KR20050084975A - 곡물을 세척하기 위한 방법 및 장치 - Google Patents

곡물을 세척하기 위한 방법 및 장치 Download PDF

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Abstract

본 발명은 곡물, 특히 밀을 세척하기 위한 방법 및 장치에 관한 것이다. 세척되고 웨팅된 밀은 그 표면이 다시 한번 적셔지고, 외피는 껍질 제거 기계(20) 내에서 제거된다. 이 후 외피 제거된 곡물은 그라인딩 및 폴리싱될 수 있다.

Description

곡물을 세척하기 위한 방법 및 장치{METHOD AND INSTALLATION FOR CLEANING CEREAL}
본 발명은 곡물을 세척하기 위한, 더욱 상세하게는 표면에 인접한 양곡, 예를 들어 밀의 껍질 또는 층 내의 오염물질을 감소시키기 위한 방법 및 장치에 관한 것이다.
곡물, 예를 들면 밀 또는 호밀은 곡물 표면으로부터 헐렁한 껍질 또는 오염물질을 제거하기 위하여 습식 및/또는 건식 세척될 수 있다. 과거 수십년 간은 대부분 건식 세척이 가장 일반적이었다. 예를 들어 CH-A-640750은 문질러 닦기(scouring) 및 애스퍼레이션(aspiration)을 포함한 건식 세척을 받는 방법을 설명한다. 밀은 이어서 컨디셔닝 셀(conditioning cell) 내에 몇시간동안 웨팅(wetting)되고 저장된다. 컨디셔닝 후에 밀은 제 1 그라인딩 통로에 앞서 바로 껍질이 제거된다. 여기서 껍질 제거는 또한 컨디셔닝 후에 이루어 질 수 있다. 이것은 곡물이 껍질 제거되고 그리고/또는 부드러워지는 정도의 기능으로서 웨팅 및 컨디셔닝 후에 발생한다.
또한, 밀 곡물이 녹아서 과일 벽(fruit wall)을 형성하고 내유(endosperm)가 노출될 때까지 밀 곡물을 폴리싱하는 것이 알려져 있다(EP-B-218012). 이 경우, 과일 벽은 몇몇 폴리싱 단계에서 증가적으로 제거되며, 수분은 적어도 한 단계에서 곡물에 공급된다. 웨팅된 곡물은 밀 곡물의 표면을 젤라틴화하기 위하여 추가적으로 가열될 수 있다. 웨팅와 동시 발생될 수 있는 가열 후에 곡물은 건조 및 냉각된다. EP-B-529843에 따라 웨팅되고 폴리싱된 밀은 다시 세척된다. 이것은 여전히 붙어 있는 겨 입자를 주로 경작지(furrow)로부터 제거하기 위한 웨트 세척 과정이다.
EP-B-742048에 따르면 수직 배열된 로터를 갖는 곡물-그라인딩 기계가 알려져 있고, 여기서 그라인딩된 곡물들은 추가적으로 공기 흐름에 노출되고 물에 웨팅될 수 있다.
소위 페리텍(PeriTec) 방법에서는 호분(aleuron)층을 포함하는 외부 셀(cell)층들이 그라인딩된다. 밀은 종래의 방법과 유사하게 세척되고 웨팅되지만 문질러 닦는 기계는 사용될 필요가 없다. 이것은 내부층으로부터 외부층을 분리시키고자 하는 것이고, 외종피(testa) 아래까지 그라인딩된다. 겨는 제 1 단계에서 수직 그라인딩 기계 내에서 연마되어 제거되고, 제 2 단계에서 마찰 폴리싱을 거친다. 이것은 그라인딩에 앞서 웨팅 후에 컨디셔닝 시간을 철저히 감소시키기 위함이다. 부드럽게 하는데 사용되는 물이 침투하는데 단지 약 30분이 소요된다. 오염물질 하중이 동시에 감소된다.
EP-B-373274에 따르면, 밀 곡물을 건조 및 세척하는 것을 처리하기 위한 방법에서 노출된 겨 껍질이 제거되되, 곡물들은 외부 껍질 층이 팽창없이 컨디셔닝되고 곡물들이 이어서 (1 내지 5분 내에) 외부 껍질을 제거하기 위한 몇몇 마찰 공정 및 내부 껍질층을 제거 및 분리하기 위한 그라인딩 공정을 거치는 방법으로 그라인딩 준비를 위한 컨디셔닝 전에 웨팅된다.
본 발명은 도면를 기초로 하여 아래의 실시예에서 보다 상세하게 설명될 것이다.
도 1은 절차도이다.
도 2는 껍질 제거 기계이다.
본 발명의 목적은 곡물, 특히 밀의 세척을 더 단순화하는 것을 가능하게 하는 곡물 세척을 위한 방법을 개발하는 것이다.
본 목적은 청구항 제1항의 특징으로 달성된다. 본 발명에 따르면 이것은 밀이 표면적으로 웨팅 세척되고, 웨팅되고 그리고 컨디셔닝되고 그 후 바로 그 껍질이 제거된으로서 달성된다.
종속항들은 유리한 실시예들을 개시한다. 특히, 껍질 제거 후에 그라인딩 및 필요에 따라 밀 표면의 폴리싱이 이어질 수 있다.
연속적인 그라인딩동안 주로 그라인딩 재료의 오염을 피하기 위하여 제분기(mill)가 주로 수평의, 특히 기계적인 이송 요소없이 한다.
본 발명에 따른 껍질 제거 방법은 부드러운 밀 및 마카로니 밀(durum) 모두를 위해 사용될 수 있으며, 하부 오염물질 내용물이 그라인딩된 곡물에서 얻어진다. 오염물질이 포함된 겨는 특정적으로 처리되고 회수될 수 있다. 껍질 제거의 대안으로서 곡물 표면이 집중적으로 그라인딩 또는 문질러 닦여질 수 있다. 이 절차는 밀가루 품질에 영향을 미치고 그라인딩을 바꾼다.
본 발명의 또 다른 목적은 곡물, 특히 밀 세척 장치를 제공하는 것이다. 본 목적은 청구항 제7항의 특징으로 달성된다.
웨팅되고 컨디셔닝될 뿐 아니라 세척된 밀은 컨디셔닝 셀(미도시)로부터 계량 유니트(metering unit, 21) 내로 배출되고, 그 곳으로부터 자석(23)을 경유하여 웨팅 또는 컨디셔닝 집합소(aggregate, 22) 내로 배출되되, 필요한 수분(껍질 컨디셔닝)이 설정된다 (표본에 첨가된 약 2% 수분). 웨팅 집합소는 하나의 웨팅 스크류를 가지나, 2개의 스크류가 또한 대안으로서 가능하다. 웨팅된 밀은 자석(23)에 의해 안내되고, 껍질 제거 기계(20)로 들어가며, 밀은 약 4% 정도로 껍질이 제거된다. 밀은 껍질 제거동안 공기 흐름에 노출된다.
껍질 제거된 밀은 다른 자석(24)에 의해 수직 그라인딩 기계(25), 예를 들어 스톤 그라인딩 기계 내로 안내되고, 그 곳으로부터 자석(24")을 경유하여 폴리싱 기계(26) 내로 안내된다.
이러한 방식으로 세척되고 준비된 밀은 임시로 저장소(27)에 저장되고, 계량 유니트(28)를 경유하여 제 1 스크랩(scrap)으로 시작하는 그라인딩으로 전달된다.
껍질 제거 기계(20)로부터의 시프팅(sifting) 및 애스퍼레이션으로부터 누적된 가벼운 생산물은 격리되고, 독립하여 그라인딩되고, 펠리트(pellet) 내로 가압되고, 예를 들어 연료로서 사용되기 위해 표시된다. 그라인딩 및 폴리싱으로부터 유발된 시프팅도 또한 이러한 방식으로 처리된다.
껍질 제거 기계(20)의 고정자(stator, 1)는 그 안에 포함된 로터(3)를 감싸고 프레임 랙(frame rack) 상에 장착되고 인접한 배출 슬레이트(4)를 경유하여 하부에 대해 개방된 케이싱(2)을 갖는다. 이러한 배출 슬레이트는 밀가루 껍질 및 껍질 부분을 포함하는 시프팅을 운반해 간다.
밀 곡물은 생산물 입구(5)로부터 피드 스크류(feed screw, 10)를 경유하여 처리 영역(6)으로 이동한다. 껍질을 제거하는 동안 밀 곡물은 처리 영역(6) 내에서 특정 처리 압력을 생성하기 위하여 조절 가능한 누적 장치(7)에 대항하여 안내된다. 껍질 제거된 밀 곡물은 조절 가능한 출구 개구(8)를 통하여 처리 영역(6)을 떠나고, 배출부(9)를 경유하여 껍질 제거 기계(20)를 떠난다.
처리 영역(6)은 2개의 시프팅 요소에 의해 고정자 측에 형성되고, 이것은 축 방향으로 로터(3)를 완전히 감싼다. 로터(3)는 중공 스크류(hollow screw)를 갖는 차가운 철제 롤로 구성된다. 롤은 균일하게 이격되도록 롤 l 외주상에서 절개되고, 처리 영역(6)의 전 길이에 대해 연장된다.
시프팅 바구니는 개개의 시프팅 시트로 구성된다.
중공 스크류는 공기를 배출하기 위한 많은 개구를 갖는다. 공기는 롤의 절개부를 통해 처리 영역(6) 내로 더 통과하고, 밀 곡물로부터 껍질 부분 등을 분리하는 것을 돕는다. 공기는 팬에 의해 중공 스크류 내로 가압된다.
도면참조번호
1 고정자
2 케이싱
3 로터
4 배출 슬레이트
5 생산물 입구
6 처리영역
7 누적장치
8 출구개구
9 배출부
10 피드 스크류
20 껍질 제거 기계
21 계량 유니트
22 웨팅 집합소
23 자석
24 자석
25 그라인딩 기계
26 폴리싱 기계
27 저장소
28 계량 유니트

Claims (8)

  1. 밀이 먼저 세척되고, 웨팅되고 컨디셔닝되고, 이후 표면적으로 웨팅되되, 표면 처리는 껍질 제거를 포함하는 곡물, 특히 밀을 세척하는 방법.
  2. 제 1 항에 있어서, 곡물의 표면은 껍질 제거 후에 그라인딩되는 것을 특징으로 하는 곡물을 세척하는 방법.
  3. 제 2 항에 있어서, 곡물의 표면은 그라인딩 후에 추가적으로 폴리싱되는 것을 특징으로 하는 곡물을 세척하는 방법.
  4. 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서, 껍질 제거 동안 형성된 겨 및/또는 시프팅 동안 얻어지는 가벼운 부분은 그라인딩되고 펠리트 내로 가압되는 것을 특징으로 하는 곡물을 세척하는 방법.
  5. 제 4 항에 있어서, 펠리트는 연료로서 사용되는 것을 특징으로 하는 곡물을 세척하는 방법.
  6. 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서, 껍질 제거된 곡물들은 이어서 제분기 내에서 수평 이송 요소들을 피해 그라인딩되는 것을 특징으로 하는 곡물을 세척하는 방법.
  7. 무게를 측정하고 계량하는 요소들을 포함하며, 껍질 제거 기계(20) 이전의 웨팅 집합소(22)는 무게 측정 요소 및 계량 요소로부터 생산물 흐름 방향으로 하류에 위치한 것을 특징으로 하는 곡물을 세척하기 위한 장치.
  8. 제 7 항에 있어서, 껍질 제거 기계(20)는 처리 기구들이 구비된 회전 가능한 로터 및 처리 기구들 및 시프팅 바구니를 포함하며 로터를 감싸고 처리 영역(6)을 형성하는 고정자를 포함하되, 로터(3)는 외부 롤에 의해 처리 영역(6)의 영역 내에서 감싸진 중공축으로 구성된 것을 특징으로 하는 곡물을 세척하기 위한 장치.
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