KR100622931B1 - 기판과 마스크 정렬장치 - Google Patents
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Abstract
Description
Claims (5)
- 사각형의 기판 또는 마스크를 원하는 방향으로 정렬하는 장치에 있어서,일측변의 양측과, 그 맞은편에 위치하여, 기판 또는 마스크를 미세하게 선형 이동시키도록 하는 제 1이송부와;타측변의 모서리 부위와 그 맞은편에 위치하여, 기판 또는 마스크를 미세하게 선형 이동시키도록 하는 제 2이송부로 구성되어,상기 제 1이송부 및 제 2이송부를 이용하여 기판 또는 마스크의 병진 및 회전 이송이 가능하도록 하는 것을 특징으로 하는 기판 정렬장치.
- 사각형의 기판 또는 마스크를 원하는 방향으로 정렬하는 장치에 있어서,일측변의 양측에 위치하여, 기판 또는 마스크를 미세하게 선형 이동시키도록 하는 제 1이송부와;상기 기판 또는 마스크가 상기 제 1이송부에 부착 또는 탈거되도록 하는 제 1자석과;타측변의 모서리 부위에 위치하여, 기판 또는 마스크를 미세하게 선형 이동시키도록 하는 제 2이송부와;상기 기판 또는 마스크가 상기 제 2이송부에 부착 또는 탈거되도록 하는 제 2자석으로 구성되어,상기 제 1자석 및 제 2자석을 이용하여, 상기 기판 또는 마스크를 제 1이송부 및 제 2이송부에 부착시킨 후에, 기판 또는 마스크의 병진 및 회전 이송이 가능하도록 하는 것을 특징으로 하는 기판 정렬장치.
- 제 1항 또는 제 2항에 있어서, 상기 제 1이송부 및 제 2이송부는 별도의 기준편에 부착되는 것을 특징으로 하는 기판 정렬장치.
- 제 3항에 있어서, 상기 기준편과 기판은 홈과 돌기가 각각 형성되어, 상기 홈과 돌기에 의하여 기판 또는 기판홀더와 기준편의 위치가 고정된 후에 기판 또는 마스크의 선형 이동이 가능하도록 하는 것을 특징으로 하는 기판 정렬장치.
- 제 1항 또는 2항에 있어서, 상기 제 1이송부 및 제 2이송부의 단부에는 롤러를 추가 구성하는 것을 특징으로 하는 기판 정렬장치.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020050080443A KR100622931B1 (ko) | 2005-08-31 | 2005-08-31 | 기판과 마스크 정렬장치 |
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KR1020050080443A KR100622931B1 (ko) | 2005-08-31 | 2005-08-31 | 기판과 마스크 정렬장치 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
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KR100622931B1 true KR100622931B1 (ko) | 2006-09-13 |
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ID=37624693
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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KR1020050080443A KR100622931B1 (ko) | 2005-08-31 | 2005-08-31 | 기판과 마스크 정렬장치 |
Country Status (1)
Country | Link |
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KR (1) | KR100622931B1 (ko) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101034041B1 (ko) | 2009-07-03 | 2011-05-11 | 주식회사 디엠에스 | 기판 정렬장치 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR19990042581A (ko) * | 1997-11-27 | 1999-06-15 | 유무성 | 노광장치 |
KR20040016067A (ko) * | 2002-08-14 | 2004-02-21 | 삼성전자주식회사 | 감광막 노광 방법 및 이를 이용한 노광 설비 |
KR20050020922A (ko) * | 2003-08-21 | 2005-03-04 | 이곤철 | 백-사이드 마스크 정렬이 가능한 노광장치 |
-
2005
- 2005-08-31 KR KR1020050080443A patent/KR100622931B1/ko active IP Right Grant
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR19990042581A (ko) * | 1997-11-27 | 1999-06-15 | 유무성 | 노광장치 |
KR20040016067A (ko) * | 2002-08-14 | 2004-02-21 | 삼성전자주식회사 | 감광막 노광 방법 및 이를 이용한 노광 설비 |
KR20050020922A (ko) * | 2003-08-21 | 2005-03-04 | 이곤철 | 백-사이드 마스크 정렬이 가능한 노광장치 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101034041B1 (ko) | 2009-07-03 | 2011-05-11 | 주식회사 디엠에스 | 기판 정렬장치 |
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