KR20050101200A - Ｎ-아릴 카밤산 에스테르를 할로-헤테로아릴과반응시킴으로써 ｎ-헤테로아릴-ｎ-아릴-아민을 제조하는방법 및 유사 방법 - Google Patents

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KR20050101200A
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버텍스 파마슈티칼스 인코포레이티드
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Abstract

본 발명은 화학식 II의 화합물을 알칼리 금속 염 또는 전이 금속 촉매의 존재 하에 화학식 III의 아민과 커플링시키는 단계를 포함하여, 다음 화학식 I의 디아릴 아민 화합물 또는 이의 염을 제조하는 방법에 관한 것이다:
화학식 I
화학식 II
화학식 III
상기식에서,
Ar1 및 Ar2는 독립적으로 Q이고; Q는 각각, 0 내지 4개의 헤테로 원자를 갖는 포화 또는 불포화 5 내지 8원 환에 임의로 융합된 아릴 또는 헤테로아릴 환 시스템이고; Q는 제1항에 정의된 바와 같이 임의로 치환되고; X는 이탈 그룹이고; Y는 -C(O)-O-Z이고; Z는 C1-C6 지방족, 벤질, Fmoc, -SO2R' 및 Q 중에서 선택되는데, 단 Q는 X 또는 알킨에 의해 치환되지 않으며; R'는 제1항에 정의된 바와 같다.

Description

Ｎ-아릴 카밤산 에스테르를 할로-헤테로아릴과 반응시킴으로써 Ｎ-헤테로아릴-Ｎ-아릴-아민을 제조하는 방법 및 유사 방법{Processes for the preparation of N-heteroaryl-N-aryl-amines by reacting an N-aryl carbamic acid ester with a halo-heteroaryl and analogous processes}
본 발명은 디아릴 아민 및 이의 동족체를 용이하게 합성하는 방법에 관한 것이다. 본 발명의 방법은 디아릴 아민을 고수율 및 고순도로 생성시킨다. 본 발명은 또한, 본 발명의 방법에 유용한 중간체에 관한 것이다. 본 발명은 또한, 본 발명의 방법에 의해 제조된 디아릴 아민에 관한 것이다.
단백질 키나제는 세포외 시그널에 대한 각종 세포성 반응에 관여한다. 최근에는, 특정 계열의 분열촉진물질-활성화 단백질 키나제(MAPK)가 밝혀졌다. 이러한 계열의 구성원은 Ser/Thr 키나제로서, 이들은 인산화 작용에 의해 이들의 기질을 활성화시킨다[참조: B. Stein et al., Ann. Rep. Med. Chem., 31, pp. 289-98 (1996)]. MAPK는 성장 인자, 사이토킨, UV 방사선 및 스트레스-유도성 제제를 포함한 각종 시그널에 의해 자체적으로 활성화된다.
한 가지 특히 흥미로운 MAPK는 p38이다. 사이토킨 억제성 소염 약물 결합성 단백질(CSBP) 및 RK로서 공지되기도 한 p38은 리포폴리삭카라이드(LPS) 수용체인 CD14로 형질감염시키고 LPS로 유도시킨 쥐과 프레-B 세포로부터 분리되었다. 지금까지 p38은 사람과 마우스에게서 이를 암호화하는 cDNA를 갖는 것으로서 분리 및 서열 분석되었다. 스트레스, 예를 들면, 리포폴리삭카라이드(LPS), UV, 아니소마이신 또는 삼투압 쇽을 이용한 처리에 의해 자극된 세포, 및 사이토킨, 예를 들면, IL-1 및 TNF에 의해 자극된 세포에서 p38이 활성화되는 것으로 관찰되었다.
p38 키나제를 억제시키면, IL-1과 TNF 둘 다의 생성이 차단된다. IL-1과 TNF는 기타 염증성 사이토킨, 예를 들면, IL-6 및 IL-8의 생성을 자극하고, 이들은 급성 및 만성 염증 질환과 폐경기 후의 골다공증에 밀접한 영향을 끼쳐왔다[참조: R. B. Kimble et al., Endocrinol., 136, pp. 3054-61 (1995)].
이러한 발견을 근거로 하면, p38은 기타 MAPK와 함께, 염증성 자극에 대한 세포성 반응, 예를 들면, 백혈구 축적, 대식 세포/단구 활성화, 조직 흡수, 발열, 급성기 반응 및 호중구 증가증을 매개하는데 있어 일정 역할을 하는 것으로 여겨진다. 또한, p38 등의 MAPK는 암, 트롬빈-유도된 혈소판 응집, 면역결핍 장애, 자가 면역 질환, 세포 사멸, 알레르기, 골다공증 및 신경변성 질환에 밀접한 영향을 끼쳐 왔다. p38의 억제제 역시 프로스타글란딘 엔도퍼옥사이드 신타제-2 유도의 억제를 통한 통증 처방 분야에 밀접한 영향을 끼쳤다. IL-1, IL-6, IL-8 또는 TNF 과생성과 연관된 기타 질환이 WO 96/21654에 제시되어 있다.
MAPK를 포함한 각종 표적에 대항하여 의학적으로 중요한 특성을 보유하고 있는 많은 분자는 디아릴 아민을 포함한다. 이의 한 가지 예가 강력한 p38 MAP 키나제 억제제로서 동정된 부류의 분자이다[참조: WO 99/58502 및 WO 00/17175]. 그러나, 이들 분자가 약물로서 유효하긴 하지만, 상당량의 부산물을 수반하지 않으면서 아릴 아민 함유 분자를 제조하는 방법은 거의 없다. 팔라듐을 촉매로 하여 아릴 아민과 아릴 할라이드를 커플링시키는 방법이, 디아릴 아민을 포함하는 분자를 제조하는 전통적인 전략이었다. 그러나, 아릴 할라이드 파트너를 아민에 과도하게 부가하는 것에 따른 문제점으로 인해, 1급 아릴 아민을 이용하는 경우에 전통적으로 저수율과 저순도가 야기되었다. 이러한 이유로 인해, 팔라듐 촉매된 커플링 반응의 범주를 제한한 1급 아민은 상기와 같은 변환을 위해 통상적으로 이용되는 기질이 아니다.
따라서, 디아릴 아민을 고수율과 고순도로 수득하기 위해, 상기와 같은 과아릴화 문제점을 피하면서 디아릴 아민 및 이의 동족체를 용이하게 합성하는 방법이 요망된다.
발명의 요약
한 양태에 따르면, 본 발명은 과아릴화 문제점을 피하고, 대규모로 제조할 수 있으며 고수율을 제공하는, 디아릴 아민의 용이한 합성 방법을 제공한다. 본 발명은 또한, 유해 시약, 예를 들면, 주석 화합물의 사용을 피한다. 구체적으로 언급하면, 본 발명은 적합한 보호 그룹을 질소에 부가함으로써 1급 아릴 아민을 일시적으로 "2급"으로 만드는 방법을 제공한다. 일단 형성되면, 이러한 보호된 아닐린 유도체는 아릴 이탈 그룹과 알칼리 금속 염-촉진되거나 또는 전이 금속-촉매된 교차 커플링 반응을 진행하여 중간체를 생성시키고, 탈보호시 디아릴 아민 기질이 생성된다. 이러한 생성물은 부산물을 거의 수반하지 않고 고수율로 생성될 수 있다.
본 발명은 다음 화학식 I의 화합물 또는 이의 염의 제조 방법에 관한 것이다:
상기식에서,
Ar1 및 Ar2는 다음에 정의되는 바와 같다.
본 발명의 방법은 다음 화학식 II의 화합물을 알칼리 금속 염 또는 전이 금속 촉매의 존재 하에 다음 화학식 III의 아민과 커플링시켜 화학식 I의 디아릴 아민을 수득하는 단계를 포함한다:
상기식에서,
Ar1, Ar2, X 및 Y는 다음에 정의되는 바와 같다.
본 발명의 방법은 과아릴화 문제점을 수반하지 않으면서 1급 아릴 아민 유도체로부터 화학식 I의 화합물을 제조할 수 있게 해주는 이점을 지니고 있다. 본 발명의 방법은 대규모 제조에 쉽게 적용할 수 있는 용이한 반응 조건 이외에도, 화학식 I의 화합물을 고수율과 고순도로 제조할 수 있게 해주는 추가의 이점을 지니고 있다.
본 발명은 선행 기술의 난제와 단점을 극복하고 다음 화학식 I의 화합물 또는 이의 염을 제조하는 방법을 제공한다:
화학식 I
상기식에서,
Ar1 및 Ar2는 독립적으로 Q이고;
Q는 각각, 0 내지 4개의 헤테로 원자를 갖는 포화 또는 불포화 5 내지 8원 환에 임의로 융합된 아릴 또는 헤테로아릴 환 시스템이고;
Q는 1개 이상의 환 원자에서 할로; N(R')2, OR', CO2R', C(O)N(R')2, OC(O)N(R')2, NR'CO2R', NR'C(O)R', SO2N(R')2, N=CH-N(R')2, 또는 OPO3H2에 의해 임의로 치환된 C1-C6 지방족; N(R')2, OR', CO2R', C(O)N(R')2, OC(O)N(R')2, SO2N(R')2, NR'CO2R', NR'C(0)R', N=CH-N(R')2, 또는 OPO3H2에 의해 임의로 치환된 C1-C6 알콕시; Ar3; CF3; OCF3; OR'; SR'; SO2N(R')2; OSO2R'; SCF3; NO2; CN; N(R')2; CO2R'; C02N(R')2; C(O)N(R')2; NR'C(0)R'; NR'C02R'; NR'C(O)C(O)R'; NR'SO2R'; OC(O)R'; NR'C(O)R2; NR'CO2R2; NR'C(O)C(O)R2; NR'C(0)N(R')2; OC(O)N(R')2; NR'SO2R2; NR'R2; N(R2)2; OC(O)R2; OPO3H2; 및 N=CH-N(R')2 중에서 독립적으로 선택된 하나 이상의 치환체에 의해 임의로 치환되고;
R'는 수소; C1-C6 지방족; 및 할로, C1-C6 알콕시, 시아노, 니트로, 아미노, 하이드록시 및 C1-C6 지방족 중에서 독립적으로 선택된 1 내지 3개의 치환체에 의해 임의로 치환된 5 내지 6원 카보사이클릭 또는 헤테로사이클릭 환 시스템 중에서 선택되고;
R2는 N(R')2, OR', C02R', C(O)N(R')2 또는 SO2N(R')2에 의해 임의로 치환된 C1-C6 지방족; 또는 N(R')2, OR', C02R', C(O)N(R')2 또는 SO2N(R')2에 의해 임의로 치환된 카보사이클릭 또는 헤테로사이클릭 환 시스템이고;
Ar3은 0 내지 4개의 헤테로 원자를 갖는 포화 또는 불포화 5 내지 8원 환에 임의로 융합된 아릴 또는 헤테로아릴 환 시스템이고;
Ar3은 1개 이상의 환 원자에서 할로; N(R')2, OR', CO2R', C(O)N(R')2, OC(O)N(R')2, NR'CO2R', NR'C(O)R', SO2N(R')2, N=CH-N(R')2, 또는 OPO3H2에 의해 임의로 치환된 C1-C6 지방족; N(R')2, OR', CO2R', C(O)N(R')2, OC(O)N(R')2, SO2N(R')2, NR'CO2R', NR'C(0)R', N=CH-N(R')2, 또는 OPO3H2에 의해 임의로 치환된 C1-C6 알콕시; CF3; OCF3; OR'; SR'; SO2N(R')2; OSO2R'; SCF3; NO2; CN; N(R')2; CO2R'; C02N(R')2; C(O)N(R')2; NR'C(0)R'; NR'C02R'; NR'C(O)C(O)R'; NR'SO2R'; OC(O)R'; NR'C(O)R2; NR'CO2R2; NR'C(O)C(O)R2; NR'C(0)N(R')2; OC(O)N(R')2; NR'SO2R2; NR'R2; N(R2)2; OC(O)R2; OPO3H2; 및 N=CH-N(R')2 중에서 독립적으로 선택된 하나 이상의 치환체에 의해 임의로 치환된다.
바람직한 양태에서, Ar1 및 Ar2는 임의로 치환된 페닐, 나프틸, 벤즈이미다졸릴, 벤조티에닐, 벤조푸라닐, 인돌릴, 퀴놀리닐, 벤조티아졸릴, 벤즈옥사졸릴, 벤즈이미다졸릴, 이소퀴놀리닐, 이소인돌릴, 아크리디닐, 벤조이속사졸릴, 피리딜, 피리미딜, 피리다지닐, 테트라졸릴, 푸라닐, 이미디아졸릴, 이속사졸릴, 옥사디아졸릴, 옥사졸릴, 피롤릴, 티아졸릴, 트리아졸릴 및 티에닐 중에서 독립적으로 선택된다. 보다 바람직한 양태에서, Ar1 및 Ar2는 임의로 치환된 페닐 및 피리딜 중에서 독립적으로 선택된다. 보다 더 바람직한 양태에서, Ar1은 임의로 치환된 피리딜이고 Ar2는 임의로 치환된 페닐이다.
본 발명의 방법은 다음 화학식 II의 화합물을 알칼리 금속 염 또는 전이 금속 촉매의 존재 하에 다음 화학식 III의 아민과 커플링시켜 화학식 I의 디아릴 아민을 수득하는 단계를 포함한다:
화학식 II
화학식 III
상기식에서,
X는 이탈 그룹이고;
Y는 -C(O)-O-Z이며;
Z는 C1-C6 지방족, 벤질, Fmoc, -SO2R' 및 Q 중에서 선택되는데, 단 Q가 X 또는 알킨에 의해 치환되지 않으며;
Arl, Ar2, Q 및 R'는 상기 정의된 바와 같다.
다음 반응식 1은 본 발명의 바람직한 방법을 예시하고 있다:
상기식에서, Arl, Ar2, X 및 Y는 상기 정의된 바와 같다.
상기 예시된 단계들은 다음과 같이 언급될 수 있다:
단계 1:
적합한 이탈 그룹 X를 보유하고 있는 화학식 II의 화합물을 Y-NH-잔기를 갖는 화학식 III의 화합물과 반응시킨다. 이러한 반응은 알칼리 금속 염, 예를 들면, 탄산세슘; 또는 전이 금속 촉매, 및 임의의 염기 및 임의의 하나 이상의 리간드의 존재 하에 수행한다.
한 양태에서는, 전이 금속 촉매를 사용한다. 사용될 수 있는 전이 금속 촉매의 한 가지 예는 전이 금속 이온 또는 원자와 하나 이상의 적합한 리간드를 포함한다. 바람직하게는, 전이 금속 촉매가 8족 금속을 포함한다. 보다 바람직하게는, 전이 금속 촉매가 팔라듐을 포함한다. 바람직한 양태에 따르면, 2가지 상이한 리간드가 단계 1에서 동시에 사용된다.
바람직한 양태에 따르면, 염기를 전이 금속 촉매와 연계해서 단계 1에서 사용한다. 적합한 염기에는 KOtBu, NaOtBu, K3PO4, Na2CO3, 및 Cs2CO3가 포함된다. 보다 바람직하게는, 염기가 K3PO4이다.
전이 금속 촉매를 사용하는 경우에 단계 1에 바람직한 용매에는 톨루엔 및 비-극성 비양성자성 용매, 예를 들면, MTBE, DME 및 헥산이 포함된다.
또 다른 양태에서는, 알칼리 금속 염이 단계 1에 사용된다. 바람직하게는, 알칼리 금속 염이 세슘 염이다.
알칼리 금속 염을 사용하는 경우에 단계 1에 바람직한 용매에는 극성 비양성자성 용매, 예를 들면, NMP가 포함된다.
단계 2:
단계 2에서는, 화합물(IV)의 라디칼 Y를 제거하여 화학식 I의 디아릴 아민을 제조한다.
바람직한 양태에 따르면, TFA, HCl, HBr 또는 HI 등의 산을 단계 2에 사용한다. 보다 바람직하게는, 상기 산이 TFA이다.
단계 2에 바람직한 용매에는 염소화 용매, 예를 들면, CH2Cl2, 1,2-디클로로에탄 및 클로로벤젠이 포함된다.
본 발명의 방법은 과아릴화 문제점을 수반하지 않으면서 1급 아릴 아민 유도체로부터 화학식 I의 화합물을 제조할 수 있게 해주는 이점을 지니고 있다. 본 발명의 방법은 화학식 I의 화합물을 고수율과 고순도로 대규모 제조할 수 있게 해주는 추가의 이점을 지니고 있다.
단계 1 시약:
본 발명에 적합한 전이 금속 촉매는 전이 금속 원자 또는 이온과 하나 이상의 리간드를 포함한다. 전이 금속은 제로(0) 원자가에서부터 전이 금속에 이용될 수 있는 보다 높은 원자가까지 범위의 적합한 모든 산화 상태로 존재할 수 있다. 바람직한 양태에 따르면, 전이 금속 촉매는 8족 금속을 포함한다. 보다 바람직하게는, 전이 금속 촉매가 팔라듐을 포함한다. 촉매 착물에는 포스핀 및 바이포스핀의 알킬 및 아릴 유도체, 이민, 아르신 및 이의 하이브리드를 포함하지만 이에 제한되지 않는 킬레이트화 리간드가 포함될 수 있다.
보다 바람직하게는, 전이 금속 촉매가 식 PdLn의 팔라듐 촉매[여기서, L은 각각, Cl, -OAc, -O-톨릴, 할로겐, PPh3, dppe, dppf, 및 BINAP 중에서 독립적으로 선택되고; n은 1 내지 4의 정수이다]이다. 전술된 전이 금속 촉매는 당해 분야에 공지된 방법을 사용하여 제조할 수 있다.
본 발명의 방법 내내 각종 리간드 변환이 이루어질 수 있다. 이러한 리간드는 본 발명의 방법 전반에 걸쳐 전이 금속에 결합될 수 있거나, 또는 리간드가 본 발명의 방법 내내 또는 일부 동안 전이 금속에 관하여 불안정하게 배치될 수 있다. 따라서, 본원에 사용된 바와 같은 용어 "전이 금속 촉매"에는 반응 용기 내로 도입되고, 필요한 경우 동일 반응계에서 활성 형태의 촉매로 전환되어 해당 반응에 참여하는 바와 같은 모든 전이 금속 촉매 및/또는 촉매 전구체가 포함된다.
본 발명의 방법에 사용될 전이 금속 촉매의 양은 디아릴 아민 생성물의 형성을 증진시켜 줄 수 있는 양이다. 바람직한 양태에 따르면, 이러한 양은 촉매량인데, 촉매는 아릴 성분을 기준으로 하여 화학양론적 양 보다 적은 양으로 사용된다. 또 다른 바람직한 양태에 따르면, 촉매는 비-아민 아릴 성분을 기준으로 하여 약 0.01 내지 약 20 몰%, 보다 바람직하게는 약 1 내지 약 10 몰%, 보다 더 바람직하게는 약 1 내지 약 5 몰%의 범위로 존재한다.
당업자는 본 발명의 방법에 사용하기에 적당한 용매를 용이하게 선택할 수 있다. 용매는 목적하는 공정을 촉진시키기에 필요한 양으로 존재할 수 있고, 목적하는 공정의 기질 및/또는 시약을 용해시키는 양일 필요는 없다. 본 발명에 따르는 용매는 디아릴 아민 생성물의 형성을 간섭하지 않을 것이다. 적합한 용매의 예에는 할로겐화 용매, 탄화수소 용매, 에테르 용매, 양성자성 용매 및 비양성자성 용매가 포함되지만, 이에 제한되지 않는다. 용매 혼합물이 본 발명의 범위 내에 포함되기도 한다. 전이 금속 촉매를 사용하여 본 발명의 방법의 단계 1에 유용한 바람직한 용매에는 톨루엔, 벤젠, 또는 비-극성 비양성자성 용매, 예를 들면, MTBE, DME 또는 헥산이 포함된다.
한 양태에 따르면, 전이 금속 촉매를 사용하는 커플링 단계(단계 1)는 염기의 존재 하에서 수행된다. 적합한 염기의 예에는 알칼리 금속 하이드록사이드, 알칼리 금속 알콕사이드, 금속 카보네이트, 포스페이트, 알칼리 금속 아릴 옥사이드, 알칼리 금속 아미드, 3급 아민, (하이드록카빌)암모늄 하이드록사이드, 및 디아자 유기 염기가 포함되지만, 이에 제한되지 않는다. 사용된 염기의 양은 디아릴 아민 생성물을 형성시킬 수 있는 어떠한 양일 수도 있다. 본 발명의 바람직한 염기에는 KOtBu, NaOtBu, K3PO4, Na2CO3, 및 Cs2CO3가 포함된다.
본 발명에 적합한 알칼리 금속 염은 나트륨, 칼륨, 루비듐 또는 세슘 이온의 염을 포함한다. 바람직하게는, 본 발명에 적합한 알칼리 금속 염이 칼륨 또는 세슘 이온의 염을 포함한다. 바람직한 알칼리 금속 염은 카보네이트, 포스페이트 및 알콕사이드 염을 포함한다. 본 발명에 적합한 보다 바람직한 알칼리 금속 염에는 탄산칼륨 및 탄산세슘이 포함된다. 가장 바람직하게는, 알칼리 금속 염이 탄산세슘이다.
본 발명의 방법에 사용될 전이 금속 촉매의 양은 디아릴 아민 생성물의 형성을 증진시켜 줄 수 있는 양이다.
알칼리 금속 염을 사용하는 본 발명의 방법의 단계 1에 유용한 바람직한 용매에는 극성 비양성자성 용매, 예를 들면, NMP가 포함된다.
단계 2 시약:
바람직한 양태에 따르면, 보호 그룹 제거 단계(단계 2)가 산의 존재 하에 일어난다. 적합한 산의 예에는 HCl, HBr, HI, 및 유기 산, 예를 들면, 포름산, 아세트산, 프로피온산, 부탄산, 메탄설폰산, p-톨루엔설폰산, 벤젠설폰산 및 트리플루오로아세트산이 포함되지만, 이에 제한되지 않는다. 본 발명의 바람직한 산에는 HCl, HBr, HI 및 TFA가 포함된다.
본 발명의 방법의 단계 2에 바람직한 용매에는 염소화 용매, 예를 들면, CH2Cl2, 1,2-디클로로에탄 및 클로로벤젠이 포함된다.
본 발명의 한 양태에서는, X가 이탈 그룹이다. 바람직한 양태에 따르면, X가 Cl, Br, I, F, OTf, OTs, 요오드늄 및 디아조로 이루어진 그룹 중에서 선택된다.
본 발명의 한 양태에서는, Y가 카바메이트 아민 보호 그룹이다. 바람직한 양태에 따르면, Y가 Boc이다.
본원에 사용된 바와 같이, 달리 지시되지 않는 한 다음 정의가 적용될 것이다. 또한, 치환체의 조합은 이러한 조합으로 인해 안정한 화합물이 수득되는 경우에만 허용 가능하다.
본 명세서 전반에 걸쳐 사용된 약어(화학식 포함) 중 몇몇은 다음과 같다:
Boc = t-부톡시카보닐
Fmoc = 플루오레닐메톡시카보닐
Tf = 트리플루오로메탄설포네이트
Ts = p-톨루엔설포닐
Ms = 메탄설포닐
TFA = 트리플루오로아세트산
Ac = 아세틸
dba = 트랜스,트랜스-디벤질리덴아세톤
dppe = 1,2-비스-(디페닐포스피노)에탄
dppf = 1,1'-비스-(디페닐포스파닐)페로센
dppp = 프로판-1,3-디일비스(디페닐포스판)
BINAP = 2,2'-비스(디페닐포스파닐)-1,1'-비나프틸
MTBE = 메틸 t-부틸 에테르
DME = 디메톡시에탄
CDI = 1,1'-카보닐-디이미다졸
DCC = N,N'-디사이클로헥실카보디이미드
EDC = 1-에틸-3-(3-디메틸아미노프로필)카보디이미드 하이드로클로라이드
HOBt = N-하이드록시벤조트리아졸
NMP = N-메틸피롤리디논
DMF = 디메틸포름아미드
MCPBA = m-클로로퍼벤조산
MMPP = 마그네슘 모노퍼옥시프탈레이트 헥사하이드레이트
DIBAL-H = 디이소부틸 알루미늄 하이드라이드
LAH = 리튬 알루미늄 하이드라이드
슈퍼 하이드라이드(super hydride) = 리튬 트리에틸보로하이드라이드
L-셀렉트리드(selectride) = 리튬 트리-2급-부틸보로하이드라이드
Red-Al = 나트륨 비스(메톡시에톡시)알루미늄 하이드라이드
IPA = 이소프로판올
글림(glyme) = 디메톡시 에탄
디글림(diglyme) = 비스(2-메톡시 에틸)에테르.
본원에 사용된 바와 같이, 달리 지시되지 않는 한 다음 정의가 적용될 것이다. "임의로 치환된"이란 "치환되거나 치환되지 않은" 것과 상호 교환적으로 사용된다. 또한, 치환체의 조합은 이러한 조합으로 인해 화학적으로 안정한 화합물이 수득되는 경우에만 허용 가능하다. 또한, 달리 지시되지 않는 한, 작용성 그룹 라디칼은 독립적으로 선택된다.
본원에 사용된 바와 같은 용어 "이탈 그룹"은 당업자에게 공지된 의미를 갖는다[참조: March, Advanced Organic Chemistry, 4th Edition, John Wiley & Sons, pp. 352-357, 1992; 본원에 참조문헌으로써 삽입됨]. 이탈 그룹의 예에는 할로겐, 예를 들면, F, Cl, Br 및 I, 디아조, 아릴- 및 알킬-설포닐옥시 그룹, 및 트리플루오로메탄설포닐옥시가 포함되지만, 이에 제한되지 않는다.
본원에 사용된 바와 같은 용어 "지방족"은 완전하게 포화되거나 또는 1개 이상의 불포화 단위를 함유하는 직쇄 또는 측쇄 C1-C12 탄화수소 쇄를 의미한다. 용어 "지방족"에는 또한, 완전하게 포화되거나 또는 1개 이상의 불포화 단위를 함유하지만, 방향족이 아닌 모노사이클릭 C3-C8 탄화수소 또는 바이사이클릭 C8-C12 탄화수소(상기 사이클릭 탄화수소 쇄는 "카보사이클" 또는 "사이클로알킬"로서 본원에 지칭되기도 한다)가 포함되는데, 이는 분자의 나머지 부분에 단일 부착점을 갖고 상기 바이사이클릭 환 시스템 중의 모든 개개의 환은 3 내지 7개 구성원을 갖는다. 예를 들어, 적합한 지방족 그룹에는 선형 또는 분지된 알킬, 알케닐, 알키닐 그룹 및 이의 하이브리드, 예를 들면, (사이클로알킬)알킬, (사이클로알케닐)알킬 또는 (사이클로알킬)알케닐이 포함되지만, 이에 제한되지 않는다.
단독으로 사용되거나 보다 큰 잔기의 일부로서 사용된 용어 "알킬", "알콕시", "하이드록시알킬", "알콕시알킬" 및 "알콕시카보닐"에는 1 내지 12개의 탄소 원자를 함유하는 직쇄와 측쇄 둘 다가 포함된다. 단독으로 사용되거나 보다 큰 잔기의 일부로서 사용된 용어 "알케닐" 및 "알키닐"에는 2 내지 12개의 탄소 원자를 함유하는 직쇄와 측쇄 둘 다가 포함될 것이며, 알케닐은 1개 이상의 이중 결합을 포함하고 알키닐은 1개 이상의 삼중 결합을 포함한다.
본원에 사용된 바와 같은 용어 "화학적으로 안정한" 또는 "화학적으로 용이하고 안정한"이란 당해 분야에 공지된 방법에 의해 제조할 수 있고 포유류에게 투여할 수 있을 정도로 충분히 안정한 화합물로 만드는 화합물 구조를 지칭한다. 전형적으로, 이러한 화합물은 수분 또는 기타 화학적 반응성 조건의 부재 하에 40℃ 이하에서 1주 이상 동안 안정하다.
용어 "할로알킬", "할로알케닐" 및 "할로알콕시"는 경우에 따라서 하나 이상의 할로겐 원자에 의해 치환된 알킬, 알케닐 또는 알콕시를 의미한다. 용어 "할로겐"은 F, Cl, Br 또는 I를 의미한다.
용어 "헤테로 원자"는 N, O, 또는 S를 의미하고, 이에는 질소 및 황의 산화된 형태 및 염기성 질소의 4급화 형태가 포함될 것이다.
단독으로 사용되거나 보다 큰 잔기의 일부로서 사용된 용어 "아민" 또는 "아미노"는 1급일 수 있거나 또는 1 내지 2개의 지방족 그룹에 의해 치환될 수 있는 3가 질소를 지칭한다.
단독으로 사용되거나 또는 "아르알킬", "아르알콕시" 또는 "아릴옥시알킬"에서와 같이 보다 큰 잔기의 일부로서 사용된 용어 "아릴"은 총 5 내지 14개의 구성원을 갖는 모노사이클릭, 바이사이클릭 및 트리사이클릭 카보사이클릭 환 시스템을 지칭하는데, 이러한 시스템 중의 적어도 1개의 환은 방향족이고 이러한 시스템 중의 각 환은 3 내지 8개의 환 구성원을 함유한다. 용어 "아릴"은 용어 "아릴 환"과 상호 교환적으로 사용될 수 있다.
본원에 사용된 바와 같은 용어 "헤테로사이클", "헤테로사이클릴" 또는 "헤테로사이클릭"은 총 5 내지 14개의 환 구성원을 갖는 비-방향족의 모노사이클릭, 바이사이클릭 또는 트리사이클릭 환 시스템을 의미하는데, 상기 환 구성원 중의 1개 이상은 헤테로 원자이고 상기 시스템 중의 각 환은 3 내지 7개의 환 구성원을 함유한다.
당업자는 안정하고 화학적으로 용이한 헤테로사이클릭 또는 헤테로방향족 환 중의 헤테로 원자의 최대 수는 환의 크기, 불포화도 및 헤테로 원자의 원자가에 의해 결정된다는 것을 인지할 것이다. 일반적으로, 헤테로사이클릭 또는 헤테로방향족 환은 이러한 헤테로사이클릭 또는 헤테로방향족 환이 화학적으로 용이하고 안정하는 한은 1 내지 4개의 헤테로 원자를 가질 수 있다.
단독으로 사용되거나 또는 "헤테로아르알킬" 또는 "헤테로아릴알콕시"에서와 같이 보다 큰 잔기의 일부로서 사용된 용어 "헤테로아릴"은 총 5 내지 14개의 환 구성원을 갖는 모노사이클릭, 바이사이클릭 및 트리사이클릭 환 시스템을 지칭하는데, 이러한 시스템 중의 적어도 1개의 환은 방향족이고, 상기 시스템 중의 1개 이상의 환은 하나 이상의 헤테로 원자를 함유하며 상기 시스템 중의 각 환은 3 내지 7개의 환 구성원을 함유한다. 용어 "헤테로아릴"은 용어 "헤테로아릴 환" 또는 용어 "헤테로방향족"과 상호 교환적으로 사용될 수 있다.
아릴(아르알킬, 아르알콕시, 아릴옥시알킬 등을 포함함) 또는 헤테로아릴(헤테로아릴알킬 및 헤테로아릴알콕시 등을 포함함) 그룹은 하나 이상의 치환체를 함유할 수 있다. 아릴, 헤테로아릴, 아르알킬 또는 헤테로아르알킬 그룹의 불포화 탄소 원자 상의 적합한 치환체는 할로겐; 할로알킬; -CF3; -R4; -OR4; -SR4; 1,2-메틸렌디옥시; 1,2-에틸렌디옥시; 보호된 OH(예: 아실옥시); 페닐(Ph); R4에 의해 치환된 Ph; -OPh; R4에 의해 치환된 -OPh; -CH2Ph; R4에 의해 치환된 -CH2Ph; -CH2CH2(Ph); R4에 의해 치환된 -CH2CH2(Ph); -NO2; CN; N(R4)2; -NR4C(O)R4; -NR4C(O)N(R4)2; -NR4CO2R4; -NR4NRC(O)R4; -NR4C(0)N(R4)2; -NR4NR4C(0)R4; -NR4NR4C(0)N(R4)2; -NR4NR4C02R4; -C(0)C(O)R4; -C(O)CH2C(O)R4; -CO2R4; -C(O)R4; -C(O)N(R4)2; -OC(O)N(R4)2; -SO2R4; -SO2N(R4)2; -S(O)R4; -NR4SO2N(R4)2; -NR4SO2R4; -C(=S)N(R4)2; -C(=NH)-N(R4)2; -(CH2)yNHC(0)R4; -(CH2)yR4; -(CH2)yNHC(0)NHR4; -(CH2)yNHC(O)OR4; -(CH2)yNHS(O)R4; -(CH2)yNHSO2R4; 또는 -(CH2)yNHC(0)CH(V-R4)R4 중에서 선택되는데, R4는 각각, 수소, 임의로 치환된 C1-6 지방족, 치환되지 않은 5 내지 6원 헤테로아릴 또는 헤테로사이클릭 환, 페닐(Ph), -0-Ph, -CH2(Ph) 중에서 독립적으로 선택되고, y는 0 내지 6이며 V는 링커 그룹이다. R4가 C1-6 지방족인 경우, 이는 -NH2, -NH(C1-4 지방족), -N(C1-4 지방족)2, -S(O)(C1-4 지방족), -SO2(C1-4 지방족), 할로겐, -(C1-4 지방족), -OH, -O-(C1-4 지방족), -NO2, -CN, -CO2H, -CO2(C1-4 지방족), -O-(할로 C1-4 지방족), 또는 -할로(C1-4 지방족) 중에서 선택된 하나 이상의 치환체[여기서, 각 C1-4 지방족은 치환되지 않는다]에 의해 치환될 수 있다.
용어 "링커 그룹" 또는 "링커"는 화합물의 두 부분을 연결해 주는 유기 잔기를 의미한다. 링커는 -0-, -S-, -NR*-, -C(R*)2-, -C(0), 또는 알킬리덴 쇄로 구성된다. 이러한 알킬리덴 쇄는 임의로 치환되는 포화 또는 불포화의 직쇄 또는 측쇄의 C1-6 탄소 쇄인데, 이러한 쇄의 2개 이하의 비-인접한 포화 탄소는 -C(O)-, -C(O)C(O)-, -C(O)NR*-, -C(O)NR*NR*-, NR*NR*-, -NR*C(O)-, -S-, -SO-, -SO2-, -NR*-, -SO2NR*-, 또는 -NR*SO2-에 의해 임의로 치환되고, 여기서 R*는 수소 또는 지방족 중에서 선택된다. 알킬리덴 쇄 상의 임의의 치환체는 지방족 그룹에 대해 다음에 기재되는 바와 같다.
지방족 그룹 또는 비-방향족 헤테로사이클릭 환은 하나 이상의 치환체를 함유할 수 있다. 지방족 그룹의 포화 탄소 또는 비-방향족 헤테로사이클릭 환의 포화 탄소 상의 적합한 치환체는 아릴 또는 헤테로아릴 그룹의 불포화 탄소에 대해 상기 열거된 것들과 다음 중에서 선택된다: =O, =S, =NNHR5, =NN(R5)2, =NR5, -OR5, =NNHC(O)R5, =NNHCO2R5, =NNHSO2R5, 또는 =NR5[여기서, R5는 각각, 수소 또는 임의로 치환된 C1-6 지방족 중에서 독립적으로 선택된다]. R5가 C1-6 지방족인 경우, 이는 -NH2, -NH(C1-4 지방족), -N(C1-4 지방족)2, 할로겐, -OH, -O-(C1-4 지방족), -NO2, -CN, -CO2H, -CO2(C1-4 지방족), -O-(할로 C1-4 지방족), 또는 (할로 C1-4 지방족) 중에서 선택된 하나 이상의 치환체[여기서, 각 C1-4 지방족은 치환되지 않는다]에 의해 치환될 수 있다.
비-방향족 헤테로사이클릭 환의 질소 상의 치환체는 -R6, -N(R6)2, -C(O)R6, -CO2R6, -C(O)C(O)R6, -C(0)CH2C(O)R6, -SO2R6, -SO2N(R6)2, -C(=S)N(R6)2, -C(=NH)-N(R6)2, 또는 -NRSO2R 중에서 선택되는데, R6은 각각, 수소, 임의로 치환된 C1-6 지방족, 임의로 치환된 페닐(Ph), 임의로 치환된 -0-Ph, 임의로 치환된 -CH2(Ph), 또는 치환되지 않은 5 내지 6원 헤테로아릴 또는 헤테로사이클릭 환 중에서 독립적으로 선택된다. R6이 C1-6 지방족 그룹 또는 페닐 환인 경우, 이는 -NH2, -NH(C1-4 지방족), -N(C1-4 지방족)2, 할로겐, -(C1-4 지방족), -OH, -O-(C1-4 지방족), -NO2, -CN, -CO2H, -CO2(C1-4 지방족), -O-(할로 C1-4 지방족), 또는 (할로 C1-4 지방족) 중에서 선택된 하나 이상의 치환체[여기서, 각 C1-4 지방족은 치환되지 않는다]에 의해 치환될 수 있다.
반응식 2 내지 8은 피리디닐 아릴 아민 유도체를 합성하기 위해 반응식 1의 공정을 적용한 것을 예시하고 있다. 본 발명에 따라서 합성된 상기 피리디닐 디아릴 아민은 당업자에게 공지된 방법에 따라서 추가로 작용성화하여, p38 키나제의 강력한 억제제인 화합물을 제조할 수 있다:
상기식에서,
R3은 C1-C6 지방족; 아릴; 및 C1-C6 지방족, 아릴, 니트로, CN, C02R', C02N(R')2, OR', NCO2R', NR'C(O)N(R')2, 또는 OC(0)N(R')2에 의해 치환된 아릴 중에서 선택되는데,
단 R3은 t-부틸이 아니고;
G1, G2, G3, G4, 및 G5는 수소, 지방족, 아릴, 치환된 아릴, 니트로, CN, OR', CO2R', C02N(R')2, NR'C02R', NR'C(O)N(R')2, OC(O)N(R')2, F, Cl, Br, I, O-Ts, O-Ms, OSO2R', 및 OC(O)R' 중에서 독립적으로 선택되고;
X는 이탈 그룹이며;
Y는 -C(O)-O-Z이고;
Z는 C1-C6 지방족, 벤질, Fmoc, -SO2R' 및 Q 중에서 선택되는데, 단 Q는 X 또는 알킨에 의해 치환되지 않고;
Q 및 R'는 상기 정의된 바와 같다.
반응식 2에 예시된 각종 단계는 다음과 같이 언급될 수 있다:
단계 1: 출발 물질 21은 당해 분야에 공지된 과정에 따라서 2-클로로니코틴산으로부터의 합성에 의해 이용 가능하다(예를 들어, 반응식 3 참조). 출발 물질 21을 NMP 등의 용매 중에서 알칼리 금속 염, 예를 들면, 탄산세슘의 존재 하에; 또는 톨루엔, MTBE, DME 또는 헥산 등의 상용성 용매 중에서 팔라듐 아세테이트 등의 촉매, 임의로 리간드, 예를 들면, BINAP 또는 dppe, 및 임의로 염기, 예를 들면, 인산칼륨의 존재 하에, 보호된 아릴 아민 22과 커플링시켜(예를 들어, 반응식 3 참조) 식 23의 보호된 커플링 생성물을 수득한다.
단계 2: 상기와 같이 보호된 커플링 생성물 23을 적합한 용매, 예를 들면, 메틸렌 클로라이드, 1,2-디클로로에탄 또는 클로로벤젠 중에서 TFA 등의 산과 반응시켜 식 24의 화합물을 수득한다.
반응식 3a는 출발 물질 21의 합성을 예시한 것이고, 반응식 3b는 반응식 2의 탈보호된 커플링 생성물 24를 추가로 유도체화하는 과정을 예시한 것이다.
상기식에서,
R3, G1, G2, G3, G4 및 G5는 상기 반응식 2에서 제시된 바와 같다.
반응식 3a 및 3b에 예시된 각종 단계는 다음과 같이 언급될 수 있다:
단계 A: 니코틴산 유도체 31은, 이를 극성 비양성자성 용매, 예를 들면, CH2Cl2, 1,2-디클로로에탄, DMF 또는 NMP 중에서 HOBt 및 N-하이드록시석신이미드의 존재 하에, 클로로포르메이트 활성화제, 예를 들면, SOCl2, 페닐클로로포르메이트 또는 p-니트로페닐 클로로포르메이트, 또는 카보디이미드 활성화제, 예를 들면, CDI, DCC 또는 EDC와 반응시킨 다음, 가열함으로써 활성화시킬 수 있다. 이어서, 식 R3OH의 알코올을 가하여 화합물 32를 형성시킨다.
단계 B: 화합물 32를 톨루엔, MTBE, DME 또는 헥산 등의 용매 중에서 촉매, 예를 들면, 팔라듐 아세테이트, 염기, 예를 들면, 탄산나트륨, 탄산칼륨, 탄산리튬, 탄산세슘, 칼륨 t-부톡사이드, 나트륨 t-부톡사이드 또는 리튬 t-부톡사이드의 존재 하에, 보론산, 예를 들면, 33과 커플링시켜 34를 수득한다.
단계 C: 이어서, 커플링된 생성물 34를 염소화 용매, 예를 들면, CH2Cl2 또는 1,2-디클로로에탄 중에서 MCPBA, 퍼아세트산 또는 MMPP 등의 시약의 존재 하에 N-산화시켜 35를 수득한다.
단계 D: N-옥사이드 35를 POC13, POBr3, SOC12, SO2C12, 또는 SOBr2 등의 시약의 존재 하에 활성화시켜 21을 수득한다.
단계 1 및 2는 상기 반응식 2에 제시된 바와 같다.
단계 E: 24의 자유 아민을 활성화 카보닐, 예를 들면, X4C(O)X5[여기서, X4 및 X5는 각각, Cl, Br, I, 이미다졸, O-Ph, p-니트로페닐옥시, 치환된 O-아릴, 또는 이탈 그룹 중에서 독립적으로 선택된다]과 반응시킨 다음, 카보닐을 톨루엔, DME, 또는 MTBE 등의 용매 중에서 수산화암모늄과 반응시킴으로써 유도체화하여 상응하는 우레아를 형성시켜 36을 수득한다.
단계 F: 36의 에스테르 작용기를 THF, DME, MTBE, MeOH, EtOH, IPA, t-BuOH, 글림, 또는 디글림 등의 용매 중에서 환원제, 예를 들면, DIBAL, LAH, 슈퍼 하이드록사이드, L-셀렉티드, LiBH4, NaBH3(아닐리드), Red-Al, 또는 NaBH4의 존재 하에 환원시켜 상응하는 알코올로 만들어 37을 형성시킨다.
단계 G: 상기 37의 알코올을, 예를 들어, X4C(O)X5[여기서, X4 및 X5는 상기 단계 E에서 정의된 바와 같다]로 활성화시킨 다음, 카보닐을 OH(CH2)2NH2와 반응시킴으로써 추가로 작용성화하여 38을 형성시킬 수 있다.
반응식 4 내지 7의 공정이 특정 시약과 출발 물질을 사용하여 예시되긴 하지만, 당업자는 적합한 유사 반응물과 출발 물질을 사용하여 유사한 화합물을 제조할 수 있다는 사실을 인지할 것이다.
반응식 4는 본 발명의 방법을 사용하여 디아릴 아민을 제조하는 한 가지 예를 제공해준다:
반응식 4에 예시된 각종 단계가 다음과 같이 간략하게 언급될 수 있다:
단계 1: 6-클로로-2-(4-플루오로페닐)-니코틴산 메틸 에스테르 41은 2-클로로니코틴산으로부터의 합성에 의해 이용 가능하다(예를 들어, 반응식 5 참조). 41을 NMP 등의 용매 중에서 알칼리 금속 염, 예를 들면, 탄산세슘의 존재 하에; 또는 톨루엔 등의 상용성 용매 중에서 팔라듐 아세테이트 등의 촉매, 임의로 리간드, 예를 들면, BINAP, 및 임의로 염기, 예를 들면, 인산칼륨의 존재 하에, 보호된 아릴 아민, 예를 들면, Boc-2,6-디플루오로아닐린 42과 커플링시켜(예를 들어, 반응식 5 참조) 식 43의 보호된 커플링 생성물을 수득한다.
단계 2: 상기와 같이 보호된 커플링 생성물 43을 적합한 용매, 예를 들면, 메틸렌 클로라이드 중에서 TFA 등의 산과 반응시켜 식 44의 화합물을 수득한다.
보다 일반적으로, 당업자는 41a를 42a와 반응시킴으로써 식 44의 화합물을 제조할 수 있다는 사실을 인지할 것이다:
상기식에서, X 및 Y는 상기 제시된 바와 같다.
반응식 5a는 출발 물질 41의 합성을 예시한 것이고, 반응식 5b는 반응식 4의 탈보호된 커플링 생성물 24를 추가로 유도체화하는 과정을 예시한 것이다.
반응식 5a 및 5b에 예시된 각종 단계는 다음과 같이 간략하게 언급될 수 있다:
단계 A: 6-클로로니코틴산 유도체 51은, 이를 극성 비양성자성 용매, 예를 들면, CH2Cl2, 1,2-디클로로에탄, DMF 또는 NMP 중에서 HOBt 및 N-하이드록시석신이미드의 존재 하에, 클로로포르메이트 활성화제, 예를 들면, SOCl2, 페닐클로로포르메이트 또는 p-니트로페닐 클로로포르메이트, 또는 카보디이미드 활성화제, 예를 들면, CDI, DCC 또는 EDC와 반응시킨 다음, 가열함으로써 활성화시킬 수 있다. 이어서, 메탄올 등의 알코올을 가하여 6-클로로니코틴산 메틸 에스테르 52를 형성시킨다.
단계 B: 화합물 52를 톨루엔, MTBE, DME 또는 헥산 등의 용매 중에서 촉매, 예를 들면, 팔라듐 아세테이트, 염기, 예를 들면, 탄산나트륨, 탄산칼륨, 탄산리튬, 탄산세슘, 칼륨 t-부톡사이드, 나트륨 t-부톡사이드 또는 리튬 t-부톡사이드의 존재 하에, 보론산, 예를 들면, 53과 커플링시켜 54를 수득한다.
단계 C: 이어서, 커플링된 생성물 54를 염소화 용매, 예를 들면, CH2Cl2 또는 1,2-디클로로에탄 중에서 MCPBA, 퍼아세트산 또는 MMPP 등의 시약의 존재 하에 N-산화시켜 55를 수득한다.
단계 D: 활성화된 N-옥사이드 55를 POC13, POBr3, SOC12, SO2C12, 또는 SOBr2 등의 시약의 존재 하에 할로겐화시켜 41을 수득한다.
단계 1 및 2는 상기 반응식 4에 제시된 바와 같다.
단계 E: 44의 자유 아민을 활성화 카보닐, 예를 들면, X4C(O)X5[여기서, X4 및 X5는 각각, Cl, Br, I, 이미다졸, O-Ph, p-니트로페닐옥시, 치환된 O-아릴, 또는 이탈 그룹 중에서 독립적으로 선택된다]과 반응시킨 다음, 카보닐을 톨루엔, DME, 또는 MTBE 등의 용매 중에서 수산화암모늄과 반응시킴으로써 유도체화하여 상응하는 우레아를 형성시켜 56을 수득한다.
단계 F: 56의 에스테르 작용기를 THF, DME, MTBE, MeOH, EtOH, IPA, t-BuOH, 글림, 또는 디글림 등의 용매 중에서 환원제, 예를 들면, DIBAL, LAH, 슈퍼 하이드라이드, L-셀렉티드, LiBH4, NaBH3(아닐리드), Red-Al, 또는 NaBH4의 존재 하에 환원시켜 상응하는 알코올로 만들어 57을 형성시킨다.
단계 G: 상기 57의 알코올을, 예를 들어, X4C(O)X5[여기서, X4 및 X5는 상기 단계 E에서 정의된 바와 같다]로 활성화시킨 다음, 카보닐을 OH(CH2)2NH2와 반응시킴으로써 추가로 작용성화하여 58을 형성시킬 수 있다.
반응식 6은 본 발명의 방법을 사용하여 디아릴 아민을 제조하는 한 가지 예를 제공해준다:
반응식 6에 예시된 각종 단계가 다음과 같이 간략하게 언급될 수 있다:
단계 1: 6-클로로-2-(2,4-디플루오로페닐)-니코틴산 에틸 에스테르 61은 2-클로로니코틴산으로부터의 합성에 의해 이용 가능하다(예를 들어, 반응식 7 참조). 61을 NMP 등의 용매 및 알칼리 금속 염, 예를 들면, 탄산세슘의 존재 하에; 또는 톨루엔 등의 상용성 용매 중에서 팔라듐 아세테이트 등의 촉매, 임의로 리간드, 예를 들면, BINAP, 및 임의로 염기, 예를 들면, 인산칼륨의 존재 하에, 보호된 아릴 아민, 예를 들면, Boc-2,6-디플루오로아닐린 42과 커플링시켜(예를 들어, 반응식 7 참조) 식 62의 보호된 커플링 생성물을 수득한다.
단계 2: 상기와 같이 보호된 커플링 생성물 62를 적합한 용매, 예를 들면, 메틸렌 클로라이드 중에서 TFA 등의 산과 반응시켜 식 63의 화합물을 수득한다.
보다 일반적으로, 당업자는 61a를 62a와 반응시킴으로써 식 63의 화합물을 제조할 수 있다는 사실을 인지할 것이다:
상기식에서, X 및 Y는 상기 제시된 바와 같다.
반응식 7a는 출발 물질 61의 합성을 예시한 것이고, 반응식 7b는 반응식 6의 탈보호된 커플링 생성물 63을 추가로 유도체화하는 과정을 예시한 것이다.
반응식 7a 및 7b에 예시된 각종 단계는 다음과 같이 간략하게 언급될 수 있다:
단계 A: 6-클로로니코틴산 유도체 51은, 이를 극성 비양성자성 용매, 예를 들면, CH2Cl2, 1,2-디클로로에탄, DMF 또는 NMP 중에서 HOBt 및 N-하이드록시석신이미드의 존재 하에, 클로로포르메이트 활성화제, 예를 들면, SOCl2, 페닐클로로포르메이트 또는 p-니트로페닐 클로로포르메이트, 또는 카보디이미드 활성화제, 예를 들면, CDI, DCC 또는 EDC와 반응시킨 다음, 가열함으로써 활성화시킬 수 있다. 이어서, 에탄올 등의 알코올을 가하여 6-클로로니코틴산 에틸 에스테르 71를 형성시킨다.
단계 B: 화합물 71을 톨루엔, MTBE, DME 또는 헥산 등의 용매 중에서 촉매, 예를 들면, 팔라듐 아세테이트, 염기, 예를 들면, 탄산나트륨, 탄산칼륨, 탄산리튬, 탄산세슘, 칼륨 t-부톡사이드, 나트륨 t-부톡사이드 또는 리튬 t-부톡사이드의 존재 하에, 보론산, 예를 들면, 72와 커플링시켜 73을 수득한다.
단계 C: 이어서, 커플링된 생성물 73을 염소화 용매, 예를 들면, CH2Cl2 또는 1,2-디클로로에탄 중에서 MCPBA, 퍼아세트산 또는 MMPP 등의 시약의 존재 하에 N-산화시켜 74를 수득한다.
단계 D: 활성화된 N-옥사이드 74를 POC13, POBr3, SOC12, SO2C12, 또는 SOBr2 등의 시약의 존재 하에 할로겐화시켜 61을 수득한다.
단계 1 및 2는 상기 반응식 6에 제시된 바와 같다.
단계 E: 63의 에스테르 작용기를 THF 등의 용매 중에서 염기, 예를 들면, NaOH의 존재 하에 비누화시킨 다음, HCl 등의 산의 존재 하에 산성화시켜 75를 형성시킨다.
단계 F: 이어서, 75를 디포스겐과 반응시킨 다음, NH4OH와 반응시켜 아미드-우레아 화합물 76을 형성시킨다.
반응식 8에 예시된 각종 단계가 다음과 같이 간략하게 언급될 수 있다:
단계 A: 6-클로로-2-(2,4-디플루오로페닐)-니코틴산 에틸 에스테르 61은 2-클로로니코틴산으로부터의 합성에 의해 이용 가능하다. 출발 물질 41을 NMP 등의 용매 중에서 알칼리 금속 염, 예를 들면, 탄산세슘의 존재 하에, 보호된 아릴 아민, 예를 들면, Boc-2,6-디플루오로아닐린 42과 커플링시켜 보호된 커플링 생성물을 수득한다. 이어서, 이와 같이 보호된 커플링 생성물을 적합한 용매, 예를 들면, 메틸렌 클로라이드 중에서 TFA 등의 산과 반응시켜 식 63의 화합물을 수득한다.
단계 B: 63의 에스테르 작용기를 THF 등의 용매 중에서 염기, 예를 들면, NaOH의 존재 하에 비누화시킨 다음, HCl 등의 산의 존재 하에 산성화시켜 75를 형성시킨다.
단계 C: 이어서, 75를 디포스겐과 반응시킨 다음, NH4OH와 반응시켜 아미드-우레아 화합물 76를 형성시킨다.
다음 실시예는 본 발명을 실시할 수 있는 방식으로 예시한 것이지만, 이로써 본 발명의 방법의 전체 범주가 제한되지 않는다.
적용 가능할 경우, 다음 HPLC 방법이 달리 지시되지 않는 한 활용되었다: 물:아세토니트릴, 0.1% TFA의 구배(90:10 →10:90 →90:10)를 1ml/min 및 254nm 하에 26분에 걸쳐 수행하였다. 이러한 방법은 조르박스(Zorbax) SB 페닐 4.6 x 25cm 칼럼, 5㎛를 이용한다. 용어 "Tret"는 해당 화합물과 연관된 보유 시간(분)을 지칭한다.
또 다른 양태에 따르면, 본 발명의 방법은 다음 화학식 A 또는 화학식 B의 화합물을 제공한다:
상기식에서,
X1, X2, X3, 및 X4는 각각, 플루오로 및 클로로 중에서 독립적으로 선택되고;
R은 H 또는 메틸이다.
화학식 A 및 화학식 B의 화합물은 p38의 억제제로서 유용하다. PCT 국제공개공보 WO 99/58502('502 공보로서 후술됨)(이는 본원에 참조문헌으로써 삽입되어 있다)에는 화학식 A 및 화학식 B의 화합물을 포괄하는 화합물 부류가 기재되어 있다. 본 발명의 방법은 '502 공보의 화합물을 제조하기 위해 용이하게 사용될 수도 있다.
화학식 A의 바람직한 양태에 따르면, 각각의 X1, X2, X3, 및 X4가 플루오로이다. 화학식 A의 또 다른 바람직한 양태에 따르면, R이 H이다.
화학식 B의 바람직한 양태에 따르면, 각각의 X1, X2, 및 X4가 플루오로이다. 화학식 B의 또 다른 바람직한 양태에 따르면, R이 H이다.
화학식 B의 가장 바람직한 양태에 따르면, 본 발명의 방법은 다음 화합물 77을 생성시킨다:
실시예 1
2- 클로로 -니코틴산 메틸 에스테르(52): 화합물 52를 문헌[참조: Synth. Comm. 26 (12), 2257-2272 (1996)]의 방법에 따라서 제조한다. 질소 퍼징된 플라스크에 2-클로로-니코틴산(1000.0g, 6.0mol, 1.0당량)을 충진시킨 다음 9L 메틸렌 클로라이드를 충진시킨다. 이에 티오닐 클로라이드(1.4L, 19.7mol, 3.2당량)를 가하고, 반응물을 질소 하에 밤새 격렬하게 교반시키면서 40℃로 가열한다. 산 클로라이드 용액을 빙욕 속에서 냉각시키고, 온도를 20℃로 유지시키면서 메탄올(3L, 74mol, 12당량)을 서서히 가한다. 속도 제한 파라미터는 다량의 HCl 기체가 격렬하게 방출되는 것이다. 부가 후, HPLC 분석[Tret 출발 물질 = 7.5분, Tret 52 = 11분] 결과, 생성물이 즉시 형성된 것으로 나타났다. 휘발성 물질을 진공 하에 제거하고, 잔사를 EtOAc와 함께 10% Na2CO3로부터 추출시킨다. 합한 유기물을 건조시키고(MgSO4), 여과시킨 다음 농축시켜 담황색 오일을 수득한다.
실시예 2
2-(4-플루오로-페닐)-니코틴산 메틸 에스테르(54): 질소 퍼징된 플라스크에 Pd(Ph3)4(1.84g, 1.6mmol, 0.005당량), 탄산나트륨(42.8g, 404mmol, 1.3당량), 화합물 52(55.5g, 320.6mmol, 1.0당량), p-플루오로페닐보론산(53.8g, 384.7mmol, 1.2당량)을 충진시킨 다음 1.3L 변성 EtOH를 충진시킨다. 반응물을 N2 하에 밤새 격렬하게 교반시키면서 78℃로 가열한다. 반응 혼합물을 HPLC 분석[Tret 52 = 10분, Tret 54 = 12분]한 결과, 출발 물질이 완전히 소모되었고 나중에 방출되는 피크가 생성된 것으로 나타났다. 반응물을 실온으로 냉각시키고 용매를 진공 하에 제거한다. 잔사를 EtOAc에 용해시키고, 세척하며, 건조시키고(MgSO4), 셀라이트를 통해 여과시킨 다음 농축시켜 담황색 고체 54를 수득한다.
실시예 3
2-(4-플루오로-페닐)-1-옥시-니코틴산 메틸 에스테르(55): 질소 퍼징된 플라스크에 우레아 과산화수소(86.9g, 924mmol, 4.0당량), 디아릴 피리딘 54(53.4g, 231mmol, 1.0당량) 및 530ml 아세트산을 충진시킨다. 연황색의 균질한 용액을, HPLC 분석[Tret 54 = 12분, Tret 55 = 10분]이 >97% 완료를 나타낼 때까지 질소 하에 격렬하게 교반시키면서 70 내지 75℃로 가열한다. 반응물을 실온으로 냉각시키고, 내용물을 500g의 얼음 위로 서서히 따라 붓는다. 이와 같이 격렬하게 교반시킨 얼음 혼합물에 6N NaOH를 서서히 가하여 pH 7이 되도록 하는데, 이 동안 온도를 30℃로 유지시킨다. 8 내지 9의 수성 pH에 도달할 때까지 EtOAc 및 NaHCO3(고체)를 가하고, 고형분을 용해시킨다. 층을 분리시키고, 수성 층을 EtOAc로 역추출시킨다. 합한 유기물을 5% NaHCO3로 세척한 다음, 산화제의 존재를 알아보기 위해 과산화물 시험용 스트립에 의해 시험한다. 유기 층이 과산에 대해 양성인 경우에는, 시험 결과가 음성으로 될 때까지 중탄산염 세척을 반복한다. 과산에 대해 음성으로 되면, 합한 유기물을 건조시키고(MgSO4), 여과시킨 다음 농축시켜 담황색 고체 55를 수득한다.
실시예 4
6-클로로-2-(4-플루오로-페닐)-니코틴산 메틸 에스테르(41): 질소 퍼징된 플라스크에 N-옥사이드 55(45g, 182mmol, 1.0당량)를 충진시킨 다음, 300ml 디클로로에탄을 충진시킨다. 옥시염화인(101ml, 1080mmol, 6당량)을 한번에 모두 가하여, 17℃에서부터 19℃까지의 온도로 즉시 상승시킨 다음, 점차적으로 가온시킨다. 이 용액을, HPLC 분석[Tret 55 = 10분, Tret 41 = 17분]이 >94% 완료를 나타낼 때까지 질소 하에 70 내지 75℃로 가열한다. 반응물을 실온으로 냉각시키고, 내용물을 진공 하에 농축시켜 대부분의 POCl3를 제거한다. 나머지를 450g의 얼음 위로 서서히 따라 부음으로써 급냉시킨다. 얼음을 용융시킨 후, 생성물을 메틸렌 클로라이드로 추출시킨다. 합한 유기물을 건조시키고(MgSO4), 실리카를 통하여 여과시킨 다음 농축시켜 고체 41을 수득한다.
실시예 5
6-(2,6-디플루오로-페닐아미노)-2-(4-플루오로-페닐)-니코틴산 메틸 에스테르(44): 질소 퍼징된 플라스크에 팔라듐 아세테이트(13.2g, 59mmol, 0.04당량), 라세믹 BINAP(36.6g, 59mmol, 0.04당량)을 충진시킨 다음, 1.9L 톨루엔을 충진시킨다. 불균질한 슬러리를 질소 하에 2시간 동안 50℃로 가열하고, 30℃로 냉각시킨 다음, 피리딜 클로라이드 41(386.4g, 1.45mol, 1.0당량), Boc-2,6-디플루오로아닐린 42(386.4g, 1.69mol, 1.2당량) 및 K3PO4(872g, 4.1mol, 2.8당량)을 한번에 모두 가한 다음, 1.9L 톨루엔 세정제를 가한다. 불균질한 반응 혼합물을 밤새 100℃로 가열하고 HPLC로 모니터한다. HPLC 분석[Tret 41 = 17분, Tret 43 = 20.5분, Tret 44 = 17.6분, 229nm에서 모니터함] 결과, 반응물이 화합물 43으로 완전히 전환된 것으로 나타나면(통상적으로 18 내지 20시간), 반응물을 실온으로 냉각시키고, 내용물을 1.94L EtOAc로 희석시킨다. 이에 1 x 1.94L의 6N HCl을 가하고, 양 층을 셀라이트 내로 여과시킨다. 셀라이트 습윤 케이크를 2 x 1.9L EtOAc로 세정한다. 층을 분리시키고, 유기 층을 1 x 1.9L의 염수로 세척하고, 건조시키며(MgSO4), 여과시킨 다음 농축시켜 갈색의 점성 오일을 수득한다. Boc-보호 그룹을 제거하기 위해, 상기 오일을 1.94L의 메틸렌 클로라이드에 용해시키고 388ml TFA를 가한다. 반응물을 밤새 교반시켜 Boc 제거를 촉진시킨다. 휘발성 물질을 진공 하에 제거하고, pH가 2 내지 7이 될때까지 EtOAc(1.9L) 및 충분량의 1 또는 6N NaOH를 가한다. 이어서, 충분량의 5% NaHCO3를 가하여 pH가 8 내지 9가 되도록 한다. 유기 층을 분리시키고, 1 x 5% NaHCO3로 세척하고, 건조시키며(MgSO4), 여과시킨 다음 농축시켜 갈색 오일/액체를 수득한다. 이러한 조 오일/액체를 충분량의 톨루엔으로 2회 공비 제거시킨다. 이때, 자유 염기가 침전되어 슬러리가 형성된다. 잔사를 500ml 톨루엔에 용해시키고, 1.6L 1N HCl/에테르 용액을 가하면, 고형물이 부서진다. 균질화된/고형물이 파괴될 때까지 열을 가한다. 필요한 경우, 200ml의 EtOAc를 가하여 이러한 파괴를 촉진시킬 수 있다. 냉각 후, 고체 44를 진공 여과시킴으로써 분리시킨다.
실시예 6
6-1-(2,6-디플루오로-페닐아미노)-우레이도]-2-(4-플루오로-페닐)-니코틴산 메틸 에스테르(56): 질소 퍼징된 플라스크에 44의 아미노 에스테르 HCl 염(262g, 0.67mole, 1.0당량)을 충진시킨 다음, 1.2L 톨루엔을 충진시킨다. 이와 같이 불균질한 혼합물에 포스겐(1.4L의 1.93M 톨루엔 용액, 2.7mol, 4.0당량)을 가하고 반응물을 질소 하에 밤새 50℃로 가열한다. -NC(O)Cl 잔기를 형성하기 위한 반응의 진행 과정을 HPLC[Tret 44 = 17.6분, Tret 카바모일 중간체 = 19.7분, Tret 56 = 16.4분, 229nm에서 모니터함]에 의해 모니터한다. 일단 질소가 완전히 반응되면, 갈색 용액을 대략 -5℃로 냉각시키고, NH4OH(0.84L, 12.4mol, 18.5당량)을 서서히 적가한다. 부가가 완료됨에 따라, 고체가 형성되었다. 슬러리를 1L의 물과 함께 교반시키고 진공 여과시킴으로써 수집한다. 습윤 케이크를 1 x 390ml 톨루엔으로 세척하여, 나중에 용출되는 불순물을 제거한다.
실시예 7
1-(2,6-디플루오로-페닐)-1-[6-(4-플루오로-페닐)-5-하이드록시메틸-피리딘-2-일]-우레아(57): 질소 퍼징된 플라스크에 우레아-에스테르 56(10.0g, 24.92mmol, 1.0당량)을 충진시킨 다음, 10ml THF을 충진시킨다. 이 혼합물을 0 내지 5℃로 냉각시킨다. 냉각시킨 용액에 DIBAL-H/THF 용액(149.5ml, 149.5mmol, 6.0당량)을 20 내지 30분에 걸쳐 적가한다. 반응 진행 과정을 HPLC[Tret 56 = 16.4분, Tret 57 = 14.0분, 229nm에서 모니터함]에 의해 모니터하면서 상기 혼합물을 15 내지 20℃ 하에 교반시킨다. 반응 혼합물을 냉각된(5 내지 10℃) 15% 수성 H2SO4(150ml) 내로 급냉시킨다. 이러한 급냉을 완료한 후, 혼합물을 10 내지 15분 동안 교반시킨다. 이 혼합물에 TBME(150ml)를 가한다. 혼합물을 60분 동안 50℃ 하에 가열한다. 혼합물을 주위 온도로 냉각시키고, 수성 층을 제거한다. 유기 층을 농축시켜 잔류 용적이 약 35ml가 되도록 한다. 이어서, 희석과 농축 과정을 반복한다. 잔류성 혼합물을 0 내지 2℃로 냉각시키고, 이 온도에서 45분 동안 가열한다. 세정 용매로서 찬 톨루엔(25ml)을 사용하여 흡인 여과시킴으로써 회색 고체 57을 수집한다. 고체를 주위 온도에서 진공 하에 3 내지 5시간 동안 건조시켜 80% 수집 수율을 획득한다.
실시예 8
(2- 하이드록시 -에틸)- 카밤산 6-[1-(2,6- 디플루오로 - 페닐 )- 우레이도 ]-2-(4- 플루오로 -페닐)-피리딘-3-일 메틸 에스테르(58): 질소 퍼징된 플라스크에 벤질성 알코올 57(7.1g, 19.0mmol, 1.0당량) 및 CDI(6.2g, 38.0mmol, 2.0당량)을 충진시킨 다음, 71ml THF를 충진시킨다. 이 용액을 실온에서 1 내지 2시간 동안 교반시킨 다음, 무수 아세토니트릴/과량의 에탄올아민 내로 시험-급냉시킨다. 활성화가 완료되지 않은 경우에는, 시험 급냉이 완전한 전환을 지시할 때까지 부가의 CDI를 가할 수 있다. 일단 시험-급냉이 화합물 58로의 완전한 전환을 나타내면, 2.0당량 에탄올아민(0.64ml, 38mmol)을 서서히 부가함으로써 상기 반응물을 급냉시킨다. 반응물을 실온에서 2시간 동안 교반시키고, 이때 HPLC 분석[Tret 57 = 14.2분, Tret 58 = 13.6분, 229nm에서 모니터함] 결과가 화합물 58로의 완전한 전환을 나타냈다. THF를 진공 하에 제거하고, 잔사를 71ml 에틸 아세테이트에 용해시키며 수성 NH4Cl 용액(2 x 71ml)으로 세척한 다음 염수(1 x 71ml)로 세척한다. 유기 층을 EtOAc(2 x 71ml)로 공비제거한다. 잔사를 71ml EtOAc로 재구성하고, 여과시킨 다음, 재농축시킨다. 최종 잔사에 7.1ml EtOAc 및 63ml의 톨루엔을 가한 다음, 35 내지 40℃로 온화하게 가열한다. 냉각시, 백색 고체가 형성되고, 이를 진공 여과시킴으로써 분리시키고 찬 톨루엔으로 세척할 수 있다.
실시예 9
2-(2,4-디플루오로페닐)-6-(2,6-디플루오로페닐아미노)-니코틴산 에틸 에스테르(63): 오버헤드 기계적 교반기, 가열 맨틀, 환류 응축기 및 열전쌍이 장착된 1L용량의 4구 환저 플라스크에 화합물 61(50g), Cs2CO3(150g) 및 0.15L의 NMP를 충진시킨다. 이 용액을 격렬하게 교반시키고 65℃로 가열하는데, 이때 상기 현탁액에 0.10L의 NMP 중의 화합물 42(60g)의 용액을 10분 걸쳐 가한다. 18시간 동안 65℃ 하에 가열하고, HPLC는 화합물 61이 목적하는 Boc 부가물로 대략 85% 전환되었다는 것을 보여준다. 이때, 온도를 75℃로 상승시키고, 18시간 더 가열한 후에 HPLC 분석한 결과, 화합물 61이 목적하는 Boc 부가물 62(제시되지 않음)로 대략 97% 전환된 것으로 나타났다. 이어서, 이러한 혼합물을 20℃로 냉각시키고, 오버헤드 기계적 교반기 및 열전쌍이 장착된 3L 용량의 4구 환저 플라스크 중에서 교반시키면서 2.0L의 물에 한 분획으로 따라 붓는다. NMP 용액을 부가한 결과로서 물 온도가 22℃에서 27℃로 상승하였다. 이어서, 현탁액을 15℃로 냉각시키고, 갈색 고체를 여과시켜 수집하고, 물로 세정한 다음, 필터 상에서 2시간 동안 건조 상태로 분리시킨다.
오버헤드 기계적 교반기와 열전쌍이 장착된 2L 용량의 4구 환저 플라스크에 갈색 고체 및 0.8L의 CH2Cl2를 충진시킨다. 교반된 용액에 70ml의 TFA를 한 분획으로 가한다. 주위 온도에서 2시간 동안 교반시킨 후, Boc 보호된 물질이 HPLC에 의해 전혀 탐지되지 않았으며, 상기 혼합물을 회전식 증발시킴으로써 농축시킨다. 오일상 잔사를 0.7L EtOAc에 흡수시키고, 0.7L 포화 NaHCO3로 처리하면, 이 동안에 기체가 생성되었다. EtOAc 층을 0.25L 포화 NaCl로 세척하고, 회전식 증발시킴으로써 농축시킨다. 이로써 생성된 갈색 오일에 0.2L EtOAc를 가하고, 용액을 Et2O 중의 HCl(2.0M 용액 0.4L)로 처리하고, 60분 동안 교반시킨다. 황색 분말인 생성물 63을 여과시켜 수집한다(70.5% 수율).
조 염을 4ml EtOH/조 생성물 g 중에서 환류 가열한 다음, 주위 온도로 냉각시킴으로써 상기 생성물을 재결정화할 수 있다.
본 발명자들이 본 발명의 수 많은 양태를 앞서 제시하였지만, 본 발명의 방법을 활용하는 기타 양태를 제공하기 위해 기본적 구성을 변화시킬 수 있다는 사실은 명백하다. 따라서, 본 발명의 범위는 앞서 예로써 제시된 특정 양태에 의해서 규정되는 것이 아니라 본원에 첨부된 청구의 범위에 의해서 규정되어야 한다는 것을 인지해야 할 것이다.

Claims (59)

  1. 화학식 II의 화합물을 알칼리 금속 염 또는 전이 금속 촉매의 존재 하에 화학식 III의 아민과 커플링시키는 단계를 포함하여, 다음 화학식 I의 디아릴 아민 화합물 또는 이의 염을 제조하는 방법:
    화학식 I
    화학식 II
    화학식 III
    상기식에서,
    Ar1 및 Ar2는 독립적으로 Q이고;
    Q는 각각, 0 내지 4개의 헤테로 원자를 갖는 포화 또는 불포화 5 내지 8원 환에 임의로 융합된 아릴 또는 헤테로아릴 환 시스템이고;
    Q는 1개 이상의 환 원자에서 할로; N(R')2, OR', CO2R', C(O)N(R')2, OC(O)N(R')2, NR'CO2R', NR'C(O)R', SO2N(R')2, N=CH-N(R')2, 또는 OPO3H2에 의해 임의로 치환된 C1-C6 지방족; N(R')2, OR', CO2R', C(O)N(R')2, OC(O)N(R')2, NR'CO2R', NR'C(0)R', SO2N(R')2, N=CH-N(R')2, 또는 OPO3H2에 의해 임의로 치환된 C1-C6 알콕시; Ar3; CF3; OCF3; OR'; SR'; SO2N(R')2; OSO2R'; SCF3; NO2; CN; N(R')2; CO2R'; C02N(R')2; C(O)N(R')2; NR'C(0)R'; NR'C02R'; NR'C(O)C(O)R'; NR'SO2R'; OC(O)R'; NR'C(O)R2; NR'CO2R2; NR'C(O)C(O)R2; NR'C(0)N(R')2; OC(O)N(R')2; NR'SO2R2; NR'R2; N(R2)2; OC(O)R2; OPO3H2; 및 N=CH-N(R')2 중에서 독립적으로 선택된 하나 이상의 치환체에 의해 임의로 치환되고;
    R'는 수소; C1-C6 지방족; 및 할로, C1-C6 알콕시, 시아노, 니트로, 아미노, 하이드록시 및 C1-C6 지방족 중에서 독립적으로 선택된 1 내지 3개의 치환체에 의해 임의로 치환된 5 내지 6원 카보사이클릭 또는 헤테로사이클릭 환 시스템 중에서 선택되고;
    R2는 N(R')2, OR', C02R', C(O)N(R')2 또는 SO2N(R')2에 의해 임의로 치환된 C1-C6 지방족; 또는 N(R')2, OR', C02R', C(O)N(R')2 또는 SO2N(R')2에 의해 임의로 치환된 카보사이클릭 또는 헤테로사이클릭 환 시스템이고;
    Ar3은 0 내지 4개의 헤테로 원자를 갖는 포화 또는 불포화 5 내지 8원 환에 임의로 융합된 아릴 또는 헤테로아릴 환 시스템이고;
    Ar3은 1개 이상의 환 원자에서 할로; N(R')2, OR', CO2R', C(O)N(R')2, OC(O)N(R')2, NR'CO2R', NR'C(O)R', SO2N(R')2, N=C-N(R')2, 또는 OPO3H2에 의해 임의로 치환된 C1-C6 지방족; N(R')2, OR', CO2R', C(O)N(R')2, OC(O)N(R')2, SO2N(R')2, NR'CO2R', NR'C(0)R', N=C-N(R')2, 또는 OPO3H2에 의해 임의로 치환된 C1-C6 알콕시; CF3; OCF3; OR'; SR'; SO2N(R')2; OSO2R'; SCF3; NO2; CN; N(R')2; CO2R'; C02N(R')2; C(O)N(R')2; NR'C(0)R'; NR'C02R'; NR'C(O)C(O)R'; NR'SO2R'; OC(O)R'; NR'C(O)R2; NR'CO2R2; NR'C(O)C(O)R2; NR'C(0)N(R')2; OC(O)N(R')2; NR'SO2R2; NR'R2; N(R2)2; OC(O)R2; OPO3H2; 및 -N=C-N(R')2 중에서 독립적으로 선택된 하나 이상의 치환체에 의해 임의로 치환되고;
    X는 이탈 그룹이고;
    Y는 -C(O)-O-Z이며;
    Z는 C1-C6 지방족, 벤질, Fmoc, -SO2R' 또는 Q인데,
    단 Q가 X 또는 알킨에 의해 치환되지 않는다.
  2. 제1항에 있어서, 커플링된 아민으로부터 그룹 Y를 제거하여 화학식 I의 화합물을 제조하는 단계를 추가로 포함하는 방법.
  3. 제1항에 있어서, 전이 금속 촉매를 사용하여 수행되는 방법.
  4. 제3항에 있어서, 전이 금속 촉매가 팔라듐을 포함하는 방법.
  5. 제4항에 있어서, 촉매가 PdLn이고, 여기서 L이 각각, -OAc, -O-톨릴, 할로겐, PPh3, dppe, dppf, dba 및 BINAP 중에서 독립적으로 선택되고; n이 0 내지 4의 정수인 방법.
  6. 제3항에 있어서, 화학식 II의 화합물을 화학식 III의 아민과 커플링시키는 단계가 염기의 존재 하에서 수행되는 방법.
  7. 제6항에 있어서, 염기가 KOtBu, NaOtBu, K3PO4, Na2CO3, 및 Cs2CO3 중에서 선택되는 방법.
  8. 제1항에 있어서, 알칼리 금속 염을 사용하여 수행되는 방법.
  9. 제8항에 있어서, 알칼리 금속 염이 칼륨, 루비듐 및 세슘 이온의 염 중에서 선택되는 방법.
  10. 제9항에 있어서, 알칼리 금속 염이 탄산칼륨 및 탄산세슘 중에서 선택되는 방법.
  11. 제10항에 있어서, 알칼리 금속 염이 탄산세슘인 방법.
  12. 제1항에 있어서, X가 -Cl, -Br, -I, -F, -OTf, -OTs, 요오드늄 및 디아조로 이루어진 그룹 중에서 선택되는 방법.
  13. 제1항에 있어서, Y가 Boc인 방법.
  14. 제1항에 있어서, 식 21의 화합물을 알칼리 금속 염 또는 전이 금속 촉매의 존재 하에 식 22의 아민과 커플링시키는 단계를 포함하여, 식 24의 디아릴 아민 화합물을 제조하는 방법:
    상기식에서,
    R3은 지방족; 아릴; 또는 지방족, 아릴, 니트로, CN, C02R', C02N(R')2, OR', NCO2R', NR'C(O)N(R')2, 및 OC(0)N(R')2에 의해 치환된 아릴 중에서 선택되는데,
    단 R3은 t-부틸이 아니고;
    G1, G2, G3, G4, 및 G5는 수소, 지방족, 아릴, 치환된 아릴, 니트로, CN, OR', CO2R', C02N(R')2, NR'C02R', NR'C(O)N(R')2, OC(O)N(R')2, F, Cl, Br, I, O-Tos, O-Ms, OSO2R', 및 OC(O)R' 중에서 독립적으로 선택되고;
    X 및 Y는 제1항에 정의된 바와 같다.
  15. 제14항에 있어서, 커플링된 아민으로부터 그룹 Y를 제거하여 식 24의 화합물을 제조하는 단계를 추가로 포함하는 방법.
  16. 제14항에 있어서, 전이 금속 촉매를 사용하여 수행되는 방법.
  17. 제16항에 있어서, 전이 금속 촉매가 팔라듐을 포함하는 방법.
  18. 제17항에 있어서, 촉매가 PdLn이고, 여기서 L이 각각, -OAc, -O-톨릴, 할로겐, PPh3, dppe, dppf, dba 및 BINAP 중에서 독립적으로 선택되고; n이 0 내지 4의 정수인 방법.
  19. 제16항에 있어서, 식 21의 화합물을 식 22의 아민과 커플링시키는 단계가 염기의 존재 하에서 수행되는 방법.
  20. 제19항에 있어서, 염기가 KOtBu, NaOtBu, K3PO4, Na2CO3, 및 Cs2CO3 중에서 선택되는 방법.
  21. 제14항에 있어서, 알칼리 금속 염을 사용하여 수행되는 방법.
  22. 제21항에 있어서, 알칼리 금속 염이 칼륨, 루비듐 및 세슘 이온의 염 중에서 선택되는 방법.
  23. 제22항에 있어서, 알칼리 금속 염이 탄산칼륨 및 탄산세슘 중에서 선택되는 방법.
  24. 제23항에 있어서, 알칼리 금속 염이 탄산세슘인 방법.
  25. 제14항에 있어서, X가 -Cl, -Br, -I, -F, -OTf, -OTs, 요오드늄 및 디아조로 이루어진 그룹 중에서 선택되는 방법.
  26. 제14항에 있어서, Y가 Boc인 방법.
  27. 제1항에 있어서, 식 41a의 화합물을 알칼리 금속 염 또는 전이 금속 촉매의 존재 하에 식 42a의 아민과 커플링시키는 단계를 포함하여, 식 44의 디아릴 아민 화합물 또는 이의 염을 제조하는 방법:
    상기식에서,
    X 및 Y는 상기 제1항에 정의된 바와 같다.
  28. 제27항에 있어서, 커플링된 아민으로부터 그룹 Y를 제거하여 식 44의 화합물을 제조하는 단계를 추가로 포함하는 방법.
  29. 제27항에 있어서, 전이 금속 촉매를 사용하여 수행되는 방법.
  30. 제29항에 있어서, 전이 금속 촉매가 팔라듐을 포함하는 방법.
  31. 제30항에 있어서, 촉매가 PdLn이고, 여기서 L이 각각, -OAc, -O-톨릴, 할로겐, PPh3, dppe, dppf, dba 및 BINAP 중에서 독립적으로 선택되고; n이 0 내지 4의 정수인 방법.
  32. 제29항에 있어서, 식 41a의 화합물을 식 42a의 아민과 커플링시키는 단계가 염기의 존재 하에서 수행되는 방법.
  33. 제32항에 있어서, 염기가 KOtBu, NaOtBu, K3PO4, Na2CO3, 및 Cs2CO3 중에서 선택되는 방법.
  34. 제27항에 있어서, 알칼리 금속 염을 사용하여 수행되는 방법.
  35. 제34항에 있어서, 알칼리 금속 염이 칼륨, 루비듐 및 세슘 이온의 염 중에서 선택되는 방법.
  36. 제35항에 있어서, 알칼리 금속 염이 탄산칼륨 및 탄산세슘 중에서 선택되는 방법.
  37. 제36항에 있어서, 알칼리 금속 염이 탄산세슘인 방법.
  38. 제27항에 있어서, X가 -Cl, -Br, -I, -F, -OTf, -OTs, 요오드늄 및 디아조로 이루어진 그룹 중에서 선택되는 방법.
  39. 제27항에 있어서, Y가 Boc인 방법.
  40. 제1항에 있어서, 식 61a의 화합물을 알칼리 금속 염 또는 전이 금속 촉매의 존재 하에 식 42a의 아민과 커플링시키는 단계를 포함하여, 식 63의 디아릴 아민 화합물 또는 이의 염을 제조하는 방법:
    상기식에서,
    X 및 Y는 상기 제1항에 정의된 바와 같다.
  41. 제40항에 있어서, 커플링된 아민으로부터 그룹 Y를 제거하여 식 63의 화합물을 제조하는 단계를 추가로 포함하는 방법.
  42. 제40항에 있어서, 전이 금속 촉매를 사용하여 수행되는 방법.
  43. 제42항에 있어서, 전이 금속 촉매가 팔라듐을 포함하는 방법.
  44. 제43항에 있어서, 촉매가 PdLn이고, 여기서 L이 각각, -OAc, -O-톨릴, 할로겐, PPh3, dppe, dppf, dba 및 BINAP 중에서 독립적으로 선택되고; n이 0 내지 4의 정수인 방법.
  45. 제42항에 있어서, 식 61a의 화합물을 식 42a의 아민과 커플링시키는 단계가 염기의 존재 하에서 수행되는 방법.
  46. 제45항에 있어서, 염기가 KOtBu, NaOtBu, K3PO4, Na2CO3, 및 Cs2CO3 중에서 선택되는 방법.
  47. 제40항에 있어서, 알칼리 금속 염을 사용하여 수행되는 방법.
  48. 제47항에 있어서, 알칼리 금속 염이 칼륨, 루비듐 및 세슘 이온의 염 중에서 선택되는 방법.
  49. 제48항에 있어서, 알칼리 금속 염이 탄산칼륨 및 탄산세슘 중에서 선택되는 방법.
  50. 제49항에 있어서, 알칼리 금속 염이 탄산세슘인 방법.
  51. 제40항에 있어서, X가 -Cl, -Br, -I, -F, -OTf, -OTs, 요오드늄 및 디아조로 이루어진 그룹 중에서 선택되는 방법.
  52. 제40항에 있어서, Y가 Boc인 방법.
  53. 제40항에 있어서, 식 61의 화합물을 알칼리 금속 염 또는 전이 금속 촉매의 존재 하에 식 42의 아민과 커플링시키는 단계를 포함하여, 식 63의 디아릴 아민 화합물 또는 이의 염을 제조하는 방법:
  54. 제53항에 있어서, 커플링된 아민으로부터 Boc 그룹을 제거하여 식 63의 화합물을 제조하는 단계를 추가로 포함하는 방법.
  55. 제53항 또는 제54항에 있어서, 탄산세슘을 사용하여 수행되는 방법.
  56. 제54항에 있어서,
    (a) 식 63의 화합물을 염기와 반응시키는 단계; 및
    (b) 단계 (a)에서 형성된 반응 혼합물을 산성화시켜 식 75의 화합물을 제조하는 단계를 추가로 포함하는 방법.
  57. 제56항에 있어서, 단계 (a)에서 염기가 NaOH인 방법.
  58. 제56항에 있어서, 단계 (b)에서 산이 HCl인 방법.
  59. 제56항에 있어서,
    (c) 식 75의 화합물을 디포스겐과 반응시키는 단계; 및
    (d) 단계 (c)에서 형성된 반응 혼합물을 NH4OH로 처리하여 식 76의 화합물을 제조하는 단계를 추가로 포함하는 방법.
KR1020057014640A 2003-02-10 2004-02-10 Ｎ-아릴 카밤산 에스테르를 할로-헤테로아릴과반응시킴으로써 ｎ-헤테로아릴-ｎ-아릴-아민을 제조하는방법 및 유사 방법 KR20050101200A (ko)

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