KR20050108350A - 디니트릴 화합물의 제조 방법 - Google Patents

디니트릴 화합물의 제조 방법 Download PDF

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Abstract

본 발명은 2 개의 니트릴 관능기를 포함하는 화합물의 제조 방법에 관한 것이다. 더 구체적으로는, 본 발명은 유기금속 착물 및 루이스산 유형의 조촉매를 포함하는 촉매계의 존재 하에 니트릴 관능기 및 에틸렌계 불포화를 가진 화합물으로부터의 니트릴 화합물의 제조 방법에 관한 것이다. 본 발명의 방법은 금속 원소가 루이스산으로부터 추출되어 회수되도록 하는, 히드로시안화로부터 기인하는 반응 매질의 처리를 수반하는 단계를 포함한다.

Description

디니트릴 화합물의 제조 방법{METHOD OF PRODUCING DINITRILE COMPOUNDS}
본 발명은 2 개의 니트릴 관능기를 포함하는 화합물의 제조 방법에 관한 것이다.
더 구체적으로는, 니트릴 관능기 및 에틸렌계 불포화를 포함하는 화합물로부터의 디니트릴 화합물의 제조 방법에 관한 것이다.
디니트릴 화합물, 특히 아디포니트릴은 다수의 화합물 합성에서 중요한 화학 중간체이다. 이에 따라, 아디포니트릴은 폴리아미드의 단량체 중 하나인 헥사메틸렌디아민의 제조에 사용된다. 이는 또한 각종 폴리아미드의 제조에서 중요한 단량체인 아미노카프로니트릴 또는 카프로락탐의 제조에 사용될 수도 있다.
아디포니트릴의 합성을 위해 제공되는 방법들 중, 출발 재료로서의 부타디엔 및 시안화수소를 사용한 하이드로시안화를 이용한 방법이 공업적으로 가장 널리 사용된다.
상기 방법은, 제 1 단계에서 부타디엔과 같은 올레핀의 하이드로시안화를 수행하여 니트릴 관능기 및 에틸렌계 불포화를 포함하는 화합물을 제조하는 것으로 이루어진다. 상기 단계는 일반적으로 니켈과 같은 금속에 의해 형성된 유기금속 착물 및 유기인 리간드를 포함하는 촉매계의 존재 하에 수행된다.
불포화 모노니트릴 화합물의 분리 및 임의적인 정제 후에, 상기 후자는, 역시 니켈과 같은 금속에 의해 형성된 유기금속 착물 및 유기인 리간드를 함유하는 촉매계의 존재 하에 수행되는 제 2 하이드로시안화 반응에 의해 디니트릴 화합물로 전환된다. 더욱이, 상기 촉매계는 일반적으로 루이스산으로 이루어진 조촉매를 포함한다.
용어 "루이스산" 은 일반적인 정의에 따라 전자쌍을 받는 화합물을 의미하는 것으로 이해된다. 루이스산은 일반적으로 하기 기재된 바와 같이 금속 원소의 염이다.
현재 방법에서, 루이스산은, 특히 니트릴의 추출 단계 동안, 반응 매질 중에 유지된다. 루이스산은, 특히 촉매계로 사용된 유기금속 착물과 연합되어 매질로부터 분리되지 않는 경우, 후속적으로 증류 바닥으로 제거된다.
디니트릴의 증류 동안의 루이스산의 존재는 매질 중에서의 불순물 생성을 촉진할 수 있으며, 상기 불순물은 증류된 디니트릴 중에도 존재할 수 있다. 또한, 루이스산 및 유출물로서의 그의 방출물 제거는 공정의 경제성 및 환경에 해로울 수 있다. 본 발명의 목표 중 하나는 상기 단점을 포함하지 않는 디니트릴 화합물의 제조 방법을 제공하는 것이다.
이러한 목적으로, 본 발명은 금속 화합물에 의해 형성된 조촉매 및 유기금속 착물을 포함하는 촉매계의 존재 하에 니트릴 관능기 및 에틸렌계 불포화를 포함하는 화합물의 시안화수소를 사용한 하이드로시안화에 의한 디니트릴 화합물의 제조 방법을 제공한다.
본 발명에 따르면, 상기 방법은, 하이드로시안화 단계 수행 후 하기의 연속 단계를 포함한다:
I) 불포화 니트릴 화합물의 하이드로시안화 단계 후 수득되는 반응 매질 E1 을 처리하여 매질로부터 적어도 유기금속 착물을 추출하고 제 2 매질 E2 를 수득하는 단계;
II) 상기 제 2 매질 E2 를 이온 교환 수지로 처리하여, 적어도 조촉매로부터 기원하는 금속 이온을 추출하고 제 3 매질 E3 를 수득하는 단계;
III) 상기 제 3 매질 E3 으로부터 형성된 디니트릴을 분리하는 단계
(여기서, 단계 III) 은 단계 II) 전에 수행될 수 있음).
본 발명의 바람직한 특징에 따르면, 조촉매는 루이스산이다. 더 구체적으로는, 문헌 [G.A. Olah, "Friedel-Crafts and Related Reactions", Volume 1, pages 191 to 197 (1953)] 에서 언급된 루이스산이 본 발명에 적합하다.
본 발명의 방법에서 조촉매로서 이용될 수 있는 루이스산은 원소의 주기율표의 Ib, IIb, IIIa, IIIb, IVa, IVb, Va, Vb, VIb, VIIb 및 VIII 족에 속하는 원소의 화합물로부터 선택된다. 상기 화합물은 일반적으로 염이며, 특히 할로겐화물, 예컨대 염화물 또는 브롬화물, 황산염, 술폰산염, 할로알킬술폰산염, 할로알킬과술폰산염 (perhaloalkylsulphonates), 특히 플루오로알킬술폰산염, 할로아세트산염, 할로과아세트산염, 카르복실산염 및 인산염이다.
상기 루이스산의 비제한적인 예시로서, 염화아연, 브롬화아연, 요오드화아연, 염화망간, 브롬화망간, 염화카드뮴, 브롬화카드뮴, 염화주석, 브롬화주석, 황산주석, 타르타르산주석, 염화인듐, 트리플루오로메틸술폰산인듐, 트리플루오로아세트산인듐, 희토류 원소, 예컨대 란탄, 세륨, 프라세오디뮴, 네오디뮴, 사마륨, 유로퓸, 가돌리늄, 테르븀, 디스프로슘, 하프늄, 에르븀, 탈륨, 이테르븀 및 루테튬의 염화물 또는 브롬화물, 염화코발트, 염화철 (I) 및 염화이트륨을 언급할 수 있다.
트리페닐보란 또는 티탄 이소프로폭시드와 같은 화합물을 루이스산으로 이용할 수도 있다.
물론, 여러 루이스산의 혼합물을 이용하는 것도 가능하다.
루이스산 중에서도 특히, 염화아연, 브롬화아연, 염화주석, 브롬화주석, 트리페닐보란, 트리플루오로메틸술폰산인듐, 트리플루오로아세트산인듐 및 염화아연/염화주석 혼합물이 매우 바람직하다.
이용되는 루이스산 조촉매는 일반적으로 전이 금속 화합물, 더욱 특히 니켈 화합물의 몰 당 0.01 내지 50 몰을 나타낸다.
본 발명의 바람직한 구현예에 따르면, 이온 교환 수지 상에서 처리하는 단계 II) 는 매질 E3 로부터 디니트릴 화합물의 분리 전에 수행된다.
이는, 디니트릴 화합물의 분리가 일반적으로 상기 화합물을 포함하는 매질 E3 의 증류 및 이에 따른 가열에 의해 수행되기 때문이다. 상기 금속 원소들의 부반응 또는 디니트릴의 분해를 방지하기 위해 상기 가열을 수행하기 전에 매질 E3 중에 존재하는 금속 원소를 제거하는 것이 유리하다. 상기 부반응 또는 분해 반응은 디니트릴로부터 분리하기 어려운, 디니트릴과 유사한 구조를 가진 부산물을 생성시킨다.
따라서, 아디포니트릴의 경우, 특정 불순물, 예컨대 1-이미노-2-시아노시클로펜탄 (ICCP) 가 생성될 수 있다. 상기 불순물은 부분적으로는 증류된 아디포니트릴에서 다시 나타난다. 상기 불순물 및 그의 수소화 산물은 또한 상기 아디포니트릴의 수소화에 의해 수득되는 헥사메틸렌디아민 (HMD) 및 심지어는 HMD 에서 수득되는 폴리아미드에서 다시 나타날 수도 있다.
따라서, 상기 불순물은 상기 폴리아미드의 제조 공정, 특히 스피닝 공정에서 결함 (얀의 파단수 증가) 을 초래할 수 있거나, 또는 폴리아미드의 안정성 및 색상에서 결함을 초래할 수 있다.
본 발명의 바람직한 특징에 따르면, 촉매계를 형성하는 유기금속 착물은 일반적으로 전이 금속으로부터 선택되는 금속 원소 및 리간드, 일반적으로는 유기인 리간드 사이의 배위 착물이다.
상기 유기금속 착물은 다수의 공보 및 다수의 특허, 예컨대 US 3 496 215, DE 1 995 3 058, FR 1 529 134, FR 2 069 411, US 3 631 191, US 3 766 231, FR 2 523 974, WO 99/06355, WO 99/06356, WO 99/06357, WO 99/06358, WO 99/52632, WO 99/65506, WO 99/62855, US 5 693 843, WO 96/1182, WO 96/22968, US 5 981 772, WO 01/36429, WO 99/64155 또는 WO 02/13964 에서 개시되었다.
금속 원소는 일반적으로 니켈, 코발트, 철, 루테늄, 로듐, 팔라듐, 오스뮴, 이리듐, 백금, 구리, 은, 금, 아연, 카드뮴 및 수은으로 이루어진 군으로부터 선택된다. 상기 금속들 중 특히, 니켈이 바람직한 금속이다.
상기 금속 착물 중에서, 금속은 특정 산화 상태, 특히 예를 들어 니켈에 대해서는 0 을 나타낸다.
하이드로시안화 반응 동안, 일부 금속 원소 (예를 들어 니켈) 은 더 높은 산화 상태, 예를 들어 상태 1 또는 2 로 산화될 수 있으며, 따라서 더 이상 본 발명의 방법의 단계 I) 동안에는 반응 매질 E1 로부터 추출가능하지 않을 수 있다. 반응 매질 E2 또는 E3 에서의 그의 존재는 조촉매로부터 기원하는 금속 원소의 것과 유사한 단점을 초래할 수 있다.
상기 단점은 본 발명의 방법으로 극복되는데, 이는 바람직한 특징에 따르면 이온 교환 수지 상에서 처리하는 단계 II) 동안 상기 금속 원소를, 적당한 수지 및 적당한 추출 조건을 선택함으로써 함께 추출하는 것을 가능하게 한다. 또한, 이는 본 발명의 범위를 벗어나지 않고, 2 가지 이상의 수지를 조합하거나 또는 연속으로 사용하여 상기 금속 원소의 동시적 또는 순차적 추출을 가능하게 한다.
본 발명에 적합한 유기금속 착물로서, 니켈 화합물 및 한자리 리간드 또는 여러자리 리간드인 오르가노포스파이트, 오르가노포스피나이트, 오르가노포스포나이트 및 오르가노포스핀의 패밀리에 속하는 유기인 화합물로부터 수득되는 것을 언급할 수 있다. 니켈 또는 상기 언급된 금속 중 한 가지와 병용하여 스틸벤 또는 아르신으로부터 수득되는 유기금속 착물을 사용하는 것도 가능하다. 유기인 화합물의 예시는 다수의 공보 및 다수의 특허에 개시되어 있다. 예를 들어, 한자리 리간드 화합물의 예로서, 트리페닐 포스파이트, 트리톨릴 포스파이트, 트리티밀 포스파이트, 페닐 디페닐포스피나이트, 톨릴 디톨릴포스피나이트, 티밀 디티밀포스피나이트, 디페닐 페닐포스포나이트, 디톨릴 톨릴포스포나이트, 디티밀 티밀포스포나이트, 트리페닐포스핀, 트리톨릴포스핀 또는 트리티밀 포스핀을 언급할 수 있다.
두자리 리간드 화합물로서는, 예를 들어 Ph 가 페닐을 나타내는 하기 구조의 것을 언급할 수 있다:
더 일반적으로는, 모든 유기인 리간드가 본 발명에 적합하다.
또한 특허 WO 95/30680, WO 96/11182, WO 99/06358, WO 99/13983, WO 99/64155, WO 01/21579 및 WO 01/21580 에 개시된 촉매계 및 리간드를 예시로서 언급할 수 있다.
유기금속 착물은 이들을 반응 매질에 첨가하기 전 또는 그 자리에서 제조될 수 있다.
유기금속 착물은 선택된 금속의 화합물을 유기인 화합물의 용액에 접촉시켜 제조할 수 있다.
금속의 화합물은 용매 중에 용해시킬 수 있다.
금속은 유기금속 착물 중에 갖는 산화 상태 또는 더 높은 산화 상태로, 이용되는 화합물 중에 존재할 수 있다.
예시로서, 본 발명의 유기금속 착물에서, 로듐이 산화 상태 (I) 이며, 루테늄이 산화 상태 (II) 이며, 백금이 산화 상태 (0) 이며, 팔라듐이 산화 상태 (0) 이며, 오스뮴이 산화 상태 (II) 이며, 이리듐이 산화 상태 (I) 이며, 니켈이 산화 상태 (0) 임을 나타낼 수 있다.
유기금속 착물의 제조 동안 금속이 더 높은 산화 상태에서 이용되는 경우, 이는 그 자리에서 환원될 수 있다.
상기 착물의 제조에서 사용되는 금속 화합물의 비제한적 예시로서, 금속 분말, 예컨대 니켈 분말, 및 하기 화합물을 언급할 수 있다:
- 니켈이 0 의 산화 상태인 화합물, 예컨대 칼륨 테트라시아노니켈레이트 K4[Ni(CN)4], 비스(아크릴로니트릴)니켈(0), 비스(1,5-시클로옥타디엔)니켈 (또한 Ni(cod)2 로도 공지되었다) 및 테트라키스(트리페닐포스핀)니켈(0) 과 같은 리간드를 포함하는 유도체,
- 니켈 화합물, 예컨대 카르복실산염 (특히, 아세트산염), 탄산염, 중탄산염, 붕산염, 브롬화물, 염화물, 시트르산염, 티오시안화물, 시안화물, 포름산염, 수산화물, 하이드로포스파이트, 인산염, 인산염 및 유도체, 요오드화물, 질산염, 황산염, 아황산염, 아릴술폰산염 및 알킬술폰산염.
사용된 니켈 화합물이 0 을 초과하는 니켈의 산화 상태에 대응한다면, 니켈용 환원제를 반응 매질에 첨가하며, 여기서 환원제는 바람직하게는 반응 조건 하에 니켈과 반응한다. 상기 환원제는 유기성 또는 무기성일 수 있다. 비제한적 예시로서, 수소화붕산염, 예컨대 NaBH4 또는 KBH4, Zn 분말, 마그네슘 또는 수소를 언급할 수 있다.
사용되는 니켈 화합물이, 니켈의 0 산화 상태에 대응한다면, 상기 언급된 유형의 환원제가 또한 첨가될 수 있으나, 상기 첨가가 필수적인 것은 아니다.
철 화합물이 사용되는 경우, 동일한 환원제가 적합하다.
팔라듐의 경우, 환원제는 또한 반응 매질의 구성원 (포스핀, 용매, 올레핀) 일 수 있다.
촉매계에 존재하는 조촉매 또는 루이스산은 니켈과 같은 유기금속 착물의 금속 원소 몰 당 루이스산 0.01 내지 50 몰의 양으로 존재하며, 바람직하게는 0.05 내지 10 몰/몰의 양으로 존재한다. 루이스산은 반응매질에 직접 첨가되거나 또는 유기금속 착물과 첨가될 수 있다.
하이드로시안화 반응은 일반적으로 10℃ 내지 200℃, 바람직하게는 30℃ 내지 120℃ 의 온도에서 수행된다.
하이드로시안화 반응은 용매없이 수행될 수 있으나, 유리하게는 불활성 유기 용매를 첨가할 수 있다. 상기 용매는 하이드로시안화 온도 이상에서 하이드로시안화될 화합물을 함유하는 상 또는 매질에 혼화성인 촉매계용 용매일 수 있다.
상기 반응 및 본 발명의 방법은 연속적으로 또는 회분식으로 수행될 수 있다.
상기 반응은 또한 특히 유기금속 착물이 가용성인 수상을 포함하는 2-상 계의 존재 하에 수행될 수 있다. 상기 구현예에서, 수상은 반응 말기에 대부분의 유기금속 착물과 분리된다. 디니트릴 및 비반응 불포화 니트릴을 함유하는 유기상은 본 발명의 의미에서는 매질 E1 이다. 이는, 상기 상에 존재하는 소정량의 유기 착물 및 루이스산의 추출을 위해 본 발명의 방법에 따라 상기 유기상을 처리하는 것이 유리하기 때문이다.
하이드로시안화 반응기의 출구에서 수득되는 반응 매질 E1 는, 본 발명의 바람직한 구현예에 따르면, 유기금속 착물의 추출을 위해 단계 I) 에 주입된다.
상기 단계는 액체/액체 추출 플랜트에서 용매에 의한 상기 착물의 추출로 이루어질 수 있다. 추출용매로서, 예를 들어, 탄소수 5 내지 9 의 알칸, 예컨대 펜탄, 헥산 또는 헵탄, 탄소수 5 내지 8 의 시클로알칸, 예컨대 시클로헥산, 메틸시클로헥산 또는 시클로옥탄, 탄소수 1 내지 5 의 할로겐화 탄화수소, 예컨대 클로로포름, 디클로로에탄, 사염화탄소, 클로로프로판 또는 디클로로메탄, 또는 탄소수 6 내지 9 의 치환 또는 비치환 방향족 화합물, 예컨대 벤젠, 톨루엔, 자일렌, 에틸벤젠 또는 이소프로필벤젠을 언급할 수 있다.
상기 분리는 또한 불포화 니트릴의 증류, 및 상들 중 하나가 유기금속 착물을 함유하며 나머지 상이 주로 디니트릴을 함유하는 2-상 매질의 생성으로 일어날 수 있다. 후자는 미량의 유기금속 착물 추출을 위해 상기 기재된 용매를 사용한 액체/액체 추출에 적용될 수 있다.
이에 따라 추출되는 유기금속 착물은 하이드로시안화 반응에서 재순환될 수 있다.
단계 I) 의 종결시, 더 이상 유기금속 착물을 함유하지 않는 반응 매질 E2 가 수득된다. 용어 "더 이상 함유하지 않음" 은 최대의 유기금속 착물이 추출되었으나, 본 발명의 범위를 벗어나지 않게 매질 중에 미량의 상기 착물이 잔류할 수 있음을 의미하는 것으로 이해되어야 한다.
상기 반응 매질 E2 는 생성된 디니트릴 및 루이스산, 및 임의로는 산화를 거치거나 또는 거치지 않은 유기금속 착물로부터 기원하는 금속 원소의 화합물을 함유한다.
본 발명의 바람직한 구현예에 따르면, 상기 반응 매질 E2 는 루이스산의 금속 이온 및 임의로는 유기금속 착물로부터 기원하며 상기 매질 E2 에서 발견되는 산화된 금속 이온을 고정 및 추출하는 것을 가능케하는 이온-교환 수지 상의 처리에 적용된다.
본 발명의 적합한 이온-교환 수지는 추출될 금속 원소의 특성에 따라 선택된다. 이에 따라, 상기 수지들은 강하거나 또는 약한 양이온성 수지, 흡착 수지, 킬레이트 수지 및 촉매 수지로 이루어진 군에 속하는 것 중 하나일 수 있다. 수지의 예시로서, 술폰계 수지, 카르복실 수지, 이미노디아세트 수지 또는 Rohm & Haas 에 의해 상표명 Amberlite 및 Amberlyst 로, Dow 에 의해 Dowex 로, Bayer 에 의해 Levatite 및 Ionac 으로 시판되는 수지를 언급할 수 있다.
상기 단계 II) 는 당업자에게 공지된 임의의 장치에서 수행될 수 있다. 이에 따라, 고정상 또는 유동상 또는 상기 수지에 의해 형성된 멤브레인계의 형태로 상기 수지를 포함하는 칼럼을 사용할 수 있다.
수지에서의 처리 후, 생성된 디니트릴 유기 화합물을 본질적으로 함유하는 반응 매질 E3 를 수득한다. 상기 각종 화합물들은 유리하게는 증류 단계 III) 에서 분리된다. 그러나, 기타 분리 방법이 본 발명의 범위를 벗어나지 않으면서 이용될 수 있다.
더욱이, 수지를 사용한 처리의 단계 II) 는 또한 수지를 재생하고 상기 금속 원소들을 회수하기 위해 추출된 금속 원소가 담지된 수지의 용출 단계를 포함한다.
상기 용출은 통상적인 것이며, 이온-교환 수지 상의 처리를 위한 과정에 대한 표준 단계이다. 이는, 특히 강산, 예컨대 황산 또는 염산, 또는 강한 유기산 및 바람직하게는 재생될 루이스산의 음이온에 상응하는 산을 이용하여 수행될 수 있다.
본 발명의 문맥에서, 상기 용출 단계는 루이스산을 회수 및 재생하는 것을 가능하게 하며, 하이드로시안화 단계에서 이를 재사용하는 것을 가능하게 할 수 있다. 상기 가능성은 공정의 경제적인 조작을 가능하게 하며, 환경 측면에서, 특히 루이스산으로서 사용되는 화합물이 고가이며/이거나 환경에 대해 독한 특성을 나타내는 경우 매우 유리하다.
본 발명의 방법은 특히 에틸렌계 불포화를 포함하는 지방족 니트릴 및 더욱 특별하게는 선형 펜텐니트릴, 예컨대 3-펜텐니트릴 또는 4-펜텐니트릴에 대해 적용된다.
상기 펜텐니트릴은 미량으로 기타 화합물, 예컨대 2-메틸-3-부텐니트릴, 2-메틸-2-부텐니트릴, 2-펜텐니트릴, 발레로니트릴, 아디포니트릴, 2-메틸글루타로니트릴 또는 2-에틸숙시노니트릴을 포함할 수 있다. 상기 화합물들은 펜텐니트릴 중에, 특히 펜텐니트릴이 불포화 모노니트릴을 제공하기 위한 부타디엔의 하이드로시안화의 제 1 단계로부터 기원하는 경우 존재한다.
상기 제 1 단계는 일반적으로 유기금속 착물을 함유하는 촉매의 존재 하에 조촉매의 부재 하에 수행된다. 제 1 단계에서 사용되는 유기금속 착물은 본 발명의 방법에 사용되는 것과 상이하거나 또는 상동일 수 있다. 상동인 경우, 본 발명의 방법의 단계 I) 에서 회수되는 유기금속 착물은 부타디엔의 하이드로시안화의 제 1 단계를 위한 하이드로시안화 반응기에서 재순환될 수 있다.
본 발명의 과정에서 도입되는 모노니트릴은 또한 일반적으로 상기 제 1 단계와 연합되는 이성질체화 단계로부터 기원할 수 있는데, 이는 유리하게는 제 1 단계의 것과 상동인, 유기금속 착물을 포함하는 촉매계의 존재 하에 시안화수소의 부재 하에 제 1 단계에서 수득되는 화합물을 유지하는 것으로 이루어진다.
상기 이성질체화 단계의 목적은 선형 불포화 모노니트릴에 대한 공정의 선택성을 개선하는 것에 있다.
본 발명의 기타 장점 및 상세사항은 설명 및 예시의 수단으로서만 하기에 제시되는 실시예의 견지에서 더욱 명확하게 명백해질 것이다.
실시예 1:
3-펜텐니트릴 (36.4 g, 448 mmol) 및 아디포니트릴 (63.6 g, 588 mmol) 의 혼합물 중의 인듐 트리플루오로아세테이트 (0.5 g, 1.10 mmol) 의 용액을 제조했다. 매질의 조성은 원소 분석으로 결정했다.
상기 용액 4 ml 분획을, 하기에 나타낸 상표명으로 Rohm & Haas 에서 시판하는 각각의 수지 2 ml 와 접촉시켰다:
- 술폰계 수지 (Amberlite 252H)
- 킬레이트 수지 (IRC 748),
- 흡착 수지 (Amberlite XAD7), 및
- 양이온성 수지 (IRC 50).
각각의 매질을 상온 (20℃) 에서 4 시간 동안 교반했다. 수지를 여과로 분리하고, 여과액의 조성을 원소 분석으로 결정했다.
출발 매질 및 여과액의 조성은 하기 표 I 에 제시했다:
[표 I]
In (ppm)
출발 매질의 조성 1190
여과액의 조성 Amberlite 252H술폰계 수지 미검출
IRC 748킬레이트 수지 미검출
Amberlite XAD7흡착 수지 미검출
IRC 50양이온성 수지 미검출
실시예 2:
유리 칼럼을 100 ml 의 술폰계 수지 (Amberlite 252H) 로 충전했다. 인듐 원소로 표현한 농도 3,300 ppm 을 가진 인듐 트리플루오로아세테이트를 함유한 3-펜텐니트릴 및 아디포니트릴 (몰비 30/70) 의 용액을 340 g/h 의 유속으로 칼럼의 상부를 통해 연속적으로 주입했다. 칼럼 출구에서 매 10 분마다 시료를 채취했다. 시료 중의 인듐의 농도는 원소 분석으로 측정했다.
칼럼 분리 조작의 3 시간 동안, 시료 중의 수지의 농도는 항상 20 ppm 미만이었다.
실시예 3:
3-펜텐니트릴 (36.4 g, 448 mmol) 및 아디포니트릴 (63.6 g, 588 mmol) 의 혼합물 중의 염화아연 (0.1 g, 0.73 mmol) 의 용액을 제조했다. 매질의 조성은 원소 분석으로 결정했다.
4 ml 의 상기 용액을 상온 (20℃) 에서 2 ml 의 술폰계 수지 (Amberlite 252H) 의 존재 하에 4 시간 동안 교반했다. 수지에 대한 처리 전후 용액의 분석은 용액 중의 아연의 농도가 480 ppm 에서 8 ppm 으로 변화했음을 나타냈다.
실시예 4:
Ni(0)/유기인 리간드/루이스 (In) 산 계에 의해 촉매되는, 아디포니트릴을 제공하기 위한 3-펜텐니트릴의 하이드로시안화에 대한 반응을 수행했다. 유기인 리간드는 하기 화학식을 가진 화합물이다:
상기 반응 매질의 3 ml 분획을 상온 (약 20℃) 에서 3 ml 의 하기 수지 중 한 가지의 존재 하에 4 시간 동안 교반했다:
- 술폰계 수지 (Amberlite 252H),
- 킬레이트 수지 (IRC 748),
- 흡착 수지 (Amberlite XAD7).
수지 상에서의 처리 전후 반응 매질의 조성은 하기 표 II 에 제시했다:
[표 II]
수지 정보 %Ni %In
출발 조성 / 0.459 1.0
처리 후 조성 Amberlite 252H 0.46 <0.02
Amberlite XAD7 0.28 0.42
IRC 748 <0.008 <0.17
상기 시험은 루이스산으로부터 기원하는 인듐을 추출하는 것이 가능하며, 또한 특정 조건 하에서는 촉매로서 사용된 유기금속 착물로부터 기원하는 산화된 니켈을 추출하는 것도 가능함을 보여준다.

Claims (13)

  1. 유기금속 착물 및 조촉매를 포함하는 촉매계의 존재 하에 시안화수소와의 반응에 의한 에틸렌계 불포화를 포함하는 모노니트릴 화합물의 하이드로시안화에 의한 디니트릴 화합물의 제조 방법으로서, 하기의 연속적인 단계를 포함하며, 단계 III) 이 단계 II) 이전에 수행될 수 있는 것을 특징으로 하는 방법:
    I) 불포화 니트릴 화합물의 하이드로시안화 후 수득되는 반응 매질 E1 을 처리하여, 촉매계로부터 유기금속 착물을 분리하고 제 2 매질 E2 를 수득하는 단계;
    II) 상기 제 2 매질 E2 를 이온 교환 수지로 처리하여, 조촉매로부터 기원하는 금속 이온을 추출하고 제 3 매질 E3 를 수득하는 단계;
    III) 제 3 매질 E3 으로부터 형성된 디니트릴을 분리하는 단계.
  2. 제 1 항에 있어서, 조촉매가 루이스산인 것을 특징으로 하는 방법.
  3. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 단계 II) 로부터 추출되는 금속 이온이 수지의 용출에 의해 회수되는 것을 특징으로 하는 방법.
  4. 제 3 항에 있어서, 회수된 금속 이온이 재순환되어 하이드로시안화 단계의 촉매계의 조촉매를 형성하는 것을 특징으로 하는 방법.
  5. 제 2 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서, 루이스산이 원소의 주기율표의 Ib, IIb, IIIa, IIIb, IVa, IVb, Va, Vb, VIb, VIIb 또는 VIII 족에 속하는 금속 원소의 화합물인 것을 특징으로 하는 방법.
  6. 제 2 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 있어서, 루이스산이 금속 원소의 할로겐화물, 예컨대 염화물 또는 브롬화물, 황산염, 술폰산염, 할로알킬술폰산염, 할로알킬과술폰산염, 특히 플루오로알킬술폰산염 또는 플루오로알킬과술폰산염, 할로아세트산염, 할로과아세트산염, 카르복실산염 및 인산염으로 이루어진 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 방법.
  7. 제 2 항 내지 제 6 항 중 어느 한 항에 있어서, 루이스산이 염화아연, 브롬화아연, 요오드화아연, 염화망간, 브롬화망간, 염화카드뮴, 브롬화카드뮴, 염화주석, 브롬화주석, 황산주석, 타르타르산주석, 염화인듐, 트리플루오로메틸술폰산인듐, 트리플루오로아세트산인듐, 희토류 원소, 예컨대 란탄, 세륨, 프라세오디뮴, 네오디뮴, 사마륨, 유로퓸, 가돌리늄, 테르븀, 디스프로슘, 하프늄, 에르븀, 탈륨, 이테르븀 및 루테튬의 염화물 또는 브롬화물, 염화코발트, 염화철 (I) 및 염화이트륨으로 이루어진 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 방법.
  8. 제 1 항 내지 제 7 항 중 어느 한 항에 있어서, 단계 II) 에서 사용된 금속 이온 추출용 수지가 강하거나 또는 약한 양이온성 수지, 흡착 수지, 킬레이트 수지 및 촉매 수지로 이루어진 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 방법.
  9. 제 8 항에 있어서, 이온 교환 수지가 술폰계 수지, 카르복실 수지 및 이미노디아세트 수지로 이루어진 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 방법.
  10. 제 1 항 내지 제 9 항 중 어느 한 항에 있어서, 단계 I) 에서의 유기금속 착물의 추출이 탄소수 5 내지 9 의 알칸, 탄소수 5 내지 8 의 시클로알칸, 탄소수 1 내지 5 의 할로겐화 탄화수소 및 탄소수 6 내지 9 의 치환 또는 비치환 방향족 화합물로 이루어진 군으로부터 선택되는 추출 용매를 사용한 액체/액체 추출에 의해 수행되는 것을 특징으로 하는 방법.
  11. 제 1 항 내지 제 10 항 중 어느 한 항에 있어서, 단계 III) 에서의 디니트릴의 분리가 상기 디니트릴의 증류로 수행되는 것을 특징으로 하는 방법.
  12. 제 1 항 내지 제 11 항 중 어느 한 항에 있어서, 불포화 모노니트릴 화합물이 펜텐니트릴인 것을 특징으로 하는 방법.
  13. 제 12 항에 있어서, 상기 펜텐니트릴이 부타디엔의 하이드로시안화에 의해 수득되는 것을 특징으로 하는 방법.
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