JP2000174488A

JP2000174488A - 電磁波シールド性光透過窓材

Info

Publication number: JP2000174488A
Application number: JP34723098A
Authority: JP
Inventors: Masahito Yoshikawa; 雅人吉川; Hideshi Kotsubo; 秀史小坪; Yasuhiro Morimura; 泰大森村
Original assignee: Bridgestone Corp
Current assignee: Bridgestone Corp
Priority date: 1998-12-07
Filing date: 1998-12-07
Publication date: 2000-06-23

Abstract

(57)【要約】【課題】ＰＤＰ用電磁波シールドフィルター等として
好適な、良好な電磁波シールド性能を有し、かつ光透過
性で鮮明な画像を得ることがでる電磁波シールド性光透
過窓材を提供する。透明基板の機械的強度、化学的耐久
性を高める。【解決手段】少なくとも一方が強化ガラスよりなる２
枚の透明基板２Ａ，２Ｂを導電性メッシュ３を介在させ
て接着樹脂４で一体化した電磁波シールド性光透過窓材
１。導電性メッシュは、線径１〜２００μｍ、開口率３
０〜９９．９％の金属メッシュ、金属被覆有機繊維メッ
シュ、又は金属繊維と有機繊維の複合メッシュ。或い
は、少なくとも一方の電磁波シールド性光透過窓材の片
面又は両面に透明導電性膜を形成した電磁波シールド性
光透過窓材。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は電磁波シールド性光
透過窓材に係り、特に、良好な電磁波シールド性を備
え、かつ光透過性で、ＰＤＰ（プラズマディスプレーパ
ネル）の前面フィルタ等として有用な電磁波シールド性
光透過窓材に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、ＯＡ機器や通信機器等の普及にと
もない、これらの機器から発生する電磁波が問題視され
るようになっている。即ち、電磁波の人体への影響が懸
念され、また、電磁波による精密機器の誤作動等が問題
となっている。

【０００３】そこで、従来、ＯＡ機器のＰＤＰの前面フ
ィルタとして、電磁波シールド性を有し、かつ光透過性
の窓材が開発され、実用に供されている。このような窓
材はまた、携帯電話等の電磁波から精密機器を保護する
ために、病院や研究室等の精密機器設置場所の窓材とし
ても利用されている。

【０００４】従来の電磁波シールド性光透過窓材は、主
に、金網のような導電性メッシュ材を、アクリル板等の
透明基板の間に介在させて一体化した構成とされてい
る。

【０００５】従来の電磁波シールド性光透過窓材に用い
られている導電性メッシュは、一般に線径３０〜５００
μｍで開口率３０〜６０％程度のものである。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
導電性メッシュを用いた電磁波シールド性光透過窓材で
は、十分な電磁波シールド性を得ることができず、ま
た、メッシュの網目を相当細かくしても、ＯＡ機器のＰ
ＤＰの前面に格子状のものを置くことになることから、
画像がにじんで見えるなどの現象が起こり、鮮明な画像
が得られず、ＰＤＰのドット数と、メッシュの格子とで
干渉縞（いわゆるモアレ）が発生し、この現象によって
も画像は見難いものとなるといった問題があった。

【０００７】また、電磁波シールド性光透過窓材の透明
基板としては、剛性に優れ、ＰＤＰからの伝熱による変
形がなく、耐食性等にも優れることから、ガラス基板を
用いるのが好ましいが、通常のガラス基板の場合、強い
荷重をかけると割れるという機械的強度に大きな欠点を
持っている。また、化学的安定性が十分であるとは言え
ず、耐候性が不足し、高温高湿環境下に長期間晒される
と表面にヤケが発生するなどの欠点があった。

【０００８】本発明は上記従来の問題点を解決し、ＰＤ
Ｐ用電磁波シールドフィルター等として好適な、良好な
電磁波シールド性能を有し、かつ光透過性で鮮明な画像
を得ることができる電磁波シールド性光透過窓材を提供
するものである。

【０００９】本発明はまた、透明基板としてのガラス基
板の機械的強度と化学的耐久性が著しく改善された電磁
波シールド性光透過窓材を提供するものである。

【００１０】

【課題を解決するための手段】請求項１〜３の電磁波シ
ールド性光透過窓材は、２枚の透明基板間に下記〜
の導電性メッシュを介在させて、接着樹脂で接合一体化
してなり、該２枚の透明基板のうちの少なくとも一方は
強化ガラスよりなることを特徴とする。

【００１１】線径１〜２００μｍ、開口率３０〜９
９．９％の金属繊維よりなる導電性メッシュ（請求項
１）。線径１〜２００μｍ、開口率３０〜９９．９％の、
金属被覆有機繊維よりなる導電性メッシュ（請求項
２）。金属繊維及び／又は金属被覆有機繊維と有機繊維と
を織り込んだ導電性複合メッシュ（請求項３）。この導
電性メッシュは、線径１〜２００μｍ、開口率３０〜９
９．９％であることが好ましい（請求項４）。

【００１２】なお、本発明において、導電性メッシュの
開口率とは、当該導電性メッシュの投影面積における開
口部分が占める面積割合を言う。

【００１３】上記，の線径及び開口率の導電性メッ
シュであれば、良好な電磁波シールド性、光透過性を得
ることができ、かつ、モアレ現象を防止することができ
る。

【００１４】また、上記の導電性複合メッシュであれ
ば有機繊維を併用することで、細い繊維を用いた開口率
の大きいメッシュであっても、ほつれることなく、織り
込むことができ、メッシュの線径及び開口率等の自由度
が高まり、容易に電磁波シールド性及び光透過性が良好
でモアレ現象のない電磁波シールド性光透過窓材を実現
できる。

【００１５】請求項５の電磁波シールド性光透過窓材
は、２枚の透明基板間に導電性メッシュを介在させて、
接着樹脂で接合一体化してなる電磁波シールド性光透過
窓材において、該２枚の透明基板のうちの少なくとも一
方の透明基板の片面又は両面に、透明導電膜が形成され
ており、該一方の透明基板及び／又は他方の透明基板は
強化ガラスよりなることを特徴とする。

【００１６】請求項５の電磁波シールド性光透過窓材で
は、透明導電膜が形成されているため、この透明導電膜
と導電性メッシュとで優れた電磁波シールド性を得るこ
とができる。このように透明導電膜との併用で電磁波シ
ールド性を得るため、導電性メッシュの設計において、
モアレ現象を重視することができ、モアレ現象の少ない
メッシュ設計にすることができる。

【００１７】なお、本発明の電磁波シールド性光透過窓
材は、このように透明基板間に導電性メッシュを介在さ
せたものであるため、破損時の飛散防止効果が得られ、
安全性が高い。

【００１８】また、本発明の電磁波シールド性光透過窓
材は、２枚の透明基板のうちの少なくとも一方が強化ガ
ラス、好ましくは化学強化ガラスであることから、透明
基板の機械的強度及び化学的安定性が向上し、良好な耐
候、耐久性が得られる。

【００１９】ところで、ＰＤＰにはＲＧＢ各色に対応す
る蛍光体が各セルに塗布されているが、その発光効率は
必ずしも同じではないため、各色を合成した発光色例え
ば白色を表示させた場合、選択されている蛍光体の種類
等の影響により違った色度、色温度となる。これを所定
の設計値に合わせるためには複雑な処理が必要となる。

【００２０】一般に、ＰＤＰの場合、青色発光が弱いた
め、青色輝度を補強する必要がある。また、色純度を向
上させ、優れた色再現性を得るには、別途カラーフィル
ターが必要となる。

【００２１】しかしながら、無色透明の接着樹脂を用い
て導電性メッシュを接合一体化した電磁波シールド性光
透過窓材では、色調を変える作用は得られない。

【００２２】これに対して、接着樹脂として有色透明の
ものを用いた請求項７であれば、光透過性を損なうこと
なく、青色輝度の補強又は色純度の向上を図ることがで
き、鮮明な画像を得ることができる。

【００２３】また、従来の電磁波シールド性光透過窓材
では、画面における光の反射で画像が見難く、視野角が
小さく、横からの入射光に対して画面内容を十分に視認
できないという欠点があったが、電磁波発生源側と反対
側に位置する透明基板の表面に、高屈折率透明膜と低屈
折率透明膜との積層膜よりなる反射防止膜を形成した請
求項８によれば、この反射防止膜の光の干渉作用で光の
反射を防止して高視野角とすることができる。

【００２４】更に、従来の導電性メッシュを用いた電磁
波シールド性光透過窓材では、十分な電磁波シールド性
を得ることができず、また、メッシュの網目を相当細か
くしても、ＯＡ機器のＰＤＰの前面に格子状のものを置
くことになることから、画像がにじんで見えるなどの現
象が起こり、鮮明な画像が得られず、ＰＤＰのドット数
と、メッシュの格子とで干渉縞（いわゆるモアレ）が発
生し、この現象によっても画像は見難いものとなるとい
った問題があった。また、ＯＡ機器本体からの熱で画面
が過熱するという問題もあったが、電磁波発生源側に位
置する透明基板の表面に、熱線反射性の透明導電膜を形
成した請求項９によれば、透明導電膜と導電性メッシュ
とで優れた電磁波シールド性を得ることができ、また、
この透明導電膜は熱線反射性であるため、ＯＡ機器本体
からの熱を反射して、良好な断熱効果を得ることができ
る。

【００２５】本発明において、接着樹脂としては、透明
のエチレン−酢酸ビニル共重合体（ＥＶＡ）が好適であ
る。

【００２６】

【発明の実施の形態】以下に図面を参照して本発明の電
磁波シールド性光透過窓材の実施の形態を詳細に説明す
る。

【００２７】まず、図１，２を参照して、請求項１〜４
の電磁波シールド性光透過窓材の実施の形態を詳細に説
明する。

【００２８】図１は請求項１〜４の電磁波シールド性光
透過窓材の実施の形態を示す模式的な断面図、図２は請
求項３，４に係る複合メッシュの繊維を拡大して示す模
式図である。

【００２９】図１に示す如く、この電磁波シールド性光
透過窓材１は、２枚の透明基板２Ａ，２Ｂを、導電性メ
ッシュ３を介在させて接着樹脂４で接合一体化してなる
ものである。

【００３０】透明基板２Ａ，２Ｂの構成材料としては、
ガラス、ポリエステル、ポリエチレンテレフタレート
（ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレート、ポリメチル
メタアクリレート（ＰＭＭＡ）、アクリル板、ポリカー
ボネート（ＰＣ）、ポリスチレン、トリアセテートフィ
ルム、ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニル、ポリ塩
化ビニリデン、ポリエチレン、エチレン−酢酸ビニル共
重合体、ポリビニルブチラール、金属イオン架橋エチレ
ン−メタアクリル酸共重合体、ポリウレタン、セロファ
ン等、好ましくは、ガラス、ＰＥＴ、ＰＣ、ＰＭＭＡが
挙げられるが、本発明においては、透明基板２Ａ，２Ｂ
のうちの少なくとも一方を強化ガラス、好ましくは化学
強化ガラス製とする。

【００３１】この化学強化ガラスとしては、例えば、次
のようなものを用いることができる。

【００３２】アルカリ成分としてナトリウムイオン
を含有するガラスを、カリウムイオンを含有する溶融塩
に接触させてナトリウムイオンとカリウムイオンとのイ
オン交換により、ガラス表面に圧縮層を形成し、その後
ガラス表面をリチウム塩水溶液に接触させて、表面にリ
チウムイオンを固定したガラス。アルカリ成分としてナトリウムイオンを含有するガ
ラスを、硝酸亜鉛と硝酸カリウムからなる混合溶融塩に
漬け、ガラス表面に亜鉛イオンを含むアルカリ溶出防止
層を形成したガラス。アルカリ成分としてナトリウムイオンを含有するガ
ラスを、硝酸カルシウムと硝酸カリウムからなる混合溶
融塩に漬け、ガラス表面にガラス内部よりも少ないアル
カリ成分を含むアルカリ溶出防止層を形成したガラス。アルカリ成分としてナトリウムイオンを含有するガ
ラスを、硝酸リチウムと硝酸カリウムからなる混合溶融
塩に漬け、ガラス表面にリチウムイオンを含有するアル
カリ溶出防止層を形成したガラス。

【００３３】の強化ガラスでは、カリウムイオンを含
む溶融塩中でガラス表面近傍のナトリウムイオンをカリ
ウムイオンに置換した後、リチウム塩水溶液中で溶融塩
を溶解し、さらに、別のリチウム塩水溶液中に浸漬する
ことにより、ガラスの化学的耐久性が大幅に向上する。
用いるリチウム塩としては、硝酸リチウム、硫酸リチウ
ムが好んで用いられ、なかでも硝酸リチウムが好まし
い。硝酸リチウム水溶液の硝酸リチウム濃度は、１０^-4
モル／リットル以上とするのが好ましく、１モル／リッ
トル以上の濃度としても化学的耐久性は濃度に応じて増
大しないことから、特に１０^-4〜１モル／リットルの濃
度範囲、とりわけ１０^-2〜１モル／リットルの範囲とす
るのが好ましい。

【００３４】このように溶融塩を用いたイオン交換反応
により化学強化されたガラス表面は、非常に高活性であ
り、水溶液に触れるとアルカリ金属イオンと水素イオン
とのイオン交換反応が行われ、一定量の水和層がガラス
表面に形成され表面が安定化する。この安定化がリチウ
ムイオンが存在する水溶液中で行われると、リチウムイ
オンがガラス表面に固定され、ガラス表面に耐候性の強
い層を形成する。これにより、ガラスの機械的強度を向
上させると共にガラス表面の高温高湿雰囲気下の化学的
耐久性が向上し、ガラス表面にヤケの発生が抑制され
る。

【００３５】の強化ガラスは、硝酸亜鉛をモル濃度で
０．０１〜０．５％含有する硝酸亜鉛と硝酸カリウムか
らなる混合溶融塩、或いは、硝酸亜鉛をモル濃度で２０
〜５０％含有する硝酸亜鉛と硝酸カリウムからなる混合
溶融塩を用いて製造される。硝酸亜鉛は単独で存在する
場合はその分解温度は３５０℃であるが、硝酸カリウム
中に上限値として０．５モル％までの量で含まれるとき
は、その分解温度以上であっても安定して存在するた
め、３３０℃〜４５０℃の混合溶融塩にガラスを漬ける
ことで溶融塩の安定性確保と処理時間の短縮化を図るこ
とができる。

【００３６】また、硝酸亜鉛をモル濃度で２０〜５０％
含有する硝酸亜鉛と硝酸カリウムからなる混合溶融塩を
用いると硝酸リチウムと硝酸亜鉛の系が有する共融点近
傍の低い温度で処理することができ、混合溶融塩の共融
点以上３５０℃以下の比較的低温度域で強化処理を行う
ことができる。

【００３７】この方法では、溶融した硝酸カリウムと硝
酸亜鉛との混合塩中にアルカリ成分としてナトリウムイ
オンを含むガラスを漬けると、ガラス中のナトリウムイ
オンと溶融塩中の亜鉛イオンがイオン交換により置換
し、表面近傍に亜鉛を含む層が形成され、この層により
機械的強度が向上すると共に高耐湿性が付与される。特
に、硝酸亜鉛を２０〜５０モル％含む混合塩では、その
共融点近傍の低い温度で、表面近傍に亜鉛を含む層を形
成することができ、この層により機械的強度が向上する
と共に高耐湿性が付与される。

【００３８】の強化ガラスは、アルカリ成分としてナ
トリウムイオンを含有するガラスを、硝酸カルシウムを
モル濃度で１０〜４０％含有する硝酸カルシウムと硝酸
カリウムからなる混合溶融塩に漬け、ガラス表面近傍に
アルカリ溶出防止層を形成することにより製造される。
ここで混合溶融塩の温度は３５０〜４７０℃とするのが
好ましい。

【００３９】この方法では、ガラス表面近傍にアルカリ
がガラス内部よりも減少した層が形成され、この層によ
り機械的強度が向上すると共に高耐湿性が付与される。

【００４０】の強化ガラスは、アルカリ成分としてナ
トリウムイオンを含有するガラスを、硝酸リチウムをモ
ル濃度で１〜３０％含有する硝酸リチウムと硝酸カリウ
ムからなるなる混合溶融塩に漬け、ガラス表面近傍にリ
チウムイオンを含有するアルカリ溶出防止層を形成する
ことにより製造される。ここで、混合溶融塩の温度は３
３０〜４５０℃とするのが好ましい。

【００４１】この方法では、ガラス中のナトリウムイオ
ンと溶融塩中のリチウムイオンがイオン交換により置換
し、表面近傍にリチウムを含む層が形成され、この層に
より機械的強度が向上すると共に高耐湿性が付与され
る。

【００４２】なお、前記混合溶融塩にガラスを漬けるに
先立ち、硝酸カリウムのみからなる溶融塩に漬けてその
溶融塩中のカリウムイオンとガラス中のナトリウムイオ
ンとをイオン交換することが好ましい。

【００４３】透明基板２Ａ，２Ｂの厚さは得られる窓材
の用途による要求特性（例えば、強度、軽量性）等によ
って適宜決定されるが、通常の場合、０．１〜１０ｍｍ
の範囲とされる。

【００４４】透明基板２Ａ，２Ｂは、必ずしも同材質で
ある必要はなく、例えば、ＰＤＰ前面フィルタのよう
に、表面側のみに耐傷付性や耐久性等が要求される場合
には、この表面側となる透明基板２Ａを厚さ０．１〜１
０ｍｍ程度の強化ガラス板とし、裏面側の透明基板２Ｂ
を厚さ１μｍ〜１ｍｍ程度のＰＥＴフィルム又はＰＥＴ
板、アクリルフィルム又はアクリル板、ポリカーボネー
トフィルム又はポリカーボネート板等とすることもでき
る。

【００４５】本発明においては、表面側（電磁波発生源
側と反対側）となる透明基板２Ａの表面に反射防止膜を
形成してもよい。この透明基板２Ａの表面側に形成され
る反射防止膜としては、下記（１）の単層膜や、高屈折
率透明膜と低屈折率透明膜との積層膜、例えば、下記
（２）〜（５）のような積層構造の積層膜が挙げられ
る。

【００４６】（１）透明基板よりも屈折率の低い透明
膜を一層積層したもの（２）高屈折率透明膜と低屈折率透明膜を１層ずつ合
計２層に積層したもの（３）高屈折率透明膜と低屈折率透明膜を２層ずつ交
互に合計４層積層したもの（４）中屈折率透明膜／高屈折率透明膜／低屈折率透
明膜の順で１層ずつ、合計３層に積層したもの（５）高屈折率透明膜／低屈折率透明膜の順で各層を
交互に３層ずつ、合計６層に積層したもの高屈折率透明膜としては、ＩＴＯ（スズインジウム酸化
物）又はＺｎＯ、ＡｌをドープしたＺｎＯ、ＴｉＯ₂、
ＳｎＯ₂、ＺｒＯ等の屈折率１．８以上の薄膜、好まし
くは透明導電性の薄膜を形成することができる。また、
低屈折率透明膜としてはＳｉＯ₂、ＭｇＦ₂、Ａｌ₂Ｏ₃等
の屈折率が１．６以下の低屈折率材料よりなる薄膜を形
成することができる。これらの膜厚は光の干渉で可視光
領域での反射率を下げるため、膜構成、膜種、中心波長
により異なってくるが４層構造の場合、透明基板側の第
１層（高屈折率透明膜）が５〜５０ｎｍ、第２層（低屈
折率透明膜）が５〜５０ｎｍ、第３層（高屈折率透明
膜）が５０〜１００ｎｍ、第４層（低屈折率透明膜）が
５０〜１５０ｎｍ程度の膜厚で形成される。

【００４７】また、このような反射防止膜の上に更に汚
染防止膜を形成して、表面の耐汚染性を高めるようにし
ても良い。この場合、汚染防止膜としては、フッ素系薄
膜、シリコン系薄膜等よりなる膜厚１〜１０００ｎｍ程
度の薄膜が好ましい。

【００４８】本発明の電磁波シールド性光透過窓材で
は、表面側となる透明基板２Ａには、更に、シリコン系
材料等によるハードコート処理、或いはハードコート層
内に光散乱材料を練り込んだアンチグレア加工等を施し
ても良い。また、透明基板２Ａに前述の反射防止フィル
ム、ハードコートフィルム、アンチグレアフィルム等を
透明粘着剤や透明接着剤で貼り付けることもできる。

【００４９】一方、裏面側となる、即ち、電磁波発生源
側に位置する透明基板２Ｂには、金属薄膜又は透明導電
性膜等の熱線反射コート等を施して機能性を高めること
ができる。

【００５０】この場合、透明基板２Ｂに形成される熱線
反射性の透明導電膜としては、ＩＴＯ（スズインジウム
酸化物）、ＡＴＯ（スズアンチモン酸化物）、ＺｎＯ、
ＡｌをドープしたＺｎＯ、ＳｎＯ₂等の薄膜を形成する
ことができる。また、金、銀、銅、プラチナ等の金属薄
膜又はこれらの元素を含む合金薄膜を薄くコーティング
することでも可視光透過性を有し、赤外光を反射させる
ような熱線反射膜も用いることができる。その膜厚は、
要求される電磁波シールド性、光透過性、断熱性によっ
ても異なるが、通常の場合、金属酸化物薄膜の場合５Å
〜５μｍ程度、金属薄膜の場合２Å〜３０００Å程度で
あることが好ましい。

【００５１】これらの酸化物透明導電膜及び金属薄膜は
積層化することで導電性、熱線カット性を高めることが
できる。層数が多すぎると可視光領域の透明性が損なわ
れる。好ましい積層数は各々１〜２０層、合計で２〜４
１層である。

【００５２】これらの酸化物透明導電膜及び金属薄膜は
スパッタ法や真空蒸着法、イオンプレーティング法、Ｃ
ＶＤ法等、好ましくは膜厚制御が容易なスパッタ法によ
りベースとなる透明基板上に形成することができる。

【００５３】従来の電磁波シールド性光透過窓材では、
ディスプレイからの熱で画面が加熱するという問題があ
ったが、電磁波発生源側に位置する透明基板２Ｂの表面
に、熱線反射性の透明導電膜を形成することにより、デ
ィスプレイからの熱を反射して、良好な断熱効果を得る
ことができる。また、特にＰＤＰの場合、発光時に可視
光以外に近赤外線が放射されるため、ＰＤＰ自体のリモ
コン操作ができなくなる場合もある。また、周囲の家電
製品の誤動作を引き起こす可能性もあるため、この近赤
外線領域の光を充分にカットする必要がある。

【００５４】このような透明導電性膜は表面側の透明基
板２Ａに形成することもできる。

【００５５】本発明においては、このような透明基板２
Ａ，２Ｂに介在させる導電性メッシュとして、次のよう
なものを用いる。

【００５６】線径１〜２００μｍ、開口率３０〜９
９．９％の金属繊維よりなる導電性メッシュ。この導電
性メッシュにおいて、線径が２００μｍを超えると開口
率が低下してしまい、１μｍ未満ではメッシュサイズが
小さい場合は形状を維持することができず、メッシュサ
イズが大きい場合開口率が低下してしまう。又、開口率
が１００％になるとシールド性は全く得られず、３０％
未満ではブラウン管などの発光体の輝度を低下させてし
まう。好ましい線径は５〜１００μｍ、開口率は４０〜
９０％である。

【００５７】線径１〜２００μｍ、開口率３０〜９
９．９％の、金属被覆有機繊維よりなる導電性メッシ
ュ。この導電性メッシュにおいて、線径が２００μｍを
超えると開口率が低下してしまい、１μｍ未満ではメッ
シュサイズが小さい場合は形状を維持することができ
ず、メッシュサイズが大きい場合開口率が低下してしま
う。又、開口率が１００％になるとシールド性は全く得
られず、３０％未満ではブラウン管などの発光体の輝度
を低下させてしまう。好ましい線径は５〜１００μｍ、
開口率は４０〜９０％である。

【００５８】金属繊維及び／又は金属被覆有機繊維
と有機繊維とを織り込んだ導電性複合メッシュ。この導
電性複合メッシュにおいて、線径が２００μｍを超える
と開口率が低下してしまい、１μｍ未満ではメッシュサ
イズが小さい場合は形状を維持することができず、メッ
シュサイズが大きい場合開口率が低下してしまう。線径
は１〜２００μｍ、特に５〜１００μｍであることが好
ましい。また、開口率が１００％になるとシールド性は
全く得られず、３０％未満ではブラウン管などの発光体
の輝度を低下させてしまう。開口率は３０〜９９．９
％、特に４０〜９０％であることが好ましい。

【００５９】上記，の導電性メッシュを構成する金
属繊維及び上記，を構成する金属被覆有機繊維の金
属としては、銅、ステンレス、アルミニウム、ニッケ
ル、クロム、チタン、タングステン、錫、鉛、鉄、銀、
炭素或いはこれらの合金、好ましくは銅、ステンレス、
アルミニウムが用いられる。

【００６０】また、上記の導電性複合メッシュを構成
する有機繊維及び上記，を構成する金属被覆有機繊
維の有機材料としては、ポリエステル、ナイロン、塩化
ビニリデン、アラミド、ビニロン、セルロース等が用い
られる。

【００６１】上記の導電性複合メッシュにおいて、金
属繊維及び／又は金属被覆繊維が過度に多く、有機繊維
が少ないと、有機繊維を用いたことによる効果が十分に
得られず、逆に、有機繊維が過度に多く、金属繊維及び
／又は金属被覆繊維が少ないと電磁波シールド性が低下
する。従って、金属繊維及び／又は金属被覆繊維と有機
繊維との割合は、金属繊維及び／又は金属被覆繊維：有
機繊維＝１：１〜１０（繊維本数比）とするのが好まし
い。

【００６２】従って、導電性複合メッシュは、このよう
な割合で、金属繊維及び／又は金属被覆繊維と有機繊維
とが均一に分散するようにこれらを織り込んで製造され
る。

【００６３】例えば、図２において、次のような繊維配
置の導電性複合メッシュ５とすることができる。

【００６４】(i) ａ₁，ａ₃，…ａ_2m+1とｂ₁，ｂ₃，…
ｂ_2m+1→金属繊維及び／又は金属被覆繊維ａ₂，ａ₄，…ａ_2mとｂ₂，ｂ₄，…ｂ_2m→有機繊維 (ii) ａ₁，ａ₄，…ａ_3m+1とｂ₁，ｂ₄，…ｂ_3m+1→有機
繊維その他は金属繊維及び／又は金属被覆繊維 (iii) ａ₁，ａ₄，…ａ_3m+1とｂ₁，ｂ₄，…ｂ_3m+1→金属
繊維及び／又は金属被覆繊維、その他は有機繊維本発明において、透明基板２Ａ，２Ｂを導電性メッシュ
３を介して接着する接着樹脂４としては、エチレン−酢
酸ビニル共重合体、エチレン−アクリル酸メチル共重合
体、エチレン−（メタ）アクリル酸共重合体、エチレン
−（メタ）アクリル酸エチル共重合体、エチレン−（メ
タ）アクリル酸メチル共重合体、金属イオン架橋エチレ
ン−（メタ）アクリル酸共重合体、部分鹸化エチレン−
酢酸ビニル共重合体、カルボキシル化エチレン−酢酸ビ
ニル共重合体、エチレン−（メタ）アクリル−無水マレ
イン酸共重合体、エチレン−酢酸ビニル−（メタ）アク
リレート共重合体等のエチレン系共重合体が挙げられる
（なお、「（メタ）アクリル」は「アクリル又はメタク
リル」を示す。）。その他、ポリビニルブチラール（Ｐ
ＶＢ）樹脂、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、フェノール
樹脂、シリコン樹脂、ポリエステル樹脂、ウレタン樹脂
等も用いることができるが、性能面で最もバランスがと
れ、使い易いのはエチレン−酢酸ビニル共重合体（ＥＶ
Ａ）である。また、耐衝撃性、耐貫通性、接着性、透明
性等の点から自動車用合せガラスで用いられているＰＶ
Ｂ樹脂も好適である。

【００６５】ＰＶＢ樹脂は、ポリビニルアセタール単位
が７０〜９５重量％、ポリ酢酸ビニル単位が１〜１５重
量％で、平均重合度が２００〜３０００、好ましくは３
００〜２５００であるものが好ましく、ＰＶＢ樹脂は可
塑剤を含む樹脂組成物として使用される。

【００６６】ＰＶＢ樹脂組成物の可塑剤としては、一塩
基酸エステル、多塩基酸エステル等の有機系可塑剤や燐
酸系可塑剤が挙げられる。

【００６７】一塩基酸エステルとしては、酪酸、イソ酪
酸、カプロン酸、２−エチル酪酸、ヘプタン酸、ｎ−オ
クチル酸、２−エチルヘキシル酸、ペラルゴン酸（ｎ−
ノニル酸）、デシル酸等の有機酸とトリエチレングリコ
ールとの反応によって得られるエステルが好ましく、よ
り好ましくは、トリエチレン−ジ−２−エチルブチレー
ト、トリエチレングリコール−ジ−２−エチルヘキソエ
ート、トリエチレングリコール−ジ−カプロネート、ト
リエチレングリコール−ジ−ｎ−オクトエート等であ
る。なお、上記有機酸とテトラエチレングリコール又は
トリプロピレングリコールとのエステルも使用可能であ
る。

【００６８】多塩基酸エステル系可塑剤としては、例え
ば、アジピン酸、セバチン酸、アゼライン酸等の有機酸
と炭素数４〜８の直鎖状又は分岐状アルコールとのエス
テルが好ましく、より好ましくは、ジブチルセバケー
ト、ジオクチルアゼレート、ジブチルカルビトールアジ
ペート等が挙げられる。

【００６９】燐酸系可塑剤としては、トリブトキシエチ
ルフォスフェート、イソデシルフェニルフォスフェー
ト、トリイソプロピルフォスフェート等が挙げられる。

【００７０】ＰＶＢ樹脂組成物において、可塑剤の量が
少ないと製膜性が低下し、多いと耐熱時の耐久性等が損
なわれるため、ポリビニルブチラール樹脂１００重量部
に対して可塑剤を５〜５０重量部、好ましくは１０〜４
０重量部とする。

【００７１】ＰＶＢ樹脂組成物には、更に劣化防止のた
めに、安定剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤等の添加剤が
添加されていても良い。

【００７２】本発明の電磁波シールド性光透過窓材は、
ＥＶＡ等の樹脂に所定量の熱又は光硬化のための架橋剤
を混合してシート化した接着用フィルムを２枚用い、こ
の接着用フィルムの間に導電性メッシュを挟んだものを
透明基板２Ａ，２Ｂ間に介在させ、減圧、加温下に脱気
して予備圧着した後、加熱又は光照射により接着層を硬
化させて一体化することにより容易に製造することがで
きる。

【００７３】なお、導電性メッシュ３と接着樹脂４とで
形成される接着層の厚さは、電磁波シールド性光透過窓
材の用途等によっても異なるが、通常の場合２μｍ〜１
ｍｍ程度とされる。従って、接着用フィルムは、このよ
うな厚さの接着層が得られるように、１μｍ〜１ｍｍ厚
さに成形される。

【００７４】以下に、樹脂としてＥＶＡを用いた場合を
例示して本発明に係る接着層についてより詳細に説明す
る。

【００７５】ＥＶＡとしては酢酸ビニル含有量が５〜５
０重量％、好ましくは１５〜４０重量％のものが使用さ
れる。酢酸ビニル含有量が５重量％より少ないと耐候性
及び透明性に問題があり、また４０重量％を超すと機械
的性質が著しく低下する上に、成膜が困難となり、フィ
ルム相互のブロッキングが生ずる。

【００７６】架橋剤としては加熱架橋する場合は、有機
過酸化物が適当であり、シート加工温度、架橋温度、貯
蔵安定性等を考慮して選ばれる。使用可能な過酸化物と
しては、例えば２，５−ジメチルヘキサン−２，５−ジ
ハイドロパーオキサイド；２，５−ジメチル−２，５−
ジ（ｔ−ブチルパーオキシ）ヘキサン−３；ジーｔ−ブ
チルパーオキサイド；ｔ−ブチルクミルパーオキサイ
ド；２，５−ジメチル−２，５−ジ（ｔ−ブチルパーオ
キシ）ヘキサン；ジクミルパーオキサイド；α，α’−
ビス（ｔ−ブチルパーオキシイソプロピル）ベンゼン；
ｎ−ブチル−４，４−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）バ
レレート；２，２−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）ブタ
ン；１，１−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）シクロヘキ
サン；１，１−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）−３，
３，５−トリメチルシクロヘキサン；ｔ−ブチルパーオ
キシベンゾエート；ベンゾイルパーオキサイド；第３ブ
チルパーオキシアセテート；２，５−ジメチル−２，５
−ビス（第３ブチルパーオキシ）ヘキシン−３；１，１
−ビス（第３ブチルパーオキシ）−３，３，５−トリメ
チルシクロヘキサン；１，１−ビス（第３ブチルパーオ
キシ）シクロヘキサン；メチルエチルケトンパーオキサ
イド；２，５−ジメチルヘキシル−２，５−ビスパーオ
キシベンゾエート；第３ブチルハイドロパーオキサイ
ド；ｐ−メンタンハイドロパーオキサイド；ｐ−クロル
ベンゾイルパーオキサイド；第３ブチルパーオキシイソ
ブチレート；ヒドロキシヘプチルパーオキサイド；クロ
ルヘキサノンパーオキサイドなどが挙げられる。これら
の過酸化物は１種を単独で又は２種以上を混合して、通
常ＥＶＡ１００重量部に対して、１０重量部以下、好ま
しくは０．１〜１０重量部の割合で使用される。

【００７７】有機過酸化物は通常ＥＶＡに対し押出機、
ロールミル等で混練されるが、有機溶媒、可塑剤、ビニ
ルモノマー等に溶解し、ＥＶＡのフィルムに含浸法によ
り添加しても良い。

【００７８】なお、ＥＶＡの物性（機械的強度、光学的
特性、接着性、耐候性、耐白化性、架橋速度など）改良
のために、各種アクリロキシ基又はメタクリロキシ基及
びアリル基含有化合物を添加することができる。この目
的で用いられる化合物としてはアクリル酸又はメタクリ
ル酸誘導体、例えばそのエステル及びアミドが最も一般
的であり、エステル残基としてはメチル、エチル、ドデ
シル、ステアリル、ラウリル等のアルキル基の他、シク
ロヘキシル基、テトラヒドロフルフリル基、アミノエチ
ル基、２−ヒドロキシエチル基、３−ヒドロキシプロピ
ル基、３−クロロ−２−ヒドロキシプロピル基などが挙
げられる。また、エチレングリコール、トリエチレング
リコール、ポリエチレングリコール、トリメチロールプ
ロパン、ペンタエリスリトール等の多官能アルコールと
のエステルを用いることもできる。アミドとしてはダイ
アセトンアクリルアミドが代表的である。

【００７９】より具体的には、トリメチロールプロパ
ン、ペンタエリスリトール、グリセリン等のアクリル又
はメタクリル酸エステル等の多官能エステルや、トリア
リルシアヌレート、トリアリルイソシアヌレート、フタ
ル酸ジアリル、イソフタル酸ジアリル、マレイン酸ジア
リル等のアリル基含有化合物が挙げられ、これらは１種
を単独で、或いは２種以上を混合して、通常ＥＶＡ１０
０重量部に対して０．１〜２重量部、好ましくは０．５
〜５重量部用いられる。

【００８０】ＥＶＡを光により架橋する場合、上記過酸
化物の代りに光増感剤が通常ＥＶＡ１００重量部に対し
て１０重量部以下、好ましくは０．１〜１０重量部使用
される。

【００８１】この場合、使用可能な光増感剤としては、
例えばベンゾイン、ベンゾフェノン、ベンゾインメチル
エーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソ
プロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ジ
ベンジル、５−ニトロアセナフテン、ヘキサクロロシク
ロペンタジエン、ｐ−ニトロジフェニル、ｐ−ニトロア
ニリン、２，４，６−トリニトロアニリン、１，２−ベ
ンズアントラキノン、３−メチル−１，３−ジアザ−
１，９−ベンズアンスロンなどが挙げられ、これらは１
種を単独で或いは２種以上を混合して用いることができ
る。

【００８２】また、この場合、促進剤としてシランカッ
プリング剤が併用される。このシランカップリング剤と
しては、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス（β
−メトキシエトキシ）シラン、γ−メタクリロキシプロ
ピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラ
ン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ
−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、β−
（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキ
シシラン、γ−クロロプロピルメトキシシラン、ビニル
トリクロロシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキ
シシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ
−β（アミノエチル）−γ−アミノプロピルトリメトキ
シシランなどが挙げられる。

【００８３】これらのシランカップリング剤は通常ＥＶ
Ａ１００重量部に対して０．００１〜１０重量部、好ま
しくは０．００１〜５重量部の割合で１種又は２種以上
が混合使用される。

【００８４】なお、本発明に係る接着層には、その他、
紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、老化防止剤、塗料加工助
剤を少量含んでいてもよく、また、フィルター自体の色
合いを調整するために染料、顔料などの着色剤、カーボ
ンブラック、疎水性シリカ、炭酸カルシウム等の充填剤
を適量配合してもよい。

【００８５】特に、接着用樹脂として、上述のような無
色透明樹脂に顔料を添加して着色した有色透明樹脂より
なるものを用いることにより、前述の如く、青色輝度を
補強するなどして自然な表示を得ることができ、或いは
カラーフィルター等を用いることなく、色純度を向上さ
せ優れた色再現性を得ることができる。

【００８６】この場合、使用される顔料としては、特に
制限はなく、一般的なプラスチック用着色剤などを用い
ることができるが、例えば、黄色酸化鉄、黄鉛、カドミ
ウムイエロー、ファストイエロー、ジスアゾイエロー、
モリブデートオレンジ、ピラゾロンオレンジ、ベンガ
ラ、カドミウムレッド、レーキレッドＣ、ブリリアント
カーミン６Ｂ、キナクリドンレッド、マンガンバイオレ
ット、メチルバイオレットレーキ、ジオキサジンバイオ
レット、群青、紺青、コバルトブルー、ビクトリアブル
ーレーキ、フタロシアニンブルー、クロムグリーン、酸
化クロム、フタロシアニングリーン等の１種を単独で或
いは２種以上を混合して用いることができる。

【００８７】前述の如く、ＰＤＰの発光パネルでは青色
発光が弱く、青色輝度を補強することが望まれる点、及
び色純度向上のため、本発明では、群青、紺青、コバルトブルー、ビクトリアブルーレ
ーキ、フタロシアニンブルーなどの青色顔料の１種又は
２種以上、或いはマンガンバイオレット、メチルバイオ
レットレーキ、ジオキサジンバイオレット等の紫色顔料
との組み合わせ等により青色に着色させる。或いはＲＧＢ各種の色純度を向上するような顔料、クロム
グリーン、酸化クロム、フタロシアニングリーン等の緑
色顔料と紫色又は青色顔料とを混合して配合する。などの方法を採用するのが好ましい。

【００８８】顔料の配合量は、透明性を損なうことな
く、コントラスト等の特性を向上させるために、ＥＶＡ
等のマトリックス樹脂１００重量部に対して０．００１
〜１０重量部とするのが好ましい。

【００８９】なお、このような有色透明樹脂を用いる場
合、電磁波シールド性光透過窓材のすべての接着層が有
色透明樹脂よりなるものであっても良く、また、接着層
の一部のみが有色透明樹脂よりなるものであっても良
い。

【００９０】また、本発明においては、接着性改良の手
段として、シート化された接着フィルム面へのコロナ放
電処理、低温プラズマ処理、電子線照射、紫外光照射な
どの手段も有効である。

【００９１】本発明に係る接着用フィルムは、ＥＶＡ等
の接着樹脂と上述の添加剤とを混合し、押出機、ロール
等で混練した後カレンダー、ロール、Ｔダイ押出、イン
フレーション等の成膜法により所定の形状にシート成形
することにより製造される。成膜に際してはブロッキン
グ防止、透明基板との圧着時の脱気を容易にするためエ
ンボスが付与される。

【００９２】次に、図３を参照して請求項５の電磁波シ
ールド性光透過窓材の実施の形態を詳細に説明する。

【００９３】図３（ａ）〜（ｃ）は請求項５の電磁波シ
ールド性光透過窓材の実施の形態を示す模式的な断面図
である。

【００９４】図３（ａ）の電磁波シールド性光透過窓材
１１は、２枚の透明基板１２Ａ，１２Ｂを、導電性メッ
シュ１３を介在させて接着樹脂１４で接合一体化してな
り、電磁波発生源と反対側に位置する透明基板１２Ａの
表面、即ち、当該窓材１１をＰＤＰの前面フィルタとし
て用いた場合、機器の表面側となる面に、透明導電膜１
５が形成されている。

【００９５】図３（ｂ）の電磁波シールド性光透過窓材
１１Ａは、２枚の透明基板１２Ａ，１２Ｂを、導電性メ
ッシュ１３を介在させて接着樹脂１４で接合一体化して
なり、電磁波発生源と反対側に位置する透明基板１２Ａ
の接着面に、透明導電膜１５が形成されている。

【００９６】図３（ｃ）の電磁波シールド性光透過窓材
１１Ｂは、２枚の透明基板１２Ａ，１２Ｂを、導電性メ
ッシュ１３を介在させて接着樹脂１４で接合一体化して
なり、電磁波発生源側に位置する透明基板１２Ｂの接着
面に、透明導電膜１５が形成されている。

【００９７】なお、図示はしないが、透明導電膜は透明
基板１２Ｂの表面（電磁波発生源側の面）に設けても良
い。

【００９８】また、透明導電膜は、透明基板１２Ａ，１
２Ｂの接着面及び表面のうちの２箇所以上に設けても良
い。

【００９９】透明基板１２Ａ，１２Ｂの構成材料及びそ
の厚さについては、前述の請求項１〜４の電磁波シール
ド性光透過窓材の説明で記述したものと同様のものと採
用することができる。

【０１００】透明導電膜５としては、ＩＴＯ（スズイン
ジウム酸化物）又はＺｎＯ、ＡｌをドープしたＺｎＯ、
ＳｎＯ₂ 等の薄膜を形成することができる。また、銀、
銅等の金属薄膜を薄くコーティングすることでも可視光
透過性を有し、赤外光を反射させるような熱線反射膜も
用いることができる。その膜厚は、要求される電磁波シ
ールド性、光透過性、断熱性によっても異なるが、通常
の場合、金属酸化物薄膜の場合１０Å〜５μｍ程度、金
属薄膜の場合５Å〜３０００Å程度であることが好まし
い。

【０１０１】なお、請求項５の電磁波シールド性光透過
窓材においても、表面側となる透明基板１２Ａに、更
に、シリコン系材料等によるハードコート処理、或いは
ハードコート層内に光散乱材料を練り込んだアンチグレ
ア加工等を施しても良い。また、裏面側となる透明基板
１２Ｂに、ＩＴＯ、ＺｎＯ、銀等の熱線反射コート等を
施して機能性を高めることができる。前述の反射防止膜
や熱線反射性の透明導電膜についても同様である。

【０１０２】透明基板２Ａ，２Ｂに介在させる導電性メ
ッシュ１３としては、金属繊維及び／又は金属被覆有機
繊維よりなる線径１μｍ〜１ｍｍ、開口率５０〜９０％
のものが好ましい。この導電性メッシュにおいて、線径
が１ｍｍを超えると開口率が下がるか、電磁波シールド
性が下がり、両立させることができない。１μｍ未満で
はメッシュとしての強度が下がり、取り扱いが非常に難
しくなる。また、開口率は９０％を超えるとメッシュと
して形状を維持することが難しく、５０％未満では光透
過性が低く、ディスプレイからの光線量が低減されてし
まう。より好ましい線径は１０〜５００μｍ、開口率は
６０〜９０％である。

【０１０３】導電性メッシュの開口率とは、前述の如
く、当該導電性メッシュの投影面積における開口部分が
占める面積割合を言う。

【０１０４】導電性メッシュを構成する金属繊維及び金
属被覆有機繊維の金属としては、請求項１〜４の電磁波
シールド性光透過窓材と同様、銅、ステンレス、アルミ
ニウム、ニッケル、チタン、タングステン、錫、鉛、
鉄、銀、炭素或いはこれらの合金、好ましくは銅、ステ
ンレス、アルミニウムが用いられる。

【０１０５】また、金属被覆有機繊維の有機材料として
も同様に、ポリエステル、ナイロン、塩化ビニリデン、
アラミド、ビニロン、セルロース等が用いられる。

【０１０６】請求項５において、透明基板１２Ａ，１２
Ｂを導電性メッシュ１３を介して接着する接着樹脂４と
しては、前述の請求項１〜４の電磁波シールド性光透過
窓材に用いられる接着樹脂として例示したＥＶＡやＰＶ
Ｂ樹脂等を用いることができ、そのシート化及び接着の
方法や条件についても同様の方法及び条件を採用するこ
とができる。

【０１０７】請求項５の電磁波シールド性光透過窓材
は、透明基板１２Ａ、１２Ｂの必要箇所に予め透明導電
膜１５を形成し、ＥＶＡ等の樹脂に所定量の熱又は光硬
化のための架橋剤を混合してシート化した接着用フィル
ムを２枚用い、この接着用フィルムの間に導電性メッシ
ュを挟んだものを透明基板１２Ａ，１２Ｂ間に介在さ
せ、減圧、加温下に脱気して予備圧着した後、加熱又は
光照射により接着層を硬化させて一体化することにより
容易に製造することができる。

【０１０８】なお、導電性メッシュ１３と接着樹脂１４
とで形成される接着層の厚さは、電磁波シールド性光透
過窓材の用途等によっても異なるが、通常の場合２μｍ
〜２ｍｍ程度とされる。従って、接着用フィルムは、こ
のような厚さの接着層が得られるように、１μｍ〜１ｍ
ｍ厚さに成形される。

【０１０９】このような本発明の電磁波シールド性光透
過窓材は、ＰＤＰの前面フィルタとして、或いは、病院
や研究室等の精密機器設置場所の窓材等として有効に利
用可能である。

【０１１０】

【実施例】以下に実施例及び比較例を挙げて本発明をよ
り具体的に説明する。

【０１１１】なお、実施例及び比較例で用いた接着用フ
ィルムは、次のようにして製造した。

【０１１２】［接着用フィルムの製造］エチレン−酢酸
ビニル共重合体（東洋曹逹社製ウルトラセン６３４：酢
酸ビニル含量２６％、メルトインデックス４）１００重
量部に、１，１−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）−３，
３，５−トリメチルシクロヘキサン（日本油脂社製パー
ヘキサ３Ｍ）１重量部、γ−メタクリロキシプロピルト
リメトキシシラン０．１重量部、ジアリルフタレート２
重量部、及び紫外線吸収剤としてスミソルブ１３０（住
友化学工業社製）０．５重量部とを混合し、４０ｍｍ押
出機にて５００μｍ厚さの両面エンボスの接着用フィル
ムを作製した。

【０１１３】また、透明基板のうち、ガラス板として
は、次のようにして強化処理を施した強化ガラスを用い
た。

【０１１４】［強化ガラスの製造］硝酸亜鉛濃度が０．
５％となるように硝酸亜鉛６水和物Ｚｎ（ＮＯ₃）２・
６Ｈ₂Ｏと硝酸カリウムＫＮＯ₃をステンレス容器に入
れ、３６０℃に加熱して溶融塩とした。縦１０００ｍ
ｍ、横６００ｍｍ、厚み３ｍｍ又は１ｍｍのソーダライ
ムシリカ組成のフロートガラスをこの溶融塩に１時間漬
けてその後除冷して化学強化ガラス板とした。

【０１１５】＜請求項１〜４の電磁波シールド性光透過
窓材の実施例及び比較例＞実施例１〜６、比較例１，２表面側透明基板２Ａとして厚さ３．０ｍｍの強化ガラス
板を用い、裏面側透明基板２Ｂとして厚さ０．１ｍｍの
ＰＥＴシートを用い、これらの間に２枚の接着用フィル
ムに表１に示す導電性メッシュを挟んだものを介在さ
せ、これをゴム袋に入れて真空脱気し、９０℃の温度で
１０分加熱して予備圧着した。その後、この予備圧着体
をオーブン中に入れ、１５０℃の条件下で１５分間加熱
処理し、架橋硬化させて一体化した。

【０１１６】得られた窓材について下記方法により、３
００ＭＨｚにおける電磁波シールド性及び光透過率を調
べ、結果を表１に示した。

【０１１７】＜電磁波シールド性＞ＫＥＣ法（関西電子
工業振興センター）に準拠したアンリツ社製ＥＭＩシー
ルド測定装置（ＭＡ８６０２Ｂ）を用いて電界の減衰測
定を行った。サンプルの大きさは９０ｍｍ×１１０ｍｍ
であった。

【０１１８】＜光透過率（％）＞日立製可視紫外光分光
測定装置（Ｕ−４０００）を用い、３８０ｎｍ〜７８０
ｎｍ間の平均可視光透過率を求めた。

【０１１９】

【表１】

【０１２０】実施例７〜１２、比較例３，４導電性メッシュとして、表２に示す金属被覆有機繊維よ
りなるものを用いたこと以外は実施例１と同様にして電
磁波シールド性光透過窓材を作製し、同様にその性能を
調べ、結果を表２に示した。

【０１２１】

【表２】

【０１２２】実施例１３〜１８導電性メッシュとして、表３に示す導電性複合メッシュ
を用いたこと以外は実施例１と同様にして電磁波シール
ド性光透過窓材を作製し、同様にその性能を調べ、更
に、下記方法によりモアレ現象の有無を調べ、結果を表
３に示した。

【０１２３】＜モアレ現象の有無＞ディスプレイ上に設
置し、画面に干渉縞模様が発生するか否かを目視で観察
した。

【０１２４】

【表３】

【０１２５】＜請求項５の電磁波シールド性光透過窓材
の実施例＞実施例１９〜３０表面側透明基板１２Ａ及び裏面側透明基板１２Ｂとして
表４に示すものを用い、これらの透明基板１２Ａ、１２
Ｂのうちの表５，６に示す部分に表５，６に示す透明導
電膜を形成し、これらの間に２枚の接着用フィルムに表
５，６に示す導電性メッシュを挟んだものを介在させ、
これをゴム袋に入れて真空脱気し、９０℃の温度で１０
分加熱して予備圧着した。その後、この予備圧着体をオ
ーブン中に入れ、１５０℃の条件下で１５分間加熱処理
し、架橋硬化させて一体化した。

【０１２６】得られた窓材について、実施例１と同様に
して３０ＭＨｚ〜３００ＭＨｚにおける電磁波シールド
性及び光透過率を調べると共に、実施例１３と同様にし
てモアレ現象の有無を調べ、結果を表５，６に示した。

【０１２７】

【表４】

【０１２８】

【表５】

【０１２９】

【表６】

【０１３０】実施例３１、比較例５通常のフロートガラスと、上記の化学強化ガラスを用い
て機械的強度試験を行った。図１の構造において透明基
板２Ａを厚さ２ｍｍのフロートガラス板、透明基板２Ｂ
を厚さ１ｍｍのフロートガラス板又は化学強化ガラス板
として、インストロン社製圧縮試験機を用いて３点曲げ
試験を行った。サンプル形状、試験条件を下記に示す。
また、試験結果を表７に示す。サンプル形状：５０ｍｍ×１５０ｍｍ３点曲げスパン：８０ｍｍクロスヘッド速度：２ｍｍ／ｍｉｎサンプル数：ｎ＝５の平均値

【０１３１】

【表７】

【０１３２】表７より、化学強化ガラスを用いることで
破壊応力を向上させることができることがわかる。

【０１３３】以上の結果から、本発明によれば良好な電
磁波シールド性光透過窓材が提供されることがわかる。

【０１３４】

【発明の効果】以上詳述した通り、本発明の電磁波シー
ルド性光透過窓材は、良好な電磁波シールド性と光透過
性を有し、しかもディスプレイのマトリックスとの間に
生じるモアレ現象を低減できる機能を有している。ま
た、透明基板を透明接着剤で強固に接合しているため、
衝撃時に透明基板が割れて飛散することもなく、安全性
に富み、ＰＤＰ用電磁波シールドフィルター等として工
業的に極めて有用である。

【０１３５】しかも透明基板の機械的強度が高く、また
化学的安定性に富むため、高強度で良好な耐候、耐久性
が得られる。

【０１３６】請求項７の電磁波シールド性光透過窓材に
よれば、光透過性を損なうことなく、青色輝度の補強又
は色純度の向上を図ることができ、鮮明な画像を得るこ
とができる。

【０１３７】請求項８の電磁波シールド性光透過窓材に
よれば、反射防止膜の光の干渉作用で光の反射を防止し
て高視野角とすることができる。

【０１３８】請求項９の電磁波シールド性光透過窓材に
よれば、透明導電膜と導電性メッシュとで優れた電磁波
シールド性を得ることができる上に、ＯＡ機器本体から
の熱を反射して、良好な断熱効果を得ることができる。

【０１３９】請求項１０の電磁波シールド性光透過窓材
によれば、接着性等において良好な性能を得ることがで
きる。

【図面の簡単な説明】

【図１】請求項１〜４の電磁波シールド性光透過窓材の
実施の形態を示す模式的な断面図である。

【図２】請求項３，４に係る複合メッシュの繊維を拡大
して示す模式図である。

【図３】請求項５の電磁波シールド性光透過窓材の実施
の形態を示す模式的な断面図である。

【符号の説明】

１，１１，１１Ａ，１１Ｂ電磁波シールド性光透過窓
材２Ａ，２Ｂ，１２Ａ，１２Ｂ透明基板３，１３導電性メッシュ４，１４接着樹脂５導電性複合メッシュ１５透明導電膜

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者森村泰大東京都小平市小川東町３−１−１株式会社ブリヂストン技術センター内Ｆターム(参考） 2F078 HA13 5E321 AA04 BB25 BB41 CC16 GG05 GH01

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】２枚の透明基板間に導電性メッシュを介
在させて、接着樹脂で接合一体化してなる電磁波シール
ド性光透過窓材において、該導電性メッシュは、線径１〜２００μｍ、開口率３０
〜９９．９％の金属繊維よりなるメッシュであり、該２
枚の透明基板のうちの少なくとも一方は強化ガラスより
なることを特徴とする電磁波シールド性光透過窓材。
【請求項２】２枚の透明基板間に導電性メッシュを介
在させて、接着樹脂で接合一体化してなる電磁波シール
ド性光透過窓材において、該導電性メッシュは、線径１〜２００μｍ、開口率３０
〜９９．９％の、金属被覆有機繊維よりなるメッシュで
あり、該２枚の透明基板のうちの少なくとも一方は強化
ガラスよりなることを特徴とする電磁波シールド性光透
過窓材。
【請求項３】２枚の透明基板間に導電性メッシュを介
在させて、接着樹脂で接合一体化してなる電磁波シール
ド性光透過窓材において、該導電性メッシュは、金属繊維及び／又は金属被覆有機
繊維と有機繊維とを織り込んだ複合メッシュであり、該
２枚の透明基板のうちの少なくとも一方は強化ガラスよ
りなることを特徴とする電磁波シールド性光透過窓材。
【請求項４】請求項３において、該導電性メッシュ
は、線径１〜２００μｍ、開口率３０〜９９．９％であ
ることを特徴とする電磁波シールド性光透過窓材。
【請求項５】２枚の透明基板間に導電性メッシュを介
在させて、接着樹脂で接合一体化してなる電磁波シール
ド性光透過窓材において、該２枚の透明基板のうちの少なくとも一方の透明基板の
片面又は両面に、透明導電膜が形成されており、該一方
の透明基板及び／又は他方の透明基板は強化ガラスより
なることを特徴とする電磁波シールド性光透過窓材。
【請求項６】請求項１ないし５のいずれか１項におい
て、該強化ガラスは化学強化ガラスであることを特徴と
する電磁波シールド性光透過窓材。
【請求項７】請求項１ないし６のいずれか１項におい
て、該接着樹脂が有色透明樹脂であることを特徴とする
電磁波シールド性光透過窓材。
【請求項８】請求項１ないし７のいずれか１項におい
て、電磁波発生源側と反対側に位置する透明基板の表面
に、高屈折率透明膜と低屈折率透明膜との積層膜よりな
る反射防止膜が形成されていることを特徴とする電磁波
シールド性光透過窓材。
【請求項９】請求項１ないし８のいずれか１項におい
て、電磁波発生源側に位置する透明基板の表面に、熱線
反射性の透明導電膜が形成されていることを特徴とする
電磁波シールド性光透過窓材。
【請求項１０】請求項１ないし９のいずれか１項にお
いて、該接着樹脂がエチレン−酢酸ビニル共重合体であ
ることを特徴とする電磁波シールド性光透過窓材。