TWI290005B - Cleaning device - Google Patents

Description

1290005 ’ 九、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明係關於一種清洗裝置，特別是關於在有機el • 用之有機材料之蒸鍍步驟中，用以去除附著在由金屬薄膜 所構成之遮罩之有機材料的清洗裝置（cleaning device)。 【先前技術】

近年來’使用有機電致發光（Electro Luminescence · 以下稱「有機EL」）元件之有機EL顯示裝置，已取代CRT 鲁及LCD之顯示裝置而受到囑目，正研究開發一種具備例如 用以驅動該有機EL元件之薄祺電晶體（Thin Film Transistor :以下稱「TFT」之有機EL顯示裝置。 有機EL元件係依序層積形成：由ITO(Indium Tin Oxide氧化銦錫）等之透明電極所形成之陽極；由 MTDATA(4,4 — bis(3 — methylphenylphenylamino)biphenyl) 等第 1 電洞輸送層、TPD(4,4,40-tris(3- • methylphenyphenylamino)triphenylamine)等第 2 電洞輸送 層所構成的電洞輸送層；包含σ定嗣（Quinacridone)衍生物之 Bebq2(10苯弁[h]X 喹林酚-鈹絡合物 10-benzo[h] quinolinol_beryllium complex)所形成之發光層；由 Bebq2 所形成之電子輸送層；及由鋁合金所形成之陰極的構造。 如上述之有機EL元件係藉由用以驅動該有機EL元件 之驅動用TFT供給電流而發光。亦即，從陽極所注入之電 洞與從陰極所注入之電子在發光層内部再結合，激發用以 形成發光層之有機分子而產生激發子（exciton)。在該激發 5 317370 1290005 ’該光會從透明之陽極 性基板放出至外部而進 子放射失活的過程中由發光層發光 經由透明之陽極及玻璃基板等絕緣 行發光。 . 上34有機EL元件之各層中1於形成電洞輸送層、 .β層、電子輸送層的有機材料具有耐溶劑性低、不耐水 =之特性。因此無法利用半導體製程之光微影技術，此， 错由使用以例如金屬薄膜所構成之光罩（遮罩)的基鐘法， φ，上述有機材料選擇性蒸鍍在具備驅動用tft之絕緣性基 =上’以形成有機EL元件之電洞輸送層、發光層、電子 輸送層及陰極之圖案。 第15圖至第17圖顯示使用在該有機材料之蒸銀的遮 ^職k)之-例。第15圖係說明習知例之有機肛用之遮 =上^圖。第16圖係沿第15圖之χ—χ線的剖視圖。 弟17圖係沿第15圖之γ—Υ線的剖視圖。如第 i7圖所示，遮罩ig係由具有例如縱橫各數微米程度之複 籲數細微孔U的例如鎳（Ni)及鐵（Fe)等金屬薄膜所構成。通 =^孔η ’使上述有機材料選擇性蒸鍍在絕緣性基板 。由刚述金屬溥膜所構成之遮罩1〇係 Π及鐵陳構成之金屬框12。該遮罩1。之緣部係」 金屬框12所支持。又，在金屬框12之緣刑田、 持該金屬框12之複數個扣止部13。 7 以保 框以遮罩！〇簡稱為「遮罩1G」。下’將以在金屬 又，關連之技術文獻係列舉例以下之 (專利文獻1) 文獻° 317370 1290005 曰本特開2004— 103269號公報 【發明内容】 (發明所欲解決之課題） 之=EL凡件對應彩色顯示具有3原色之紅、綠、藍 用有機材狀Μ步驟—般錢覆使用各色 ^料㈣行。因此，隨著反覆㈣之錢 積層在幾層之方式㈣在遮罩1Q之表面。亦即，

機18广斤示之有機材料之遮罩的剖視圖所示，有 :材科1並不僅是形成在遮罩10之表面上，而且以 料1通過的複數的孔11的方式，在二1之 周緣形成突緣部la。 如此， 部而變窄， 低之問題。 ，罩H)之孔n t因由有機材料所構成之突緣 而有該有機材料蒸鍍於絕緣基板的精密度降 作為解決前述問題之因岸卢 同一遮罩，而在每預^ Λ 有一種不複數次使用 I丄：次數後即廢棄使用過之遮 罩’而換為未使用之遮罩的方法。但是，使用 使用在前述有機用之有^ ^ 5 昂主㈣m 之蒸鑛的未使用之遮罩 叩貝，因此有成本增大之問題。 、早 因此’本發明係提供—種可去除㈣在由金 構成之遮罩之有機EL用之有機材料 、

(解決課題之手段） I 本發明之清洗裝置係鑑於上 裝置為用以去除附著在由全屬奪；^而研創者，該清洗 所構成之遮罩之有機 317370 7 1290005 条鐘步驟中’ η·適當地去除附著在由金屬薄膜所構成之遮 罩之有機材料。 因此，即使重覆使用同一遮罩，在遮罩孔之周緣不會 形成由该有機材料所構成之突緣部，因此孔不會變窄。結 果’可儘里抑制有機材料之蒸鍍的精密度降低。 ^在有機材料之蒸鍍步驟中，可使用同一遮罩，因此 可儘里避免如習知蒸錢步驟巾因交換未使用之遮罩而造成 之成本增大。由於無須將使用過之遮罩廢棄，因此可儘量 抑制因該廢棄所造成之環境污染。 【實施方式】 、尺說月本叙明貫施形態之清洗裝置。作為被清洗 =:與在第15圖至第17圖所示之習知蒸鑛步“ 之遮罩10。亦即，該遮翠係沿著形成有機材料 、疋圖案，由形成有縱橫各數微米程度之孔u的金 膑所構成。該金屬薄削系由例如鎳(Νι)及鐵（Fe)所構心 附雜絲之蒸料料，去除 =用:C所構成之遮“之前“ 除附荖之裝置的整體構成係與用以去 ,、 砧罩】0之有機用之有機材料的清、先β 用以搬送遮罩之搬送系統大為不同。“統、及 317370 10 1290005 並予以J餾。由此，可使該清洗液之155。。左右之沸點降 低，使蒸餾時之加熱溫度儘量降低。 、、該清洗裝置係具備將由真空蒸㈣3()真空蒸德之清 洗液冷部至室溫的第i冷卻器31。由前述第工冷卻器^ 冷部至室溫之清洗液係通過第1回流管1 〇 1回流至第2清 洗槽22。 。在本案中，室溫係「10艺至40。(：」，最好為「2(rc至 > 30°C」，更好為25〇c。 藉由$述’月洗液之真空蒸顧、冷卻、及回流，可在室 溫進行遮罩1G之處理。因此，可儘量抑制因熱之應力所產 生之張力或損傷。 主再者蚋述第1及第2清洗槽21、22具備用以使前述 ^洗液振動之未圖示的第1超音波振動器，以使清洗液確 貝！!達遮罩1G之表面。再者’為了因應由該第1超音波振 7益之振動所造成之清洗液的溫度上昇，第1及第2清洗 ►扣21、22係具備將清洗液的溫度予以微調整之第1溫 整器40。 寸在此，第1溫度調整器4〇係具備第！熱交換器4〇h 2 ^絮浦42 ’由该第1熱交換器40h冷卻第1及第2清洗槽 ^ μ 22之清洗液。且第1溫度調整器40係依據是否使由 孩=1 =父換器40h冷卻之清洗液，經由幫浦42流入第j 第2 π洗槽21、22，將該各槽之清洗液之溫度微調整 室溫。 再者，清洗液係循環由過濾器所過濾。如第丨圖所示， 317370 1290005 在其循環經路、亦即清洗槽21、第丨溫度調整器4〇、幫 42、清洗槽21之路徑設置有過濾器，但該過濾器係與該路 .徑不同之其他路徑，亦可設置與該路徑併設之路徑，^ •洗槽21、過濾器、幫浦42、清诜槽以之路徑。 ’月 • 士上所述，藉由第1溫度調整器40可對第1及第 清洗槽21、22之清洗液進行微調整。 乐2 其次，說明本實施形態之清洗裝置之清洗系統中 •及第2沖洗槽51、52之構成。 、、該清洗裝置係在第i沖洗槽51具備有蓄積從該第】 沖洗槽5 1溢流之沖洗液的溢流槽53。 該清洗裝置具備甩以從包含經由遮罩1〇進入第】沖 槽51之第2清洗槽22之微量清洗液或微量有機材料等之 雜質的沖洗液，利用常麈下之常壓蒸鶴去除該雜質之常壓 蒸德器60。沖洗液係從第i沖洗槽51溢流至溢流槽μ， 並從該溢流槽53流入常壓蒸餾器6〇。 »。t述沖洗液之_為例如贼程度時，如具有約16〇 °c程度之沸點的清洗液之蒸鶴’無須進行用以使該沸點降 低之真空蒸顧。因此，利用常壓蒸鶴器60進行常軍（大氣 壓）下之常壓蒸鶴。蒸館時蒸發之沖洗液係藉由使沖;液液 化之溫度的凝汽管圏（trap c〇i][)6〇t而液化。 遠清洗裝置係具備將由常壓蒸❹6()㈣蒸館之沖 洗液冷卻至室溫的第2冷卻器61。由前述第2冷卻哭〇 冷卻至室溫之沖洗液係通過第2回流管1〇2回流至^沖 317370 13 1290005 在此，於第2冷卻器與第2回流管i〇2之間具備有水 分離槽80，該水分離槽80係用以將經過常壓蒸餾而含有 •水分之沖洗液中之水分與沖洗液分離者。沖洗液經過分離 w水分離後，通過第2回流管102而回流至第2沖洗槽52。 ·. 又，該清洗裝置係具備回收從第1沖洗槽51或第2 沖洗槽52蒸發之沖洗液的回收槽54·例如，回收槽54内 之溫度係设定為第2沖洗槽52之蒸氣壓與回收槽54内之 鲁蒸氣比為15〇 : 1至10 : 1之溫度即可。回收槽54係具備 第3冷卻器55。該第3冷卻器55使回收槽54冷卻至例如 零下25°C左右，藉此回收槽54之蒸氣壓會低到第}沖洗 槽51或弟2沖洗槽5 2之大約1 〇 〇分之1左右，且蒸發之 沖洗液會流入回收槽54。流入回收槽54之沖洗液係流入 水分離槽80，含有之水分分離後，通過第2回流管回流至 第2沖洗槽52。 藉由前述清洗液之真空蒸餾、冷卻、及回流，可在室 參溫進行遮罩1 〇之沖洗處理。因此，可儘量抑制因熱之應力 所產生之張力或損傷。 又’在上述之清洗裝置中，由於將浸潰在清洗液之遮 罩1 〇浸潰在沖洗液，因此將有微量之清洗液會經由遮罩 1 〇移動至第1沖洗槽51之沖洗液，而與該沖洗液混合。 因此’該清洗裝置係具備將含有清洗液之沖洗液分離為清 洗液與沖洗液的分離器90。該分離器90係藉由在使含有 清洗液之沖洗液蒸發後，利用冷卻器等冷卻該蒸發之沖洗 液，而液化回收。如此分離之沖洗液係流入水分離槽8〇， ]4 317370 1290005 將所含之水分經分離後，通過第2回流f 1G2回流至第2 沖洗槽52 〇 • 再者’该清洗裝置係具備蓄積由該分離器90所分離之 •清洗液、從常壓蒸顧器60流入之經常壓蒸顧前之沖洗液 ’·(含有清洗液），再流入分離器90之蓄積槽91。 在此，畜積槽91係具備檢測出流入蓄積之清洗液及 沖洗液之液面上限的上限感測器91f，及檢測出該液面下 籲限的下限感測器91e。藉由閥_之開閉，使來自常壓蒸 餾裔60之沖洗液流入蓄積槽91，直到上限感測器檢 測出液$。隨著反覆進行該清洗液與沖洗液之分離的次數 增加，畜積在蓄積槽91之沖洗液係包含有許多從分離器 90流入且在蓄積槽91蓄積之清洗液。因此，含有該清洗 液之冲洗液奋在分離器9〇蒸發且分離之速度會變慢。 因此’在蓄積槽91内，依據下限感測器91e之檢測結 果，計測從分離器90之分離開始時間點至沖洗液之液面到 Φ達下限的時間，該到達時間比預定時間長時，包含在該蓄 積槽内之沖洗液之清洗液係被視為飽和狀態，而結束分離 器90之分離。結束分離器90之分離後，在蓄積槽91内分 離之清洗液係流入真空蒸餾器3〇。 藉由以上之處理，分離包含於沖洗液之清洗液，可僅 對沖洗液加以再利用。 ，此外’ W述第1沖洗槽51及第2沖洗槽52具備用以 使刖述冲洗液振動之未圖示的第2超音波振動 器，以使該 冲洗液確5到達遮罩丨〇之表面。再者，為了因應由該第2 3]7370 1290005 • 2音波振動器之振動所造成之清洗液的溫度上昇，第1及 第2沖洗槽51、52係具備將清洗液的溫度予以微調整之第 . 2溫度調整器70。 、 在此’第2溫度調整器70係具備第2熱交換器70h •及幫浦72，由該第2熱交換器7〇h冷卻第i及第2沖洗槽 51、52之沖洗液。且第2溫度調整器7〇係依據是否使由 忒第2熱父換态70h冷卻之沖洗液，經由幫浦72流入第1 鲁及第2清洗槽51、52，將該各槽之沖洗液之溫度微調整在 室溫。 如上所述’藉由第2溫度調整器7〇可對第1及第2 冲洗槽5 1、5 2之清洗液進行微調整。 其次，说明第1及第2清洗槽21、22及第1及第2 沖洗槽51、52之各槽内的詳細構成。第2圖係說明第i 及第2清洗槽21、22之剖視圖。第3圖係說明帛i及第2 沖洗槽51、52及回收槽54之剖視圖。在第2圖及第3圖 _ 中省略溢流槽23、53之圖式。 ， 如第2圖所示，帛1及第2清洗槽2卜22係分別具備 .第1超音波振動器21a、22a、第！攪拌器21b、22b、第1 /皿度感測淼21c、21c及可動式第1液中載體21d、。 在此’第1超音波振動器21a、22a係使該清洗液產生振動 即可，以使清洗液確實到達遮罩10之表面，並使其與遮罩 正對向，但1個1個清洗遮罩10之表面的牧葉式，與清洗 複數牧之總括式的情形相比較，前者之第1超音波振動器 21a、22a的效果較大。且第1攪拌器2]b、2几係用以攪 317370 16 1290005 拌該清洗液者，以使清洗液在第〗及第2清洗槽2丨、22 動。 此外，第1溫度感測器21c、21c係在以第J溫度調整 器40對第i及第2清洗槽21、22内之清洗液進行^度調 整時，檢測出該清洗液之溫度，以作為參考溫度。又，第 1液中載體2ld、22d係具有在對遮罩1G進行^洗處理時 保持該遮罩1G且浸潰在清洗液之功能。且第丨液中載體 21d、22d最好具有使遮罩1〇整體朝垂直方向振動之振動 功能’以使沖洗液確實到達遮罩1 〇之表面。 如上所述，在第1及第2清洗槽21、22中，藉由以第 1超音波振動斋21a、22a進行清洗液之振動，以第丨攪拌 器2lb、22b進行清洗液之攪拌，以第】液中载體⑴、見⑽ 進行遮罩1G之搖動，而可4實利用該清洗液對 行清洗處理。 /同樣地’如第3圖所示，第1及第2沖洗槽51、52 係分別具備第2超音波振動器51a'52a、第2攪“迅、 52b、第2溫度感測器51c、52c及可動式筮9、六a i μ 汉J勤式弟2液中載體51d、 52d。在此，笫2超音波振動器51a 士 ^ 生振動之振動$。且第…拌器^讲仙以攪掉 洗液者，以使沖洗液在第i及第2沖洗槽51、52 第2溫度感測器51c、52c係在以第2 :哭。 對第1及第2沖洗槽5卜52内沖 〇〇 κ /T，先液進行溫度調整時， 檢測出該沖洗液之溫度，以作為參考溫度。又，第2液中 載體51d、52d係具有在對遮罩1Q進行沖洗處理時保持該 317370 17 1290005 遮罩10且浸潰在沖洗液之功能。且第2液中載體51 d、52d 最好具有使遮罩10整體朝垂直方向振動之振動功能，以使 沖洗液確實到達遮罩10之表面。 再者，與第2沖洗槽52導通之回收槽54係具備第3 冷卻器55及第3溫度感測器54c。第3冷卻器55係使回 收槽54冷卻至比第1及第2沖洗槽51、52低之溫度。該 冷卻溫度係如前所述例如零下25°C左右。導入回收槽54 之經蒸發的沖洗液係藉有所謂凝汽管圏（trap c〇il)54t而液 化並回收在該回收槽54。 此外’在第1及第2沖洗槽5 1、52之沖洗液之液面上 方，具備有第3及第4溫度調整器57、58及2個第4溫度 感測器50c。第3溫度調整器57係藉由使第1及第2沖洗 槽51、52之沖洗液之液面上方的溫度冷卻至例如零下1〇 C左右’而形成用以抑制蒸發之沖洗液擴散至第1及第2 冲洗槽5 1、52之外部的第1空氣層59a。又，第4溫度調 整裔58係將第1空氣層59a之上方溫度調整在比室溫略高 之溫度，而形成用以抑制第1及第2沖洗槽5卜52之外部 大氣流入該槽内的第2空氣層5 9b。 在此’第3及第4溫度調整器57、58之前述溫度的調 整最好依據2個第4溫度感測器50c之溫度檢測結果來進 行。且如述第3及第4溫度調整器5 7、5 8之前述溫度調整 係調整為預設之預定溫度時，亦可省略2個第4温度感測 器50c之任1個或全部。 如上所述’第1及第2沖洗槽51、52中，藉由以第2 18 317370 1290005 赵s波振動森5 1 a、52a進行清洗液之振動，以第2授拌器 51b、52b進行沖洗液之攪拌，以第2液中載體5id、52d 進仃遮罩10之搖動，而可確實利用該沖洗液對遮罩ι〇進 行沖洗處理。 在第1及第2沖洗槽5卜52之沖洗液之液面上方，具 備有第3及第4溫度調整器57、58，因此可在不會使於第 1及第2沖诜槽5卜52蒸發之沖洗液擴散至大氣中的狀態 下’藉由回收槽54進行回收。 、其次，說明本實施形態之清洗裝置之清洗系統中清洗 液之抓動。在第1清洗槽2丨及第2清洗槽22浸潰遮罩1 〇 並進行清洗處理時，從遮罩1〇去除之有機材料會混入清洗 液。且通過第！回流管1〇1而回流之清洗液流入第2清洗 槽時’第1及第2清洗槽21、22之清洗液會溢流至第】 溢流槽23。溢流之清洗液係流入真空蒸館器3〇。在此，真 。空蒸鶴B 30内係減壓至〇.8氣壓左右，且加熱至例如12〇 。(:左右’以進行清洗液之真空蒸餾。沈澱在真空蒸餾器％ 之底部的有機材料係在在冷卻鋼術冷卻並㈣性地 至外部。 該，洗液之沸點係例如16(rc左右，但在真空狀態中 加熱亚瘵餾該清洗液，藉此可使該沸點降低，並使蒸餾時 之加熱溫度降低至例如12代左右。且上述蒸鶴係真^蒸 餾，因此在蒸餾之過程中在清洗液不會含有水分。 經真空蒸館且去除有機材料之清洗液係由第i冷卻哭 31冷卻至室溫，且通料！回流管1〇1❿回流至第:清2 317370 19 1290005 槽0 又，第1及第2清洗槽21、22夕、支+ — μ、 “之清洗液的一部分係藉 由裝設在帛1溫度調整器40之第1熱交換器、權而冷卻， 該冷卻之清洗液係經由幫浦42適當地流入第2清洗槽1 其次’說明本實施形態之清洗裝置之清洗系統中清洗 液之流動。在f i沖洗槽51、第2沖洗槽52浸潰遮罩ι〇 並進行清洗處理時，從遮罩1G去除之有機材料會混入沖洗

液。且通過第2回流管1Ό2而回流之沖洗液流人第2沖洗 槽52時’第1及第2沖洗槽51、Μ之沖洗液會溢流至第 2溢流槽5 3。 該溢流之沖洗液係流入真空蒸餾器6〇。在此，沖洗液 之^點為例如6(rc程度’因此如具有約⑽。c程度之沸點 的清洗液之蒸餾，無須進行用以使該沸點降低之直空墓 餾。因此，常壓蒸德器60内係在常壓（大氣麼）下’被加熱 超k該4點之例# 65 c左右，以進行沖洗液之常塵蒸 I留。 =由常’去除包含在沖洗液之有機材料（透過附 二洗？之遮罩10搬送)等雜質。經常壓蒸餾之沖洗液 比重吊餾之過程中混合有水分，但利用比該水分大之 刀離為水分與沖洗液。該沖洗液係藉由第2冷卻液 62冷卻ι 、拉 至 >撤，而流入至水分離槽8〇。 在水刀離槽80去除水分之沖洗液係通過第2回流管 1〇2而回流至第2沖洗槽52。 又’雖流入常壓蒸餾器60但未經常壓蒸餾之沖洗液的 3J7370 20 1290005 一部分，亦即包含微量之清洗液（經由遮罩10混合在沖洗 液）的沖洗液係依據閥60b之開閉，流入蓄積槽91，在到 • 達畜積槽91之上限後，閥60b會關閉，而停止沖洗液之流 • 入。且蓄積槽91内之沖洗液係流入分離器90，開始沖洗 , 液與清洗液之分離。 错由下限感測益91 e檢測出畜積槽91内之沖洗液的液 面時’再打開閥60b，使沖洗液從常壓蒸餾器6〇流入蓄積 槽91内。 由分離器90分離之沖洗液係利用比該水分大之比 重，在利用水分離槽80去除水分後，通過第2回流管1 〇2 而回流至第2清洗槽52。由分離器90分離之清洗液係流 入蓄積槽91。 I隨著反覆進行該清诜液與沖洗液之分離，蓄積在蓄積 4曰91之冲洗液係包含有許多從分離器流入且在蓄積槽 内畜積之清洗液。因此，含有該清洗液之沖洗液係在分 鲁離器90蒸發且分離之速度會變慢。 . 因此，在蓄積槽91内，依據下限感測器9le對蓄積槽 ，91之沖洗液之液面的檢測結果，計測從分離器9〇之分^ 開始時間點至沖洗液之液面到達下限的時間，該到達時間 :咖時間長時，包含在該蓄積槽91内之沖洗液之清洗液 糸被視為飽和狀態，而結束分離器9 Q之分離。然後打開原 f關閉之閥9lb，使在蓄積槽91内分離之清洗液流入 瘵餾器30。 再者’從第i及第2沖洗槽5卜52蒸發之沖洗液係藉 317370 1290005 由第〇冷卻器55，導入冷卻至比第丄及第2沖洗槽5卜52 更低之例如零下25t左右的回收槽54,並予以回收。回收 至回收槽54之沖洗液係流入水分離槽8〇，並利用丨5左 右之比重去除水分，通過第2回流管丨〇2而回流至第2清 洗槽52。

，次，參照圖式說明本實施形態之清洗裝置之搬送系 第4圖至第8圖、第11圖至第14圖係說明本發明實 施升y I'之α洗裝置之搬送系統之剖視圖。第9圖及第1 〇 圖係說明本發明實施形態之清洗裝置之搬送系統之斜視 圖。第4圖至第14圖中’對清㈣統之構成要素係僅圖式 搬送系統之說明所需之一部分構成要素。 士第4圖至第14圖所不’本實施形態之清洗裝置之搬 送系統係具備:設置在台200上且將複數個遮罩1〇收納在 水平方向的盒g210;具有從盒E21〇m】個遮罩⑺之 第1臂部⑵的第！移餘置咖；具有握持遮罩1〇之第 2臂部222的第2移載裝置23〇;將遮罩1〇搬送至 =洗槽及第，及第2沖洗槽51、52的搬送裝 置24〇。在此，搬送裝置24〇係在搬送遮罩ι〇之際，具 保持遮罩1 〇之一邊的鉤部。 其明本實施形態之清洗裝置之搬送系統的動 2如弟4圖所示，第1移載裳置，之第】臂部221合 伸細，從盒匣210取出1個垆i 曰 、 们迟罩10。其次，如第5圖所示， 弟1移載裝置220係使第^ & 批班士 乐1月口P 221下降，並將遮罩1〇 載置在台200之預定位置。其 如乐0圖所不，第2移 317370 22 1290005 載裝置230係利用第2臂部222握持遮罩l〇，且如第7圖 所示’將遮罩1〇載置在搬送裝置24〇上。 再者，如第8圖所示，載置有遮罩1〇之搬送裝置24〇 係在垂直方向旋轉90度左右，且立起至垂直狀態。且在搬 运裝置240上载置之遮罩1〇亦同時朝垂直方向旋轉卯度 而立起。此時之搬送裝置240及載置在搬送裝置24〇之遮 罩Ϊ0的狀態係顯示在第9圖之斜視圖。 • 如此，為了使搬送裝置24〇及遮罩10成為垂直狀態， 在構成遮罩10之金屬薄膜施加應力（對金屬薄膜施加:重 力所產生之應力或由液之搖動所產生之應力），可儘量避免 金屬疲勞或損傷。此外，藉由使遮罩1G靠在垂直方向，亦 具有不錯之去除液體的效果。 刖述搬运裝置240與遮罩10旋轉時之 90度左右。亦即，口 |刹田阳垂am* ^ 、馬 ΊΛ a Ρ - ，、要利用因重力所產生之應力構成遮罩 0之金屬薄膜儘量不合吝4&妙』 不θ產生金屬疲勞或損傷的角度，搬送 、又舁ΐ罩1〇亦可旋轉至水平及垂直以外之角度。 240 Γ俘1°:广圖之斜視圖所示’預先裝設在搬送裝置 接在該遮罩10之扣扣止部13嵌合之方式壓 “ 邛13。由此，遮罩1 〇不會對豆金屬 溥膜之表面造成指-工丄i n屬 0/1〇 貝^，而由搬送裝置240之保持具241盥 鉤部242所挾持保持。 竹/、 - 如上述保持在該搬送裝置2 240 —同搬送至清 ι早川知舁搬达裝置 士』族 /衣置之〉月洗系統、亦即第1及第2、、杳 洗槽21、22(及第]男馀。、丄、 I乐1及弟2 /月 冲洗槽5 1、52)。在此，該搬送 317370 1290005 時，搬送裝置240係如第U圖之剖視圖所示，連續性進行 垂直方向及水平方向之移動，如該圖中執跡〗及8所示， 依據近似圓弧狀之曲線狀之預定執跡而移動。又，第η 圖中之Α、Β、α顯示清洗液或沖洗液之液面情報的垂直 方向之位置（高度）。 藉由具有預定執跡之搬送裝置240之移動，可儘量避 免因該移動從垂直方向切換至水平方向或從水平方向切換

至垂直方向時之衝擊所產生之應力，造成在由金屬薄膜所 構成之遮罩10產生金屬疲勞或損傷。 又，搬送裝置240係以預定之速度而移動。該預定之 速度係藉由搬送裝置240移動時之風壓或衝擊所產生之應 力’在由金屬薄膜所構成之遮罩1G不會產生金屬 指 傷之程度的速度。或是，前述預定之速度係藉由搬送裝^ 240移動時所產生之亂流，不會促使第i及第2沖洗槽$卜 52内之沖洗液之蒸發的預定速度。 其次，如第12圖所示，載置遮罩1〇之搬送裝置2 係搬送至第1、、主，φ # 9 ! μ α -、… 如第3圖所示，裝設在第1 之第m中載體21d會上昇至清洗液之液面上方 且弟1液中載體上昇至與搬送裝置同 =送裝置24。移動至與上昇至清洗液之液面上方丄 攻β載版21 d同一位置後，解除搬送裝置24〇之保持具 之[接，且遮罩1〇會位移至液中載體2id。 然後，如第14圖所示，載置有遮罩1〇之 體加會下降至清洗液中，遮罩1〇會浸潰在清洗液。2 317370 24 1290005 -遮罩10從清洗液取出時，依序進行第14圖、第13圖、第 -U圖所示之過程。與第12圖至第14圖所示之第i清洗槽 .21、同樣地，載置有遮罩U)之搬送裝置240係搬送在第2 /月洗才曰22上且在遮單！ 〇經由第i液中載體2^浸潰在 清洗液後，予以取出。 、如上所达在第1及第2清洗槽21、22之清洗液浸潰 遮罩10日寺，在未將搬送農置24〇 i潰在清洗液之情況下， 可進行清洗處理。亦即’可儘量避免清洗液附著在搬送裝 置240 °因此’可儘量避免第1及第2清洗槽2卜22之清 洗液經由搬送裝置240被搬送至第1及第2沖洗槽5卜52 之沖洗液。 與第12圖至第14圖所示之帛1清洗槽21 $樣地，載 置有遮罩10之搬送裝置24〇係搬送在第！沖洗槽Μ上。 且在遮罩10經由第2液中載體51d浸潰在沖洗液中後，予 以取出。再者，載置有遮罩1〇之搬送裝置24〇係搬送在第 • 2沖洗槽52上。且在遮罩1〇經由第2液中載體52d浸潰 在沖洗液中後，予以取出。 如上所述’在第1及第2沖洗槽51、52之沖洗液浸潰 遮罩1〇時，在未將搬送裝置24〇浸潰在沖洗液之情況下， 可進行沖洗處理。亦即，可儘量避免沖洗液附著在搬送裝 置240 口此可儘1避免在進行清洗處理時，沖洗液附 著在搬达裝置240，該沖洗液被搬送至第】及第2沖洗槽 51、52之清洗液。 此外，前述搬送裝置240係在將遮罩10浸潰在清洗液 317370 25 1290005 或：洗液日”取好依第11圖之軌跡1至4移動。亦即，- n裝：”。依軌跡1 # a移動至b之高度再暫時停 η :並非突然停止，而是緩慢地減速同時使之 載體叫不l對遮罩ig施加應力。而且，在未圖示之液中 戰月1 21d 22d、51d、52d上昇至古疮怂 謂係在液中载體21d、22d 51d之同度後’搬送裳置 從“_ : 咖交付遮罩10,同時 古痛之高度。然後，搬送裝置240係以返回A之 尚度的方式，依軌跡4朝垂直方向移動。 者絀述搬送裝置240係在將遮罩10從清洗液戋沖 液之液中取出時，最好依第U圖之執跡5至8移動。亦 即，最初搬送襄置240依軌跡5從八移動至c之高度。复 :欠:液中載體21d、㈣W之方式，依軌跡 朝水平方^移動。難’搬送褒置謂依軌跡7從C移 ，至B之尚度再暫時停止。㈣，搬送裝置⑽係以從上 昇至B之高度的液中載體21d、22d、51d、52d將遮罩1〇 ，起之方式位移’同時依軌跡S從B移動至a之高度。此 T為了使搬送裝置240不會急遽朝上方向移動，最好緩 慢地增加移動速度。藉由以上方式，搬送裝置240係可在 不對遮罩施加前述應力之狀態下移動。 在此’搬送裝置24〇係在將1個遮罩10搬送至第i 及弟2清洗槽21、22或第1及第2沖洗槽51、52之任― 槽後.，將與完成該搬送之遮罩】〇不同之其他遮罩ι〇搬送 至其他槽亦可。 最後，載置有遮罩Γ0之搬送裝置24〇係搬送至第工 317370 26 1290005 圖所示之真空乾燥器9 9並予以乾燥。 如上所述，藉由在弟1 1圖所示之軌跡1或8中以圓弧 • 狀之方式移動’且在軌跡1中緩慢地將移動速度（下方向） . 予以減速，且在軌跡8中緩慢地將移動速度（上方向）予以 ， 加速，可使施加在遮罩10之應力減少。又，未搬送遮罩 10時之搬送裝置240的動作係只要不會與液槽之液壁或液 中載體碰撞即可，可為圓弧狀，亦可急遽地移動。 鲁 且在前述實施形態中，係將清洗液及沖洗液作為碳化 氫系之清洗液及氟系之沖洗液，但本發明並不限定於此。 亦即，前述清洗液及沖洗液係可對遮罩10進行清洗處理 (有機EL用之有機材料的去除）及沖洗處理，只要具有與碳 化氫系之清洗液及氟系之沖洗液同樣之沸點、及相對於水 分之比重者，亦可為前述以外之清洗液及沖洗液。 【圖式簡單說明】 第1圖係本發明實施形態之清洗裝置之清洗系統之說 % 明圖。 ' 第2圖係本發明實施形態之清洗裝置之清洗系統之說 , 明圖。 第3圖係本發明實施形態之清洗裝置之清洗系統之說 明圖。 第4圖係本發明實施形態之清洗裝置之搬送系統之剖 视圖。 第5圖係本發明實施形態之清洗裝置之搬送系統之剖 视圖。 27 317370 1290005 第6圖係本發明實施形態之清洗裝置之搬送系統之剖 視圖。 第7圖係本發明實施形態之清洗裝置之搬送系統之剖 視圖。 第8圖係本發明實施形態之清洗裝置之搬送系統之剖 視圖。 第9圖係說明本發明實施形態之清洗裝置之搬送系統 之斜視圖。 第10圖係說明本發明實施形態之清洗裝置之搬送系 統之斜視圖。 Μ 第11圖係說明本發明實施形態之清洗裝置之搬送系 統之斜視圖。 第.12圖係說明本發明實施形態之清洗裝置之搬送系 統之斜視圖。 第13圖係說明 • 統之斜視圖。 • % 統之斜祸 圖係說明本發明實施形態之清洗裝置

置之搬送系 用之遮罩的頂視圖

【主文儿忭付鈮說明J 有機材料 la 突緣部 之搬送系 317370 28 1290005 10 遮罩 11 子L 12 金屬框 13 扣止部 21 第1清洗槽 22 第2清洗槽 21a、 22a 第1超音波振動器 21b、 22b 第1攪拌器 21c 、21 c 第1溫度感測器 21d、 22d 第1液中載體 23、 53 溢流槽 30 真空蒸餾器 30r 冷卻锅 40 第1溫度調整器 42、 47、72 幫浦 51a、 52a 第2超音波振動器 52b、 52b 第2攪拌器 51c 、52c 第2溫度感測器 51d、 52d 第2液中載體 51 第1沖洗槽 52 第2沖洗槽 54 回收槽 55 第3冷卻器 60 常壓蒸餾器 60b、 91b 閥 61 第2冷卻器 70 第2溫度調整器 70h 第2熱交換器7 80 水分離槽 90 分離器 91 蓄積槽 91f 上限感測器 91e 下限感測器 99 真空乾燥器 101 第1回流管 102 第2回流管 200 台 210 盒匣 221 第1臂部 222 第2臂部 230 第2移載裝置 240 搬送裝置 241 保持具 242 鉤部 29 317370

Claims (1)

1290005 十、申請專利範

R慘(史)正本. 第941298]6號專利申請案 (96年6月22日] 一種清洗裝置，係用#上 遮罩之有機Fi田 屬薄膜所構成之 ^ 用之有機材料者，其特徽為具備： =定之清洗液清洗處理前述遮罩之清诜槽； 蒸潑ί空蒸鶴從前述清洗槽溢流之前述清洗液:真空 將由刖述真空蒸餾器真空蒸餾之前述清洗液冷卻 至室溫的第1冷卻器； 使由别述第1冷卻器所冷卻之前述清洗液回流至 前述清洗槽之第i回流管； 利用預定之沖洗液對經由前述清洗槽清洗之前述 遮罩進行沖洗處理之沖洗槽； 在吊壓下瘵鶴從前述沖洗槽溢流之前述沖洗液之 常壓蒸餾器； 將由前述常壓蒸餾器常壓蒸餾之前述沖洗液冷卻 至室溫的第2冷卻器； 使由如述第2冷卻器所冷卻之前述沖洗液回流至 前述沖洗槽之第2回流管。 2·如申請專利範圍第1項之清洗裝置，其中，在前述清洗 槽内具備使前述请洗液振動之第1超音波振動器。 3·如申請專利範圍第2項之清洗裝置，其中，具備：用以 感測出前述清洗槽之清洗液之溫度的第1溫度感測 器；及 依前述第1溫度感測器之感測結果，使前述清洗槽 30 317370修正本 第94129816號專利申請案 (96年6月22曰） 口9〇〇05 、， W V -Γ VJ 上 利用該第1熱交換器冷卻之前述清洗液流入前述清洗 槽，而調整該清洗槽之前述清洗液的溫度。 内之丽述清洗液的溫度調整至室溫的第丨溫度調整器。 ..4.如申請專利範圍第3項之清洗裝置，其中，在第i溫度 調整器具備第1熱交換器，該第i溫度調整器係藉由使 .5.如申請專利範圍第1項之清洗裝置，其中，在前述沖洗 槽内具備使前述沖洗液振動之第2超音波振動器。 • 6.如申請專利範圍第5項之清洗裝置，其中，具備°:用以 感測出前述沖洗槽之前述沖洗液之溫度的第2溫度感 測器；及 依别述第2溫度感測為之感測結果使前述沖洗槽 之前述沖洗液的溫度調整至室溫的第2溫度調整器。θ 7.如申請專利範圍第6項之清洗裝置，其中，在第2溫度 調整器具備第2熱交換器， 該第2溫度調整器係藉由使利用該第2熱交換器冷 卻之珂述沖洗液流入前述沖洗槽，而調整該前述沖洗槽 之前述沖洗液的溫度。 如申請專利範圍第1項之清洗裝置，其中，具備具有第 3冷卻器之回收槽， 箣述回收槽係藉由該第3冷卻器冷卻，回收在前述 沖洗槽内蒸發之前述沖洗液，並使該回收之前述沖洗液 通過前述第2回流管回流至前述沖洗槽。 9·如申請專利範圍第8項之清洗裝置，其中，在前述回收 槽具備檢測出該回收槽内之溫度之第3溫度感測器， 3Π370修正本 31 1290005 第94】29S】6號專利申請案 (%年ό月22日、 前述第3冷卻器係利用第3溫度感測器冷卻前述回 收心内以便在沖洗槽内與回收槽内產生蒸氣壓差。 10·如申請專利範圍第i項之清洗裝置，其中，具備將由前 述第2冷部器所冷卻之前述沖洗液中之水分予以分離 的水分離槽， 並且使通過水分離槽之前述沖洗液，通過前述第2 回流管回流至前述沖洗槽。 11 ·如申请專利範圍第8或9項之清洗裝置，其中，具備將 由前述回收槽所回收之前述沖洗液中之水分予以分離 的水分離槽， 並且使通過前述水分離槽之前述沖洗液，通過前述 第2回流管回流至前述沖洗槽。 12·如申請專利範圍第丨項之清洗裝置，其中，具備：將含 有清洗液之沖洗液分離為清洗液與沖洗液的分離器；及 蓄積由該分離器所分離之清洗液、含有常壓蒸德器 之清洗液之沖洗液，再流入前述分離器之蓄積槽。 13·如申請專利範圍第12項之清洗裝置，其中，在前述蓄 積槽具備檢測出前述清洗液及前述沖洗液之液面丁限 的下限感測器， 依該下限感測器之檢測結果，使分離之清洗液流入 前述真空蒸餾器。 14. t申請專利範圍第1至10、12、13項中任一項之清洗 裝置’其中，前述預定沖洗液係包含氟之溶劑。 15. 如申請專利範圍第11項之清洗裝置，其中/前述預定 3Π370修正本 32 ^ 1290005 r 沖洗液係包含氟之溶劑。 第94129816號專利申請案 (96年6月22曰）

33 317370修正本