된다. 이어서 캐리어 기판 또는 캐리어 박막 위에 놓인 반도체 칩이 사출성형 프로세스 또는 트랜스퍼 성형 프로세스를 통해 실리콘 성형 재료로 캡슐화된다.
본 발명은, 설치 면적(footprint)이 약 0.5mm x 1.0mm 이하인 및/또는 전체 설치 높이가 단 350㎛ 이하, 특히 250㎛ 이하인, 방사선을 방출하는 및/또는 방사선을 수신하는 반도체 소자에 매우 바람직하게 사용된다.
또 다른 장점들, 개선예들 및 바람직한 실시예들은 하기에서 도 1 내지 도 3과 연계하여 설명되는 실시예들을 통해 제시된다.
도 1은 제 1 실시예의 개략적인 단면도.
도 2는 제 2 실시예의 개략적인 단면도.
도 3은 제 3 실시예의 개략적인 단면도.
여러 실시예들에서 동일하거나 동일한 작용을 하는 구성 요소들에 각각 동일한 명칭 및 동일한 도면 부호를 사용하였다. 도면들은 기본적으로 정확한 축척으로 도시되지 않았다. 각각의 구성 요소들도 마찬가지로 상호 크기 비율이 실제와 다르게 도시되었다.
도 1에 따른 제 1 실시예는 리드프레임에 기반한 백색광을 방출하는 발광 다이오드 소자와 관련된다.
칩 장착 영역(16) 내에 LED 칩(1)이 장착되어 있는 금속 리드프레임(10)이 투명 실리콘 성형 재료(16)로 둘러싸이고, 상기 성형 재료의 서로 반대편에 놓인 2개의 단부면에서 각각 하나의 리드프레임 단자(11, 12)가 돌출되어 나온다. 이 리드프레임 단자들(11, 12)은 발광 다이오드 소자의 외부 전기 단자들이다. 투명 실리콘 성형 재료(3) 내부에서는 각각의 리드프레임 단자(11, 12)가 칩 장착 영역(16)에서부터 발광 다이오드 소자의 장착면(13)까지 S자 형태의 휨부(14, 15)를 갖는다.
굴절율을 높이기 위해 실리콘 성형 재료(3)에 TiO2, ZrO2 또는 α-Al2O3와 같 은 하나 이상의 무기 충전제를 혼합할 수 있다.
도 1에 따른 발광 다이오드 광원의 제조 방법에서는 LED 칩(1)이 칩 장착 영역(16) 내에서 리드프레임(10) 위에 장착되어 리드프레임 단자들(11, 12)과 도전 연결된다. 상기 리드프레임 단자들(11, 12)에 반도체 LED 칩(1)의 장착 이전 또 이후에 S자형 휨부(14, 15)가 제공된다. 리드프레임(10)의 S자형 휨부(14, 15)를 포함한 반도체 LED 칩(1)은 사출성형 프로세스 또는 트랜스퍼 성형 프로세스를 통해 실리콘 성형 재료(3)로 에워싸인다. 그런 다음 실리콘 성형 재료(3)가 추가로 트랜스퍼 성형 모울드 또는 사출성형 모울드 내에서 적어도 부분적으로 경화됨에 따라 충분히 형태 안정성을 지닌 일체형 플라스틱 성형부(5)가 형성된다.
백색 광원의 경우 반도체 LED 칩(1)은 자외선 또는 청색 스펙트럼 영역에 놓이는 방출 스펙트럼을 갖는다. 바람직하게는 반도체 LED 칩(1)이 GaN 또는 InGaN을 기재로 형성된다. 그러나 그 대안으로 ZnS/ZnSe 재료계 또는 상기 스펙트럼 영역에 적합한 다른 재료계로 형성될 수도 있다.
반도체 LED 칩(1)의 설치 및 콘택팅 후에는 적절한 사출성형기 또는 트랜스퍼 성형기 내에서 투명 실리콘 성형 재료(3)로부터 리드프레임 단자들(11, 12)이 성형된다. 실리콘 성형 재료(3) 내에는 변환 물질로 이루어진 발광 재료 입자(4)가 매립되며, 상기 변환 물질은 적어도 부분적으로 반도체 LED 칩(1)에 의해 방출된 전자기 방사선의 파장 변환을 야기한다. 그러한 파장 변환에 의해 백색 광원의 광 효과를 야기하는 방출 스펙트럼이 형성된다. 발광 물질 입자에 적합한 발광 물질로는 예컨대 세륨 도핑된 이트륨알루미늄가닛 분말 및 세륨 도핑된 테르븀알루미 늄가닛 분말이 있다.
리드프레임(10)의 사전 제조(prefabrication) 및 경우에 따라 발광 물질 입자(4) 및 추가의 충전제를 함유하는 실리콘 성형 재료(3)를 이용한 밀봉은, 리드프레임 섹션(11 및 12)이 플라스틱 성형부(5)로부터 수평으로 유도되어 나오는 방식으로, 더 정확히 말하면 리드프레임 섹션들의 납땜 연결면들(11A 및 12A)이 보통 인쇄회로기판상의 소자 지지면을 나타내는 플라스틱 성형부(5)의 배면과 동일 평면에 놓이는 방식으로 이루어진다. 이를 위해 리드프레임 단자들(11, 12)은 주조 이전에 먼저 최종 형태로 구부러진다. 즉, 리드프레임 단자들이 밀봉 전에 이미 칩 연결 영역으로부터 장착면 쪽으로 S자형 휨부를 가지므로, 밀봉 이후에 더 이상 소자에 휨응력이 가해지지 않게 된다. 이는 특히 부피가 작은 플라스틱 성형부(5)를 갖는 초소형 소자에서 매우 유리하게 작용하는데, 그 이유는 바로 그러한 초소형 소자에서 예컨대 휨응력에 의해 봉합재와 리드프레임 사이에 층간분리(delamination)가 야기된 경우 완성된 부품의 밀봉력이 획득되지 못하는 매우 큰 위험이 발생하기 때문이다.
실리콘 성형 재료(3)의 경화 시간은 예컨대 10분 이하이며, 경화된 상태에서 65 Shore D 이상의 경도를 갖는다.
완성된 부품은 바람직하게 리플로(Reflow) 프로세스에서 인쇄회로기판 위의 평평한 수평 단자면들(11A 및 12A)에 납땜될 수 있다. 그럼으로써 SMT(Surface Mounting Technology) 실장에 적합한 소자가 제조된다.
동일한 방식으로 UV 방사선 또는 청색 방사선을 검출하는 포토 다이오드 소 자가 형성될 수 있다.
도 2에 따른 제 2 실시예는 특히 리드프레임(10) 대신 금속층 형태의 전기 도체 스트립(111, 112)을 포함하는 전기 절연 캐리어 기판(100)이 제공된다는 점에서 도 1에 따른 제 1 실시예와 구별된다. 플라스틱 성형부(5)는 캐리어 기판(100) 위에 배치된다. 본 소자는 제 1 실시예와 유사한 방식으로 제조될 수 있다.
도 3에 따른 제 3 실시예는 플렉시블 리드프레임(10), 방사선을 방출하는 활성 영역을 갖는 LED 칩(1) 및 플라스틱 성형부(5)를 포함하는 소형 발광 다이오드이다. 플렉시블 리드프레임(10)은 매우 정교하게 서로 접착된 60㎛ 두께의 금속 막(101)과 역시 60㎛ 두께의 플라스틱 막(102)으로 이루어져 있다. 플라스틱 막은 실리콘 플라스틱으로 형성될 수 있다.
금속 막(101)은 상기 금속 막에 의해 캐소드와 애노드가 정해지도록 천공된다. 캐소드와 애노드를 통해 각각 플라스틱 막(102) 내에 리세스들이 천공된다. 상기 리세스들 중 하나를 관통하여 LED 칩(1)의 하부면이 캐소드에 접합된다. 애노드는 또 다른 리세스를 관통하여 본딩 와이어(2)에 의해 LED 칩(1)의 상부면과 연결된다.
플렉시블 프레임 위에 최대한 많은 부품이 구현될 수 있도록 하기 위해, 예컨대 소위 캐비티 대 캐비티(cavity-to-cavity) 모울딩이 밀봉에 사용되며, 상기 캐비티 대 캐비티 모울딩을 이용하여 각각의 플렉시블 리드프레임(10) 위에 LED 칩(1)과 본딩 와이어(2)를 에워싸는 플라스틱 성형부(5)가 제조된다. 부품들을 관통하여 주입 채널들이 형성됨으로써, 주입 채널의 수가 감소한다. 플라스틱 성형부 는 전술한 실시예들의 플라스틱 성형부와 동일한 재료로 형성된다.
또한, 어레이(array) 모울딩 기법을 이용해서도 부품들이 밀봉될 수 있다. 어레이 모울딩에서는 각각 다수의 부품을 포함하는 공구의 공동들이 메워진다. 성형될 부품들은 성형부가 냉각된 후 예컨대 절단(sawing) 공정을 통해 분리된다. 어레이 모울딩에서의 면 밀도(areal density)가 보통 캐비티 대 캐비티 모울딩의 경우보다 더 높다.
소형 발광 다이오드의 설치 면적(footprint)은 약 0.5mm x 1.0mm이고, 전체 설치 높이는 단 250㎛이다.
위의 설명, 도면 및 청구항들에 공개되는 본 발명의 특징들은 개별적으로든 아니면 임의로 조합된 형태로든 모두 본 발명을 구현하는데 중요할 수 있다. 발광 다이오드 칩 대신 포토 다이오드 칩이 사용되거나, 발광 다이오드 및 포토 다이오드로서 구동되는 칩이 사용될 수 있다.

Claims (9)

  1. 방사선을 방출하는 및/또는 방사선을 수신하는 반도체 소자로서,
    방사선을 방출하는 및/또는 방사선을 수신하는 반도체 칩;
    상기 반도체 소자에 의해 방출되고 및/또는 수신되는 전자기 방사선을 투과시키고 상기 반도체 칩을 적어도 부분적으로 에워싸는 플라스틱 성형부; 및
    상기 반도체 칩의 전기 접촉면들과 전기적으로 연결되는 외부 전기 단자들을 포함하고,
    상기 플라스틱 성형부는 반응경화형 실리콘 성형 재료로 형성되는,
    방사선을 방출하는 및/또는 방사선을 수신하는 반도체 소자.
  2. 제 1항에 있어서,
    상기 실리콘 성형 재료의 경화 시간은 10분 이하인,
    방사선을 방출하는 및/또는 방사선을 수신하는 반도체 소자.
  3. 제 1항 또는 제 2항에 있어서,
    상기 실리콘 성형 재료는 경화된 상태에서 주로 65 Shore D 이상의 경도를 갖는,
    방사선을 방출하는 및/또는 방사선을 수신하는 반도체 소자.
  4. 제 1항 내지 제 3항에 있어서,
    상기 실리콘 성형 재료는 실리콘 복합 재료인,
    방사선을 방출하는 및/또는 방사선을 수신하는 반도체 소자.
  5. 제 1항 내지 제 4항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 실리콘 성형 재료는, 반도체 칩에 의해 방출된 및/또는 반도체 소자에 의해 수신된 제 1 파장 영역의 전자기 방사선의 적어도 일부를 흡수하고 상기 제 1 파장 영역과 상이한 제 2 파장 영역에서 유래하는 전자기 방사선을 방출하는 변환 물질을 함유하는,
    방사선을 방출하는 및/또는 방사선을 수신하는 반도체 소자.
  6. 제 1항 내지 제 5항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 반도체 칩이 청색 또는 자외선 스펙트럼 영역의 전자기 방사선을 방출하는,
    방사선을 방출하는 및/또는 방사선을 수신하는 반도체 소자.
  7. 제 1항 내지 제 6항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 반도체 소자의 설치 면적(footprint)이 약 0.5mm x 1.0mm 이하인,
    방사선을 방출하는 및/또는 방사선을 수신하는 반도체 소자.
  8. 제 1항 내지 제 7항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 반도체 소자의 전체 설치 높이가 단 350㎛ 이하, 특히 250㎛ 이하인,
    방사선을 방출하는 및/또는 방사선을 수신하는 반도체 소자.
  9. 제 1항 내지 제 6항 중 적어도 어느 한 항에 따른 반도체 소자를 제조하는 방법으로서,
    상기 반도체 칩이 금속 리드프레임 위, 캐리어 기판 위 또는 상기 외부 전기 단자들을 포함하는 캐리어 박막 위에 고정되는 단계,
    상기 반도체 칩이 상기 리드프레임, 상기 캐리어 기판 또는 상기 캐리어 박막의 부분 영역들을 포함하여 사출성형 모울드의 공동(cavity) 내에 삽입되는 단계,
    상기 공동 내로 사출성형 프로세스 또는 트랜스퍼 성형 프로세스를 통해 실리콘 성형 재료가 주입되는 단계, 및
    상기 공동 내의 실리콘 성형 재료가 적어도 형태 안정적인 플라스틱 성형부가 형성되도록 경화되는 단계를 포함하는,
    반도체 소자 제조 방법.
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