CN112553571A - 一种Open Mask表面IZO蒸镀材料的清洗方法 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种Open Mask表面IZO蒸镀材料的清洗方法，包括以下步骤：步骤10、浸泡；步骤20、超声波纯水清洗；步骤30、无尘超声波纯水清洗；步骤40、干燥。本发明能在保证Open Mask本体的完好度的前提下清洗去除Open Mask表面IZO蒸镀材料。

Description

一种Open Mask表面IZO蒸镀材料的清洗方法
技术领域
本发明属于Open Mask表面IZO蒸镀材料清洗领域，具体涉及一种Open Mask表面IZO蒸镀材料的清洗方法。
背景技术
Open Mask是OLED蒸镀制程中的关键治具，在其使用过程中表面会附着蒸镀材料，若蒸镀材料附着过多将会影响OLED产品质量。所以需对Open Mask进行定期的洗净再生，以确保OLED产品质量。目前国内Open Mask洗净再生相关暂处于空白领域。
发明内容
本发明所要解决的技术问题便是针对上述现有技术的不足，提供一种Open Mask表面IZO蒸镀材料的清洗方法，能在保证Open Mask本体的完好度的前提下清洗去除OpenMask表面IZO蒸镀材料。
本发明所采用的技术方案是：一种Open Mask表面IZO蒸镀材料的清洗方法，包括以下步骤：
步骤10、浸泡：将待清洗的Open Mask放入50％草酸溶液中浸泡，浸泡过程中草酸溶液温度为40±5℃；
步骤20、超声波纯水清洗：将步骤10中经过浸泡的Open Mask送入超声波纯水槽中进行超声波纯水清洗，超声波纯水清洗过程中，超声波功率为900±100W，超声波能量密度为5w/inch2-10w/inch2；
步骤30、无尘超声波纯水清洗：将步骤20中经超声波纯水清洗的Open Mask送入无尘室进行超声波纯水清洗，超声波纯水清洗过程中，超声波功率为900±100W，超声波能量密度为5w/inch2-10w/inch2；
步骤40、干燥:将步骤30中经过无尘超声波纯水清洗的Open Mask在无尘室进行干燥，即可完成Open Mask表面IZO蒸镀材料的清洗。
其中一个实施例中，步骤10中，所述浸泡时间为10min。
其中一个实施例中，步骤40中，所述干燥方式为自然晾干。
其中一个实施例中，步骤40中，所述干燥温度为20℃。
本发明的有益效果在于：能在保证Open Mask本体的完好度的前提下清洗去除Open Mask表面IZO蒸镀材料。
具体实施方式
下面将结合具体实施例对本发明作进一步详细说明。
本发明公开了一种Open Mask表面IZO蒸镀材料的清洗方法，包括以下步骤：
步骤10、浸泡：将待清洗的Open Mask放入50％草酸溶液中浸泡，浸泡过程中草酸溶液温度为40±5℃；(请针对步骤10补充其效果及要求，即补充浸泡的作用及浸泡过程中的特殊要求)
步骤20、超声波纯水清洗：将步骤10中经过浸泡的Open Mask送入超声波纯水槽中进行超声波纯水清洗，超声波纯水清洗过程中，超声波功率为900±100W，超声波能量密度为5w/inch2-10w/inch2；
步骤30、无尘超声波纯水清洗：将步骤20中经超声波纯水清洗的Open Mask送入无尘室进行超声波纯水清洗，超声波纯水清洗过程中，超声波功率为900±100W，超声波能量密度为5w/inch2-10w/inch2；
步骤40、干燥:将步骤30中经过无尘超声波纯水清洗的Open Mask在无尘室进行干燥，即可完成Open Mask表面IZO蒸镀材料的清洗。
本实施例中，步骤10中，所述浸泡时间为10min。
本实施例中，步骤40中，所述干燥方式为自然晾干。
本实施例中，步骤40中，所述干燥温度为20℃。
步骤10中，IZO膜去除完成时，转移到纯水槽漂洗的转移时间尽量短，不宜残留药液暴露于空气中。步骤20中，清洗残留在夹缝和孔洞残留的药液，超声波槽电导率<1μs/cm。步骤30中，进一步清洗残留在夹缝和孔洞残留的药液，完成超声清洗时，超声波槽电导率<1μs/cm。
Open Mask本体材质为因瓦合金，易被强酸腐蚀，因此需采用热的有机酸去膜可以避免腐蚀本体。本申请选用50％草酸溶液进行清洗，并保持其温度在40±5℃，以保证清洗的效果。
以上所述实施例仅表达了本发明的具体实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对本发明专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本发明的保护范围。

Claims (4)

1.一种Open Mask表面IZO蒸镀材料的清洗方法，其特征在于，包括以下步骤：
步骤10、浸泡：将待清洗的Open Mask放入50％草酸溶液中浸泡，浸泡过程中草酸溶液温度为40±5℃；
步骤20、超声波纯水清洗：将步骤10中经过浸泡的Open Mask送入超声波纯水槽中进行超声波纯水清洗，超声波纯水清洗过程中，超声波功率为900±100W，超声波能量密度为5w/inch2-10w/inch2；
步骤30、无尘超声波纯水清洗：将步骤20中经超声波纯水清洗的Open Mask送入无尘室进行超声波纯水清洗，超声波纯水清洗过程中，超声波功率为900±100W，超声波能量密度为5w/inch2-10w/inch2；
步骤40、干燥:将步骤30中经过无尘超声波纯水清洗的Open Mask在无尘室进行干燥，即可完成Open Mask表面IZO蒸镀材料的清洗。
2.根据权利要求1所述的一种Open Mask表面IZO蒸镀材料的清洗方法，其特征在于，步骤10中，所述浸泡时间为10min。
3.根据权利要求1所述的一种Open Mask表面IZO蒸镀材料的清洗方法，其特征在于，步骤40中，所述干燥方式为自然晾干。
4.根据权利要求1所述的一种Open Mask表面IZO蒸镀材料的清洗方法，其特征在于，步骤40中，所述干燥温度为20℃。
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