JP2003340384A - 薄板状ワークの超音波洗浄装置 - Google Patents
薄板状ワークの超音波洗浄装置Info
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- JP2003340384A JP2003340384A JP2002149035A JP2002149035A JP2003340384A JP 2003340384 A JP2003340384 A JP 2003340384A JP 2002149035 A JP2002149035 A JP 2002149035A JP 2002149035 A JP2002149035 A JP 2002149035A JP 2003340384 A JP2003340384 A JP 2003340384A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 洗浄槽の洗浄液と純水の入れ換えの手間を無
くして作業の効率化を図り、また設備の大型化や設備費
用の高騰化を避ける。 【解決手段】 洗浄・リンス槽３の中間部を仕切り板１
４により洗浄槽３ａとリンス槽３ｂに仕切り、洗浄槽３
ａの前面に超音波発振体１５を取り付け、超音波の発振
方向に対して洗浄槽３ａとリンス槽３ｂの厚みを薄幅に
する。また、洗浄、リンス槽３の上部に、ワークＷを昇
降させるための昇降機構４を設ける。そして洗浄槽３ａ
内の洗浄液（ＮＭＰ（Ｎ−メチルピロリドン）液）でワ
ークＷを超音波洗浄した後、昇降機構４によりワークＷ
を引上げて、今度はリンス槽３ｂに入れ換えるように
し、リンス槽３ｂ内で純水を使用して超音波によりワー
クＷをリンス（すすぎ洗い）する。
くして作業の効率化を図り、また設備の大型化や設備費
用の高騰化を避ける。 【解決手段】 洗浄・リンス槽３の中間部を仕切り板１
４により洗浄槽３ａとリンス槽３ｂに仕切り、洗浄槽３
ａの前面に超音波発振体１５を取り付け、超音波の発振
方向に対して洗浄槽３ａとリンス槽３ｂの厚みを薄幅に
する。また、洗浄、リンス槽３の上部に、ワークＷを昇
降させるための昇降機構４を設ける。そして洗浄槽３ａ
内の洗浄液（ＮＭＰ（Ｎ−メチルピロリドン）液）でワ
ークＷを超音波洗浄した後、昇降機構４によりワークＷ
を引上げて、今度はリンス槽３ｂに入れ換えるように
し、リンス槽３ｂ内で純水を使用して超音波によりワー
クＷをリンス（すすぎ洗い）する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、例えば液晶用配向
用マスク版や印刷機のスクリーン等の薄板状ワークを洗
浄するのに適した装置に関する。
用マスク版や印刷機のスクリーン等の薄板状ワークを洗
浄するのに適した装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、例えばガラス基板の表面に液晶用
の配向膜を作製する際に使用されるポリブタジエン等の
フレキシブルなマスク版には、表面に数ミクロン程度の
微細な凹凸が多数形成されており、このような樹脂版で
ガラス基板の表面に配向膜を形成するようにしている
が、このような樹脂版の微細な凹部内に溜まるゴミやカ
ス等を洗浄する装置として、本出願人は例えば特願２０
０１−１５３９２０のような技術を提案している。この
技術は、超音波発振方向に対して厚みの薄い洗浄槽内で
ＮＭＰ（Ｎ−メチルピロリドン）液によりワークを超音
波洗浄した後、ＮＭＰ液は乾燥しにくいため、一旦ワー
クを上方に引上げ、同時に洗浄槽内からＮＭＰ液を抜き
出して洗浄槽を空にし、次いで洗浄槽内に純水を導入し
て超音波をかけながらワークを純水ですすぎ洗いするこ
とにより、ワーク表面の微細な凹部に入り込んでいるＮ
ＭＰ液を純水に置換し、乾燥を速めるようにしている。
の配向膜を作製する際に使用されるポリブタジエン等の
フレキシブルなマスク版には、表面に数ミクロン程度の
微細な凹凸が多数形成されており、このような樹脂版で
ガラス基板の表面に配向膜を形成するようにしている
が、このような樹脂版の微細な凹部内に溜まるゴミやカ
ス等を洗浄する装置として、本出願人は例えば特願２０
０１−１５３９２０のような技術を提案している。この
技術は、超音波発振方向に対して厚みの薄い洗浄槽内で
ＮＭＰ（Ｎ−メチルピロリドン）液によりワークを超音
波洗浄した後、ＮＭＰ液は乾燥しにくいため、一旦ワー
クを上方に引上げ、同時に洗浄槽内からＮＭＰ液を抜き
出して洗浄槽を空にし、次いで洗浄槽内に純水を導入し
て超音波をかけながらワークを純水ですすぎ洗いするこ
とにより、ワーク表面の微細な凹部に入り込んでいるＮ
ＭＰ液を純水に置換し、乾燥を速めるようにしている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】ところが、上記のよう
な方法では、洗浄槽内のＮＭＰ液と純水を交互に入れ換
える必要があり、作業の段取りに手間がかかるととも
に、設備が大型化しやすいという問題がある。一方、純
水によるすすぎ洗いに超音波を使用しないと、微細な凹
部に入り込んだＮＭＰ液が純水に置換されず、充分なリ
ンス効果が得られないという不具合があり、また、洗浄
のための洗浄槽と、すすぎ洗い（リンス）のための純水
槽を２槽設けようとすると、超音波装置が２台必要にな
って設備費がかかるという問題がある。
な方法では、洗浄槽内のＮＭＰ液と純水を交互に入れ換
える必要があり、作業の段取りに手間がかかるととも
に、設備が大型化しやすいという問題がある。一方、純
水によるすすぎ洗いに超音波を使用しないと、微細な凹
部に入り込んだＮＭＰ液が純水に置換されず、充分なリ
ンス効果が得られないという不具合があり、また、洗浄
のための洗浄槽と、すすぎ洗い（リンス）のための純水
槽を２槽設けようとすると、超音波装置が２台必要にな
って設備費がかかるという問題がある。
【０００４】そこで本発明は、洗浄槽に対する洗浄液と
純水の入れ換えの手間を無くして作業の効率化を図ると
ともに、設備の大型化や設備費用の高騰化を避けること
を目的とする。
純水の入れ換えの手間を無くして作業の効率化を図ると
ともに、設備の大型化や設備費用の高騰化を避けること
を目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
本発明は、薄板状ワークを超音波洗浄する装置におい
て、前記ワークを洗浄液で洗浄するための洗浄槽と、洗
浄されたワーク表面の洗浄液を純水で洗い流すためのリ
ンス槽とを仕切り板により仕切られた状態で並設し、こ
れら洗浄槽とリンス槽を、並設方向に対して薄幅にする
とともに、前記リンス槽とは反対側の洗浄槽の側面に
は、超音波発振体を取り付けるようにした。
本発明は、薄板状ワークを超音波洗浄する装置におい
て、前記ワークを洗浄液で洗浄するための洗浄槽と、洗
浄されたワーク表面の洗浄液を純水で洗い流すためのリ
ンス槽とを仕切り板により仕切られた状態で並設し、こ
れら洗浄槽とリンス槽を、並設方向に対して薄幅にする
とともに、前記リンス槽とは反対側の洗浄槽の側面に
は、超音波発振体を取り付けるようにした。
【０００６】そして洗浄槽にワークを投入して超音波洗
浄し、洗浄が終えると、ワークを洗浄槽からリンス槽に
入れ直して超音波ですすぎ洗いする。こうすることで、
１台の超音波装置で洗浄とすすぎ洗いの両方を行うこと
が出来るとともに、槽内の洗浄液と純水を入れ換えるよ
うな手間が省ける。ここで、リンス槽ですすぎ洗いする
際、超音波は必要であるが、洗浄槽のように強い超音波
である必要がないため、超音波発振体は洗浄槽側に取り
付けるようにする。
浄し、洗浄が終えると、ワークを洗浄槽からリンス槽に
入れ直して超音波ですすぎ洗いする。こうすることで、
１台の超音波装置で洗浄とすすぎ洗いの両方を行うこと
が出来るとともに、槽内の洗浄液と純水を入れ換えるよ
うな手間が省ける。ここで、リンス槽ですすぎ洗いする
際、超音波は必要であるが、洗浄槽のように強い超音波
である必要がないため、超音波発振体は洗浄槽側に取り
付けるようにする。
【０００７】また、洗浄槽とリンス槽の並設方向（超音
波発振方向）の洗浄槽の幅とリンス槽の幅は、超音波の
効果を高めるため薄幅にするが、具体的な厚み幅は超音
波の波長を考慮して決定するようにし、例えば超音波発
振体から発せられる発振波と対向壁から反射される反射
波の山と山とが強め合うような厚みにすれば好ましい。
波発振方向）の洗浄槽の幅とリンス槽の幅は、超音波の
効果を高めるため薄幅にするが、具体的な厚み幅は超音
波の波長を考慮して決定するようにし、例えば超音波発
振体から発せられる発振波と対向壁から反射される反射
波の山と山とが強め合うような厚みにすれば好ましい。
【０００８】また本発明では、前記洗浄槽の洗浄液を、
脱気装置により脱気するようにした。このように洗浄液
を脱気するようにすれば、超音波の放射によって発生す
るキャビテーションの衝撃力を強化できるとともに、洗
浄液中の超音波の伝播特性が向上し、洗浄効果を高める
ことができる。ここで、脱気装置としては、洗浄液の一
部を真空引き等により循環回路に引き込み、この循環回
路で脱気しながら洗浄液を循環させるような装置が適用
できる。
脱気装置により脱気するようにした。このように洗浄液
を脱気するようにすれば、超音波の放射によって発生す
るキャビテーションの衝撃力を強化できるとともに、洗
浄液中の超音波の伝播特性が向上し、洗浄効果を高める
ことができる。ここで、脱気装置としては、洗浄液の一
部を真空引き等により循環回路に引き込み、この循環回
路で脱気しながら洗浄液を循環させるような装置が適用
できる。
【０００９】また本発明では、洗浄槽とリンス槽の上部
に、保持したワークを昇降させるための昇降機構を設け
るようにした。そしてこの昇降装置により、洗浄の終え
たワークを洗浄槽から引き上げ、次いでリンス槽に投入
するようにすれば、一連の作業を効率良く行うことが出
来る。
に、保持したワークを昇降させるための昇降機構を設け
るようにした。そしてこの昇降装置により、洗浄の終え
たワークを洗浄槽から引き上げ、次いでリンス槽に投入
するようにすれば、一連の作業を効率良く行うことが出
来る。
【００１０】また本発明では、洗浄槽の上部に、洗浄槽
から引き上げられるワークに向けてエアを吹き付けるこ
とのできるエアブロー部を設けるようにした。そして、
ワークを洗浄槽から引上げる際、エアブロー部によって
エアブローを施すことにより、ワークに付着する洗浄液
を吹き飛ばすようにすれば、その後のリンスを効率的に
行えるようになる。
から引き上げられるワークに向けてエアを吹き付けるこ
とのできるエアブロー部を設けるようにした。そして、
ワークを洗浄槽から引上げる際、エアブロー部によって
エアブローを施すことにより、ワークに付着する洗浄液
を吹き飛ばすようにすれば、その後のリンスを効率的に
行えるようになる。
【００１１】
【発明の実施の形態】本発明に係る超音波洗浄装置の実
施例について添付した図面に基づき説明する。ここで図
１は超音波洗浄装置の一部を破断した正面図、図２は内
部構造を示す側面図、図３は洗浄・リンス槽の正面図、
図４は同平面図、図５は同側面図、図６は洗浄・リンス
槽の仕切り板の部分拡大図、図７は洗浄回路図、図８は
リンス回路図である。
施例について添付した図面に基づき説明する。ここで図
１は超音波洗浄装置の一部を破断した正面図、図２は内
部構造を示す側面図、図３は洗浄・リンス槽の正面図、
図４は同平面図、図５は同側面図、図６は洗浄・リンス
槽の仕切り板の部分拡大図、図７は洗浄回路図、図８は
リンス回路図である。
【００１２】本発明に係る超音波洗浄装置は、例えばガ
ラス基板の表面に液晶用の配向膜を作製する際に使用さ
れるポリブタジエン等の樹脂版を洗浄するのに適した装
置として構成され、設備の大型化や設備費用の高騰化を
避けるとともに、洗浄槽に対する洗浄液と純水の入れ換
えの手間を無くすことが出来るようにされている。
ラス基板の表面に液晶用の配向膜を作製する際に使用さ
れるポリブタジエン等の樹脂版を洗浄するのに適した装
置として構成され、設備の大型化や設備費用の高騰化を
避けるとともに、洗浄槽に対する洗浄液と純水の入れ換
えの手間を無くすことが出来るようにされている。
【００１３】すなわち、図１、図２に示すように、本装
置１は、上下二段から構成される機台２と、機台２内の
下段に配設される洗浄・リンス槽３と、この洗浄・リン
ス槽３の上部に配設される昇降機構４を備えており、こ
の昇降機構４は、サーボモータ５によって回転自在なボ
ールネジシャフト６に螺合する昇降体７と、この昇降体
７から前方に張出すブラケット８を備えるとともに、こ
のブラケット８の先端には、図２に示すように、前後二
列のワーク保持部材１０、１１が高さ位置を異ならせて
設けられており、各ワーク保持部材１０、１１は、ワー
クＷを保持する保持体１２の上端部を保持できるように
されている。
置１は、上下二段から構成される機台２と、機台２内の
下段に配設される洗浄・リンス槽３と、この洗浄・リン
ス槽３の上部に配設される昇降機構４を備えており、こ
の昇降機構４は、サーボモータ５によって回転自在なボ
ールネジシャフト６に螺合する昇降体７と、この昇降体
７から前方に張出すブラケット８を備えるとともに、こ
のブラケット８の先端には、図２に示すように、前後二
列のワーク保持部材１０、１１が高さ位置を異ならせて
設けられており、各ワーク保持部材１０、１１は、ワー
クＷを保持する保持体１２の上端部を保持できるように
されている。
【００１４】一方、前記洗浄・リンス槽３は、前後方向
の中間部が仕切り板１４により仕切られており、前方が
洗浄槽３ａで、後方がリンス槽３ｂとされている。そし
て、前述の前方のワーク保持部材１０は、保持したワー
クＷを洗浄槽３ａ内に出し入れできるよう、洗浄槽３ａ
の直上に配置されており、後方のワーク保持部材１１
は、保持したワークＷをリンス槽３ｂに出し入れできる
よう、リンス槽３ｂの直上に配置されている。
の中間部が仕切り板１４により仕切られており、前方が
洗浄槽３ａで、後方がリンス槽３ｂとされている。そし
て、前述の前方のワーク保持部材１０は、保持したワー
クＷを洗浄槽３ａ内に出し入れできるよう、洗浄槽３ａ
の直上に配置されており、後方のワーク保持部材１１
は、保持したワークＷをリンス槽３ｂに出し入れできる
よう、リンス槽３ｂの直上に配置されている。
【００１５】前記洗浄・リンス槽３の細部について、図
３乃至図６に基づき説明する。前記のように、洗浄・リ
ンス槽３は、仕切り板１４により前後方向に仕切られて
おり、洗浄槽３ａもリンス槽３ｂも、前後方向の厚みは
薄幅にされている。そして、洗浄槽３ａの前面壁には、
多数の超音波振動子を有する超音波発振体１５がカバー
１３で覆われて配設され、後方の洗浄・リンス槽３内に
向けて超音波を放射し得るようにされるとともに、洗浄
槽３ａの厚みとリンス槽３ｂの厚みは、超音波の発振波
と反射波の山と山が重なり合うよう、波長の所定倍数と
して設定されている。
３乃至図６に基づき説明する。前記のように、洗浄・リ
ンス槽３は、仕切り板１４により前後方向に仕切られて
おり、洗浄槽３ａもリンス槽３ｂも、前後方向の厚みは
薄幅にされている。そして、洗浄槽３ａの前面壁には、
多数の超音波振動子を有する超音波発振体１５がカバー
１３で覆われて配設され、後方の洗浄・リンス槽３内に
向けて超音波を放射し得るようにされるとともに、洗浄
槽３ａの厚みとリンス槽３ｂの厚みは、超音波の発振波
と反射波の山と山が重なり合うよう、波長の所定倍数と
して設定されている。
【００１６】また、洗浄槽３ａの前面側方部には、オー
バーフロー槽１６が設けられ、またリンス槽３ｂの後面
側方部にも、オーバーフロー槽１７が設けられている。
また、洗浄槽３ａの前面上部には、エアを吹き出すこと
の出来るエアブロー部１８が設けられ、洗浄槽３ａに向
けて斜め下方にエアを吹き付けることが出来るようにさ
れている。
バーフロー槽１６が設けられ、またリンス槽３ｂの後面
側方部にも、オーバーフロー槽１７が設けられている。
また、洗浄槽３ａの前面上部には、エアを吹き出すこと
の出来るエアブロー部１８が設けられ、洗浄槽３ａに向
けて斜め下方にエアを吹き付けることが出来るようにさ
れている。
【００１７】前記仕切り板１４は、図６に示すように、
中央のステンレス板１８の左右を、丈夫で汚れの付着し
にくいポリブタジエン樹脂製のパッキン１９で挟み込ん
で構成されており、超音波を効果的に透過させるため、
例えば１．２〜３ｍｍ程度の厚みとしている。尚、洗浄
槽３ａに充填される洗浄液は、殆どの有機溶剤と相溶性
があり、毒性が低く、沸点が高い等のことから取扱いも
比較的容易なＮＭＰ（Ｎ−メチルピロリドン）液として
おり、リンス槽３ｂに充填されるリンス液は、純水とし
ている。
中央のステンレス板１８の左右を、丈夫で汚れの付着し
にくいポリブタジエン樹脂製のパッキン１９で挟み込ん
で構成されており、超音波を効果的に透過させるため、
例えば１．２〜３ｍｍ程度の厚みとしている。尚、洗浄
槽３ａに充填される洗浄液は、殆どの有機溶剤と相溶性
があり、毒性が低く、沸点が高い等のことから取扱いも
比較的容易なＮＭＰ（Ｎ−メチルピロリドン）液として
おり、リンス槽３ｂに充填されるリンス液は、純水とし
ている。
【００１８】次に、洗浄回路とリンス回路の概要につい
て説明する。まず、洗浄回路について説明すると、洗浄
回路は、図７に示すように、洗浄槽３ａとオーバーフロ
ー槽１６からＮＭＰ液を引き出した後、このＮＭＰ液の
一部を脱気装置２２に送り込み、残りのＮＭＰ液を洗浄
槽３ａに戻す循環ライン２３と、この循環ライン２２の
途中に配設される循環ポンプ２４や、汚れを取り除くた
めのフィルタ２５を備えており、この循環ライン２２の
途中には、洗浄槽３ａ内にＮＭＰ液を充填するための供
給ライン２６と、洗浄槽３ａ内からＮＭＰ液を排出する
ための排出ライン２７が接続されている。
て説明する。まず、洗浄回路について説明すると、洗浄
回路は、図７に示すように、洗浄槽３ａとオーバーフロ
ー槽１６からＮＭＰ液を引き出した後、このＮＭＰ液の
一部を脱気装置２２に送り込み、残りのＮＭＰ液を洗浄
槽３ａに戻す循環ライン２３と、この循環ライン２２の
途中に配設される循環ポンプ２４や、汚れを取り除くた
めのフィルタ２５を備えており、この循環ライン２２の
途中には、洗浄槽３ａ内にＮＭＰ液を充填するための供
給ライン２６と、洗浄槽３ａ内からＮＭＰ液を排出する
ための排出ライン２７が接続されている。
【００１９】前記脱気装置２２は、ＮＭＰ液から脱気す
るための脱気筒２８と、この脱気筒２８に接続される真
空引きライン２９と、この真空引きライン２９に接続さ
れる真空ポンプ３０と、真空引きライン２９の途中に配
設される真空度制御機構３１やトラップ筒３２や真空計
３８等を備えており、脱気筒２８と前記循環ライン２３
との間には、循環ライン２３のＮＭＰ液の一部を導入す
るための吸引ライン３３が接続されている。また、脱気
筒２８で脱気したＮＭＰ液を洗浄槽３ａに戻すための戻
しライン３４が、脱気筒２８と洗浄槽３ａとの間に接続
されており、この戻しライン３４の途中には、戻しポン
プ３６やフィルタ３７を設けている。更に、真空ポンプ
３０には、ＮＭＰ液から脱気したガスを洗浄槽３ａに戻
すための排気ライン３５が接続されている。
るための脱気筒２８と、この脱気筒２８に接続される真
空引きライン２９と、この真空引きライン２９に接続さ
れる真空ポンプ３０と、真空引きライン２９の途中に配
設される真空度制御機構３１やトラップ筒３２や真空計
３８等を備えており、脱気筒２８と前記循環ライン２３
との間には、循環ライン２３のＮＭＰ液の一部を導入す
るための吸引ライン３３が接続されている。また、脱気
筒２８で脱気したＮＭＰ液を洗浄槽３ａに戻すための戻
しライン３４が、脱気筒２８と洗浄槽３ａとの間に接続
されており、この戻しライン３４の途中には、戻しポン
プ３６やフィルタ３７を設けている。更に、真空ポンプ
３０には、ＮＭＰ液から脱気したガスを洗浄槽３ａに戻
すための排気ライン３５が接続されている。
【００２０】前記脱気筒２８は、真空ポンプ３０によっ
て真空状態に出来るようにされ、例えば内部に微細孔を
有する濾過フィルタ等が内装されて、ＮＭＰ液から脱気
出来るようにされている。
て真空状態に出来るようにされ、例えば内部に微細孔を
有する濾過フィルタ等が内装されて、ＮＭＰ液から脱気
出来るようにされている。
【００２１】前記真空度制御機構３１は、脱気筒２８の
真空度を所望の値に設定できるようにされており、目標
の真空度を設定可能なデジタル真空計４０と、この目標
値と真空計３８による測定値との差を感知して、目標値
に合わせるべく大気の流入量を微妙に調整するためのニ
ードル弁４１等を備えている。そして、目標溶存酸素量
等に応じてデジタル真空計４０の真空度を目標値に設定
することにより、脱気筒２８内の真空度を適切にセット
できるようにされている。
真空度を所望の値に設定できるようにされており、目標
の真空度を設定可能なデジタル真空計４０と、この目標
値と真空計３８による測定値との差を感知して、目標値
に合わせるべく大気の流入量を微妙に調整するためのニ
ードル弁４１等を備えている。そして、目標溶存酸素量
等に応じてデジタル真空計４０の真空度を目標値に設定
することにより、脱気筒２８内の真空度を適切にセット
できるようにされている。
【００２２】また、トラップ筒３２は、真空引きライン
２９を通して真空ポンプ３０側に送られる脱気ガスか
ら、気化しているＮＭＰ成分を除去するようにされてお
り、トラップ筒３２で捕集したＮＭＰ液は、戻しライン
４２を通して洗浄槽３ａに戻すようにしている。
２９を通して真空ポンプ３０側に送られる脱気ガスか
ら、気化しているＮＭＰ成分を除去するようにされてお
り、トラップ筒３２で捕集したＮＭＰ液は、戻しライン
４２を通して洗浄槽３ａに戻すようにしている。
【００２３】以上のような洗浄回路において、循環ポン
プ２４を作動させることにより洗浄槽３ａ内のＮＭＰ液
を循環させ、循環ライン２３のフィルタ２５により汚れ
を取り除くと同時に、真空ポンプ３０によって脱気筒２
８を真空引きし、所望の真空度が得られた時点で吸引ラ
イン３３のバルブを開くことにより、循環ライン２３を
流動するＮＭＰ液を脱気筒２８に吸引する。
プ２４を作動させることにより洗浄槽３ａ内のＮＭＰ液
を循環させ、循環ライン２３のフィルタ２５により汚れ
を取り除くと同時に、真空ポンプ３０によって脱気筒２
８を真空引きし、所望の真空度が得られた時点で吸引ラ
イン３３のバルブを開くことにより、循環ライン２３を
流動するＮＭＰ液を脱気筒２８に吸引する。
【００２４】そして脱気筒２８では、ＮＭＰ液に含まれ
る気体を脱気し、脱気したＮＭＰ液を戻しライン３４を
通して洗浄槽３ａに戻す。また、真空引きライン２９に
引き込まれた脱気ガスは、トラップ筒３２に入り込み、
気化するＮＭＰ成分が捕集される。そして捕集されたＮ
ＭＰ液は戻しライン４２を通して洗浄槽３ａに戻され、
排気ガスは排気ライン３５を通して洗浄槽３ａに戻され
る。
る気体を脱気し、脱気したＮＭＰ液を戻しライン３４を
通して洗浄槽３ａに戻す。また、真空引きライン２９に
引き込まれた脱気ガスは、トラップ筒３２に入り込み、
気化するＮＭＰ成分が捕集される。そして捕集されたＮ
ＭＰ液は戻しライン４２を通して洗浄槽３ａに戻され、
排気ガスは排気ライン３５を通して洗浄槽３ａに戻され
る。
【００２５】そして、このような脱気装置２２により脱
気されたＮＭＰ液を使用しながら超音波発振体１５を作
動させ超音波洗浄する。すると、ＮＭＰ液からの脱気作
用により、キャビテーションの衝撃力が向上し、また超
音波の伝播特性も向上して洗浄能力が高まる。
気されたＮＭＰ液を使用しながら超音波発振体１５を作
動させ超音波洗浄する。すると、ＮＭＰ液からの脱気作
用により、キャビテーションの衝撃力が向上し、また超
音波の伝播特性も向上して洗浄能力が高まる。
【００２６】以上のような洗浄回路で洗浄が完了する
と、昇降機構４によりワークＷを上方に引上げ、この引
上げの際にエアブロー部１８からエアを吹き出してワー
クＷ表面に付着するＮＭＰ液を払い落とす。そしてワー
クＷが引上げられると、ワークＷを保持する保持体１２
が、手動により他方側のワーク保持部材１１に装着さ
れ、その後、昇降機構４によってワークＷが降下してリ
ンス槽３ｂに投入され、すすぎ洗いが行われる。この
際、エアブロー部１８からのエアの吹き付けにより、Ｎ
ＭＰ液が払い落とされているため、すすぎ洗いが効率的
に行われる。
と、昇降機構４によりワークＷを上方に引上げ、この引
上げの際にエアブロー部１８からエアを吹き出してワー
クＷ表面に付着するＮＭＰ液を払い落とす。そしてワー
クＷが引上げられると、ワークＷを保持する保持体１２
が、手動により他方側のワーク保持部材１１に装着さ
れ、その後、昇降機構４によってワークＷが降下してリ
ンス槽３ｂに投入され、すすぎ洗いが行われる。この
際、エアブロー部１８からのエアの吹き付けにより、Ｎ
ＭＰ液が払い落とされているため、すすぎ洗いが効率的
に行われる。
【００２７】次に、リンス回路について、図８に基づき
説明する。リンス回路は、リンス槽３ｂに純水を供給す
るための給水ライン４４と、リンス槽３ｂとオーバーフ
ロー槽１７内の純水を排出する排水ライン４５を備えて
おり、前記給水ライン４４の途中には、汚れを取り除く
ためのフィルタ４６や圧力計４７等が配設されている。
説明する。リンス回路は、リンス槽３ｂに純水を供給す
るための給水ライン４４と、リンス槽３ｂとオーバーフ
ロー槽１７内の純水を排出する排水ライン４５を備えて
おり、前記給水ライン４４の途中には、汚れを取り除く
ためのフィルタ４６や圧力計４７等が配設されている。
【００２８】また、リンス槽３ｂの側壁のスリット孔か
ら排水される側壁排水ライン４８は、オーバーフロー槽
１７の中に向けて延出した後、オーバーフロー槽１７の
液面より高く且つリンス槽３ｂの液面より低い位置に開
口すべく上方に向けて延出しており、オーバーフロー槽
１７を介して排水するようにしている。これは、リンス
槽３ｂにおける水の流れを全体に及ぼさせるためであ
り、すすぎ洗いの効果がワークＷの局所に集中しないよ
うにするためである。
ら排水される側壁排水ライン４８は、オーバーフロー槽
１７の中に向けて延出した後、オーバーフロー槽１７の
液面より高く且つリンス槽３ｂの液面より低い位置に開
口すべく上方に向けて延出しており、オーバーフロー槽
１７を介して排水するようにしている。これは、リンス
槽３ｂにおける水の流れを全体に及ぼさせるためであ
り、すすぎ洗いの効果がワークＷの局所に集中しないよ
うにするためである。
【００２９】以上のようなリンス回路において、リンス
槽３ｂにワークＷが投入されると、給水ライン４４を通
して純水を送り込み、超音波発振体１５を作動させてす
すぎ洗いを行う。すると、ワークＷ表面の微細な凹部に
入り込んだＮＭＰ液が超音波により純水に置換され、す
すぎ洗いの効果を高めることが出来る。そしてすすぎ洗
いが終えると、排水ライン４５から排水し、必要に応じ
てこのすすぎ洗いの操作を繰り返す。
槽３ｂにワークＷが投入されると、給水ライン４４を通
して純水を送り込み、超音波発振体１５を作動させてす
すぎ洗いを行う。すると、ワークＷ表面の微細な凹部に
入り込んだＮＭＰ液が超音波により純水に置換され、す
すぎ洗いの効果を高めることが出来る。そしてすすぎ洗
いが終えると、排水ライン４５から排水し、必要に応じ
てこのすすぎ洗いの操作を繰り返す。
【００３０】この際、超音波発振体１５から放射される
超音波は、洗浄槽３ａや仕切り板１４を通してリンス槽
３ｂに伝達されるため、洗浄槽３ａのような強い超音波
を得られないが、すすぎ洗いするには充分である。そし
て以上のような要領により、１つの超音波発振体１５に
より洗浄とリンスの両方を行うことができ、設備コスト
の削減が図られる。
超音波は、洗浄槽３ａや仕切り板１４を通してリンス槽
３ｂに伝達されるため、洗浄槽３ａのような強い超音波
を得られないが、すすぎ洗いするには充分である。そし
て以上のような要領により、１つの超音波発振体１５に
より洗浄とリンスの両方を行うことができ、設備コスト
の削減が図られる。
【００３１】尚、本発明は以上のような実施形態に限定
されるものではない。本発明の特許請求の範囲に記載し
た事項と実質的に同一の構成を有し、同一の作用効果を
奏するものは本発明の技術的範囲に属する。例えば洗浄
槽３ａから引上げたワークＷをリンス槽３ｂに入れるた
め、保持体１２を手動で装着し直すのでなく、スライド
機構等によって自動的に水平移動させるようにしても良
い。また、脱気筒２８の具体的構成等も例示である。
されるものではない。本発明の特許請求の範囲に記載し
た事項と実質的に同一の構成を有し、同一の作用効果を
奏するものは本発明の技術的範囲に属する。例えば洗浄
槽３ａから引上げたワークＷをリンス槽３ｂに入れるた
め、保持体１２を手動で装着し直すのでなく、スライド
機構等によって自動的に水平移動させるようにしても良
い。また、脱気筒２８の具体的構成等も例示である。
【００３２】
【発明の効果】以上のように本発明に係る超音波洗浄装
置は、薄板状ワークを超音波洗浄するため、洗浄槽とリ
ンス槽とを仕切り板により仕切られた状態で並設し、こ
れら洗浄槽とリンス槽を、並設方向に対して薄幅にする
とともに、リンス槽とは反対側の洗浄槽の側面に、超音
波発振体を取り付けるようにしたため、１台の超音波装
置で洗浄とすすぎ洗いを行うことが出来るとともに、槽
内の洗浄液と純水を入れ換えるような手間が省ける。こ
の際、洗浄槽の洗浄液を、脱気装置により脱気するよう
にすれば、超音波の放射によって発生するキャビテーシ
ョンの衝撃力を強化できるとともに、洗浄液中の超音波
の伝播特性を向上させて洗浄効果を高めることができ
る。また、洗浄槽とリンス槽の上部に昇降機構を設ける
ようにすれば、ワークを洗浄槽した後リンス槽ですすぎ
洗いするような一連の作業を効率良く行うことが出来、
また、洗浄槽の上部に、洗浄槽から引き上げられるワー
クに向けてエアを吹き付けることのできるエアブロー部
を設ければ、その後のリンスを効率的に行えるようにな
る。
置は、薄板状ワークを超音波洗浄するため、洗浄槽とリ
ンス槽とを仕切り板により仕切られた状態で並設し、こ
れら洗浄槽とリンス槽を、並設方向に対して薄幅にする
とともに、リンス槽とは反対側の洗浄槽の側面に、超音
波発振体を取り付けるようにしたため、１台の超音波装
置で洗浄とすすぎ洗いを行うことが出来るとともに、槽
内の洗浄液と純水を入れ換えるような手間が省ける。こ
の際、洗浄槽の洗浄液を、脱気装置により脱気するよう
にすれば、超音波の放射によって発生するキャビテーシ
ョンの衝撃力を強化できるとともに、洗浄液中の超音波
の伝播特性を向上させて洗浄効果を高めることができ
る。また、洗浄槽とリンス槽の上部に昇降機構を設ける
ようにすれば、ワークを洗浄槽した後リンス槽ですすぎ
洗いするような一連の作業を効率良く行うことが出来、
また、洗浄槽の上部に、洗浄槽から引き上げられるワー
クに向けてエアを吹き付けることのできるエアブロー部
を設ければ、その後のリンスを効率的に行えるようにな
る。
【図１】超音波洗浄装置の一部を破断した正面図
【図２】同内部構造を示す側面図
【図３】洗浄・リンス槽の正面図
【図４】同平面図
【図５】同側面図
【図６】洗浄・リンス槽の仕切り板の部分拡大図
【図７】洗浄回路図
【図８】リンス回路図
１…超音波洗浄装置、３…洗浄・リンス槽、３ａ…洗浄
槽、３ｂ…リンス槽、４…昇降機構、１０、１１…ワー
ク保持部材、１４…仕切り板、１５…超音波発振体、１
８…エアブロー部、２２…脱気装置。
槽、３ｂ…リンス槽、４…昇降機構、１０、１１…ワー
ク保持部材、１４…仕切り板、１５…超音波発振体、１
８…エアブロー部、２２…脱気装置。
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フロントページの続き
(51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考）
Ｇ０２Ｆ 1/13 １０１ Ｇ０２Ｆ 1/13 １０１
(72)発明者 奥野 秦
東京都町田市小山町2225番地の10まちだテ
クノパーク 東京システム開発株式会社内
Ｆターム(参考） 2C250 FA05 FB23
2H088 FA18 FA21 FA30 HA01 MA20
3B201 AA01 BB02 BB83 BB92 CB15
CC01 CC12 CD22
4D011 AA16
4D056 EA01 EA06
Claims (4)
- 【請求項１】 薄板状ワークを超音波洗浄する装置であ
って、前記ワークを洗浄液で洗浄するための洗浄槽と、
洗浄されたワーク表面の洗浄液を純水で洗い流すための
リンス槽とが仕切り板により仕切られた状態で並設さ
れ、これら洗浄槽とリンス槽は、並設方向に対して薄幅
にされるとともに、前記リンス槽とは反対側の洗浄槽の
側面には、超音波発振体が取り付けられることを特徴と
する薄板状ワークの超音波洗浄装置。 - 【請求項２】 請求項１に記載の薄板状ワークの超音波
洗浄装置において、前記洗浄槽の洗浄液は、脱気装置に
より脱気されることを特徴とする薄板状ワークの超音波
洗浄装置。 - 【請求項３】 請求項１又は請求項２に記載の薄板状ワ
ークの超音波洗浄装置において、前記洗浄槽とリンス槽
の上部には、保持したワークを昇降させるための昇降機
構が設けられることを特徴とする薄板状ワークの超音波
洗浄装置。 - 【請求項４】 請求項１乃至請求項３のいずれか１項に
記載の薄板状ワークの洗浄装置において、前記洗浄槽の
上部には、洗浄槽から引き上げられるワークに向けてエ
アを吹き付けることのできるエアブロー部が設けられる
ことを特徴とする薄板状ワークの超音波洗浄装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002149035A JP2003340384A (ja) | 2002-05-23 | 2002-05-23 | 薄板状ワークの超音波洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002149035A JP2003340384A (ja) | 2002-05-23 | 2002-05-23 | 薄板状ワークの超音波洗浄装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003340384A true JP2003340384A (ja) | 2003-12-02 |
Family
ID=29767347
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2002149035A Pending JP2003340384A (ja) | 2002-05-23 | 2002-05-23 | 薄板状ワークの超音波洗浄装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2003340384A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006100264A (ja) * | 2004-09-01 | 2006-04-13 | Sanyo Electric Co Ltd | 洗浄装置 |
| CN113829750A (zh) * | 2020-08-05 | 2021-12-24 | 山东华菱电子股份有限公司 | 网版超声清洗机及其应用 |
| CN116748329A (zh) * | 2023-08-15 | 2023-09-15 | 山东世商焊材有限公司 | 一种铝合金焊丝高压清洗装置 |
-
2002
- 2002-05-23 JP JP2002149035A patent/JP2003340384A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006100264A (ja) * | 2004-09-01 | 2006-04-13 | Sanyo Electric Co Ltd | 洗浄装置 |
| JP4644565B2 (ja) * | 2004-09-01 | 2011-03-02 | 三洋電機株式会社 | 洗浄装置 |
| CN113829750A (zh) * | 2020-08-05 | 2021-12-24 | 山东华菱电子股份有限公司 | 网版超声清洗机及其应用 |
| CN116748329A (zh) * | 2023-08-15 | 2023-09-15 | 山东世商焊材有限公司 | 一种铝合金焊丝高压清洗装置 |
| CN116748329B (zh) * | 2023-08-15 | 2024-05-07 | 山东世商焊材有限公司 | 一种铝合金焊丝高压清洗装置 |
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|
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