KR20050020922A - 백-사이드 마스크 정렬이 가능한 노광장치 - Google Patents

백-사이드 마스크 정렬이 가능한 노광장치 Download PDF

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Abstract

본 발명은 마스크 정렬마크와 작업기판인 웨이퍼 정렬마크의 상대위치를 용이하게 인식하여 마스크와 작업기판의 위치 맞춤을 자동으로 정밀도 좋게 정렬시키는 백-사이드 마스크 정렬이 가능한 노광장치에 관한 것으로, 마스크 척 스테이지에 고정된 마스크(M)와 웨이퍼 척 스테이지에 고정된 작업기판(W)의 위치를 정렬시킨 후, 마스크(M) 패턴을 작업기판(W)상에 투영하여 노광을 행하는 노광장치에 있어서, 상기 작업기판(W)의 하부 소정위치에 배치되어 상기 마스크(M)에 표시된 마스크 정렬마크(MAM)와 상기 작업기판(W)에 표시된 작업기판 정렬마크(WAM)의 상을 수광하는 백-사이드 정렬용 CCD 카메라; 상기 백-사이드 정렬용 CCD 카메라의 하단에 배치되어 상기 백-사이드 정렬용 CCD 카메라를 X,Y,Z축 방향으로 이송시키는 백-사이드 CCD 카메라 이송용 모터; 상기 백-사이드 정렬용 CCD 카메라에 수광된 마스크 정렬마크(MAM)와 작업기판 정렬마크(WAM)의 상을 화상으로 캡쳐하여 상기 작업기판 정렬마크(WAM)와 마스크 정렬마크(MAM)의 이미지가 일치하도록 상기 웨이퍼 척 스테이지를 이동 제어하는 컨트롤러; 및 상기 컨트롤러로부터 출력되는 제어신호를 입력받아 상기 웨이퍼 척 스테이지를 이동시키는 웨이퍼 척 방향 조절 마이크로미터; 를 포함하여 구성된다.
본 발명은 백-사이드 정렬용 CCD 카메라를 사용하여 노광하고자 하는 웨이퍼 등의 작업기판의 밑면을 직접 보면서 정렬 과정을 수행하기 때문에 작업기판의 종류나 코팅막의 종류에 대한 제한이 없으면서도 우수한 정렬 정밀도를 얻을 수 있다.

Description

백-사이드 마스크 정렬이 가능한 노광장치{Back side Mask Aligner and Exposure}
본 발명은 반도체 소자, PCB 프린트 기판, LCD(액정화면)의 생산 등에 사용되는 노광장치에 관한 것으로, 특히 마스크와 작업기판의 위치 맞춤을 자동으로 정밀도 좋게 정렬시키는 백-사이드 마스크 정렬이 가능한 노광장치에 관한 것이다.
최근, 인터넷의 보급과 확산으로 컴퓨터의 수요가 폭발적으로 증가하고, 셀룰라폰이나 PCS폰과 같은 이동통신단말기가 전국적으로 보급되면서 이에 사용되는 반도체 칩이 점점 소형화, 대용량화되고 있다. 따라서 이와 관련되어 반도체 칩의 소형화와 대용량화, 고속화를 지지해 온 리소그래피(Lithography) 기술에 대한 관심이 높아지고 있으며 특히 광원으로 마스크상의 회로패턴을 작업편(웨이퍼)에 투영시켜 회로패턴을 형성함으로서 회로패턴의 해상도와 반도체 소자의 생산성을 향상시킬 수 있는 반도체 제조용 노광장치가 반도체 소자나 LCD 등 미크론 사이즈의 가공이 필요한 각종 전기부품의 제작 공정에서 필수적으로 사용되고 있다.
노광공정이란 유리, 수정 재질 등의 광학적으로 투명한 기판에 크롬 등의 금속을 증착, 에칭하여 회로패턴을 형성한 마스크를 사용하고, 이 마스크를 통하여 자외선을 작업기판에 조사하여, 작업기판상에 도포되어 있는 포토레지스트에 마스크의 패턴을 전사하는 것이다.
노광방식에는 마스크의 상을 투영렌즈로 작업기판 상에 결상시키는 투영 노광방식(Projection Exposure), 마스크와 작업기판을 밀착시킨 상태에서 평행 광을 조사하는 밀착 노광방식(Contact Exposure), 마스크와 작업기판 사이에 약간의 간격을 형성한 상태에서 평행 광을 조사하는 근접 노광방식(Proximity Exposure)으로 구분되어진다.
이러한 노광공정은 반도체 소자의 제작에 있어서 미세 회로의 구성에 따라 수회 반복되며, 작업기판에 마스크의 패턴을 반복 노광할 경우 미리 형성된 패턴에 대하여 다음에 노광하는 패턴을 정확하게 정렬하는 것이 중요하다.
도 1은 종래 투영방식의 노광장치의 구성을 도시한다.
도 1을 참조하면, 1은 광조사장치이고, 1a는 램프, 1b는 집광경, 1c는 셔터, 1d는 광학필터, 1e는 콘덴서 렌즈이다.
2는 마스크 스테이지로서 마스크 스테이지(2)에 마스크(M)가 고정되고, 마스크(M)에는 회로패턴과 위치 맞춤용의 마스크 정렬 마크(MAM: Mask Alignment Mark;이하, 마스크 마크라 한다)가 표시되어 있다.
3은 투영렌즈, W는 작업기판으로써, 작업기판(W)에는 작업기판 정렬마크(WAM: Wafer Alignment Mark;이하, 작업기판 마크라 한다)가 표시되어 작업기판스테이지(4)에 고정된다.
5는 정렬유닛으로서, 릴레이렌즈(5a), 대물렌즈(5b), 하프 밀러(5c), CCD카메라를 구비하는 화상센서(5d)로 구성되어 있고, 작업기판 마크(WAM)와, 작업기판(W)상에 투영되는 마스크 마크(MAM)를 하프미러(5c), 대물렌즈(5b), 릴레이 렌즈(5a)를 통해 화상센서(5d)로 수상하여, 작업기판 마크(WAM)와, 마스크 마크(MAM)의 위치를 동시에 비교한다.
또한, 정렬 유닛(5)을 동 도면의 B위치 이외에 동 도면의 A 또는 C위치에 배치하여 구성할 수도 있다.
동 도면에 있어서 작업기판(W)상에 노광 처리를 행할 때에는, 먼저, 광조사 장치(1)에서 정렬광을 조사하고, 정렬유닛(5)에 의해, 작업기판 마크(WAM)와 작업기판(W)상에 투영되는 마스크 마크(MAM)를 수상한다. 이와 같이 투영렌즈를 통하여 작업기판상에 투영되는 마스크 마크(MAM)를 검출하는 방식을 TTL(Through The Lens) 방식이라고 한다.
그리고, 자동 정렬의 경우에는, 도시하지 않은 제어장치가 마스크 마크(MAM)와 작업기판 마크(WAM) 각각의 마크를 인식하고, 두 정렬마크의 위치가 일치하도록 마스크 스테이지(2) 또는/ 및 작업기판 스테이지(4)를 자동적으로 이동시킨다.
마스크(M)와 작업기판(W)의 정렬 종료 후, 광 조사장치(1)로부터 노광광을 조사하여, 마스크 패턴을 작업기판(W)상에 투영하여 노광을 행한다.
이와 같은 노광장치와 정렬, 즉 톱-사이드(top side)에서의 정렬을 하고 노광을 하는 노광장치는 한국특허공보 10-0231015(99.08.25 등록)에 나타난 바와 같이 공지의 기술이므로, 본 발명에서는 노광의 필요한 일반적 조건, 즉 광원 등과 마스킹을 위한 반도체분야에서의 공지기술은 서술하지 않기로 한다.
그런데, 이러한 노광장비는 작업기판(W)의 한 면, 즉 톱-사이드 노광면을 처리하기 위한 노광장치이며 작업기판(W) 백-사이드(back side)의 노광을 수행하기 위해서는 작업기판(W)을 뒤집어서 처리하여야 하는 불편함이 있었다.
더구나, 최근에는 MEMS(Micro Electro Mechanical Systems), 바이오 메디컬(Biomedical), Microfluidic 등의 공정에서 일부 적용되어지는 적외선 조명(IR illuminator) 및 적외선 CCD 카메라(IR CCD Camera)를 사용하는 정렬방식은 작업기판의 밑에서 적외선 조명을 통해 작업기판을 투과하여 작업기판 위에서 정렬을 하는 백-사이드 방식을 사용하고 있으나, 이 방식은 작업기판의 종류와 코팅막의 종류에 따라 사용의 한정을 받는다는 문제점이 있었다.
따라서, 본 발명은 상기와 같은 종래의 문제점을 해결하기 위해 안출된 것으로, 본 발명의 목적은 백-사이드 정렬용 CCD 카메라를 사용하여 노광하고자 하는 웨이퍼 등의 작업기판의 밑면을 직접 보면서 정렬 과정을 수행하기 때문에 작업기판의 종류나 코팅막의 종류에 대한 제한이 없으면서도 우수한 정렬 정밀도를 얻을 수 있는 백-사이드 마스크 정렬이 가능한 노광장치를 제공하는데 있다.
상기 목적을 달성하기 위하여 본 발명에 의한 백-사이드 마스크 정렬이 가능한 노광장치는, 마스크 척 스테이지에 고정된 마스크(M)와 웨이퍼 척 스테이지에 고정된 작업기판(W)의 위치를 정렬시킨 후, 마스크(M) 패턴을 작업기판(W)상에 투영하여 노광을 행하는 노광장치에 있어서, 상기 작업기판(W)의 하부 소정위치에 배치되어 상기 마스크(M)에 표시된 마스크 정렬마크(MAM)와 상기 작업기판(W)에 표시된 작업기판 정렬마크(WAM)의 상을 수광하는 백-사이드 정렬용 CCD 카메라; 상기 백-사이드 정렬용 CCD 카메라의 하단에 배치되어 상기 백-사이드 정렬용 CCD 카메라를 X,Y,Z축 방향으로 이송시키는 백-사이드 CCD 카메라 이송용 모터; 상기 백-사이드 정렬용 CCD 카메라에 수광된 마스크 정렬마크(MAM)와 작업기판 정렬마크(WAM)의 상을 화상으로 캡쳐하여 상기 작업기판 정렬마크(WAM)와 마스크 정렬마크(MAM)의 이미지가 일치하도록 상기 웨이퍼 척 스테이지를 이동 제어하는 컨트롤러; 및 상기 컨트롤러로부터 출력되는 제어신호를 입력받아 상기 웨이퍼 척 스테이지를 이동시키는 웨이퍼 척 방향 조절 마이크로미터; 를 포함하여 구성된 것을 특징으로 한다.
상기 백-사이드 정렬용 CCD 카메라는 상기 작업기판(W)의 뒷면에 표시된 작업기판 정렬마크(WAM)의 백-사이드 정렬을 위한 마이크로스코프 CCD 카메라인 것을 특징으로 한다.
상기 컨트롤러는 상기 마스크 정렬마크(MAM)와 작업기판 정렬마크(WAM)의 위치좌표를 인식하여 위치좌표의 차를 구하고, 상기 마스크 정렬마크(MAM)와 작업기판 정렬마크(WAM)의 위치좌표가 일치하도록 상기 웨이퍼 척 스테이지를 X,Y,Z,θ축 방향으로 이동시키는 것을 특징으로 한다.
이하, 본 발명의 일실시예를 첨부된 도면을 참조하여 상세히 설명한다.
도 2는 본 발명의 일실시예에 의한 백-사이드 마스크 정렬장치가 장착된 노광장치의 구성도로서, 본 발명은 광원부(100), 톱-사이드 정렬용 CCD 카메라(200), 백-사이드 정렬용 CCD 카메라(300), 마이크로스코프 X축 방향 미세조절 손잡이(400), 마이크로스코프 X,Y축 방향 위치조절 손잡이(500), 웨이퍼 척 X축 방향 조절 마이크로미터(600), 웨이퍼 척 Y축 방향 조절 마이크로미터(700), 웨이퍼 척 Z축 방향 조절 마이크로미터(750), 웨이퍼 척 Theta(θ)축 방향 조절 마이크로미터(800), 웨이퍼 척 스테이지(900), 마스크 척 스테이지(1000), 컨트롤러(1100), 모니터(1200), 마이크로스코프 Y축 방향 미세조절 손잡이(1300), 마이크로스코프 Z축 방향 미세조절 손잡이(1400)를 포함하여 구성된다.
이러한 구성은 본 발명의 일실시예에 불과한 것이며 본 발명이 도 2만을 한정하는 것은 아니다.
상기 광원부(100)는 노광의 광조사장치로서, 고압수은 램프 등의 노광광을 포함하는 광을 방사하는 램프(110), 집광경(120), 셔터(130), 비노광광을 조사할 때에 사용하는 광학필터(140), 콘덴서 렌즈(150)로 구성된다.
상기 톱-사이드 정렬용 CCD 카메라(200)는 톱-사이드(top side)에서의 정렬을 위해 마스크(M)의 상부 즉, 상기 마이크로스코프 X,Y축 방향 위치조절 손잡이(500)에 배치되는 마이크로스코프 CCD 카메라이고, 상기 백-사이드 정렬용 CCD 카메라(300)는 백-사이드(back side)에서의 정렬을 위해 작업기판(W)의 하부 소정위치에 배치되는 마이크로스코프 CCD 카메라이다.
상기 백-사이드 정렬용 CCD 카메라(300)는 후술하는 백-사이드 CCD 카메라 이송용 모터에 의해 X,Y,Z축 방향으로 이송된다.
상기 웨이퍼 척(Wafer Chuck) X축 방향 조절 마이크로미터(600)는 웨이퍼 등의 작업기판(W)을 X축 방향으로 이송시키도록 상기 웨이퍼 척 스테이지(900)를 이동시키고, 상기 웨이퍼 척 Y축 방향 조절 마이크로미터(700)는 작업기판(W)을 Y축 방향으로 이송시키도록 웨이퍼 척 스테이지(900)를 이동시키며, 상기 웨이퍼 척 Theta(θ)축 방향 조절 마이크로미터(800)는 작업기판(W)을 θ축 방향으로 이송시키도록 웨이퍼 척 스테이지(900)를 이동시킨다.
상기 웨이퍼 척 스테이지(900)는 작업기판(W)을 고정시키고, 도시하지 않은 이송모터에 의해 X,Y,Z,θ축 방향으로 이동되는 것으로, 작업기판(W)에는 위치 맞춤용의 작업기판 정렬마크(WAM)가 표시되어 있다.
상기 마스크 척 스테이지(1000)는 마스크(M)를 고정시키고, 도시하지 않은 이송모터에 의해 X,Y,Z,θ축 방향으로 이동되는 것으로, 마스크(M)에는 회로패턴과 위치 맞춤용의 마스크 정렬마크(MAM)가 표시되어 있다.
상기 작업기판 정렬마크(WAM)와 마스크 정렬마크(MAM)는 작업기판(W)과 마스크(W) 상에 각각 복수개소(적어도 2곳) 이상 형성되어 있고, 상기 모니터(1200)에 표시된다.
상기 컨트롤러(1100)는 본 발명의 노광장치를 제어하는 것으로서, 상기 작업기판 정렬마크(WAM)와 마스크 정렬마크(MAM)의 위치좌표를 인식하여 위치좌표의 차를 구하고 양자가 일치하도록 상기 웨이퍼 척 스테이지(900)와 마스크 척 스테이지(1000)를 X,Y,Z,θ축 방향으로 이동 제어한다.
상기 모니터(1200)는 상기 톱-사이드 정렬용 CCD 카메라(200) 및 백-사이드 정렬용 CCD 카메라(300)로부터 입력되는 화상이 표시되는 B/W 9인치 모니터이다.
도 4a 내지 도 4e는 본 발명에 의한 노광장치의 전체 조립도 및 부분별 조립도이다.
도 4a 내지 도 4e를 참조하면, 작업기판(W)을 고정시키는 웨이퍼 척 스테이지(900)의 하단에는 상기 마스크(M)에 표시된 마스크 정렬마크(MAM)와 작업기판(W)에 표시된 작업기판 정렬마크(WAM)의 상을 수광하는 백-사이드 정렬용 CCD 카메라(300)가 배치되어 있고, 상기 백-사이드 정렬용 CCD 카메라(300)의 하단에는 백-사이드 정렬용 CCD 카메라(300)를 X,Y,Z축 방향으로 이송시키는 백-사이드 CCD 카메라 이송용 모터(310,320,330)가 배치되어 있다.
상기 백-사이드 정렬용 CCD 카메라(300)의 우측면 하단에는 상기 웨이퍼 척 스테이지(900)를 X축 방향으로 이동시키는 웨이퍼 척 X축 방향 조절 마이크로미터(600)가 배치되어 있고, 상기 백-사이드 정렬용 CCD 카메라(300)의 배면 하단에는 상기 웨이퍼 척 스테이지(900)를 Y축 방향으로 이동시키는 웨이퍼 척 Y축 방향 조절 마이크로미터(700)가 배치되어 있으며, 상기 웨이퍼 척 Y축 방향 조절 마이크로미터(700)의 하단에는 상기 웨이퍼 척 스테이지(900)를 θ축 방향으로 이동시키는 웨이퍼 척 θ축 방향 조절 마이크로미터(800)가 배치되어 있다.
그리고, 상기 백-사이드 정렬용 CCD 카메라(300)의 좌측면 소정위치에는 상기 웨이퍼 척 스테이지(900)를 Z축 방향으로 이동시키는 웨이퍼 척 Z축 방향 조절 마이크로미터(750)가 배치되어 있다.
이하, 상기와 같이 구성된 백-사이드 마스크 정렬이 가능한 노광장치의 작용효과를 설명한다.
도 3a 내지 도 3c는 본 발명에 의한 노광장치의 동작과정을 도시한 도면이고, 도 4a 내지 도 4e는 본 발명에 의한 노광장치의 전체 조립도 및 부분별 조립도로서, 도 2와 같이 조립된 노광장비를 이용하여 본 발명의 장치가 동작되는 과정을 상세히 설명한다.
먼저, 마스크(M)를 마스크 척 스테이지(1000)상에 재치하고, 진공척 등으로 마스크 척 스테이지(1000)에 고정시킨다.
이때, 마스크(M)에 표시된 마스크 정렬마크(MAM)가 백-사이드 정렬용 CCD 카메라(300)의 시야에 들어가도록 하기 위해 백-사이드 CCD 카메라 이송용 모터(310,320,330)에 의해 백-사이드 정렬용 CCD 카메라(300)를 X,Y,Z축 방향으로 이동시키면서 찾는다.
이는, 본 분야에서 자동정렬 마크를 찾는 공지의 기술을 활용하는 것이다.(도 3a)
상기 백-사이드 정렬용 CCD 카메라(300)에 수광된 마스크 정렬마크(MAM)의 상(image)을 화상으로 캡쳐하면, 컨트롤러(1000)에서는 캡쳐된 화상으로부터 마스크 정렬마크(MAM)의 상을 식별하여 그 위치좌표를 기억한다.
다음에는, 웨이퍼 등의 작업기판(W)을 웨이퍼 척 스테이지(900)상에 재치하고, 진공척 등으로 웨이퍼 척 스테이지(900)에 고정시킨다.
이때, 작업기판(W)에 표시된 작업기판 정렬마크(WAM)가 백-사이드 정렬용 CCD 카메라(300)의 시야에 들어가도록 하기 위해 백-사이드 CCD 카메라 이송용 모터(310,320,330)에 의해 백-사이드 정렬용 CCD 카메라(300)를 X,Y,Z축 방향으로 이동시키면서 찾는다.
상기 백-사이드 정렬용 CCD 카메라(300)에 수광된 작업기판 정렬마크(WAM)의 상(image)을 화상으로 캡쳐하면, 컨트롤러(1000)에서는 캡쳐된 화상으로부터 작업기판 정렬마크(WAM)의 상을 식별하여 그 위치좌표를 구한다.
따라서, 상기 컨트롤러(1000)에서는 작업기판 정렬마크(WAM)와 마스크 정렬마크(MAM)의 위치좌표를 인식하여 위치좌표의 차를 구하고 작업기판 정렬마크(WAM)와 마스크 정렬마크(MAM)의 이미지가 일치하도록 웨이퍼 척(Wafer Chuck) X,Y,Z,θ축 방향 조절 마이크로미터(600,700,750,800)를 제어하여 상기 웨이퍼 척 스테이지(900)를 X,Y,Z,θ축 방향으로 이동시킨다.(도 3b)
상기 작업기판 정렬마크(WAM)와 마스크 정렬마크(MAM)의 이미지가 일치하여 마스크(M)와 작업기판(W)의 정렬이 완료되면, 광원부(100)에서 셔터(130)를 개방하여 노광광을 조사함으로서 마스크 패턴을 작업기판(W)상에 투영하여 노광을 행한다.(도 3c)
이때, 모니터(1200)에는 상기 백-사이드 정렬용 CCD 카메라(300)로부터 입력되는 화상을 표시한다.
상기의 설명에서와 같이, 본 발명에 의한 백-사이드 마스크 정렬이 가능한 노광장치에 의하면, 백-사이드 정렬용 CCD 카메라를 사용하여 노광하고자 하는 웨이퍼 등의 작업기판의 밑면을 직접 보면서 정렬 과정을 수행하기 때문에 작업기판의 종류나 코팅막의 종류에 대한 제한이 없으면서도 우수한 정렬 정밀도를 얻을 수 있다는 효과가 있다.
상기에서 설명한 것은 본 발명에 의한 백-사이드 마스크 정렬이 가능한 노광장치를 실시하기 위한 하나의 실시예에 불과한 것으로, 본 발명은 상술한 실시예에 한정되지 않고, 본 발명의 기술적 사상 내에서 당 분야의 통상의 지식을 가진 자에 의하여 여러 가지 변형이 가능함은 물론이다.
도 1은 종래에 의한 노광장치의 개략 구성도,
도 2는 본 발명의 일실시예에 의한 백-사이드 마스크 정렬장치가 장착된 노광장치의 구성도,
도 3a 내지 도 3c는 본 발명에 의한 노광장치의 동작과정을 도시한 도면,
도 4a 내지 도 4e는 본 발명에 의한 노광장치의 전체 조립도 및 부분별 조립도.
* 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 *
100 : 광원
200 : 톱-사이드 정렬용 CCD 카메라
300 : 백-사이드 정렬용 CCD 카메라
310,320,330 : 백-사이드 CCD 카메라 이송용 모터
400 : 마이크로스코프 X축 방향 미세조절 손잡이
500 : 마이크로스코프 X, Y축 방향 위치조절 손잡이
900 : 웨이퍼 척 스테이지 1000 : 마스크 척 스테이지
1100 : 컨트롤러 1200 : 모니터
M : 마스크 W : 작업기판
MAM : 마스크 정렬마크 WAM : 작업기판 정렬마크

Claims (3)

  1. 마스크 척 스테이지에 고정된 마스크(M)와 웨이퍼 척 스테이지에 고정된 작업기판(W)의 위치를 정렬시킨 후, 마스크(M) 패턴을 작업기판(W)상에 투영하여 노광을 행하는 노광장치에 있어서,
    상기 작업기판(W)의 하부 소정위치에 배치되어 상기 마스크(M)에 표시된 마스크 정렬마크(MAM)와 상기 작업기판(W)에 표시된 작업기판 정렬마크(WAM)의 상을 수광하는 백-사이드 정렬용 CCD 카메라;
    상기 백-사이드 정렬용 CCD 카메라의 하단에 배치되어 상기 백-사이드 정렬용 CCD 카메라를 X,Y,Z축 방향으로 이송시키는 백-사이드 CCD 카메라 이송용 모터;
    상기 백-사이드 정렬용 CCD 카메라에 수광된 마스크 정렬마크(MAM)와 작업기판 정렬마크(WAM)의 상을 화상으로 캡쳐하여 상기 작업기판 정렬마크(WAM)와 마스크 정렬마크(MAM)의 이미지가 일치하도록 상기 웨이퍼 척 스테이지를 이동 제어하는 컨트롤러; 및
    상기 컨트롤러로부터 출력되는 제어신호를 입력받아 상기 웨이퍼 척 스테이지를 이동시키는 웨이퍼 척 방향 조절 마이크로미터;
    를 포함하여 구성된 것을 특징으로 하는 백-사이드 마스크 정렬이 가능한 노광장치.
  2. 제 1항에 있어서,
    상기 백-사이드 정렬용 CCD 카메라는 상기 작업기판(W)의 뒷면에 표시된 작업기판 정렬마크(WAM)의 백-사이드 정렬을 위한 마이크로스코프 CCD 카메라인 것을 특징으로 하는 백-사이드 마스크 정렬이 가능한 노광장치.
  3. 제 1항 또는 제 2항에 있어서,
    상기 컨트롤러는 상기 마스크 정렬마크(MAM)와 작업기판 정렬마크(WAM)의 위치좌표를 인식하여 위치좌표의 차를 구하고, 상기 마스크 정렬마크(MAM)와 작업기판 정렬마크(WAM)의 위치좌표가 일치하도록 상기 웨이퍼 척 스테이지를 X,Y,Z,θ축 방향으로 이동시키는 것을 특징으로 하는 백-사이드 마스크 정렬이 가능한 노광장치.
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