JP2001213634A - ディスプレイ基板用フロートガラス - Google Patents

ディスプレイ基板用フロートガラス

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JP2001213634A
JP2001213634A JP2000022351A JP2000022351A JP2001213634A JP 2001213634 A JP2001213634 A JP 2001213634A JP 2000022351 A JP2000022351 A JP 2000022351A JP 2000022351 A JP2000022351 A JP 2000022351A JP 2001213634 A JP2001213634 A JP 2001213634A
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JP
Japan
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glass
mol
display
substrate
float
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JP2000022351A
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English (en)
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Moriteru Ohara
盛輝 大原
Takashi Maeda
敬 前田
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AGC Inc
Original Assignee
Asahi Glass Co Ltd
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Publication date
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C3/00Glass compositions
    • C03C3/04Glass compositions containing silica
    • C03C3/076Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
    • C03C3/11Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing halogen or nitrogen

Abstract

(57)【要約】 【課題】黄色着色問題を解決するディスプレイ基板用フ
ロートガラスの提供。 【解決手段】Li2O、Na2OおよびK2Oの含有量
の合計が7.5〜20モル%、Al23の含有量が1.
5モル%以上、BaOの含有量が0〜3.5モル%であ
るケイ酸塩ガラスをフロート法によって板状に成形した
板ガラスであって、F、Cl、BrおよびIからなる群
から選ばれた1種以上を含有するディスプレイ基板用フ
ロートガラス。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、プラズマディスプ
レイパネル(PDP)、フィールドエミッションディス
プレイ(FED)、等のディスプレイ用ガラス基板に好
適なフロートガラスに関する。
【0002】
【従来の技術】近年、フラットパネルディスプレイ、特
に薄型平板型ガス放電表示パネルの1種であるPDPが
注目を集め、精力的に開発されている。PDPは、前面
ガラス基板、背面ガラス基板および隔壁によりセルが区
画形成されており、セル中でプラズマ放電を発生させる
ことによりセル内壁の蛍光体層が発光し画像を形成す
る。
【0003】ガラス基板には、大型化が容易であり、か
つ平坦性・均質性に優れるフロートガラス(溶融スズの
上で溶融ガラスを浮上搬送しながら板状に成形した板状
ガラス)が使用されている。
【0004】PDP用前面ガラス基板の表面にはITO
(インジウムがドープされたスズ酸化物)からなる透明
電極が形成され、その上にスクリーン印刷法により銀ペ
ーストを塗布後550〜600℃で焼成してバス電極
(母線電極)が形成される。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】従来のフロートガラス
からなるガラス基板に前記バス電極形成処理を行うと、
ガラス基板が黄色に着色し品質低下問題が起ることがあ
った。この黄色着色は次のようにして起っているものと
考えられる。すなわち、ガラス基板表面からガラス基板
内部に拡散したAgイオンが、その拡散層に存在するF
e2+、Sn2+、等によって還元されてAg0とな
り、このAg0が凝集して生成したコロイドが黄色発色
をもたらしていると考えられる。
【0006】フロートガラスの表面層には前記溶融スズ
に起因するSnが侵入しているが、、溶融スズと接触し
ていたフロートガラス表面、すなわちフロートガラスボ
トム面の表面層には特に多量のSnが侵入している。そ
のため、このボトム面に対して前記バス電極形成処理を
行うと、前記黄色着色がより顕著となる。通常は、溶融
スズと接触していなかったフロートガラス表面、すなわ
ちフロートガラストップ面に対して前記バス電極形成処
理が行われるが、トップ面にもFe2+、Sn2+、等
が存在しており、前記黄色着色の問題が発生することが
あった。
【0007】本発明は、前記黄色着色問題を解決するデ
ィスプレイ基板用フロートガラスの提供を目的とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明は、Li2O、N
a2OおよびK2Oの含有量の合計が7.5〜20モル
%、Al23の含有量が1.5モル%以上、BaOの含
有量が0〜3.5モル%であるケイ酸塩ガラスをフロー
ト法によって板状に成形した板ガラスであって、F、C
l、BrおよびIからなる群から選ばれた1種以上を含
有するディスプレイ基板用フロートガラスを提供する。
【0009】また、モル%表示で、実質的に、 SiO2 45〜75、 Al23 1.5〜20、 B23 0〜20、 Li2O+Na2O+K2O 7.5〜20、 BaO 0〜3.5、 MgO+CaO+SrO+BaO 5〜30、 ZrO2 0〜10、 F+Cl+Br+I 0.01〜1、 からなるディスプレイ基板用フロートガラスを提供す
る。
【0010】本発明者は、ハロゲンを含有するディスプ
レイ基板用フロートガラスを用いることにより前記黄色
着色問題を解決できることを見出した。これは次のよう
なメカニズムによるものと考えられる。ガラス中に拡散
してきたAgイオンはハロゲンと反応してハロゲン化銀
となる。その結果、Agイオンがその拡散層に存在する
Fe2+、Sn2+、等によって還元されてAg0とな
ることがなくなり、また、このAg0が凝集して銀コロ
イドを生成することもなくなる。
【0011】
【発明の実施の形態】本発明のディスプレイ基板用フロ
ートガラス(以下本発明のガラスという。)は、PD
P、FED、等のフラットパネルディスプレイのガラス
基板に好適である。
【0012】本発明のガラスの50〜350℃における
平均線膨張係数(以下、50〜350℃における平均線
膨張係数を単に膨張係数という。)は、PDP、FED
等の製造に使用されるガラスフリットの焼成体の膨張係
数と整合させるために、60×10−7〜100×10
−7/℃であることが好ましい。より好ましくは70×
10−7〜90×10−7/℃である。
【0013】本発明のガラスのガラス転移点は580℃
以上であることが好ましい。580℃未満ではバス電極
形成処理時にAgイオンが拡散しやすくなるおそれがあ
る。より好ましくは600℃以上である。以下ではガラ
ス転移点をTgと記す。
【0014】また、本発明のガラスの20℃における比
重は2.8以下であることが好ましい。2.8超ではガ
ラス基板が重くなりすぎるおそれがある。より好ましく
は2.7以下である。
【0015】本発明のガラスはケイ酸塩ガラスであり、
必須成分として、SiO2の他に、Al23と、Li
2O、Na2OおよびK2Oからなる群から選ばれる1種
以上と、F、Cl、BrおよびIからなる群から選ばれ
る1種以上とを含有する。
【0016】次に、本発明のガラスの成分とその含有量
について、モル%を単に%と表記して説明する。SiO
2はネットワークフォーマであり、45%以上含有する
ことが好ましい。より好ましくは50%以上である。ま
た、その含有量は75%以下であることが好ましい。よ
り好ましくは70%以下である。
【0017】Al23はTgを高くする成分である。
1.5%未満ではTgが低くなりすぎる。好ましくは5
%以上である。また、その含有量は20%以下であるこ
とが好ましい。20%超では、溶融ガラスの粘度が高く
なりすぎフロート法による成形が困難になるおそれがあ
る。より好ましくは16%以下である。
【0018】Li2O、Na2OおよびK2Oは溶融ガラ
スの粘度を低下させ、また膨張係数を大きくする成分で
ある。これら3成分の含有量の合計が7.5%未満で
は、膨張係数を所望の範囲にすることが困難になる、ま
たは溶融ガラスの粘度が高くなりすぎる。好ましくは9
%以上、より好ましくは10%以上である。前記含有量
の合計が20%超では、前記黄色着色が強くなる、また
は、化学的耐久性および/または電気絶縁性が低下す
る。好ましくは18%以下、より好ましくは15%以下
である。なお、これら3成分によって黄色着色が強くな
るのは、Li、Na、Kが相互拡散によってAgイオン
の拡散を促進するためであると考えられる。
【0019】BaOは必須成分ではないが、溶融ガラス
の粘度を低下させるために3.5%まで含有してもよ
い。3.5%超では比重が大きくなりするおそれがあ
る。より好ましくは2%以下である。BaOを実質的に
含有しないことが特に好ましい。
【0020】F、Cl、BrおよびIは銀コロイドの生
成を抑制する成分である。これら4成分の含有量の合計
は0.01〜1%であることが好ましい。0.01%未
満では銀コロイドの生成を抑制できないおそれがある。
より好ましくは0.04%以上、特に好ましくは0.0
7%以上である。1%超では、ガラス溶解用原料中のこ
れら4成分の量が多くなりすぎ、その結果ガラス溶解時
のこれら4成分の揮散が多くなりすぎるおそれがある。
より好ましくは0.5%以下、特に好ましくは0.3%
以下、最も好ましくは0.15%以下である。
【0021】前記4成分の中では、Clを使用すること
が好ましい。Clの含有量は0.01〜1%であること
が好ましい。0.01%未満では銀コロイドの生成を抑
制できないおそれがある。より好ましくは0.04%以
上、特に好ましくは0.07%以上である。1%超で
は、ガラス溶解用原料中のClの量が多くなりすぎ、そ
の結果ガラス溶解時のClの揮散が多くなりすぎるおそ
れがある。より好ましくは0.5%以下、特に好ましく
は0.3%以下、最も好ましくは0.15%以下であ
る。
【0022】本発明のガラスは、モル%表示で、実質的
に、 SiO2 45〜75、 Al23 1.5〜20、 B23 0〜20、 Li2O+Na2O+K2O 7.5〜20、 BaO 0〜3.5、 MgO+CaO+SrO+BaO 5〜30、 ZrO2 0〜10、 F+Cl+Br+I 0.01〜1、 からなることが好ましい。この好ましい組成の、先に説
明した成分以外の成分についての説明を、モル%を%と
表記して以下に行う。
【0023】B23は必須ではないが、ガラス溶解時の
溶融ガラスの粘度を低下させるために20%まで含有し
てもよい。20%超ではTgが低くなりすぎるおそれが
ある。より好ましくは5%以下である。B23を含有す
る場合は1%以上含有することが好ましく、2%以上含
有することがより好ましい。
【0024】MgO、CaOおよびSrOはいずれも必
須ではないが、BaOと同様に溶融ガラスの粘度を低下
させる効果がある。MgO、CaO、SrOおよびBa
Oの含有量の合計は30%以下であることが好ましい。
より好ましくは25%以下、特に好ましくは20%以下
である。また、前記含有量の合計は5%以上であること
が好ましい。より好ましくは8%以上、特に好ましくは
10%以上である。
【0025】ZrO2は必須ではないが、Tgを高くする
ために10%まで含有してもよい。10%超では比重が
大きくなりすぎおそれがある。好ましくは7%以下、よ
り好ましくは4%以下である。
【0026】好ましい態様の本発明のガラスは実質的に
上記成分からなるが、本発明の目的を損なわない範囲で
他の成分を含有してもよい。これら他の成分の含有量の
合計は20モル%以下であることが好ましい。より好ま
しくは10モル%以下、特に好ましくは5モル%以下で
ある。前記他の成分を以下に例示する。
【0027】ガラス溶解時の溶融ガラスの粘度を低下さ
せるためにZnOを含有してもよい。その含有量は5モ
ル%以下であることが好ましい。5モル%超ではフロー
ト法による成形時に還元されて製品欠点を生じるおそれ
がある。PDPにおける電子線ブラウニング等を防止す
るためにTiO2およびCeO2を含有してもよい。それ
ぞれの含有量は2モル%以下であることが好ましく、ま
た、これらの含有量の合計は2モル%以下であることが
好ましい。なお、TiO 2は化学的耐久性を向上させる
効果も有する。化学的耐久性を向上させるためにSnO
2を含有してもよい。その含有量は5モル%以下である
ことが好ましい。
【0028】ガラスを着色するためにFe23、Ni
O、CoO、等の着色成分を含有してもよい。これら着
色成分の含有量の合計は1モル%以下であることが好ま
しい。ガラスの溶解、清澄、成形性を改善する成分であ
るSO3、As23、Sb2 3、等を含有してもよい。
これら成分の含有量の合計は1モル%以下であることが
好ましい。
【0029】本発明のガラスは、たとえば次のようにし
て製造される。目標組成となるように通常使用される原
料を調合し、これを溶解炉中で1500〜1600℃に
加熱して溶融する。バブリングや清澄剤の添加や撹拌な
どによってガラスの均質化を行い、周知のフロート法に
より所定の板厚に成形し、徐冷後所定寸法に切断してガ
ラス基板を得る。
【0030】
【実施例】表1のSiO2からFe23までの欄にモル
%表示で示す組成となるように原料を調合し、白金坩堝
を用いて1550℃で溶解した。次いで溶融ガラスを流
し出し、板状に成形後、徐冷した。このガラス板から、
鏡面研磨された厚さ2.8mmのガラス板を作製した。
このガラス板について、示差熱膨張計により膨張係数
(単位:10−7/℃)を測定し、また、示差熱膨張計
により得られた膨張曲線の屈曲点からTg(単位:℃)
を読み取った。結果を表1に示す。例1は実施例であ
り、例2は比較例であってClを含まない他は例1と同
じ組成である。
【0031】
【表1】
【0032】このガラス板を用いて、フロート成形され
たガラス板、すなわちフロートガラスを模擬するため
に、以下のような還元熱処理を行った。前記鏡面研磨さ
れた厚さ2.8mmのガラス板を、体積百分率表示で水
素10%、窒素90%からなる還元雰囲気中で672℃
まで2時間で昇温した。前記雰囲気中で672℃に3時
間保持後、室温まで冷却した。
【0033】還元熱処理したガラス板の一方の面に、大
気中で銀ペースト(添川理化学社製、商品名:ドータイ
トD−550)を塗布した。次に、同じく大気中で、2
00℃/時の昇温速度で580℃まで昇温後580℃に
1時間保持して焼成した。その後、60℃/時の降温速
度で冷却した。
【0034】次に、前記焼成したガラス板上の銀焼成膜
を、質量百分率表示の濃度が20%である硝酸により除
去した。銀焼成膜を除去した面にキズをつけないように
しながら、銀ペーストを塗布しなかった面を研磨し厚さ
0.12mmにした。この面は鏡面研磨仕上げとした。
【0035】前記厚さ0.12mmのガラス板の吸光度
を、自記分光光度計(日立製作所製、商品名:U−35
00)により測定した。例1と例2についての吸光度曲
線を図1に示す。また、例1の吸光度から例2の吸光度
を減じた値Δを波長に対してプロットしたものが図2で
ある。
【0036】413nmにおける吸収ピークは銀コロイ
ドによるものであるが、図1、図2からわかるように、
例1の吸収ピークは例2に比べて小さい。また、図2か
らわかるように、300nm付近における明確な吸収ピ
ークと370nm付近におけるこぶ状のやや小さな吸収
ピークが例1に存在している。これらの吸収ピークはA
gCl微粒子によるものである。以上のことから、Cl
を含有している例1においてはAgCl微粒子が生成
し、一方で銀コロイド生成が抑制されていることがわか
る。これは先に述べた黄色着色抑制メカニズムを裏付け
る事実である。
【0037】
【発明の効果】本発明のガラスを用いたディスプレイ用
ガラス基板に銀ペーストを塗布して焼成しても、黄色着
色が起こらない、または黄色着色が少ない。このガラス
基板を用いたPDP等のフラットパネルディスプレイに
おいては黄色着色のない高品質の画像が得られる。
【図面の簡単な説明】
【図1】銀焼成膜を除去した例1、例2のガラス板の吸
光度曲線。
【図2】銀焼成膜を除去した例1のガラス板の吸光度か
ら、銀焼成膜を除去した例2のガラス板の吸光度を減じ
た値Δと波長の関係を示す図。

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】Li2O、Na2OおよびK2Oの含有量
    の合計が7.5〜20モル%、Al 23の含有量が1.
    5モル%以上、BaOの含有量が0〜3.5モル%であ
    るケイ酸塩ガラスをフロート法によって板状に成形した
    板ガラスであって、F、Cl、BrおよびIからなる群
    から選ばれた1種以上を含有するディスプレイ基板用フ
    ロートガラス。
  2. 【請求項2】F、Cl、BrおよびIの含有量の合計が
    0.01〜1モル%である請求項1に記載のディスプレ
    イ基板用フロートガラス。
  3. 【請求項3】モル%表示で、実質的に、 SiO2 45〜75、 Al23 1.5〜20、 B23 0〜20、 Li2O+Na2O+K2O 7.5〜20、 BaO 0〜3.5、 MgO+CaO+SrO+BaO 5〜30、 ZrO2 0〜10、 F+Cl+Br+I 0.01〜1、 からなるディスプレイ基板用フロートガラス。
  4. 【請求項4】Clの含有量が0.07〜0.3モル%で
    ある請求項1または3に記載のディスプレイ基板用フロ
    ートガラス。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2004050569A1 (ja) * 2002-11-29 2004-06-17 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. 画像表示装置用ガラス基板の製造方法
JP2011105595A (ja) * 2011-01-20 2011-06-02 Avanstrate Inc ガラス組成物およびその製造方法

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