CN110314882B - 一种用于遮罩的复合清洁装置及方法 - Google Patents
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Abstract
本发明为一种用于遮罩的复合清洁装置及方法,其中该用于遮罩的复合清洁装置包括:清洁槽,该清洁槽储存用于清洁遮罩的清洁液;外储存槽,将该外储存槽安装在清洁槽的外周,以临时储存从所述清洁槽中溢流出的清洁液;喷雾喷嘴单元,将该喷雾喷嘴单元安装在清洁槽顶部,将清洁液喷射到从清洁槽内部提起的遮罩上;及循环供给装置,该循环供给装置使得喷出的清洁液回流到所述清洁槽中。实现了异物的完全移除,阻止了异物粘附于从清洁槽内部提起的遮罩上,从而防止了带有异物的遮罩引起压花缺陷的风险,并大大地提高了清洁效果。
Description
技术领域
本发明涉及一种用于遮罩的复合清洁装置及方法,特别是,一种用于遮罩的复合清洁装置及方法,其不仅能防止异物(例如,颗粒)再次吸附到从清洁槽中提起的遮罩表面上,并大大地减少清洁液的消耗。
背景技术
随着复杂的信息工业的快速发展,超高速的信息传输使得包括文字,声音,图像等信息进行交换,不限制于空间和时间。
信息传输媒介已经从CRT演变为如LCD、PDP、 LED、 UHD、 OLED等的大型FPD(平板显示器),及如PDA、 Web、PAD等的适合于人体工程学设计及多功能设计的,用于超高速移动终端的小型显示器。由于便利性,显示器的需求突然上升成为显示器市场持续发展的原因。
由于平板显示器的高品质及低能耗,各种应用市场得到了更快发展。特别是,OLED(有机发光二极管)被公认为是紧接着LCD和PDP的下一代显示器。
从1987年唐(Tang)在伊士曼柯达公司(Eastman Kodak)创造了在多层结构的有机层中能高亮度发光的第一个OLED设备开始,OLED在技术上已经有了很大的发展。
由于OLED具有简单的制造工艺使得OLED成本低,且他们具有亮度,对比率,反应时间,色饱和度,清晰度等方面的高图像质量,所以他们被认为是所谓的“理想显示器”。
由于诸如寿命短和低产量的劣势,OLED在商业化方面遇到困难。此外,LCD技术的快读发展已经成为OLED进入市场的巨大屏障,造成OLED商业化的推迟。
由于在全球显示器工业中已发现相当一部分的技术问题的解决方案,目前,日本,中国台湾,韩国相关公司已经开始大规模生产OLED。
OLED是自发光的显示器设备,在其中分别通过阳极和阴极注入到有机薄层中的电子空穴和电子进行重组,从而形成激子,激子回到稳定状态会造成能量的释放,并伴随从释放的能量转换而来的光辐射。
最简单的OLED结构是由用于电子注入的阴极,用于电子空穴注入的阳极及出现发光的有机薄层所构成。此OLED结构还包括功能层,该功能层有助于电子或电子空穴的注入及转移,从而增强载体重组及光照性能。
有多种用于形成有机薄膜的方法:使用FMM(精细金属遮罩)进行沉积,使用激光进行压花,使用液基墨水材料进行打印,等。
在上述技术中,使用遮罩的沉积法包含,在选择性筛选工艺期间,在遮罩表面上均匀沉积有机物,由此在进行限定数量的循环后,必须要进行清洁遮罩的步骤。
一般而言,清洁遮罩的典型方法为,将遮罩浸没在DIW(超纯净蒸馏水,去离子水)或烃类溶液中。
如图1所示,例如,用于遮罩的常规清洁装置,其在清洁工艺中,通过将遮罩浸没在常规清洁槽10中的清洁液11中,进行清洁遮罩20,使用遮罩运输夹30,以将大型遮罩20转移到清洁槽10中。
此外,在OLED显示器工业中,清洁用于沉积有机薄膜的遮罩的工艺包含,将遮罩浸没在清洁槽中的清洁液中,接着应用超声波。
然而,在重复将初始生产的遮罩浸没在清洁槽中的工艺的情况下,从遮罩释出的异物(即,颗粒)保留在清洁液中,极快地污染了清洁槽中的清洁液。
特别是,如图1中的(b)所示,极小的异物(P)漂浮在清洁槽中的清洁液的表面上,因此,在将遮罩20从清洁槽移出的过程期间,他们能吸附到遮罩20的表面上,往往在用于遮罩的有机薄膜层的沉积时形成不好的带有异物的压花。
为了解决这个问题,采用的方法是,遮罩20经过若干个连续的清洁槽,以增强清洁效果。
然而,这个方法需要大量的设备安装空间,增加多个清洁槽的设置成本,大量购买清洁液,且需要很长时间来清洁遮罩。
发明内容
本发明是为了解决现有技术中的问题而设计的。因此,本发明的目的旨在于提供一种用于遮罩的复合清洁装置及方法,将遮罩从清洁槽中移出期间,防止遮罩由于再次吸收遮罩表面上的异物而污染,因此极大地减少了清洁液的消耗及避免了需要使用若干个清洁槽。
本发明的另一个目的旨在于提供一种用于遮罩的复合清洁装置及方法,通过使用喷雾喷嘴来实现额外的清洁工序,尽可能简单的降低了清洁工艺中的花费及减少了清洁液的消耗,并进一步提高了生产力。
为了实现本发明的目的,提供一种用于遮罩的复合清洁装置,包括:清洁槽,所述清洁槽储存用于清洁遮罩的清洁液;外储存槽,将所述外储存槽安装在所述清洁槽的外周,以临时储存从所述清洁槽中溢流出的所述清洁液;喷雾喷嘴单元,将所述喷雾喷嘴单元安装在所述清洁槽顶部,以在所述遮罩从所述清洁槽内部提起时,喷出所述清洁液在所述遮罩表面上;及循环供给装置,所述循环供给装置使得喷出的所述清洁液回流到所述清洁槽中。
所述喷雾喷嘴单元包括第一和第二喷嘴部件,所述第一和第二喷嘴部件设置在所述遮罩的相对两侧上,所述遮罩被夹在所述第一和第二喷嘴部件之间。
所述第一和第二喷嘴部件包括若干个喷嘴部件,所述喷嘴部件在垂直方向上彼此分开设置。
所述第一和第二喷嘴部件朝着在所述清洁液表面上暴露的所述遮罩,向下倾斜设置。所述第一和第二喷嘴部件形成了延伸到与所述遮罩宽度一样长或更长的长度。
所述用于遮罩的复合清洁装置还包括一组空气鼓风机,所述一组鼓风机安装在第一和第二喷嘴部件顶部上,以移除所述遮罩表面上的清洁液残余。
所述用于遮罩的复合清洁装置还包括飞溅防护装置,将所述飞溅防护装置安装在所述外储存槽的外侧上,以阻止通过所述第一和第二喷嘴部件的清洁液从所述外储存槽中溅出。
所述循环供给装置包括:第一循环供给装置,所述第一循环供给装置在所述外储存槽和所述清洁槽之间连接,以提供从所述外储存槽到所述清洁槽的储存的所述清洁液的循环;及第二循环供给装置,所述第二循环供给装置在所述清洁槽和所述喷雾喷嘴单元之间连接,以提供从所述清洁槽到所述喷雾喷嘴单元之间的储存的所述清洁液的循环。
根据本发明,还提供了一种用于遮罩的复合清洁方法,包括:将遮罩浸没在清洁槽中的清洁液中,以实现清洁所述遮罩;完成浸没清洁后,提起所述遮罩;使用喷嘴,在提起所述遮罩期间,将所述清洁液喷射到暴露在清洁液表面上方的所述遮罩的部分上;完成所述遮罩喷射清洁后,将所述遮罩转移到后续工艺中。
所述喷射清洁通过所述清洁槽中的所述清洁液的循环来进行。
浸没在所述清洁槽中的所述遮罩的清洁采用超声波发生器来进行。
所述清洁液倾斜向下喷射到所述遮罩上。
在执行喷射所述清洁液后,立即进行空气吹扫。
发明效果
根据具有上述配置的本发明,提供了所述喷雾喷嘴单元,用于喷射清洁液到从清洁槽中提起的遮罩的表面上,以完全移除异物,在所述遮罩从清洁槽中提起时阻止异物粘附于所述遮罩上,从而防止带有异物的遮罩造成压花缺陷的风险,并提高了清洁效果。
与现有技术不一样,本发明消除了所述遮罩经过若干个平行排列的清洁槽的需要,且由此极大地降低了清洁设备设置的空间及花费,清洁液的购买花费,及清洁时间。
另外,所述喷雾喷嘴单元从靠近所述遮罩表面处,朝着所述遮罩倾斜喷射清洁液,并防止清洁液四周飞溅,导致清洁液的消耗大大降低。此外,所述喷雾喷嘴单元的使用能消除基于喷嘴的清洁操作的单独工作空间及用于复杂喷嘴装置的单独设置空间的必要,从而大大地减少了清洁工艺的规模和花费,并提高生产力。
此外,用于净化清洁液以提供清洁液循环的所述循环应用件不仅改善了所述清洁槽中含有异物的清洁液的反向污染,还允许重复再利用流入所述清洁槽中的清洁液,因此大大地降低了清洁液的购买花费。
附图说明
图1为根据现有技术示出的用于遮罩的清洁装置的配置的代表性示意图。
图2为根据本发明的实施例示出的一种用于遮罩的复合清洁装置的配置的示意图。
图3为局部放大图,其示出了图2中的喷雾喷嘴单元的配置和功能。
图4为根据本发明的另一实施例示出的一种用于遮罩的复合清洁装置的配置示意图。
图5为根据本发明另一实施例示出的一种用于遮罩的复合清洁方法的流程图。
附图中使用的参考编号的描述
100 清洁槽
200 外储存槽
300 喷雾喷嘴单元
S 循环供给装置
400 第一循环供给装置
500 第二循环供给装置
具体实施方式
在下文中,将参考附图根据本发明对一种用于遮罩的复合清洁装置及方法进行详细描述。
在对本发明进一步特定描述之前,应当理解的是,本发明和权利要求书中使用的术语或单词并非限制于一般的或字典的含义,但是为了最好地解释本发明,在能恰当地定义术语的概念的原则基础上,解释为具有与本发明技术概念一致的的含义和概念。
因此,本发明中特定实施例和附图中所述配置不应当解释为本发明全部技术概念的代表,而是作为本发明的优选示例来提供。显然,根据本发明得出的启示,能够在本申请之时或之后替换本申请的实施例中的许多等量和变量。
在下文中,将参考附图图2至5对本发明中优选的实施例进行详细描述。
如图所示,根据本发明,一种用于遮罩的复合清洁装置包括:清洁槽100,该清洁槽100储存清洁液11,用于清洁遮罩20;外储存槽200,该外储存槽200安装在清洁槽100的外周,以临时储存从清洁槽100溢流出的清洁液11;喷雾喷嘴单元300,该喷雾喷嘴单元300安装在清洁槽100顶部,当遮罩20从清洁槽100内部提起时,该喷雾喷嘴单元300在遮罩20表面上喷射清洁液11;及循环供给装置,该循环供给装置使得喷出的清洁液回流到清洁槽100中。
清洁槽100为桶状结构,其包含用于清洁遮罩20的清洁液11,以从遮罩20的表面移除异物(即,颗粒)。通过将遮罩20置入清洁槽100中的工艺来进行清洁。
为了将遮罩20置入清洁槽100中,在清洁槽100的顶部上安装用于携带遮罩20上升和下降的运输夹30。运输夹30可包括单独的速度调节器,用于调节运输速度。
优选地,清洁槽100制成具有敞开顶部的壳体的形式,为上下传送的罩20提供了方便的通道。虽然本发明所述的清洁槽100成形为具有敞开顶部,但是清洁槽100并非特定地限制于本发明中指定的形状,其还可包括盖子(未示出),用于可选择地打开/闭合清洁槽100顶部。
超声波发生器110可安装在清洁槽100的底部侧,用于产生超声波。
在这种情况下,将具有沉积异物的遮罩20置于清洁槽100中,异物随着由超声波发生器110产生的振动被首次移除。
此清洁工艺使用超声波是本领域技术人员所知的清洁技术,因此已知功能和配置的详细描述将在此省略。
此外,清洁槽100还包括清洁液入口101和清洁液出口102,他们连接至下文所述的循环供给装置S中。
将外储存槽200安装在清洁槽100的外周,以临时储存从清洁槽100溢流出的清洁液11。
外储存槽200还可包括液面传感器(未示出),以控制清洁液的水平面,从而在外储存槽200中储存的清洁液的表面不高于清洁槽100中储存的清洁液表面。
即,液面传感器能阻止外储存槽200中的清洁液回流到清洁槽100中。
另外,飞溅防护装置安装在外储存槽200的外侧,用于阻止通过下文提及的第一和第二喷嘴部件310, 320喷射的清洁液从外储存槽200飞溅出。
此飞溅防护装置210的配置起到了阻止清洁液浪费,及阻止由清洁液11采集的异物的释放的作用。
特别是,将本发明的喷雾喷嘴单元300安装在清洁槽100的顶部上,用于将清洁液喷射到从清洁槽100内部提起的遮罩20表面上。
喷雾喷嘴单元300是提供第二次清洁液喷射来执行第二次清洁工序的组件,在清洁槽100中使用清洁液来完成第一次清洁工序后,遮罩从清洁槽100中被提起时,该组件阻止异物粘附于遮罩20上。
也就是说,第二次清洁液11喷射在从清洁槽100内部提起的遮罩20的暴露的表面上,使得漂浮在清洁槽100中的溶液表面上的异物(即,颗粒)不会在提起遮罩20期间粘附在遮罩20的表面上。
此外,将本发明的喷雾喷嘴单元300安装在清洁槽100的顶部上,当遮罩20暴露在清洁槽100中的清洁液11的表面上时,该喷雾喷嘴单元300像淋浴那样喷射清洁液。这个能移除喷雾喷嘴清洁操作和复杂喷嘴设备设置的单独空间的必要性,从而极大地减小了清洁工艺中的规模和花费,且大大地提高了生产力。
更具体地,喷雾喷嘴单元300包括第一和第二喷嘴部件310,320,该第一和第二喷嘴部件310,320设置在遮罩20的相对两侧上,以此方式遮罩20被夹在第一和第二喷部件310,320 之间。
第一喷嘴部件310和第二喷嘴部件320都包括若干个在垂直方向上沿着遮罩20彼此分开设置的喷嘴部件。
优选地,第一和第二喷嘴部件310, 320以向下倾斜的方式设置,朝着遮罩20以向下斜线的方向进行清洁液喷射,且形成了延伸到与所述遮罩20宽度一样长或更长的长度。
在第一和第二喷嘴部件310,320此处所用术语“斜线方向”是指,遮罩20暴露在溶液表面时,清洁液被喷射到遮罩20的表面处的倾斜角度。
因此,清洁液的喷射针对于遮罩20的提起,使得移除颗粒更有效率。
此外,第一和第二喷嘴部件310, 320具有出口孔口,该出口孔口不需要全都一样,而可以在尺寸和形状上不同。
第一和第二喷嘴部件310, 320所使用的清洁液通过循环供给装置S的第二循环供给装置500由清洁槽100提供,因此有效地减少了清洁液的消耗。当然,第一和第二喷嘴部件310, 320可被制成具有从单独的外清洁液补给线330提供清洁液的结构。
此外,将一组鼓风机340安装在第一喷嘴部件310或第二喷嘴部件320顶部,用于移除所述遮罩20表面上的清洁液的残余,以快速地释放清洁液的残余及颗粒。
循环供给装置S包括第一循环供给装置400和第二循环供给装置500,第一循环供给装置400用于提供从外储存槽200到清洁槽100的储存清洁液的循环,第二循环供给装置500连接至清洁槽100和喷雾喷嘴单元300之间,以提供从清洁槽100到喷雾喷嘴单元300的储存清洁液的循环。
第一循环供给装置400包括第一清洁液补给线410,该第一清洁液补给线410在外储存槽200和清洁槽100之间连接;第一泵420,该第一泵420连接至第一清洁液补给线410;第一加热器430,该第一加热器430用于加热通过第一泵420输送的清洁液;第一污染传感器440,该第一污染传感器440用于检测由第一加热器430加热的清洁液的污染;及第一过滤器450,该第一过滤器450用于过滤经过第一污染传感器440的清洁液的异物。
第一清洁液补给线410是在外储存槽200和清洁槽100之间连接的空心管道结构,用于通过内部通道运输清洁液。
第一泵420是组件,该组件安装在第一清洁液补给线410上,靠近外储存槽200,产生压力,用于从外储存槽200处吸取清洁液,并将其泵到清洁槽100中。
为了提高清洁液的清洁效果,第一加热器430被安装在第一泵420的后部,以加热清洁液至限定温度。
第一污染传感器440是用于检查清洁液的浓度,以感应由于重复再利用的清洁液的状况,并决定是否替换清洁液。
第一过滤器450用于通过过滤清洁液中的异物,来净化清洁液以便在清洁槽100中重复使用。
也就是说,第一循环供给装置400重复执行一套循环步骤,该步骤包括:运行第一泵420,产生压力,吸取储存在外储存槽200中的清洁液,并推送至清洁槽100中;当清洁液经过第一加热器430时,加热清洁液至限定温度;已加热的溶液依次通过第一污染传感器440和第一过滤器450传送;接着将清洁液转移至清洁槽100中。
以这种方式,本发明的第一循环供给装置400实现了用于消耗全部储存在清洁槽100和外储存槽200中的清洁液的循环,导致清洁溶剂的消耗的及购买花费的有效减少。
第二循环供给装置500包括第二清洁液补给线510,该第二清洁液补给线510在清洁槽100和喷雾喷嘴单元300之间连接;第二泵520,该第二泵520连接至第二清洁液补给线510;第二加热器530,该第二加热器530用于加热通过第二泵520输送的清洁液;第二污染传感器540,该第二污染传感器540用于检测由第二加热器530加热的清洁液的污染;及第二过滤器550,该第二过滤器550用于过滤经过第二污染传感器540的清洁液的异物。
第二循环供给装置500的配置和功能与第一供给装置400的配置和功能是相同的或相似的,将不再详细描述。
如图4所示,还包括了连接线600及开关阀610,该连接线600用于提供第一和第二循环供给装置400, 500之间的连接。
这个结构设计为以便在需要的时候,通过第一循环供给装置400转移的清洁液能直接流到喷雾喷嘴单元300。
在下文中,将根据本发明的实施例中的一种用于遮罩的复合清洁方法进行描述。
首先,在步骤S100中,将遮罩20浸没在清洁槽100中的清洁液11中,以进行清洁工艺。
经由运输夹30,实现遮罩20进入清洁槽100中。
使用超声波发生器110,清洁根据本发明所述的浸没在清洁槽100中的遮罩20。
在步骤S200中,完成浸没清洁后,将遮罩20从清洁槽100中提起。
在步骤S300中,在提起遮罩20期间,使用喷嘴,对暴露于清洁液表面上的遮罩的部分喷射清洁液。
在这方面,喷射清洁工艺通过清洁槽100中的清洁液的循环来实现。
优选地,从喷嘴喷射出的清洁液被驱使朝着遮罩20的向下斜线方向。
进行清洁液喷射后,立即执行空气吹扫。
在步骤S400中,在完成遮罩20上的喷射清洁后,遮罩被转移到后续的工序,以完成用于遮罩的复合清洁工艺。
出于说明和描述的目的呈现了本发明的优选实施例的上述描述。其并不旨在于一一列举,也并不旨在于将本发明限制于明确的公开形式,并且显然地,根据上述所知可以进行许多替换,修改和变化。
Claims (1)
1.一种用于遮罩的复合清洁装置,包括:
清洁槽,所述清洁槽储存用于清洁遮罩的清洁液;
外储存槽,所述外储存槽安装在所述清洁槽的外周,以临时储存从所述清洁槽中溢流出的所述清洁液;
喷雾喷嘴单元,所述喷雾喷嘴单元包括第一喷嘴部件和第二喷嘴部件,所述第一喷嘴部件和第二喷嘴部件分别设置在遮罩的相对两侧上,并且安装在所述清洁槽顶部,以从所述清洁槽提起所述遮罩期间,将所述清洁液喷射到暴露在所述清洁液表面上方的所述遮罩的部分上;
循环供给装置,所述循环供给装置使得喷出的所述清洁液回流到所述清洁槽中;以及
一组空气鼓风机,将所述一组空气鼓风机安装在第一喷嘴部件和第二喷嘴部件的顶部,以移除所述遮罩表面上的所述清洁液的残余,
其中,所述第一喷嘴部件和第二喷嘴部件包括若干个喷嘴部件,所述喷嘴部件在垂直方向上彼此分开设置且延伸到与所述遮罩宽度一样长或更长的长度,
其中,在所述外储存槽的外侧安装飞溅防护装置,以阻止通过所述第一和第二喷嘴部件喷射出的所述清洁液从所述外储存槽中飞溅出,
其中,循环供给装置包括第一循环供给装置和第二循环供给装置,所述第一循环供给装置在所述外储存槽和所述清洁槽之间连接,以提供从所述外储存槽到所述清洁槽的储存的所述清洁液的循环,所述第二循环供给装置在所述清洁槽和所述喷雾喷嘴单元之间连接,以提供从所述清洁槽到所述喷雾喷嘴单元之间的储存的所述清洁液的循环,
其中,所述第一循环供给装置包括第一加热器和第一污染传感器,所述第一加热器用于加热所述清洁液,所述第一污染传感器用于检测由所述第一加热器加热的所述清洁液的污染,第二循环供给装置包括第二加热器和第二污染传感器,所述第二加热器用于加热所述清洁液,所述第二污染传感器用于检测由所述第二加热器加热的所述清洁液的污染。
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020180035888 | 2018-03-28 | ||
KR1020180035888A KR102028541B1 (ko) | 2018-03-28 | 2018-03-28 | 마스크 복합 세정장치 및 세정방법 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN110314882A CN110314882A (zh) | 2019-10-11 |
CN110314882B true CN110314882B (zh) | 2022-04-19 |
Family
ID=68112638
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN201810923173.9A Active CN110314882B (zh) | 2018-03-28 | 2018-08-14 | 一种用于遮罩的复合清洁装置及方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR102028541B1 (zh) |
CN (1) | CN110314882B (zh) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR102320595B1 (ko) * | 2020-08-06 | 2021-11-02 | (주)디바이스이엔지 | 스프레이식 기판 세정장치 및 기판 세정방법 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01303724A (ja) * | 1988-06-01 | 1989-12-07 | Hitachi Ltd | 湿式洗浄方法及び洗浄装置 |
JP2003290724A (ja) * | 2002-02-04 | 2003-10-14 | Fuji Xerox Co Ltd | 円筒状基材の洗浄方法、洗浄装置及び円筒状基材並びに電子写真感光体の製造方法 |
KR20070033129A (ko) * | 2005-09-20 | 2007-03-26 | 세메스 주식회사 | 웨이퍼용 척 세정장치 |
CN104646337A (zh) * | 2013-11-19 | 2015-05-27 | 三星显示有限公司 | 清洁基板的设备 |
EP3187146A1 (en) * | 2014-08-29 | 2017-07-05 | Chun Woo Shin | Oral cleaner using compressed air |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101145850B1 (ko) | 2010-11-22 | 2012-05-17 | 주식회사 케이씨텍 | 마스크 세정장치 |
-
2018
- 2018-03-28 KR KR1020180035888A patent/KR102028541B1/ko active IP Right Grant
- 2018-08-14 CN CN201810923173.9A patent/CN110314882B/zh active Active
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01303724A (ja) * | 1988-06-01 | 1989-12-07 | Hitachi Ltd | 湿式洗浄方法及び洗浄装置 |
JP2003290724A (ja) * | 2002-02-04 | 2003-10-14 | Fuji Xerox Co Ltd | 円筒状基材の洗浄方法、洗浄装置及び円筒状基材並びに電子写真感光体の製造方法 |
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CN104646337A (zh) * | 2013-11-19 | 2015-05-27 | 三星显示有限公司 | 清洁基板的设备 |
EP3187146A1 (en) * | 2014-08-29 | 2017-07-05 | Chun Woo Shin | Oral cleaner using compressed air |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR102028541B1 (ko) | 2019-11-08 |
CN110314882A (zh) | 2019-10-11 |
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PB01 | Publication | ||
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GR01 | Patent grant |