KR20060012265A - 디스플레이 기판용 유리판 - Google Patents

Abstract

황색 착색 문제를 해결한 디스플레이 기판용 유리의 제공을 목적으로 한다.

Ti, Mn, Zn, Y, Nb, La, Ce 및 W 로 이루어지는 군에서 선택된 적어도 1 종 이상을 산화물 환산으로 0.1∼10질량% 함유하는 디스플레이 기판용 유리판.

Description

디스플레이 기판용 유리판{GLASS SHEET FOR DISPLAY SUBSTRATE}

본 발명은, 플라즈마 디스플레이 패널 (PDP), 필드 에미션 디스플레이 (FED) 등으로서 바람직한 디스플레이용 유리 기판, 특히 플로트법에 의해 제조되는 디스플레이용 유리 기판에 관한 것이다.

최근 박형 평판형 가스 방전 표시 패널의 1 종인 PDP 가 특히 대형 플랫 텔레비전 수상기로서 보급되고 있어, 생산량이 증가하고 있다. PDP 는, 전면 유리 기판, 배면 유리 기판 및 격벽에 의해 셀이 구획 형성되어 있고, 셀 중에서 플라즈마 방전을 발생시킴으로써 셀 내벽의 형광체층이 발광하여 화상을 형성한다.

이러한 디스플레이용 유리 기판에는, 대형화가 용이하고, 또한 평탄성과 균질성이 우수한 플로트 판유리가 사용되고 있다. 이 플로트 판유리는, 용융시킨 유리를 용해조로부터 용융 주석 등의 용융 금속이 채워진 플로트 배스 (bath) 의 용융 금속 위로 송출되고, 그 용융 금속 위를 부상하면서 반송되어 판형상 유리로 성형된 후, 그 판형상 유리를 플로트 배스로부터 꺼내고, 서냉 오븐을 통과하여 판유리가 제조되는, 플로트법에 의해 제조된 판유리이다. 이 플로트 판유리는, 그 제조 공정의 플로트 배스의 분위기가 통상 환원 분위기로 유지되어 있기 때문에, 환원 분위기에 노출된 판형상 유리의 표면이 환원되어, 제조된 플로트 판유리 의 표면층은 그 내부와 비교하여 환원도가 높은 층으로 되어 있다.

PDP 용 전면 유리 기판의 표면에는, 통상 ITO (인듐이 도프된 주석 산화물) 등으로 이루어지는 투명 전극이 형성되고, 그 위에 스크린 인쇄법 등에 의해 은 페이스트를 도포한 후 550∼600℃ 에서 소성하여 버스 (bus) 전극 (모선 전극) 이 형성된다.

종래의 플로트 판유리로 이루어지는 유리 기판에 상기 버스 전극 형성 처리를 실시하면, 그 버스 전극 주변의 유리 기판이 황색으로 착색되어 화상 표시의 휘도나 콘트라스트를 저하시킨다는 문제가 생긴다. 이 황색 착색은 다음과 같은 이유에서 일어나고 있는 것으로 생각된다. 즉, 버스 전극으로부터 유리 기판 중에 확산된 Ag 이온이 그 확산층에 존재하는 Fe^{2 ＋}, Sn^{2 ＋} 등에 의해 환원되어 Ag⁰ 이 되고, 이 Ag⁰ 이 응집하여 생성된 콜로이드가 황색 발색을 초래하는 것으로 생각된다.

Fe^{2 ＋}, Sn^{2 ＋} 등은 환원도가 높은 유리에서는 보다 안정적으로 존재하는 것이 알려져 있고, 그 때문에 상기한 이유에서 플로트 판유리에서는 표면 근방에 이들 이온이 보다 많이 존재하고 있다.

플로트 판유리의 표면층에는 상기 용융 주석에 기인하는 Sn 이 침입되어 있으며, 용융 주석과 접촉하고 있는 플로트 판유리 표면, 즉 플로트 판유리의 바닥면의 표면층에는 특히 다량의 Sn 이 침입되어 있다. 이 때문에, 이 바닥면에 대하여 상기 버스 전극 형성 처리를 실시하면, 상기 황색 착색이 보다 현저해진다. 통상적으로는, 용융 주석과 접촉하고 있지 않던 플로트 판유리의 표면, 즉 플로트 판유리의 톱면 (top surface) 에 대하여 상기 버스 전극 형성 처리가 실시되는데, 톱면에도 Fe^{2 ＋}, Sn^{2 ＋} 등이 존재하고 있어 상기 황색 착색의 문제가 발생하는 경우가 있었다.

일본 공개특허공보 평10-255669호에는, 이러한 문제를 피하기 위해, 상기 환원도가 높은 표면층을 연마에 의해 제거한다는 수단이 기재되어 있지만, 대면적의 판유리의 표면을 연마에 의해 제거하는 것은 막대한 시간과 비용을 소비하여, 생산 효율을 현저히 저하시키는 것이 명백하다.

일본 공개특허공보 평11-11975호에는, 유리에 함유되는 Fe₂O₃ 의 농도를 감소시킴으로써 은에 의한 황색 착색을 억제한다는 수단이 기재되어 있지만, Fe₂O₃ 를 감소시키면 유리의 용해성이 저하된다는 문제가 있다.

또한, 일본 공개특허공보 2001-213634호에는, 할로겐종(種)을 유리에 함유시킴으로써 상기 황색 착색을 억제한다는 수단이 기재되어 있지만, 할로겐 함유 기판 유리를 사용하면 PDP 제조 공정에서의 진공 배기 공정에 있어서 탈가스 현상이 발생하여, 디스플레이의 품질을 현저히 저하시킬 우려가 있다.

본 발명은, 상기 황색 착색 문제를 해결하는 디스플레이 기판용 유리판, 특히 플로트법에 의해 성형된 디스플레이 기판용 유리판의 제공을 목적으로 한다.

발명의 개시

본 발명은, Ti, Mn, Zn, Y, Nb, La, Ce 및 W 로 이루어지는 군에서 선택된 적어도 1 종 이상을 산화물 환산으로 0.1∼10질량% 함유하는 것을 특징으로 하는 디스플레이 기판용 유리판을 제공한다.

또한, 본 발명은, 상기 디스플레이 기판용 유리판이, 플로트법에 의해서 성형된 것을 특징으로 하는 디스플레이 기판용 유리판을 제공한다. 그리고, 본 발명은, 유리판의 표면에서부터 50㎛ 깊이의 표면층의 유리의 환원도가 그 표면층보다 내부의 유리의 환원도에 비하여 높은 것을 특징으로 하는 상기 디스플레이 기판용 유리판을 제공한다.

또한, 본 발명은, 상기 디스플레이 기판용 유리판이, 질량% 표시로, 실질적으로 SiO₂ 45∼72%, Al₂O₃ 0∼15%, Li₂O＋Na₂O＋K₂O 6∼24%, MgO＋CaO＋SrO＋BaO 4∼31%, ZrO₂ 0∼10.5%, TiO₂＋MnO₂＋ZnO＋Y₂O₃＋Nb₂O₅＋La₂O₃＋CeO₂＋WO₃ 0.1∼10% 로 이루어지는 유리판인 것을 특징으로 하는 디스플레이 기판용 유리판을 제공한다.

본 발명자들은, 상기한 바와 같이 PDP 나 FED 등의 플랫 패널 디스플레이용 유리 기판으로서, Ti, Mn, Zn, Y, Nb, La, Ce, W 로 이루어지는 군에서 선택된 적어도 1 종을 함유하는 유리판을 사용함으로써 상기 황색 착색 문제를 해결할 수 있음을 발견하였다.

도 1 은 은 소성막을 제거한 예 1, 예 2, 예 5 의 유리판의 흡광도(吸光度) 곡선이다.

발명을 실시하기 위한 최선의 형태

본 발명의 디스플레이 기판용 유리판의 50∼350℃ 에서의 평균 선팽창 계수 (이하, 50∼350℃ 에서의 평균 선팽창 계수를 간단히 팽창 계수라고 한다.) 는, PDP, FED 등의 제조에 사용되는 유리 플릿의 소성체의 팽창 계수와 정합시키기 위해 60×10^-7∼100×10^-7/℃ 인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 70×10^-7∼90×10^-7/℃ 이다.

본 발명의 디스플레이 기판용 유리판의 유리전이점 (Tg) 은, 580℃ 이상인 것이 바람직하다. 이 유리전이점이 580℃ 미만이면 버스 전극 형성 처리시에 Ag 이온이 확산되기 쉬워질 우려가 있다. 유리전이점이 600℃ 이상이면 보다 바람직하다. 이하의 설명에서는 유리전이점을 Tg 로 기재한다.

또한, 본 발명의 디스플레이 기판용 유리판의 20℃ 에 있어서의 비중은 2.9 이하인 것이 바람직하다. 비중이 2.9 를 초과하면 유리 기판이 지나치게 무거워질 우려가 있다. 비중은 보다 바람직하게는 2.8 이하, 더욱 바람직하게는 2.7 이하, 가장 바람직하게는 2.6 이하이다.

본 발명의 디스플레이 기판용 유리판은, 예를 들어 유리 표면의 Fe^{2 +} 의 농도 분포를 측정함으로써 유리 표면의 환원도를 측정할 수 있다. 즉, Fe^{2 +} 는 디피리딜 (dipyridyl) 흡광 광도법에 의해 정량하고, 전체 Fe 이온 즉 Fe^{2 ＋}＋Fe^{3 ＋} 는 ICP 발광 분광 분석법으로 정량하여, Fe^{2 ＋} 량/전체 Fe 이온량 (Fe^{2 ＋}＋Fe^{3 ＋}) 을 구하는 것에 의해 환원도를 측정할 수 있다.

본 발명의 디스플레이 기판용 유리판은, 규산염 유리이고, 필수 성분으로서 SiO₂ 외에, Al₂O₃ 와, Li₂O, Na₂O 및 K₂O 로 이루어지는 군에서 선택되는 1 종 이상과, Ti, Mn, Zn, Y, Nb, La, Ce, W 로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종 이상을 함유한다.

다음으로, 본 발명의 디스플레이 기판용 유리판의 유리 성분과 그 함유량 비율을 질량% 표시 (이하, 간단히 % 로 표기) 하여 설명한다.

본 발명의 디스플레이 기판용 유리판은, 산화물 환산으로 실질적으로, SiO₂ 45∼72%, Al₂O₃ 0∼15%, Li₂O＋Na₂O＋K₂O 6∼24%, BaO 0∼10%, MgO＋CaO＋SrO＋BaO 4∼31%, ZrO₂ 0∼10.5%, TiO₂＋MnO₂＋ZnO＋Y₂O₃＋Nb₂O₅＋La₂O₃＋CeO₂＋WO₃ 0.1∼10% 로 이루어지는 것이 바람직하다.

SiO₂ 는 네트워크 포머이고, 45% 이상 함유하는 것이 바람직하다. SiO₂ 의 함유량은 보다 바람직하게는 50% 이상이고, 더욱 바람직하게는 55% 이상이다. 한편, SiO₂ 의 함유량이 72% 를 초과하면 팽창 계수가 지나치게 작아지기 때문에, 그 함유량은 72% 이하인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 70% 이하이다.

Al₂O₃ 는 Tg 를 높이는 성분이다. Al₂O₃ 의 함유량은, 보다 바람직하게는 2% 이상이고, 더욱 바람직하게는 3% 이상이다. 또한, 그 함유량은 15% 이하인 것이 바람직하다. 한편, Al₂O₃ 의 함유량이 15% 를 초과하면 용융 유리의 점도가 지나치게 높아져, 플로트법에 의한 유리판의 성형이 어려워질 우려가 있다. 이 함유량은 보다 바람직하게는 12% 이하이다.

Li₂O, Na₂O 및 K₂O 는 용융 유리의 점도를 저하시키고, 또 팽창 계수를 크게 하는 성분이다. Li₂O, Na₂O 및 K₂O 군에서 선택되는 적어도 1 종을 함유하는 것이 바람직하다. 이러한 Li₂O, Na₂O 및 K₂O 의 함유량, 즉 Li₂O＋Na₂O＋K₂O 의 합계 비율은 6%∼24% 인 것이 바람직하다. 이들 성분의 함유량의 합계가 6% 미만이면, 팽창 계수를 원하는 범위로 하기가 어려워지거나, 또는 용융 유리의 점도가 지나치게 높아진다. 이들 성분의 합계 함유량은 바람직하게는 7% 이상, 보다 바람직하게는 8% 이상이다. 한편, 상기 함유량의 합계가 24% 를 초과하면, 상기 황색 착색이 강해지거나, 또는 화학적 내구성 및/또는 전기 절연성이 저하된다. 그 함유량의 합계는 바람직하게는 22% 이하, 보다 바람직하게는 20% 이하이다. 또, 이들 3 성분에 의해 황색 착색이 강해지는 것은, Li, Na, K 가 상호 확산에 의해 Ag 이온의 확산을 촉진시키기 때문인 것으로 생각된다.

Ti, Mn, Zn, Y, Nb, La, Ce, W 로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종 이상의 산화물은 은 콜로이드의 생성을 억제하는 성분이고, 이러한 산화물을 적어도 1 종 이상을 함유하는 것이 바람직하다. 이러한 Ti, Mn, Zn, Y, Nb, La, Ce, W 로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종 이상의 산화물의 합계량, 즉 TiO₂＋MnO₂＋ZnO＋Y₂O₃＋Nb₂O₅＋La₂O₃＋CeO₂＋WO₃ 의 합계 비율은 0.1∼10% 인 것이 바람직하다. 바람직하게는, Ti, Mn, Y, Nb, La, Ce, W 로 이루어지는 군 중에서 적어도 1 종 이상의 산화물을 함유하는 것이 바람직하다. 더욱 바람직하게는, Mn, Y, Nb, Ce, W 로 이루어지는 군 중에서 적어도 1 종 이상의 산화물을 함유하는 것이 바람직하다. 특히 바람직하게는 Mn, Y, Nb, W 로 이루어지는 군 중에서 적어도 1 종 이상의 산화물을 함유하는 것이 바람직하다. 가장 바람직하게는 Y 의 산화물을 함유하는 것이 바람직하다. 이들 성분의 함유량의 합계 비율이 0.1% 미만이면 은 콜로이드에 의한 황색 착색을 억제할 수 없다는 우려가 있다. 이들 성분의 합계 함유량은, 보다 바람직하게는 0.3% 이상, 더욱 바람직하게는 0.5% 이상, 특히 바람직하게는 0.8% 이상이다. 한편, 상기 함유량의 합계가 10% 를 초과하면, 유리 용해용 원료 중의 이들 성분의 양이 지나치게 많아지고, 그 결과 유리의 용해성이 악화될 우려가 있다. 상기 함유량의 합계는, 바람직하게는 10% 이하, 보다 바람직하게는 7% 이하, 특히 바람직하게는 5% 이하이다.

MgO, CaO, SrO 및 BaO 는 어느 것도 필수적이지는 않지만, 용융 유리의 점도를 저하시키는 효과가 있다. MgO, CaO, SrO 및 BaO 의 군에서 선택되는 적어도 1 종을 함유하는 것이 바람직하다. 이러한 MgO, CaO, SrO 및 BaO 의 함유량, 즉 MgO＋CaO＋SrO＋BaO 의 합계 비율은 4∼31% 인 것이 바람직하다. 이러한 성분이 지나치게 많으면 비중이 지나치게 커지기 때문에, MgO, CaO, SrO 및 BaO 의 함유량의 합계 비율은 31% 이하인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 27% 이하, 특히 바람직하게는 25% 이하이다. 한편, 상기 함유량의 합계 비율은 5% 이상인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 8% 이상, 특히 바람직하게는 10% 이상이다.

ZrO₂ 는 필수적이지는 않지만, Tg 을 높게 하기 위해서 10% 까지 함유해도 된다. ZrO₂ 의 함유량이 10% 를 초과하면 비중이 지나치게 커질 우려가 있다. 이 함유량은 바람직하게는 7% 이하, 보다 바람직하게는 4% 이하이다.

바람직한 양태의 본 발명의 디스플레이 기판용 유리판의 유리는 실질적으로 상기 성분으로 이루어지지만, 본 발명의 목적을 손상시키지 않는 범위에서 다른 성분을 함유해도 된다. 이들 다른 성분의 함유량의 합계 비율은 20% 이하인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 10% 이하, 특히 바람직하게는 5% 이하이다. 상기 다른 성분을 이하에 예시한다.

유리를 착색시키기 위해 Fe₂O₃, NiO, CoO 등의 착색 성분을 함유해도 된다. 이들 착색 성분의 함유량의 합계 비율은 1% 이하인 것이 바람직하다. 유리의 용해성, 청징성 (淸澄性), 성형성을 개선시키는 성분인 SO₃, Cl, F, SnO₂, As₂O₃, Sb₂O₃ 등을 함유해도 된다. PDP, FED 용의 디스플레이 기판용 유리판의 경우, 디스플레이 품질이나 유해성 등을 고려하면 SO₃ 가 바람직하다. 이들 성분의 함유량의 합계 비율은 3% 이하인 것이 바람직하다.

PDP, FED 용의 디스플레이 기판용 유리판의 경우, 유리에 할로겐이 함유되어 있으면 PDP, FED 제조 공정에서의 진공 배기 공정에 있어서 탈가스 현상이 발생하 여, 디스플레이의 품질을 현저히 저하시킬 우려가 있으므로, 이 용도에 있어서는 실질적으로 할로겐은 함유하지 않는 것이 바람직하다.

본 발명의 디스플레이 기판용 유리판은, 예를 들어 다음과 같이 하여 제조된다. 목표 조성이 되도록 통상적으로 사용되는 원료를 조합하고, 이것을 용해로 중에서 1500∼1600℃ 로 가열하여 용융한다. 버블링이나 청징제의 첨가 또는 교반 등에 의해 유리를 균질화하고, 주지의 플로트법에 의해 소정 판두께로 성형하고, 서냉 후 소정 치수로 절단하여 유리 기판을 얻는다. 물론, 플로트법 이외의 판유리 성형 방법으로 판유리를 제조해도 된다.

PDP 의 전면 유리 기판에 있어서는, 상기한 바와 같이 버스 전극으로부터 유리 기판 중에 확산된 Ag 이온이, 그 확산층에 존재하는 Fe^{2 ＋}, Sn^{2 ＋} 등에 의해 환원되어 Ag⁰ 이 되고, 이 Ag⁰ 이 응집하여 생성된 콜로이드가 황색 발색을 초래하는 것으로 생각된다. 플로트 판유리의 표면에는, 플로트법의 제조 공정에서 판형상 유리의 표면이 환원성 분위기에 노출되기 때문에 Fe^{2 ＋}, Sn^{2 ＋} 등의 이온이 보다 많이 존재하고 있다. 이 때문에, 황색 착색은 환원도가 높은 층에 있어서 보다 강하게 발현되므로, 플로트 판유리에 있어서 그 층의 두께 (깊이) 는 얇은 것이 바람직하다. 구체적으로는, 이 층의 두께는 유리판의 표면에서부터 50㎛ 이하인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 30㎛ 이하, 가장 바람직하게는 25㎛ 이하이다. 이러한 유리판의 표면에서부터 50㎛ 이하, 30㎛ 이하, 25㎛ 이하의 층 내에서는, 해당 표면층의 유리의 환원도가 그 표면층보다 내부의 유리의 환원도와 비교하여 높아져 있다. 이것은, 플로트법 이외의 판유리 제조 방법에 의한 유리판이라도, 표면측 유리의 환원도가 내부의 유리의 환원도보다 높은 유리판이면 동일하다.

본 발명에 있어서는, 디스플레이 기판용 유리판에 Ti, Mn, Zn, Y, Nb, La, Ce, W 로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종 이상의 산화물이 함유되어 있다. 이들 산화물은 은 콜로이드의 생성을 억제하는 작용이 있기 때문에, 본 발명의 디스플레이 기판용 유리판은 특히 황색 착색이 발생하기 쉬운, PDP 용의 전면 유리 기판용 유리판으로서 유용하게 사용할 수 있다. 또한, 본 발명의 디스플레이 기판용 유리판은, 특히 FED 용의 전면 유리 기판용 유리판으로도 유용하게 사용할 수 있다. 또한, 기타 디스플레이용의 전면 유리 기판용 유리판으로서 유용하게 사용할 수 있다.

표 1 의 SiO₂ 내지 TiO₂ 까지의 난에 질량% 표시로 나타낸 조성이 되도록 원료를 조합하고, 백금 도가니를 사용하여 1550∼1600℃ 에서 용해하였다. 이어서 용융 유리를 흘려 보내어 판형상으로 성형한 후, 서냉하여 9 종류의 유리판을 얻었다. 이 각 유리판으로부터 경면 연마된 두께 2.8㎜ 의 유리판을 제작하였다. 이 유리판에 관해서, 아르키메데스법에 의해 비중을 측정하여, 시차 열팽창계에 의해 팽창 계수 (단위: 10^-7/℃) 를 측정하고, 또 시차 열팽창계에 의해 얻은 팽창 곡선의 굴곡점으로부터 Tg (단위: ℃) 를 판독하였다. 결과를 표 1 에 나타낸다. 예 1∼4 및 예 6∼8 은 실시예이고, 예 5 및 9 는 비교예이다.

이 유리판을 사용하여 플로트법에 의해 성형된 유리판, 즉 플로트 판유리를 모의(模擬)하기 위해 이하와 같이 환원 열처리하였다. 상기 경면 연마된 두께 2.8㎜ 의 각 유리판을, 체적 백분율 표시로 수소 10%, 질소 90% 로 이루어지는 환원 분위기 중에서 725℃ 까지 90분 동안 승온하였다. 상기 분위기 중에서 725℃ 에서 5 시간 유지 후, 실온까지 냉각하였다.

예 1∼5 의 유리판에 관해서 디피리딜 흡광 광도법 및 ICP 발광 분광 분석법을 사용하여 유리 표면의 Fe^{2 +} 의 농도 분포를 조사하고, 유리판의 두께 방향의 환원도를 조사하면, 유리 표면에서부터 0∼25㎛ 의 깊이에서는 76%, 26∼50㎛ 의 깊이에서는 57%, 51∼85㎛ 의 깊이에서는 24% 이고, 유리 내부와 비교하여 환원도가 높은 층이 유리 표면에서 약 50㎛ 깊이의 표면층까지 존재하는 것을 알 수 있다.

환원 열처리한 각 유리판의 한쪽 면에, 대기 중에서 은 페이스트 (후지쿠라화성사 제조, 상품명: 도타이트 D-550) 를 도포하였다. 다음으로, 마찬가지로 대기 중에서 200℃/hr 의 승온 속도로 580℃ 까지 승온 후 580℃ 에서 1 시간 유지하여 소성하였다. 그 후, 60℃/hr 의 강온 (降溫) 속도로 냉각하였다.

다음으로, 상기 소성한 유리판 상의 은 소성막을 중량백분율 표시 농도가 20% 인 질산에 의해 제거하였다.

상기 두께 2.8㎜ 인 유리판의 은 소성 처리 전후에 대해 각각 흡광도를, 자기 분광 광도계 (히타치제작소 제조, 상품명: U-3500) 에 의해 측정하였다.

은 소성 처리 후의 각 샘플의 흡광도값으로부터 JIS Z 8729 (1994년) 에 기재된 방법에 의해 b* 의 값을 구하여, 황색 착색도를 평가하였다. 실시예 1∼4 의 b* 는 각각 4.9, 3.5, 6.7, 7.2 이고, 비교예 5 의 b* 는 8.3 으로, 실시예 1∼4 의 b* 가 비교예 5 에 비하여 작아, 황색 착색을 억제할 수 있었다. 또한 마찬가지로 실시예 6∼8 의 b* 는 비교예 9 에 비하여 작아, 황색 착색이 억제된다. 황색 착색을 억제하는 효과는 Y₂O₃ 이 가장 높다.

예 1, 예 2,예 5 에 관해서, 상기 은 소성 처리 전후의 흡광도의 차를 산출한 결과를 도 1 에 나타낸다.

410㎚ 부근에서의 흡수 피크는 은 콜로이드에 의한 것으로, 도 1 에서도 알 수 있듯이 예 1, 2 의 흡수 피크는 예 5 와 비교하여 작아, 황색 착색이 현저하게 억제되어 있다.

본 발명의 디스플레이용 유리 기판은, PDP 나 FED 의 제조 과정에서 그 디스플레이용 유리 기판에 은 페이스트를 도포하여 소성하더라도 은 페이스트의 도포 부분에 은에 의한 황색 착색이 일어나지 않거나, 또는 황색 착색이 적다는 효과를 가지고 있다. 이 유리 기판을 사용한 PDP, FED 등의 플랫 패널 디스플레이에서는 황색 착색이 없는 고품질의 화상이 얻어지므로 유용하다.

Claims (9)

1. Ti, Mn, Zn, Y, Nb, La, Ce 및 W 로 이루어지는 군에서 선택된 적어도 1 종 이상을, 산화물 환산으로 0.1∼10질량% 함유하는 것을 특징으로 하는 디스플레이 기판용 유리판.
2. 제 1 항에 있어서, Mn, Y, Nb, Ce 및 W 로 이루어지는 군에서 선택된 적어도 1 종 이상을, 산화물 환산으로 0.1∼10질량% 함유하는 것을 특징으로 하는 디스플레이 기판용 유리판.
3. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, Mn, Y, Nb 및 W 로 이루어지는 군에서 선택된 적어도 1 종 이상을, 산화물 환산으로 0.1∼10질량% 함유하는 것을 특징으로 하는 디스플레이 기판용 유리판.
4. 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 기재된 디스플레이 기판용 유리판은, 플로트법에 의해서 성형된 유리판인 것을 특징으로 하는 디스플레이 기판용 유리판.
5. 제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 기재된 디스플레이 기판용 유리판은, 규산염 유리이고, Li₂O, Na₂O 및 K₂O 로 이루어지는 군에서 선택된 적어도 1 종 이상을 합계량으로 6∼24질량% 함유하는 것을 특징으로 하는 디스플레이 기판용 유리판.
6. 제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 있어서, 유리전이점이 580℃ 이상인 것을 특징으로 하는 디스플레이 기판용 유리판.
7. 제 1 항 내지 제 6 항 중 어느 한 항에 있어서, 유리판의 표면에서부터 50㎛ 깊이의 표면층의 유리의 환원도가, 그 표면층보다 내부의 유리의 환원도에 비하여 높은 것을 특징으로 하는 디스플레이 기판용 유리판.
8. 제 1 항 내지 제 7 항 중 어느 한 항에 기재된 디스플레이 기판용 유리판은, 질량% 표시로, 실질적으로 SiO₂ 45∼72%, Al₂O₃ 0∼15%, Li₂O＋Na₂O＋K₂O 6∼24%, MgO＋CaO＋SrO＋BaO 4∼31%, ZrO₂ 0∼10.5%, TiO₂＋MnO₂＋ZnO＋Y₂O₃＋Nb₂O₅＋La₂O₃＋CeO₂＋WO₃ 0.1∼10% 로 이루어지는 유리판인 것을 특징으로 하는 디스플레이 기판용 유리판.
9. 제 1 항 내지 제 8 항 중 어느 한 항에 기재된 디스플레이 기판용 유리판은, PDP 용 또는 FED 용의 디스플레이 기판용 유리판인 것을 특징으로 하는 디스플레이 기판용 유리판.

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