KR20060050912A - 세정 장치 - Google Patents
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Abstract
Description
Claims (6)
- 금속 박막으로 이루어지는 마스크에 부착한 유기 EL용 유기 재료를 제거하는 세정 장치로서,상기 마스크를 소정의 세정액에 의해 세정 처리하는 세정조와,상기 마스크를 소정의 린스액에 의해 린스 처리하는 린스조와,중력을 기인으로 하는 응력에 의해 상기 마스크의 상기 금속 박막에 손상을 발생시키지 않도록, 수평 이외의 소정의 각도를 갖고 상기 마스크를 유지하고, 상기 소정의 각도를 갖고 유지된 상기 마스크를 상기 세정조 및 상기 린스조로 반송하는 반송 장치를 구비하는 것을 특징으로 하는 세정 장치.
- 제1항에 있어서,상기 반송 장치는,처음에 수평의 상태에서 상기 마스크를 유지한 후, 상기 마스크를 유지한 채로, 수직 방향으로 세우고, 상기 소정의 각도를 갖고 상기 마스크를 유지하는 것을 특징으로 하는 세정 장치.
- 제2항에 있어서,상기 반송 장치는,상기 반송 장치에 재치된 상기 마스크의 모서리의 일부를 압착하도록 슬라이 드하는 유지 지그와, 상기 유지 지그의 압착에 의한 상기 마스크의 다른쪽 모서리의 어긋남을 억지하는 갈고리부를 구비하며,상기 마스크의 모서리를 상기 유지 지그 및 상기 갈고리부에 의해 끼움으로써, 상기 마스크를 유지하는 것을 특징으로 하는 세정 장치.
- 제1항에 있어서,상기 반송 장치는,수직 방향으로부터 수평 방향으로의 이동 방향의 전환, 혹은 수평 방향으로부터 수직 방향으로의 이동 방향의 전환을, 원호형으로 근사한 곡선 형상의 소정의 궤적을 갖고 연속적으로 행하는 것을 특징으로 하는 세정 장치.
- 제1항에 있어서,상기 세정조 및 상기 린스조는, 상기 각 조 내에 가동식의 액내 캐리어를 구비하며,상기 세정액 혹은 상기 린스액의 액면보다도 상방으로 상승된 상기 액내 캐리어에, 상기 반송 장치에 의해 반송된 상기 마스크가 대기 중에서 옮겨지며,상기 마스크가 재치된 상기 액내 캐리어가, 상기 마스크와 함께 상기 세정액 내 혹은 상기 린스 내에 침지되는 것을 특징으로 하는 세정 장치.
- 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서,상기 소정의 린스액은, 불소를 포함하는 용매인 것을 특징으로 하는 세정 장치.
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004254656 | 2004-09-01 | ||
JPJP-P-2004-00254656 | 2004-09-01 | ||
JPJP-P-2005-00249431 | 2005-08-30 | ||
JP2005249431A JP4644565B2 (ja) | 2004-09-01 | 2005-08-30 | 洗浄装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20060050912A true KR20060050912A (ko) | 2006-05-19 |
KR100661408B1 KR100661408B1 (ko) | 2006-12-27 |
Family
ID=36239842
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020050081165A KR100661408B1 (ko) | 2004-09-01 | 2005-09-01 | 세정 장치 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4644565B2 (ko) |
KR (1) | KR100661408B1 (ko) |
CN (1) | CN100567553C (ko) |
TW (1) | TWI298746B (ko) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101456614B1 (ko) * | 2013-04-25 | 2014-11-03 | 주식회사 케이씨텍 | 마스크 세정 시스템의 배치 모사 방법 및 이를 이용한 마스크 세정 시스템. |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP4884180B2 (ja) * | 2006-11-21 | 2012-02-29 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理装置および基板処理方法 |
JP5280667B2 (ja) * | 2007-11-08 | 2013-09-04 | 株式会社ジャパンディスプレイ | 有機el表示装置の製造方法及び蒸着マスクのクリーニング方法 |
KR100891067B1 (ko) | 2007-12-03 | 2009-03-31 | 주식회사 동부하이텍 | 웨트 스테이션 장치 |
KR101103474B1 (ko) * | 2010-08-19 | 2012-01-09 | 현대중공업 주식회사 | 기판 세정 장치 |
JP5877955B2 (ja) * | 2011-03-18 | 2016-03-08 | キヤノントッキ株式会社 | 蒸着装置並びに蒸着方法 |
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CN104152846B (zh) * | 2014-02-21 | 2016-08-17 | 深圳浚漪科技有限公司 | 一种掩模板清洗系统 |
CN110965021A (zh) * | 2019-12-26 | 2020-04-07 | 寰采星科技(宁波)有限公司 | 一种金属掩模板堵孔返修方法及装置 |
CN111394739B (zh) * | 2020-04-26 | 2024-01-05 | 北京七星华创集成电路装备有限公司 | 一种金属掩膜板清洗设备 |
CN112553571A (zh) * | 2020-12-09 | 2021-03-26 | 四川富乐德科技发展有限公司 | 一种Open Mask表面IZO蒸镀材料的清洗方法 |
CN114995052A (zh) * | 2022-05-18 | 2022-09-02 | 上海图灵智算量子科技有限公司 | 光罩版清洁装置 |
CN115382834A (zh) * | 2022-09-06 | 2022-11-25 | 苏州清越光电科技股份有限公司 | 掩膜版清洗机构及掩膜版清洗设备 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JPS60110194A (ja) * | 1983-11-18 | 1985-06-15 | 株式会社ニコン | 基板の洗浄装置 |
JPH0610677Y2 (ja) * | 1988-08-03 | 1994-03-16 | 森尾電機株式会社 | 洗浄物移動機 |
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-
2005
- 2005-08-30 JP JP2005249431A patent/JP4644565B2/ja active Active
- 2005-08-31 TW TW094129815A patent/TWI298746B/zh active
- 2005-09-01 KR KR1020050081165A patent/KR100661408B1/ko active IP Right Grant
- 2005-09-01 CN CNB2005100936991A patent/CN100567553C/zh active Active
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR100661408B1 (ko) | 2006-12-27 |
TW200617196A (en) | 2006-06-01 |
JP4644565B2 (ja) | 2011-03-02 |
JP2006100264A (ja) | 2006-04-13 |
CN1746331A (zh) | 2006-03-15 |
CN100567553C (zh) | 2009-12-09 |
TWI298746B (en) | 2008-07-11 |
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Date | Code | Title | Description |
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A201 | Request for examination | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant | ||
FPAY | Annual fee payment |
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FPAY | Annual fee payment |
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FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20151118 Year of fee payment: 10 |
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FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20161123 Year of fee payment: 11 |
|
FPAY | Annual fee payment |
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FPAY | Annual fee payment |
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