KR100661409B1 - 세정 장치 - Google Patents
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Abstract
Description
Claims (14)
- 금속 박막으로 이루어지는 마스크에 부착한 유기 EL용 유기 재료를 제거하는 세정 장치로서,상기 마스크를 소정의 세정액에 의해 세정 처리하는 세정조와,상기 세정조로부터 오버플로우된 상기 세정액을 진공 증류하는 진공 증류기와,상기 진공 증류기에 의해 진공 증류된 상기 세정액을 실온으로 냉각하는 제1 냉각기와,상기 제1 냉각기에 의해 냉각된 상기 세정액을 상기 세정조로 환류시키는 제1 환류관과,상기 세정조에 의해 세정된 상기 마스크를 소정의 린스액에 의해 린스 처리하는 린스조와,상기 린스조로부터 오버플로우된 상기 린스액을 상압 하에서 증류하는 상압 증류기와,상기 상압 증류기에 의해 상압 증류된 상기 린스액을 실온으로 냉각하는 제2 냉각기와,상기 제2 냉각기에 의해 냉각된 상기 린스액을 상기 린스조로 환류시키는 제2 환류관을 구비하는 것을 특징으로 하는 세정 장치.
- 제1항에 있어서,상기 세정조 내에, 상기 세정액을 진동시키는 제1 초음파 진동기를 구비하는 것을 특징으로 하는 세정 장치.
- 제2항에 있어서,상기 세정조의 세정액의 온도를 검출하는 제1 온도 센서와,상기 제1 온도 센서의 검출 결과에 따라 상기 세정조 내의 상기 세정액을 실온으로 조정하는 제1 온도 조정기를 구비하는 것을 특징으로 하는 세정 장치.
- 제3항에 있어서,상기 제1 온도 조정기에 제1 열교환기를 구비하며,상기 제1 온도 조정기는, 상기 제1 열교환기에 의해 냉각된 상기 세정액을 상기 세정조에 유입시킴으로써 상기 세정조 내의 상기 세정액의 온도를 조정하는 것을 특징으로 하는 세정 장치.
- 제1항에 있어서,상기 린스조 내에, 상기 린스액을 진동시키는 제2 초음파 진동기를 구비하는 것을 특징으로 하는 세정 장치.
- 제5항에 있어서,상기 린스조의 린스액의 온도를 검출하는 제2 온도 센서와,상기 제2 온도 센서의 검출 결과에 따라 상기 린스조 내의 상기 린스액을 실온으로 조정하는 제2 온도 조정기를 구비하는 것을 특징으로 하는 세정 장치.
- 제6항에 있어서,상기 제2 온도 조정기에 제2 열교환기를 구비하며,상기 제2 온도 조정기는, 상기 제2 열교환기에 의해 냉각된 상기 린스액을 상기 린스조에 유입시킴으로써 상기 린스조 내의 상기 린스액의 온도를 조정하는 것을 특징으로 하는 세정 장치.
- 제1항에 있어서,제3 냉각기를 갖는 회수조를 구비하며,상기 회수조는, 상기 제3 냉각기에 의해 냉각됨으로써, 상기 린스조 내에서 증발된 상기 린스액을 회수하고,상기 회수조에 회수된 상기 린스액을, 상기 제2 환류관을 통해 상기 린스조로 환류시키는 것을 특징으로 하는 세정 장치.
- 제8항에 있어서,상기 회수조에, 상기 회수조 내의 온도를 검출하는 제3 온도 센서를 구비하 며,상기 제3 냉각기는, 상기 제3 온도 센서를 이용하여, 상기 린스조 내와 상기 회수조 내에서 증기압 차가 발생하도록 상기 회수조 내를 냉각하는 것을 특징으로 하는 세정 장치.
- 제1항에 있어서,상기 제2 냉각기에 의해 냉각된 상기 린스액 내의 수분을 분리하는 물 분리조를 구비하며,상기 물 분리조를 통과시킨 상기 린스액을, 상기 제2 환류관을 통해 상기 린스조로 환류시키는 것을 특징으로 하는 세정 장치.
- 제8항 또는 제9항에 있어서,상기 회수조에 의해 회수된 상기 린스액 내의 수분을 분리하는 물 분리조를 구비하며,상기 물 분리조를 통과시킨 상기 린스액을, 상기 제2 환류관을 통해 상기 린스조로 환류시키는 것을 특징으로 하는 세정 장치.
- 제1항에 있어서,세정액을 함유하는 린스액을, 세정액과 린스액으로 분리하는 분리기와,상기 분리기에 의해 분리된 세정액, 및 상기 상압 증류기의 세정액을 함유하 는 린스액을 축적하여 다시 상기 분리기에 유입시키는 풀조를 구비하는 것을 특징으로 하는 세정 장치.
- 제12항에 있어서,상기 풀조에, 상기 세정액 및 상기 린스액의 액면의 하한을 검출하는 하한 센서를 구비하며,상기 하한 센서의 검출 결과에 따라, 분리된 세정액을 상기 진공 증류기에 유입시키는 것을 특징으로 하는 세정 장치.
- 제1항 내지 제10항, 제12항, 제13항 중 어느 한 항에 있어서,상기 소정의 린스액은, 불소계 용매인 것을 특징으로 하는 세정 장치.
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JPJP-P-2004-00254655 | 2004-09-01 | ||
JP2004254655 | 2004-09-01 | ||
JPJP-P-2005-00249430 | 2005-08-30 | ||
JP2005249430A JP4267604B2 (ja) | 2004-09-01 | 2005-08-30 | 洗浄装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20060050923A KR20060050923A (ko) | 2006-05-19 |
KR100661409B1 true KR100661409B1 (ko) | 2006-12-27 |
Family
ID=36239841
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020050081206A KR100661409B1 (ko) | 2004-09-01 | 2005-09-01 | 세정 장치 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4267604B2 (ko) |
KR (1) | KR100661409B1 (ko) |
CN (1) | CN100519823C (ko) |
TW (1) | TWI290005B (ko) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100891067B1 (ko) | 2007-12-03 | 2009-03-31 | 주식회사 동부하이텍 | 웨트 스테이션 장치 |
KR101902102B1 (ko) * | 2017-02-27 | 2018-09-27 | 문태주 | 진공 증류 재생장치 |
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JP2010236088A (ja) * | 2009-03-09 | 2010-10-21 | Hitachi High-Technologies Corp | マスク部材のクリーニング装置及びクリーニング方法並びに有機elディスプレイ |
KR101231774B1 (ko) * | 2011-11-16 | 2013-02-08 | 주식회사 케이씨텍 | 유기발광 표시소자 증착용 마스크의 세정장치 |
KR101235837B1 (ko) * | 2011-11-17 | 2013-02-21 | 주식회사 케이씨텍 | 유기발광 표시소자 증착용 마스크의 세정장치 |
KR101271120B1 (ko) * | 2011-11-17 | 2013-06-04 | 주식회사 케이씨텍 | 유기발광 표시소자 증착용 마스크의 세정방법 |
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JP7126830B2 (ja) * | 2018-01-19 | 2022-08-29 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | フッ素化液体の再生方法、及び該方法を用いる再生装置 |
JP7008291B1 (ja) * | 2020-10-14 | 2022-01-25 | 大日本印刷株式会社 | マスクの洗浄方法、洗浄液、洗浄装置、及び有機デバイスの製造方法 |
CN114995052A (zh) * | 2022-05-18 | 2022-09-02 | 上海图灵智算量子科技有限公司 | 光罩版清洁装置 |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4867186A (en) * | 1988-08-15 | 1989-09-19 | Shigeo Otsuka | Chloro-fluoro-carbon liquid jetting immersion cleaning apparatus |
CN2136064Y (zh) * | 1992-09-16 | 1993-06-16 | 河南中医学院 | 多功能闪蒸装置 |
EP0791093B1 (en) * | 1994-11-09 | 2001-04-11 | R.R. STREET & CO., INC. | Method and system for rejuvenating pressurized fluid solvents used in cleaning substrates |
-
2005
- 2005-08-30 JP JP2005249430A patent/JP4267604B2/ja active Active
- 2005-08-31 TW TW094129816A patent/TWI290005B/zh active
- 2005-09-01 CN CNB2005100936972A patent/CN100519823C/zh active Active
- 2005-09-01 KR KR1020050081206A patent/KR100661409B1/ko active IP Right Grant
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KR101902102B1 (ko) * | 2017-02-27 | 2018-09-27 | 문태주 | 진공 증류 재생장치 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP4267604B2 (ja) | 2009-05-27 |
TWI290005B (en) | 2007-11-11 |
CN1746330A (zh) | 2006-03-15 |
KR20060050923A (ko) | 2006-05-19 |
TW200618665A (en) | 2006-06-01 |
JP2006100263A (ja) | 2006-04-13 |
CN100519823C (zh) | 2009-07-29 |
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A201 | Request for examination | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
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FPAY | Annual fee payment |
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FPAY | Annual fee payment |
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FPAY | Annual fee payment |
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FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20171117 Year of fee payment: 12 |
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FPAY | Annual fee payment |
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