JPH11119666A

JPH11119666A - 表示パネル

Info

Publication number: JPH11119666A
Application number: JP27877797A
Authority: JP
Inventors: Masahito Yoshikawa; 雅人吉川; Yasuhiro Morimura; 泰大森村
Original assignee: Bridgestone Corp
Current assignee: Bridgestone Corp
Priority date: 1997-10-13
Filing date: 1997-10-13
Publication date: 1999-04-30

Abstract

(57)【要約】【課題】ＰＤＰに電磁波シールド材及び熱線カット層
を一体化させることにより表示パネル自体に電磁波シー
ルド性及び熱線カット性等の機能を付与し、表示パネル
の軽量、薄肉化、部品数の低減による生産性の向上及び
コストの低減を図る。【解決手段】ＰＤＰ本体２０の前面に透明弾性接着剤
４Ｂ，４Ｃにより熱線カットフィルム５及び導電性メッ
シュ３を接着し、その前面に透明弾性接着剤４Ａにより
透明基板２を接着する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明はプラズマディスプレ
イパネル（以下「ＰＤＰ」と称す。）を用いたガス放電
型表示パネルに係り、特に、ＰＤＰに電磁波シールド材
を一体化させることにより表示パネル自体に電磁波シー
ルド性等の機能を付与し、表示パネルの軽量、薄肉化、
部品数の低減による生産性の向上及びコストの低減を可
能とした表示パネルに関する。

【０００２】

【従来の技術】放電現像を利用したＰＤＰ（ｐｌａｓｍ
ａｄｉｓｐｌａｙｐａｎｅｌ）は、液晶ディスプレ
イ（ＬＣＤ）やブラウン管（ＣＲＴ）に比べて、次のよ
うな利点を有することから、近年、テレビやパソコン、
ワープロ等のＯＡ機器、交通機器、看板、その他の表示
板等の表示パネルとして研究開発及び実用化が進められ
ている。放電光利用であり自発光である。０．１〜０．３ｍｍの放電ギャップであるのでパネ
ル型にできる。螢光体を利用してカラー発光できる。大画面パネルが作り易い。

【０００３】ＰＤＰの基本的な表示機構は、２枚のガラ
ス板間に隔成した多数の放電セル内の螢光体を選択的に
放電発光させることで文字や図形を表示するものであ
り、例えば、図２に示すような構成とされている。図２
において２１は前面板（フロントガラス）、２２は背面
板（リヤガラス）、２３は隔壁、２４は表示セル（放電
セル）、２５は補助セル、２６は陰極、２７は表示陽
極、２８は補助陽極であり、各表示セル２４の内壁に
は、赤色螢光体、緑色螢光体又は青色螢光体（図示せ
ず。）が膜状に設けられ、これらの螢光体が電極間に印
加された電圧による放電で発光する。

【０００４】ＰＤＰの前面からは、電圧印加、放電、発
光により、周波数：数ｋＨｚ〜数ＧＨｚ程度の電磁波が
発生するため、これを遮蔽する必要がある。また、表示
コントラスト向上のためには、前面における外部光の反
射を防止する必要がある。更に、機器の本体側からの熱
で画面が過熱するという問題もあった。

【０００５】このため、従来においては、ＰＤＰからの
電磁波等を遮蔽するために、電磁波シールド性等の機能
を有する透明板をＰＤＰの前面に配置している。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】ＰＤＰと別体の透明板
をＰＤＰの前面に設けたものでは、次のような欠点があ
る。２つの板材を配置するため構造が複雑となる。ＰＤＰにも電磁波シールド性の透明板にも、ガラス
等の透明基板を必要とするため、ＰＤＰと電磁波シール
ド性の透明板とを設けることで厚肉となり、また、重量
が重くなる。部品点数、生産工程数が増え、コストアップを招
く。

【０００７】本発明は上記従来の問題点を解決し、ＰＤ
Ｐに電磁波シールド材を一体化させることにより表示パ
ネル自体に電磁波シールド性等の機能を付与し、表示パ
ネルの軽量、薄肉化、部品数の低減による生産性の向上
及びコストの低減を可能とした表示パネルを提供するこ
とを目的とする。

【０００８】本発明はまた、電磁波シールド性と共に、
熱線カット性を兼備する表示パネルを提供することを目
的とする。

【０００９】

【課題を解決するための手段】本発明の表示パネルは、
プラズマディスプレイパネル本体と、該プラズマディス
プレイパネル本体の前面に透明接着剤により接着された
電磁波シールド材と、該電磁波シールド材の前面に透明
接着剤により接着された透明基板とを備えてなる表示パ
ネルであって、該透明基板とプラズマディスプレイパネ
ル本体との間に、更に、熱線カット層が設けられている
ことを特徴とする。

【００１０】本発明の表示パネルは、ＰＤＰと電磁波シ
ールド材、熱線カット層及び透明基板とが透明接着剤で
一体化されているため、表示パネルの軽量、薄肉化、部
品数の低減による生産性の向上及びコストの低減を図る
ことができる。

【００１１】特に、本発明では、電磁波シールド材と共
に熱線カット層を積層一体化しているため、電磁波シー
ルド性のみならず、良好な熱線（近赤外線）カット性を
得ることができる。

【００１２】また、ＰＤＰ本体と透明基板との接着一体
化に通常の接着剤を用いると、衝撃等で表示パネルが破
損した場合、破片が飛散し、安全性の面で問題となる
が、透明接着剤として透明弾性接着剤を用いることによ
り、衝撃等で表示パネルが破損した場合の破片の飛散を
防止することができ、安全性が高められる。

【００１３】

【発明の実施の形態】以下に図面を参照して本発明の実
施の形態を詳細に説明する。

【００１４】図１は本発明の表示パネルの実施の形態を
示す模式的な断面図である。

【００１５】この表示パネル１は、透明基板２とＰＤＰ
本体２０（このＰＤＰ本体としては図２に示す構成、そ
の他の一般的なＰＤＰ本体を適用できる。）の間に、接
着剤となる接着用中間膜４Ａ，４Ｂ，４Ｃを用いて、導
電性メッシュ３と熱線カットフィルム５を積層させて接
着一体化し、透明基板２の周縁部からはみ出した導電性
メッシュ３の周縁部を透明基板２の周縁に沿って折り込
むと共に、導電性粘着テープ７で透明基板２に貼り付け
たものである。

【００１６】本実施の形態において、導電性粘着テープ
７は、透明基板２，導電性メッシュ３，熱線カットフィ
ルム５及びＰＤＰ本体２０の積層体の全周において、端
面の全体に付着すると共に、この積層体の表裏の角縁を
回り込み、透明基板２の板面の端縁部とＰＤＰ本体２０
の背面板の板面の端縁部の双方にも付着している。

【００１７】導電性粘着テープ７は、例えば、金属箔７
Ａの一方の面に導電性の粘着層７Ｂを形成してなるもの
である。導電性粘着テープ７の金属箔７Ａとしては、厚
さ１〜１００μｍ程度の銅、銀、ニッケル、アルミニウ
ム、ステンレス等の箔を用いることができる。

【００１８】また、導電性の粘着層７Ｂは、導電性粒子
を分散させた接着剤をこのような金属箔７Ａの一方の面
に塗工して形成される。

【００１９】この接着剤としては、エポキシ系又はフェ
ノール系樹脂に硬化剤を配合したもの、或いは、アクリ
ル系粘着剤、ゴム系粘着剤、シリコン系粘着剤などを用
いることができる。

【００２０】接着剤に分散させる導電性粒子としては、
電気的に良好な導体であれば良く、種々のものを使用す
ることができる。例えば、銅、銀、ニッケル等の金属粉
体、酸化錫、インジウム錫酸化物、酸化亜鉛等の金属酸
化物粉体、このような金属又は金属酸化物で被覆された
樹脂又はセラミック粉体等を使用することができる。ま
た、その形状についても特に制限はなく、りん片状、樹
枝状、粒状、ペレット状、球状、星状、こんぺい糖状
（多数の突起を有する粒状）等の任意の形状をとること
ができる。

【００２１】この導電性粒子の配合量は、接着剤に対し
０．１〜１５容量％であることが好ましく、また、その
平均粒径は０．１〜１００μｍであることが好ましい。

【００２２】粘着層７Ｂの厚さは、通常の場合、５〜１
００μｍ程度である。

【００２３】透明基板２の構成材料としては、ガラス、
ポリエステル、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥ
Ｔ）、ポリブチレンテレフタレート、ポリメチルメタア
クリレート（ＰＭＭＡ）、アクリル板、ポリカーボネー
ト（ＰＣ）、ポリスチレン、トリアセテートフィルム、
ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニ
リデン、ポリエチレン、エチレン−酢酸ビニル共重合
体、ポリビニルブチラール、金属イオン架橋エチレン−
メタアクリル酸共重合体、ポリウレタン、セロファン
等、好ましくは、ガラス、ＰＥＴ、ＰＣ、ＰＭＭＡが挙
げられる。

【００２４】透明基板２の厚さは得られる表示パネルの
用途による要求特性（例えば、強度、軽量性）等によっ
て適宜決定されるが、通常の場合、０．１〜１０ｍｍの
範囲とされる。

【００２５】この透明基板２の表面に反射防止膜６が形
成されている。この透明基板２の表面側に形成される反
射防止膜６としては、高屈折率透明膜と低屈折率透明膜
との積層膜、例えば、次のような積層構造の積層膜が挙
げられる。

【００２６】（ａ）高屈折率透明膜と低屈折率透明膜
を１層ずつ合計２層に積層したもの（ｂ）高屈折率透明膜と低屈折率透明膜を２層ずつ交
互に合計４層積層したもの（ｃ）中屈折率透明膜／高屈折率透明膜／低屈折率透
明膜の順で１層ずつ、合計３層に積層したもの（ｄ）高屈折率透明膜／低屈折率透明膜の順で各層を
交互に３層ずつ、合計６層に積層したもの高屈折率透明膜としては、ＩＴＯ（スズインジウム酸化
物）又はＺｎＯ、ＡｌをドープしたＺｎＯ、ＴｉＯ₂、
ＳｎＯ₂、ＺｒＯ等の屈折率１．８以上の薄膜、好まし
くは透明導電性の薄膜を形成することができる。また、
低屈折率透明膜としてはＳｉＯ₂、ＭｇＦ₂、Ａｌ₂Ｏ
₃等の屈折率が１．６以下の低屈折率材料よりなる薄膜
を形成することができる。これらの膜厚は光の干渉で可
視光領域での反射率を下げるため、膜構成、膜種、中心
波長により異なってくるが４層構造の場合、透明基板側
の第１層（高屈折率透明膜）が５〜５０ｎｍ、第２層
（低屈折率透明膜）が５〜５０ｎｍ、第３層（高屈折率
透明膜）が５０〜１００ｎｍ、第４層（低屈折率透明
膜）が５０〜１５０ｎｍ程度の膜厚で形成される。

【００２７】また、このような反射防止膜６の上に更に
汚染防止膜を形成して、表面の耐汚染性を高めるように
しても良い。この場合、汚染防止膜としては、フッ素系
薄膜、シリコン系薄膜等よりなる膜厚１〜１０００ｎｍ
程度の薄膜が好ましい。

【００２８】表面側となる透明基板２には、更に、シリ
コン系材料等によるハードコート処理、或いはハードコ
ート層内に光散乱材料を練り込んだアンチグレア加工等
を施しても良い。

【００２９】導電性メッシュ３としては、金属繊維及び
／又は金属被覆有機繊維よりなる線径１μｍ〜１ｍｍ、
開口率５０〜９０％のものが好ましい。この導電性メッ
シュにおいて、線径が１ｍｍを超えると開口率が下がる
か、電磁波シールド性が下がり、両立させることができ
ない。１μｍ未満ではメッシュとしての強度が下がり、
取り扱いが非常に難しくなる。また、開口率は９０％を
超えるとメッシュとして形状を維持することが難しく、
５０％未満では光透過性が低く、ディスプレイからの光
線量が低減されてしまう。より好ましい線径は１０〜５
００μｍ、開口率は６０〜９０％である。

【００３０】導電性メッシュの開口率とは、当該導電性
メッシュの投影面積における開口部分が占める面積割合
を言う。

【００３１】導電性メッシュを構成する金属繊維及び金
属被覆有機繊維の金属としては、銅、ステンレス、アル
ミニウム、ニッケル、チタン、タングステン、錫、鉛、
鉄、銀、クロム、炭素或いはこれらの合金、好ましくは
銅、ステンレス、アルミニウムが用いられる。

【００３２】金属被覆有機繊維の有機材料としては、ポ
リエステル、ナイロン、塩化ビニリデン、アラミド、ビ
ニロン、セルロース等が用いられる。

【００３３】本発明においては、特に、導電性メッシュ
の縁部を折り返すことから、靭性の高い金属被覆有機繊
維よりなる導電性メッシュを用いるのが好ましい。

【００３４】熱線カットフィルム５としては、ベースフ
ィルム上にＺｎＯや銀薄膜等の熱線カットコートを施し
たものを用いることができ、このベースフィルムとして
は、好ましくは、ＰＥＴ、ＰＣ、ＰＭＭＡ等よりなるフ
ィルムを用いることができる。このフィルムは、得られ
る表示パネルの厚さを過度に厚くすることなく、取り扱
い性、耐久性を確保する上で１０μｍ〜２０ｍｍ程度と
するのが好ましい。またこのベースフィルム上に形成さ
れる熱線カットコートの膜厚は、通常の場合、５００〜
５０００Å程度である。

【００３５】熱線カットフィルム５としては、また、ベ
ースフィルム上に、酸化物透明導電膜と金属薄膜とを交
互に積層してなる多層膜を設けたものであっても良い。

【００３６】このベースフィルムとしては、上記と同様
のＰＥＴ、ＰＣ、ＰＭＭＡ等よりなるフィルムを用いる
ことができる。このフィルムは、得られる表示パネルの
厚さを過度に厚くすることなく、取り扱い性、耐久性を
確保する上で１μｍ〜５ｍｍ程度とするのが好ましい。

【００３７】このベースフィルム１１上に形成される酸
化物透明導電膜としては、インジウムスズ酸化物（ＩＴ
Ｏ）、ＺｎＯ、ＡｌをドープしたＺｎＯ、ＳｎＯ₂等の
薄膜を形成することができ、その膜厚は、通常の場合、
５〜５０００Å程度である。

【００３８】また、金属薄膜としては、銀、銅、アルミ
ニウム、ニッケル、金、白金、クロム等の単独膜、真
鍮、ステンレス等の合金膜等の膜を光透過性を損なわな
い薄さで形成することができ、その膜厚は、通常の場
合、２〜２０００Å程度である。

【００３９】これらの酸化物透明導電膜及び金属薄膜の
積層数が少ないと十分な電磁波シールド性及び熱線カッ
ト性が得られず、多過ぎると透明性が損なわれる。好ま
しい積層数は各々１〜２０層、合計で２〜４０層であ
る。

【００４０】これらの酸化物透明導電膜及び金属薄膜
は、スパッタ法や真空蒸着法、イオンプレーティング
法、ＣＶＤ法等、好ましくは膜厚制御が容易なスパッタ
法により、ベースフィルム上に容易に形成することがで
きる。

【００４１】本発明において、透明基板２，導電性メッ
シュ３，熱線カットフィルム５及びＰＤＰ本体２０を接
着する接着樹脂としては、透明で弾性のあるもの、例え
ば、通常、合せガラス用接着剤として用いられているも
のが好ましく、具体的には、エチレン−酢酸ビニル共重
合体、エチレン−アクリル酸メチル共重合体、エチレン
−（メタ）アクリル酸共重合体、エチレン−（メタ）ア
クリル酸エチル共重合体、エチレン−（メタ）アクリル
酸メチル共重合体、金属イオン架橋エチレン−（メタ）
アクリル酸共重合体、部分鹸化エチレン−酢酸ビニル共
重合体、カルボキシル化エチレン−酢酸ビニル共重合
体、エチレン−（メタ）アクリル−無水マレイン酸共重
合体、エチレン−酢酸ビニル−（メタ）アクリレート共
重合体等のエチレン系共重合体が挙げられるが（なお、
「（メタ）アクリル」は「アクリル又はメタクリル」を
示す。）、性能面で最もバランスがとれ、使い易いのは
エチレン−酢酸ビニル共重合体（ＥＶＡ）である。ま
た、耐衝撃性、耐貫通性、接着性、透明性等の点から自
動車用合せガラスで用いられているＰＶＢ樹脂も好適で
ある。

【００４２】ＥＶＡとしては酢酸ビニル含有量が５〜５
０重量％、好ましくは１５〜４０重量％のものが使用さ
れる。酢酸ビニル含有量が５重量％より少ないと耐候性
及び透明性に問題があり、また４０重量％を超すと機械
的性質が著しく低下する上に、成膜が困難となり、フィ
ルム相互のブロッキングが生ずる。

【００４３】架橋剤としては加熱架橋する場合は、有機
過酸化物が適当であり、シート加工温度、架橋温度、貯
蔵安定性等を考慮して選ばれる。使用可能な過酸化物と
しては、例えば２，５−ジメチルヘキサン−２，５−ジ
ハイドロパーオキサイド；２，５−ジメチル−２，５−
ジ（ｔ−ブチルパーオキシ）ヘキサン−３；ジーｔ−ブ
チルパーオキサイド；ｔ−ブチルクミルパーオキサイ
ド；２，５−ジメチル−２，５−ジ（ｔ−ブチルパーオ
キシ）ヘキサン；ジクミルパーオキサイド；α，α’−
ビス（ｔ−ブチルパーオキシイソプロピル）ベンゼン；
ｎ−ブチル−４，４−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）バ
レレート；２，２−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）ブタ
ン；１，１−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）シクロヘキ
サン；１，１−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）−３，
３，５−トリメチルシクロヘキサン；ｔ−ブチルパーオ
キシベンゾエート；ベンゾイルパーオキサイド；第３ブ
チルパーオキシアセテート；２，５−ジメチル−２，５
−ビス（第３ブチルパーオキシ）ヘキシン−３；１，１
−ビス（第３ブチルパーオキシ）−３，３，５−トリメ
チルシクロヘキサン；１，１−ビス（第３ブチルパーオ
キシ）シクロヘキサン；メチルエチルケトンパーオキサ
イド；２，５−ジメチルヘキシル−２，５−ビスパーオ
キシベンゾエート；第３ブチルハイドロパーオキサイ
ド；ｐ−メンタンハイドロパーオキサイド；ｐ−クロル
ベンゾイルパーオキサイド；第３ブチルパーオキシイソ
ブチレート；ヒドロキシヘプチルパーオキサイド；クロ
ルヘキサノンパーオキサイドなどが挙げられる。これら
の過酸化物は１種を単独で又は２種以上を混合して、通
常ＥＶＡ１００重量部に対して、５重量部以下、好まし
くは０．５〜５．０重量部の割合で使用される。

【００４４】有機過酸化物は通常ＥＶＡに対し押出機、
ロールミル等で混練されるが、有機溶媒、可塑剤、ビニ
ルモノマー等に溶解し、ＥＶＡのフィルムに含浸法によ
り添加しても良い。

【００４５】なお、ＥＶＡの物性（機械的強度、光学的
特性、接着性、耐候性、耐白化性、架橋速度など）改良
のために、各種アクリロキシ基又はメタクリロキシ基及
びアリル基含有化合物を添加することができる。この目
的で用いられる化合物としてはアクリル酸又はメタクリ
ル酸誘導体、例えばそのエステル及びアミドが最も一般
的であり、エステル残基としてはメチル、エチル、ドデ
シル、ステアリル、ラウリル等のアルキル基の他、シク
ロヘキシル基、テトラヒドロフルフリル基、アミノエチ
ル基、２−ヒドロキシエチル基、３−ヒドロキシプロピ
ル基、３−クロロ−２−ヒドロキシプロピル基などが挙
げられる。また、エチレングリコール、トリエチレング
リコール、ポリエチレングリコール、トリメチロールプ
ロパン、ペンタエリスリトール等の多官能アルコールと
のエステルを用いることもできる。アミドとしてはダイ
アセトンアクリルアミドが代表的である。

【００４６】より具体的には、トリメチロールプロパ
ン、ペンタエリスリトール、グリセリン等のアクリル又
はメタクリル酸エステル等の多官能エステルや、トリア
リルシアヌレート、トリアリルイソシアヌレート、フタ
ル酸ジアリル、イソフタル酸ジアリル、マレイン酸ジア
リル等のアリル基含有化合物が挙げられ、これらは１種
を単独で或いは２種以上を混合して、通常ＥＶＡ１００
重量部に対して０．１〜２重量部、好ましくは０．５〜
５重量部用いられる。

【００４７】ＥＶＡを光により架橋する場合、上記過酸
化物の代りに光増感剤が通常ＥＶＡ１００重量部に対し
て５重量部以下、好ましくは０．１〜３．０重量部使用
される。

【００４８】この場合、使用可能な光増感剤としては、
例えばベンゾイン、ベンゾフェノン、ベンゾインメチル
エーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソ
プロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ジ
ベンジル、５−ニトロアセナフテン、ヘキサクロロシク
ロペンタジエン、ｐ−ニトロジフェニル、ｐ−ニトロア
ニリン、２，４，６−トリニトロアニリン、１，２−ベ
ンズアントラキノン、３−メチル−１，３−ジアザ−
１，９−ベンズアンスロンなどが挙げられ、これらは１
種を単独で或いは２種以上を混合して用いることができ
る。

【００４９】また、この場合、接着促進剤としてシラン
カップリング剤が併用される。このシランカップリング
剤としては、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス
（β−メトキシエトキシ）シラン、γ−メタクリロキシ
プロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシ
ラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、
γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、β−
（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキ
シシラン、γ−クロロプロピルメトキシシラン、ビニル
トリクロロシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキ
シシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ
−β（アミノエチル）−γ−アミノプロピルトリメトキ
シシランなどが挙げられる。

【００５０】これらのシランカップリング剤は通常ＥＶ
Ａ１００重量部に対して０．００１〜１０重量部、好ま
しくは０．００１〜５重量部の割合で１種又は２種以上
が混合使用される。

【００５１】一方、ＰＶＢ樹脂は、ポリビニルアセター
ル単位が７０〜９５重量％、ポリ酢酸ビニル単位が１〜
１５重量％で、平均重合度が２００〜３０００、好まし
くは３００〜２５００であるものが好ましく、ＰＶＢ樹
脂は可塑剤を含む樹脂組成物として使用される。

【００５２】ＰＶＢ樹脂組成物の可塑剤としては、一塩
基酸エステル、多塩基酸エステル等の有機系可塑剤や燐
酸系可塑剤が挙げられる。

【００５３】一塩基酸エステルとしては、酪酸、イソ酪
酸、カプロン酸、２−エチル酪酸、ヘプタン酸、ｎ−オ
クチル酸、２−エチルヘキシル酸、ペラルゴン酸（ｎ−
ノニル酸）、デシル酸等の有機酸とトリエチレングリコ
ールとの反応によって得られるエステルが好ましく、よ
り好ましくは、トリエチレン−ジ−２−エチルブチレー
ト、トリエチレングリコール−ジ−２−エチルヘキソエ
ート、トリエチレングリコール−ジ−カプロネート、ト
リエチレングリコール−ジ−ｎ−オクトエート等であ
る。なお、上記有機酸とテトラエチレングリコール又は
トリプロピレングリコールとのエステルも使用可能であ
る。

【００５４】多塩基酸エステル系可塑剤としては、例え
ば、アジピン酸、セバチン酸、アゼライン酸等の有機酸
と炭素数４〜８の直鎖状又は分岐状アルコールとのエス
テルが好ましく、より好ましくは、ジブチルセバケー
ト、ジオクチルアゼレート、ジブチルカルビトールアジ
ペート等が挙げられる。

【００５５】燐酸系可塑剤としては、トリブトキシエチ
ルフォスフェート、イソデシルフェニルフォスフェー
ト、トリイソプロピルフォスフェート等が挙げられる。

【００５６】ＰＶＢ樹脂組成物において、可塑剤の量が
少ないと製膜性が低下し、多いと耐熱時の耐久性等が損
なわれるため、ポリビニルブチラール樹脂１００重量部
に対して可塑剤を５〜５０重量部、好ましくは１０〜４
０重量部とする。

【００５７】本発明に係る接着用中間膜の樹脂組成物
は、更に劣化防止のために、安定剤、酸化防止剤、紫外
線吸収剤、赤外線吸収剤、老化防止剤、塗料加工助材、
着色剤等を少量含んでいてもよく、また、場合によって
はカーボンブラック、疎水性シリカ、炭酸カルシウム等
の充填剤を少量含んでも良い。

【００５８】また、接着性改良の手段として、シート化
された接着用中間膜面へのコロナ放電処理、低温プラズ
マ処理、電子線照射、紫外光照射などの手段も有効であ
る。

【００５９】本発明に係る接着用中間膜は、例えば、Ｅ
ＶＡ又はＰＶＢと上述の添加剤とを混合し、押出機、ロ
ール等で混練した後、カレンダー、ロール、Ｔダイ押
出、インフレーション等の成膜法により所定の形状にシ
ート成形することにより製造される。成膜に際してはブ
ロッキング防止、透明基板又はＰＤＰ本体の前面板との
圧着時の脱気を容易にするためエンボスが付与される。

【００６０】図１に示す表示パネル１は、例えば、上記
の如く、シート成形された接着用の中間膜４Ａ，４Ｂ，
４Ｃを用い、この接着用中間膜４Ａ，４Ｂ，４Ｃの間に
各々導電性メッシュ３，熱線カットフィルム５を挟んだ
ものを透明基板２とＰＤＰ本体２０との間に介在させ、
減圧、加温下に脱気して予備圧着した後、加熱又は光照
射により接着層を硬化させて一体化することにより容易
に製造することができる。

【００６１】なお、接着用中間膜４Ａ，４Ｂ，４Ｃは、
接着層の厚さが過度に厚くなることがないように１μｍ
〜１ｍｍ厚さに成形される。また、導電性メッシュ３と
しては、その周縁部が透明基板２の周縁部からはみ出る
ように、透明基板２よりも大面積のものを用いるが、こ
の導電性メッシュ３の大きさは、導電性メッシュの縁部
が透明基板２の表面側に回り込み、透明基板２の表面側
縁部の回り込み幅が３〜２０ｍｍ程度となるような大き
さであることが好ましい。

【００６２】透明基板２，導電性メッシュ３，熱線カッ
トフィルム５及びＰＤＰ本体２０を一体化した後は、導
電性メッシュ３の周縁のはみ出し部分を折り返し、導電
性粘着テープ７を積層体の周囲に周回させて該折り返し
部分を留め付け、用いた導電性粘着テープ７の硬化方法
等に従って加熱圧着するなどして接着固定する。

【００６３】このようにして導電性粘着テープ７を取り
付けた表示パネル１は、筐体に単にはめ込むのみで極め
て簡便かつ容易に筐体に組み込むことができ、同時に、
導電性粘着テープ７を介して導電性メッシュ３と筐体と
の良好な導通をその外周方向に均一にとることができ
る。このため、良好な電磁波シールド効果が得られる。

【００６４】なお、図１に示す表示パネルは本発明の表
示パネルの一例であって、本発明は図示のものに限定さ
れるものではない。例えば、導電性メッシュ３はその全
周縁部において透明基板２からはみ出させて折り返すよ
うにする他、対向する２側縁部においてのみ透明基板２
からはみ出させて折り返すようにしても良い。

【００６５】また、熱線カット層としては、熱線カット
フィルムとして、透明基板とＰＤＰ本体との間に配置す
るほか、ＰＤＰ本体の前面板に直接形成しても良い。ま
た、電磁波シールド層と熱線カット層とを一体化したも
のであっても良い。

【００６６】

【発明の効果】以上詳述した通り、本発明の表示パネル
によれば、ＰＤＰに電磁波シールド材を一体化させるこ
とにより表示パネル自体に電磁波シールド性等の機能を
付与し、表示パネルの軽量、薄肉化、部品数の低減によ
る生産性の向上及びコストの低減を図ることができる。
また、リモコンの誤作動を防止することができる。

【００６７】しかも、本発明の表示パネルでは、熱線カ
ット層も一体化されているため、電磁波シールド性と共
に熱線カット性を得ることができ、ディスプレイ部から
の輻射熱を低減できる。

【００６８】請求項２の表示パネルによれば、破損時の
破片の飛散を防止して、安全性を高めることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の表示パネルの実施の形態を示す模式的
な断面図である。

【図２】一般的なＰＤＰの構成を示す一部切欠斜視図で
ある。

【符号の説明】

１表示パネル２透明基板３導電性メッシュ４Ａ，４Ｂ，４Ｃ中間膜５熱線カットフィルム６反射防止膜７導電性粘着テープ７Ａ金属箔７Ｂ粘着層２０ＰＤＰ本体２１前面板２２背面板２３隔壁２４表示セル２５補助セル２６陰極２７表示陽極２８補助陽極

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】プラズマディスプレイパネル本体と、該
プラズマディスプレイパネル本体の前面に透明接着剤に
より接着された電磁波シールド材と、該電磁波シールド
材の前面に透明接着剤により接着された透明基板とを備
えてなる表示パネルであって、該透明基板とプラズマディスプレイパネル本体との間
に、更に、熱線カット層が設けられていることを特徴と
する表示パネル。
【請求項２】請求項１において、該透明接着剤は透明
弾性接着剤であることを特徴とする表示パネル。