KR20060018511A - 디스플레이용 전자파 차폐판 및 그 제조방법 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 디스플레이용 전자파 차폐판 및 그 제조방법에 관한 것으로, 금속메쉬와 유리 간에서 접착공정을 생략하여 접착제가 불필요해지면서 라미네이팅 공정을 생략하여 전체적으로 공정을 간소화시킬 수 있으며, 메쉬와 PET필름 간의 라미네이팅 공정이 간단해져 생산성 향상 및 원가를 절감시킬 수 있게 하는 데 목적이 있다.
이를 위해 유리(70)상에 세라믹 및 금속 산화물로 형성된 블랙층(10) 및 도전성 금속층인 시드층(20)을 형성시키는 블랙층 및 시드층 형성단계(S100)와, 시드층 일측에 포토레지스트(40)를 도포한 후 금속이 도금될 수 있도록 노광시키는 포토레지스트 노광단계(S200)와, 노광된 포토레지스트의 요홈에 금속도금을 행하는 도금단계(S300)와, 도금으로 형성된 금속메쉬(50)를 남기고 포토레지스트를 제거하는 포토레지스트 제거단계(S400)와, 금속메쉬에 의해 가려진 블랙층 및 시드층을 제외한 블랙층 및 시드층을 에칭하여 제거시키는 블랙층 및 시드층 제거단계(S500)와, 블랙층과 시드층을 제거시킨 후 세정을 하는 세정단계(S600)와, 유리의 전면 또는 양면에 AR/hard 및 PET 필름이 코팅되는 AR/hard 및 PET 필름 코팅단계(S700)를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 한다.

Description

디스플레이용 전자파 차폐판 및 그 제조방법 {That Method and Plasma Display Panel Thin Film for Cutting off Electronic Wave}
도 1은 종래의 도전막 타입과 에칭 타입의 금속메쉬 제조공정을 통해 제조된 PDP 박막메쉬의 구성상태도.
도 2는 본 발명에 따른 전주공정을 통한 디스플레이용 전자파 차폐판의 제조공정의 흐름도.
도 3은 본 발명에 따른 전주공정을 통해 제조된 디스플레이용 전자파 차폐판의 구성상태도.
* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명 *
10 : 블랙층 20 : 시드층
30 : PET필름 40 : 포토레지스트
50 : 금속메쉬 60 : AR/hard
본 발명은 전자파를 차단하는 데 이용되는 PDP 박막메쉬 및 그 제조방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 메쉬와 유리 간에서 접착공정을 생략하여 접착제가 불필요해지면서 라미네이팅 공정을 생략하여 전체적으로 공정을 간소화시킬 수 있으며, 메쉬와 PET필름 간의 라미네이팅 공정이 간단해져 생산성 향상 및 원가를 절감시킬 수 있는 디스플레이용 전자파 차폐판 및 그 제조방법에 관한 것이다.
PDP (Plasma Display Panel)는 벽걸이TV로 흔히 얘기되고 있는 미래형 디지털 영상 디스플레이로서, 진공상태에서 양전극과 음전극에 강한 전압을 걸면 내부의 가스가 활성화되었다가 시간의 경과에 따라 다시 안정된 본래의 상태로 돌아가면서 마치 오로라 같은 강하고 아름다운 빛을 발하게 되는 현상을 이용한 것이다. 여기서 플라즈마는 양전하(이온), 음전하(전자)가 거의 같은 양으로 혼재하여 자유입자에 가까운 행세를 하면서 전기적으로 중성을 유지하고 있는 상태로 이온과 전자의 혼합물질이다.
아울러 PDP (Plasma Display Panel)는 다양한 입력 신호(PC, Video, HDTV 등)와 연결되어 기존 영상 디스플레이장비보다 밝고 선명한 고화질의 영상을 재현 할 수 있는 미래형 멀티미디어 디스플레이 시스템이며 특히 40"이상의 대형화면을 10cm 이 하의 얇은 두께로 구현할 수 있어 공간 활용 및 미적 디자인 측면에서 장점을 지니고 있다.
상기와 같은 종래의 플라즈마 디스플레이 패널에 사용되는 전자파 차폐용 박막메쉬는 도 1에서 보는 바와 같이 유리(110)의 일측(보여지는 면)에 저반사를 위해 AR/hard(130)가 코팅된 PET필름(120)이 접촉 형성되고, 상기 유리의 타측(PDP패 널)에는 블랙세라믹(140)이 형성되며, 상기 블랙세라믹의 타측에는 Adhesive(150)가 형성된다.
또한 Adhesive의 타측 내부에는 구리메쉬(160)가 요홈에 충진 형성되고, 상기 Adhesive와 구리메쉬의 타측면에는 다시 AR/hard가 코팅된 PET필름이 접촉 형성된다.
상기와 같은 박막메쉬는 도전막 또는 에칭타입으로 제조되어 메쉬와 유리간 접착제에 의한 접착공정이 필수 불가결하였으며, 메쉬와 PET필름간에는 필름을 접착제로 접착시키는 라미네이팅 공정도 포함되어 전체적으로 공정이 복잡하여 생산성 저하 및 원가 상승의 문제점이 있었다.
따라서 본 발명은 이러한 사정을 감안하여 개발된 것으로, 메쉬와 유리 간의 접착공정을 생략하여 접착제가 불필요해지면서 라미네이팅 공정을 생략하여 전체적으로 공정을 간소화시킬 수 있으며, 메쉬와 PET필름 간의 라미네이팅 공정이 간단해져 생산성 향상 및 원가를 절감시킬 수 있는 디스플레이용 전자파 차폐판 및 그 제조방법을 제공함에 그 목적이 있다.
상기의 목적을 달성하기 위한 본 발명의 디스플레이용 전자파 차폐판의 제조방법은, 유리(70)상에 세라믹 및 금속 산화물로 형성된 블랙층(10) 및 도전성 금속 층인 시드층(20)을 형성시키는 블랙층 및 시드층 형성단계(S100)와, 상기 시드층(20) 일측에 포토레지스트(40)를 도포한 후 금속이 도금될 수 있도록 노광시키는 포토레지스트 노광단계(S200)와, 상기 노광된 포토레지스트(40)의 요홈에 금속도금을 행하는 도금단계(S300)와, 도금으로 형성된 금속메쉬(50)를 남기고 포토레지스트(40)를 제거하는 포토레지스트 제거단계(S400)와, 상기 금속메쉬(50)에 의해 가려진 블랙층(10) 및 시드층(20)을 제외한 블랙층(10) 및 시드층(20)을 에칭하여 제거시키는 블랙층 및 시드층 제거단계(S500)와, 블랙층(10)과 시드층(20)을 제거시킨 후 세정을 하는 세정단계(S600)와, 상기 유리(70)의 전면 또는 양면에 AR/hard(60) 및 PET 필름이 코팅되는 AR/hard 및 PET 필름 코팅단계(S700)를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 한다.
한편, 디스플레이용 전자파 차폐판은 유리상에 허니콤패턴이나 메쉬패턴으로 이루어진 블랙층(10)이 형성되고, 상기 블랙층의 상부에 두께 3-10um , 폭 5-20um의 도전성 금속층인 시드층(20)이 형성되는 것을 특징으로 한다.
또한 블랙층은 스퍼터링이나 진공증착방식에 의해 형성된 크로뮴이나 티타늄의 화합물인 것을 특징으로 하는 디스플레이용 전자파 차폐판을 제공한다.
또한 블랙층의 반사율이 5%이하인 것을 특징으로 하는 디스플레이용 전자파 차폐판을 제공한다.
또한 시드층은 스퍼터링이나 진공증착 방식에 의해 형성된 구리박막이나 구리합금박막이고, 상기 시드층 상부에는 전기도금으로 형성된 구리코팅층인 금속메쉬(50)가 형성되는 것을 특징으로 하는 디스플레이용 전자파 차폐판을 제공한다.
또한 금속메쉬(50)의 재질은 전도성이 우수하거나 자기적 특성을 가진 니켈, 구리 혹은 니켈/구리, 구리/티타늄, 구리/크롬과 같은 단일층 혹은 다층메쉬인 것을 특징으로 하는 디스플레이용 전자파 차폐판을 제공한다.
또한 유리(70)와 금속메쉬(50)가 일체형으로 형성된 것을 특징으로 하는 디스플레이용 전자파 차폐판을 제공한다.
이하, 본 발명의 바람직한 실시예를 예시도면을 참고하여 상세히 설명하고자 한다.
도 2 및 도 3에서 보는 바와 같이, 본 발명에 따른 디스플레이용 전자파 차폐판 및 그 제조방법은 기존 도전막 타입과 에칭 타입의 금속메쉬(50) 제조공정과 달리 전주(electroforming)방법을 이용하여 유리(70)상에서 금속메쉬(50)를 성장시킴으로써 유리(70)와 금속메쉬(50)를 일체화 하도록 이루어진다.
따라서 먼저 첫 번째 단계는 블랙층 및 시드층 형성단계(S100)로써, 세라믹 및 산화막으로 형성된 블랙층(10)이 유리(70)의 일측에 형성되고, 상기 블랙층(10) 일측에 금속층인 시드층(20)을 형성시키는 단계이다.
아울러 블랙층은 스퍼터링이나 진공증착방식에 의해 형성된 CrON, TiOX 와 같은 크로뮴이나 티타늄의 화합물이고, 상기 시드층은 스퍼터링이나 진공증착 방식에 의해 형성된 구리박막이나 구리합금박막이다.
여기서 스퍼터링이나 진공증착방식은 주지관용의 방식이므로 상세한 설명은 생략하고, 방향을 나타내는 일측은 상대적인 방향으로 나타나지만, 도면상에서의 상부를 일측으로, 하부를 타측으로 통일하여 표현하도록 하고, 도 3 (a)는 유리(70)가 구비된 상태를 나타내며, 도 3 (b)는 유리(70) 일측에 블랙층(10)과 시드층(20)이 형성된 상태를 나타낸다.
다음 단계는 포토레지스트 노광단계(S200)로써, 전 단계의 시드층(20) 일측에 포토레지스트(40)를 도포한 후 금속이 도금될 수 있도록 요홈이 형성될 부분이 관통된 포토마스크(도시 생략)를 통해 자외선을 조사시켜 노광하는 단계이다. 도 3 (c)는 포토레지스트(40)가 노광되어 요홈이 형성된 상태를 나타낸다.
다음 단계는 도금단계(S300)로써, 전기금속도금을 행하여 전 단계에서 형성된 요홈(41)에 구리코팅층인 금속메쉬(50)을 일정 두께로 성장시키는 단계이다. 도 3 (d)는 포토레지스트(40)의 요홈에 금속메쉬(50)가 성장된 상태를 나타낸다.
다음 단계는 포토레지스트 제거단계(S400)로써, 전 단계에서 성장된 금속메쉬(50)만을 남기기 위해 포토레지스트(40)를 제거하는 단계이다. 도 3 (e)는 포토레지스트(40)의 요홈에 성장된 금속메쉬(50)을 제외한 포토레지스트(40)를 제거한 상태를 나타낸다.
다음 단계는 블랙층 및 시드층 제거단계(S500)로써, 전 단계에서 시드층(20) 일측에 남은 금속메쉬(50)에 의해 가려진 블랙층(10) 및 시드층(20)을 제외한 나머지 블랙층(10) 및 시드층(20)을 에칭하여 제거시키는 단계이다. 도 3 (f)는 금속메쉬(50)의 타측에 위치한 블랙층(10)과 시드층(20)을 제외한 블랙층(10)과 시드층(20)을 에칭에 의해 제거시킨 상태를 나타낸다.
다음 단계는 세정단계(S600)로써, 전 단계에서 금속메쉬(50)의 타측에 위치한 블랙층(10)과 시드층(20)을 제외한 블랙층(10)과 시드층(20)을 에칭에 의해 제거시킨 후 세정을 하는 단계이다.
다음 단계는 AR/hard 및 PET 필름 코팅단계(S700)로써, 전 단계에서 세정된 유리(70)의 일측 또는 타측에 AR/hard(60) 및 PET 필름이 코팅되는 단계이다.
이러한 AR/hard 및 PET 필름 코팅단계(S700)의 제 1실시예를 살펴보면, 유리(70)의 전면에 AR/hard(60)가 코팅된 PET필름(30)이 코팅 형성된다.
따라서 도 3 (g-1)는 유리(70)면의 타측에는 PET필름(30)이 형성된 상태에서 AR/hard(60)가 코팅되고 상기 유리(70)면의 일측에는 금속메쉬(50), 블랙층(10) 그리고 시드층(20)의 주위에 접촉되는 물질이 없는 상태를 나타낸다.
그리고 AR/hard 및 PET 필름 코팅단계(S700)의 제 2실시예를 살펴보면, 유리(70)의 일측과 금속메쉬(50), 블랙층(10) 그리고 시드층(20)의 주위에 AR/hard(60)가 코팅된 PET필름(30)이 접촉 형성되고 유리(70)의 타측에 AR/hard(60)가 코팅된 PET필름(30)이 코팅 형성된다.
따라서 도 3 (g-2)는 유리(70)의 일측과 금속메쉬(50), 블랙층(10) 그리고 시드층(20)의 주위에 PET필름(30)이 접촉되고 상기 PET필름(30)의 일측에 AR/hard(60)가 코팅 형성되면서 유리(70)의 타측에는 PET필름(30)이 형성된 상태에서 AR/hard(60)가 코팅되는 상태를 나타낸다.
상기와 같은 공정으로 이루어진 PDP용 박막메쉬는 공정상 유리(70)가 중간에 위치되었지만, 실제로 TV 등에 활용될 경우 도 3(g-1)을 보고 설명하자면 유리(70) 의 상부인 일측이 AR/hard(60)가 코팅되지 않은 면인 PDP 패널 방향의 후면이고, 유리(70)의 하부인 타측이 AR/hard(60)가 코팅된 면인 화면이 보이는 전면이다.
한편, 상기와 같은 공정을 통해 형성된 본 발명에 따른 PDP용 박막메쉬의 제 1실시예를 보면, 도 3 (g-1)에서 보는 바와 같이 유리(70) 일측의 금속메쉬(50)가 형성될 위치에 블랙층(10)이 형성되고, 상기 블랙층(10)의 일측에 시드층(20)이 형성되면서 상기 시드층(20)의 일측에 금속메쉬(50)가 형성되며, 유리(70)의 타측에 PET필름(30)이 접촉되어 형성되고 상기 PET필름(30)의 타측에 AR/hard(60)가 형성된다.
여기서 블랙층(10)은 허니콤패턴이나 메쉬패턴으로 이루어지고, 스퍼터링이나 진공증착방식에 의해 형성된 CrON, TiOX 와 같은 크로뮴이나 티타늄의 화합물이며, 블랙층(10)의 반사율은 5%이하이다.
또한 블랙층의 일측에 형성된 도전성 금속층인 시드층(20)은 두께 3-10um , 폭 5-20um이고, 스퍼터링이나 진공증착 방식에 의해 형성된 구리박막이나 구리합금박막이다.
또한 본 발명에 따른 PDP용 박막메쉬의 제 2실시예를 보면, 도 3 (g-2)에서 보는 바와 같이 유리(70)의 일측의 금속메쉬(50)가 형성될 위치에 블랙층(10)이 형성되고, 상기 블랙층(10)의 일측에 시드층(20)이 형성되며, 시드층(20)의 일측에 금속메쉬(50)가 형성된다.
아울러 금속메쉬(50)가 형성되지 않은 유리(70)면의 일측과 금속메쉬(50), 블랙층(10) 그리고 시드층(20)의 주위에 PET필름(30)이 접촉되어 형성되고 상기 PET필름(30)의 일측에 AR/hard(60)가 형성되며, 유리(70)의 타측에 PET필름(30)이 접촉되어 형성되고 상기 PET필름(30)의 타측에 AR/hard(60)가 형성된다.
여기서 금속메쉬(50)의 재질은 전도성이 우수하거나 자기적 특성을 가진 니켈, 구리 혹은 니켈/구리, 구리/티타늄, 구리/크롬 등과 같은 단일층 혹은 다층 메쉬이다.
상기와 같은 방법으로 제조된 PDP용 박막메쉬의 제조공정은 전주공정을 이용하여 에칭방식에 비해 패턴 정밀도 및 투과율이 우수하고 비저항과 같은 전기적 물성 조절이 용이한 장점이 있다.
상기와 같이 이루어진 본 발명에 따른 PDP용 박막메쉬의 작용을 살펴보면 다음과 같다.
도 3 (g-1)에서 보는 바와 같이 PDP용 박막메쉬의 제 1실시예는 금속메쉬를 통해 전자파가 차폐되고, 블랙층에 의해 빛이 반사되는 것을 방지하며, PDP 패널로부터 조사되는 빛이 유리를 통과하여 AR/hard로 코팅된 PET필름을 통해 저반사되면서 투과되어 화면이 보여지게 된다.
도 3 (g-2)에서 보는 바와 같이 PDP용 박막메쉬의 제 2실시예는 PDP 패널로부터 조사되는 빛이 AR/hard로 코팅된 PET필름을 통해 저반사되어 투과되면서 금속메쉬를 통해 전자파가 차폐되고, 다시 블랙층에 의해 빛이 반사되는 것을 방지하면 서 PDP 패널로부터 조사되는 빛이 유리를 통과하여 AR/hard로 코팅된 PET필름을 통해 재차 저반사 투과되어 화면이 보여지게 된다.
이상 설명한 바와 같이 본 발명의 디스플레이용 전자파 차폐판 및 그 제조방법은 메쉬와 유리 간 접착공정을 생략하여 접착제가 불필요해지면서 라미네이팅 공정을 생략하여 전체적으로 공정을 간소화시킬 수 있으며, 메쉬와 PET필름 간의 라미네이팅 공정이 간단해져 생산성 향상 및 원가를 절감시킬 수 있는 효과를 제공할 수 있다.
아울러 전주공정을 통해 박막메쉬를 제조함으로써, 패턴 정밀도 및 투과율이 우수해지고 비저항과 같은 전기적 물성 조절이 용이해진다.

Claims (7)

  1. 유리(70)상에 세라믹 및 금속 산화물로 형성된 블랙층(10) 및 도전성 금속층인 시드층(20)을 형성시키는 블랙층 및 시드층 형성단계(S100)와,
    상기 시드층(20) 일측에 포토레지스트(40)를 도포한 후 금속이 도금될 수 있도록 노광시키는 포토레지스트 노광단계(S200)와,
    상기 노광된 포토레지스트(40)의 요홈(41)에 금속도금을 행하는 도금단계(S300)와,
    도금으로 형성된 금속메쉬(50)를 남기고 포토레지스트(40)를 제거하는 포토레지스트 제거단계(S400)와,
    상기 금속메쉬(50)에 의해 가려진 블랙층(10) 및 시드층(20)을 제외한 블랙층(10) 및 시드층(20)을 에칭하여 제거시키는 블랙층 및 시드층 제거단계(S500)와,
    블랙층(10)과 시드층(20)을 제거시킨 후 세정을 하는 세정단계(S600)와,
    상기 유리(70)의 전면 또는 양면에 AR/hard(60) 및 PET 필름이 코팅되는 AR/hard 및 PET 필름 코팅단계(S700)를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 디스플레이용 전자파 차폐판의 제조방법.
  2. 유리상에 허니콤패턴이나 메쉬패턴으로 이루어진 블랙층(10)이 형성되고, 상기 블랙층의 상부에 두께 3-10um , 폭 5-20um의 도전성 금속층인 시드층(20)이 형 성되는 것을 특징으로 하는 디스플레이용 전자파 차폐판.
  3. 청구항 2에 있어서,
    상기 블랙층은 스퍼터링이나 진공증착방식에 의해 형성된 크로뮴이나 티타늄의 화합물인 것을 특징으로 하는 디스플레이용 전자파 차폐판.
  4. 청구항 3에 있어서,
    상기 블랙층의 반사율이 5%이하인 것을 특징으로 하는 디스플레이용 전자파 차폐판.
  5. 청구항 2에 있어서,
    상기 시드층은 스퍼터링이나 진공증착 방식에 의해 형성된 구리박막이나 구리합금박막이고, 상기 시드층 상부에는 전기도금으로 형성된 구리코팅층인 금속메쉬(50)가 형성되는 것을 특징으로 하는 디스플레이용 전자파 차폐판.
  6. 청구항 5에 있어서,
    상기 금속메쉬(50)의 재질은 전도성이 우수하거나 자기적 특성을 가진 니켈, 구리 혹은 니켈/구리, 구리/티타늄, 구리/크롬과 같은 단일층 혹은 다층메쉬인 것을 특징으로 하는 디스플레이용 전자파 차폐판.
  7. 청구항 2 내지 청구항 6의 어느 한 항에 있어서,
    상기 유리(70)와 금속메쉬(50)가 일체형으로 형성된 것을 특징으로 하는 디스플레이용 전자파 차폐판.
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