図1はこの発明にかかる剥離装置の一実施形態を示す斜視図である。各図における方向を統一的に示すために、図1右下に示すようにXYZ直交座標軸を設定する。ここでXY平面が水平面、Z軸が鉛直軸を表す。より詳しくは、(+Z)方向が鉛直上向き方向を表している。
この剥離装置1は、主面同士が互いに密着した状態で搬入される2枚の板状体を剥離させるための装置である。例えばガラス基板や半導体基板等の基板の表面に所定のパターンを形成するパターン形成プロセスの一部において用いられる。より具体的には、このパターン形成プロセスでは、被転写体である基板に転写すべきパターンを一時的に担持する担持体としてのブランケット表面にパターン形成材料を均一に塗布し(塗布工程)、パターン形状に応じて表面加工された版をブランケット上の塗布層に押し当てることによって塗布層をパターニングし(パターニング工程)、こうしてパターンが形成されたブランケットを基板に密着させることで(転写工程)、パターンをブランケットから基板に最終転写する。
このとき、パターニング工程において密着された版とブランケットとの間、または転写工程において密着された基板とブランケットとの間を離間させる目的のために、本装置を好適に適用することが可能である。もちろんこれらの両方に用いられてもよく、これ以外の用途で用いられても構わない。例えば担持体に担持された薄膜を基板に転写する際の剥離プロセスにも適用することができる。
この剥離装置1は、筺体に取り付けられたメインフレーム11の上にステージブロック3および上部吸着ブロック5がそれぞれ固定された構造を有している。図1では装置の内部構造を示すために筐体の図示を省略している。また、これらの各ブロックの他に、この剥離装置1は後述する制御ユニット70(図6)を備えている。
ステージブロック3は、版または基板とブランケットとが密着されてなる密着体(以下、「ワーク」という)を載置するためのステージ30を有しており、ステージ30は、上面が略水平の平面となった水平ステージ部31と、上面が水平面に対して数度(例えば2度程度)の傾きを有する平面となったテーパーステージ部32とを備えている。ステージ30のテーパーステージ部32側、すなわち(−Y)側の端部近傍には初期剥離ユニット33が設けられている。また、水平ステージ部31を跨ぐようにローラユニット34が設けられる。
一方、上部吸着ブロック5は、メインフレーム11から立設されるとともにステージブロック3の上部を覆うように設けられた支持フレーム50と、該支持フレーム50に取り付けられた第1吸着ユニット51、第2吸着ユニット52、第3吸着ユニット53および第4吸着ユニット54とを備えている。これらの吸着ユニット51〜54は(+Y)方向に順番に並べられている。
図2はこの剥離装置の主要構成を示す斜視図である。より具体的には、図2は、剥離装置1の各構成のうちステージ30、ローラユニット34および第2吸着ユニット52の構造を示している。ステージ30は、上面310が略水平面となった水平ステージ部31と上面320がテーパー面となったテーパーステージ部32とを備えている。水平ステージ部31の上面310は載置されるワークの平面サイズより少し大きい平面サイズを有している。
テーパーステージ部32は水平ステージ部31の(−Y)側端部に密着して設けられており、その上面320は、水平面321とテーパー面322とを有している。より具体的には、テーパーステージ部32の上面320のうち、水平ステージ部31と接する部分は水平ステージ部31の上面310と同じ高さ(Z方向位置)に位置する水平面321となっている。一方、該水平面321よりも(−Y)方向側では、テーパーステージ部32の上面320は、水平ステージ部31から(−Y)方向に離れるにつれて下方、つまり(−Z)方向へ後退する下り勾配を有するテーパー面322となっている。したがって、ステージ30全体では、水平ステージ部31の上面310の水平面とテーパーステージ部32の上面320のうち水平面321とが連続して一体の水平面となっており、該水平面の(−Y)側端部にテーパー面322が接続している。水平面321とテーパー面322とが接続する稜線部EはX方向に延びる直線状となっている。
テーパーステージ部32の上面320のうち水平面321には、そのX方向における中央部に撮像窓323が設けられている。撮像窓323は、水平面320からテーパーステージ部32の下面側まで貫通する貫通孔に透明部材が嵌め込まれた構造を有しており、その上面はテーパーステージ部32の水平面321と同一平面とされる。なお、撮像窓はステージ30に載置されるワークを下方から光学的に観察することが可能な構造であればよく、例えば単に貫通孔のみでもよい。またその開口形状も任意である。さらには、テーパーステージ部32全体または水平面321全体が光透過性を有する材料、例えばガラスや石英などにより構成されてもよく、この場合には撮像窓を設けるには及ばない。
また、水平ステージ部31の上面310には格子状の溝が刻設されている。より具体的には、水平ステージ部31の上面310の中央部に格子状の溝311が設けられるとともに、該溝311が形成された領域を取り囲むように、矩形のうちテーパーステージ部32側の1辺を除いた概略コの字型となるように、溝312が水平ステージ部31の上面310周縁部に設けられている。これらの溝311,312は制御バルブを介して後述する負圧供給部704(図6)に接続されており、負圧が供給されることで、ステージ30に載置されるワークを吸着保持する吸着溝としての機能を有する。2種類の溝311,312はステージ上では繋がっておらず、また互いに独立した制御バルブを介して負圧供給部704に接続されているので、両方の溝を使用した吸着の他に、一方の溝のみ使用した吸着も可能となっている。
このように構成されたステージ30を跨ぐように、ローラユニット34が設けられる。具体的には、水平ステージ部31のX方向両端部に沿って、1対のガイドレール351,352がY方向に延設されており、これらのガイドレール351,352はメインフレーム11に固定されている。そして、ガイドレール351,352に対し摺動自在にローラユニット34が取り付けられている。
ローラユニット34は、ガイドレール351,352とそれぞれ摺動自在に係合するスライダ341,342を備えており、これらのスライダ341,342を繋ぐように、ステージ30上部を跨いでX方向に延設された下部アングル343が設けられている。下部アングル343には適宜の昇降機構344を介して上部アングル345が昇降自在に取り付けられている。そして、上部アングル345に対して、X方向に延設された円柱状の剥離ローラ340が回転自在に取り付けられる。
上部アングル345が昇降機構344により下方、つまり(−Z)方向に下降されると、ステージ30に載置されたワークの上面に剥離ローラ340の下面が当接する。一方、上部アングル345が昇降機構344により上方、つまり(+Z)方向の位置に位置決めされた状態では、剥離ローラ340はワークの上面から上方に離間した状態となる。上部アングル345には、剥離ローラ340の撓みを抑制するためのバックアップローラ346が回転自在に取り付けられるとともに、上部アングル345自体の撓みを防止するためのリブが適宜設けられる。剥離ローラ340およびバックアップローラ346は駆動源を有しておらず、これらは自由回転する。
ローラユニット34は、メインフレーム11に取り付けられたモータ353によりY方向に移動可能となっている。より具体的には、下部アングル343が、モータ353の回転運動を直線運動に変換する変換機構としての例えばボールねじ機構354に連結されており、モータ353が回転すると下部アングル343がガイドレール351,352に沿ってY方向に移動し、これによりローラユニット34がY方向に移動する。ローラユニット34の移動に伴う剥離ローラ340の可動範囲は、(−Y)方向には水平ステージ部31の(−Y)側端部の近傍まで、(+Y)方向には水平ステージ部31の(+Y)側端部よりも外側、つまりさらに(+Y)側へ進んだ位置までとされる。
次に第2吸着ユニット52の構成について説明する。なお、第1ないし第4吸着ユニット51〜54はいずれも同一構造を有しており、ここでは代表的に第2吸着ユニット52の構造について説明する。第2吸着ユニット52は、X方向に延設されて支持フレーム50に固定される梁部材521を有しており、該梁部材521には鉛直下向き、つまり(−Z)方向に延びる1対の柱部材522,523がX方向に互いに位置を異ならせて取り付けられている。柱部材522,523には図では隠れているガイドレールを介してプレート部材524が昇降自在に取り付けられており、プレート部材524はモータおよび変換機構(例えばボールねじ機構)からなる昇降機構525により昇降駆動される。
プレート部材524の下部にはX方向に延びる棒状のパッド支持部材526が取り付けられており、該パッド支持部材526の下面に複数の吸着パッド527がX方向に等間隔で配列されている。図2では第2吸着ユニット52を実際の位置よりも上方に移動させた状態を示しているが、昇降機構525によりプレート部材524が下方へ移動されたとき、吸着パッド527が水平ステージ部31の上面310にごく近接した位置まで下降することができ、ステージ30にワークが載置された状態では該ワークの上面に当接する。各吸着パッド527には後述する負圧供給部704からの負圧が付与されて、ワークの上面が吸着保持される。
図3はステージのより詳細な構成を示す斜視図である。図3(a)に示すように、ステージ30の水平ステージ部31とテーパーステージ部32とは別体に形成されて分離可能となっている。テーパーステージ部32は図示を省略する水平移動機構により水平ステージ部31に対して水平方向に接近・離間移動可能となっており、テーパーステージ部32が水平ステージ部31の側面に密着することで、水平ステージ部31とテーパーステージ部32とが一体的にステージ30として機能する。
水平ステージ部31の上面310には、上記した吸着溝311,312の他に、互いに形状の異なる開口313,314が設けられている。より具体的には、水平ステージ部31の上面310のうち吸着溝311と吸着溝312との間の平坦部分の複数箇所に、長円形状を有する複数の第1の開口313が分散配置される。また、水平ステージ部31の上面310の中央部の互いに離隔する4箇所に、略円形の第2の開口314が設けられている。第1の開口313および第2の開口314はいずれも、水平ステージ部31の上面310において吸着溝311,312とは接続していない。このために、第2の開口314の周囲では吸着溝311が分断されている。
一方、テーパーステージ部32が設けられる側、つまり(−Y)側の水平ステージ部31の側面には、4組のメインリフタ36がX方向に並べて配置されている。これらのメインリフタ36の構造は互いに同一である。メインリフタ36のそれぞれは、水平ステージ部31の側面に沿うように薄板状に仕上げられたリフタピン361と、該リフタピン361を下方から支持するとともにこれを制御ユニット70(図6)からの駆動信号に応じて上下方向(Z方向)に昇降させる昇降機構365とを備えている。昇降機構365は水平ステージ部31の底面に固定されている。
図3(b)はリフタピン361の概略構造を示しており、同図に示すように、リフタピン361の上面361aは略平面に仕上げられている。その中央部には吸着パッド362が設けられており、吸着パッド362はリフタピン361の内部を貫通して設けられた負圧供給経路363に連通している。負圧供給経路363は制御バルブを介して後述する負圧供給部704(図6)に接続されている。
同様の構造を有するメインリフタ36が、水平ステージ部31の上面310に穿設された複数の第1の開口313に対してそれぞれ1組ずつ設けられている。すなわち、第1の開口313から水平ステージ部31の底面まで貫通する貫通孔の下端に昇降機構365がそれぞれ取り付けられ、リフタピン361が各開口313に連通する貫通孔に挿通されている。
各メインリフタ36は制御ユニット70からの駆動信号に応じて同一の動作をする。すなわち、各リフタピン361は、その上端が水平ステージ部31の上面310よりも下方に後退した下部位置と、上端が水平ステージ部31の上面310よりも上方に突出した上部位置とでそれぞれ位置決め可能となっており、制御ユニット70からの駆動信号に応じて上部位置と下部位置との間で一斉に昇降する。各リフタピン361の上端が水平ステージ部31の上面310よりも上方に突出して位置決めされる上部位置では、ステージ30に載置されるワークの下面にリフタピン361の上面361aを当接させることでワークをステージ30から離間した状態で支持することが可能である。
また、水平ステージ部31の上面310のうち吸着溝311が配置される中央部に穿設された第2の開口314には、図示を省略するサブリフタが配置される。サブリフタはメインリフタ36と同様にリフタピンおよびこれを昇降させる昇降機構を有しており、制御ユニット70からの駆動信号に応じてリフタピンを水平ステージ部31の上面310よりも上方に突出させることで、ワークを補助的に支持することが可能である。サブリフタのリフタピンの上面は、メインリフタ36のリフタピン361の上面361aよりも小さい円板形状となっており、第2の開口314もこれに対応した形状となっている。
図4は初期剥離ユニットの構造および各部の位置関係を示す側面図である。まず図1および図4を参照しながら初期剥離ユニット33の構造を説明する。図4(a)に示すように、初期剥離ユニット33は、テーパーステージ部32の上方でX方向に延設された棒状の押圧部材331を有しており、押圧部材331は支持アーム332により支持されている。支持アーム332は鉛直方向に延設されるガイドレール333を介して柱部材334に昇降自在に取り付けられており、昇降機構335の作動により、支持アーム332が柱部材334に対して上下動する。柱部材334はメインフレーム11に取り付けられたベース部336により支持されるが、位置調整機構337によりベース部336上での柱部材334のY方向位置が所定の範囲内で調整可能となっている。
水平ステージ部31およびテーパーステージ部32により構成されるステージ30に対して、剥離対象物たるワークWKが載置される。前述したパターニング工程におけるワークは版とブランケットとがパターン形成材料の薄膜を介して密着した密着体である。一方、転写工程におけるワークは基板とブランケットとがパターニングされたパターンを介して密着した密着体である。以下では転写工程における基板SBとブランケットBLとの密着体をワークWKとした場合の剥離装置1の剥離動作について説明するが、版とブランケットとによる密着体をワークとする場合でも同様の方法によって剥離を行うことが可能である。
ワークWKにおいて、基板SBよりもブランケットBLの方が大きい平面サイズを有しているものとする。基板SBはブランケットBLの略中央部に密着される。ワークWKはブランケットBLを下、基板SBを上にしてステージ30に載置される。このとき、図4(a)に示すように、ワークWKのうち基板SBの(−Y)側端部がステージ30の水平面とテーパー面との境界、すなわちテーパーステージ部32の水平面321とテーパー面322との境界の稜線部Eの略上方に位置する。より詳しくは、基板SBの(−Y)側端部が稜線部Eよりも僅かに(−Y)側にずれた位置となるように、ワークWKがステージ30に載置される。したがって、(−Y)方向において基板SBよりも外側のブランケットBLはテーパーステージ部32のテーパー面322の上にせり出すように配置され、ブランケットBLの下面とテーパー面322との間には隙間が生じる。ブランケットBLの下面とテーパー面322とがなす角θはテーパーステージ部32のテーパー角と同じ数度(この実施形態では2度)程度である。
水平ステージ部31には吸着溝311が設けられており、ブランケットBLの下面を吸着保持する。より詳しくは、吸着溝311は基板SBの下部に当たるブランケットBLの下面を吸着する。一方、図3に示すように、吸着溝311の周囲を取り囲むように他の吸着溝312が設けられており、吸着溝312は基板SBよりも外側のブランケットBLの下面を吸着する。吸着溝311,312は互いに独立して吸着をオン・オフすることができ、2種類の吸着溝311,312を共に使用して強力にブランケットBLを吸着することができる。一方、外側の吸着溝312のみを使用して吸着を行い、パターンが有効に形成されたブランケットBLの中央部については吸着を行わないようにすることで、吸着によるブランケットBLの撓みに起因するパターンの損傷を防止することができる。このように、中央部の吸着溝311と周縁部の吸着溝312とへの負圧供給を独立に制御することで、ブランケットBLの吸着保持の態様を目的に応じて切り換えることが可能となっている。
このようにしてステージ30に吸着保持されるワークWKの上方に、第1ないし第4吸着ユニット51〜54と、ローラユニット34の剥離ローラ340とが配置される。図4(a)では4つの吸着ユニットのうち(−Y)側の2つの吸着ユニット51,52のみが現れている。前述したように第2吸着ユニット52の下部には複数の吸着パッド527がX方向に並べて設けられている。より詳しくは、吸着パッド527は、例えばゴムやシリコン樹脂などの柔軟性および弾性を有する材料で一体的に形成された、下面がワークWKの上面(より具体的には基板SBの上面)に当接してこれを吸着する吸着部527aと、上下方向(Z方向)への伸縮性を有するべローズ部527bとを有している。他の吸着ユニット51,53および54に設けられた吸着パッドも同一構造である。以下では第1吸着ユニット51に設けられた吸着パッドに符号517を付して、第2吸着ユニット52の吸着パッド527と区別することとする。
第1吸着ユニット51は稜線部Eの上方に設けられており、下降したときに基板SBの(−Y)側端部の上面を吸着する。一方、最も(+Y)側に配置された第4吸着ユニット54(図1)は、ステージ30に載置される基板SBの(+Y)側端部の上方に設けられ、下降したときに基板SBの(+Y)側端部の上面を吸着する。第2吸着ユニット52および第3吸着ユニット53はこれらの間に適宜分散配置され、例えば各吸着ユニット51〜54に設けられた吸着パッド517等がY方向において略等間隔となるようにすることができる。これらの吸着ユニット51〜54の間では、上下方向への移動および吸着のオン・オフを互いに独立して実行可能となっている。
剥離ローラ340は上下方向に移動して基板SBに対し接近・離間移動するとともに、Y方向に移動することで基板SBに沿って水平移動する。剥離ローラ340が下降した状態では、基板SBの上面に当接して転動しながら水平移動する。最も(−Y)側に移動したときの剥離ローラ340の位置は、第1吸着ユニット51の吸着パッド517の(+Y)側直近位置である。このような近接位置への配置を可能とするために、第1吸着ユニット51については、図2に示す第2吸着ユニット52と同一構造のものが、図1に示すように他の第2ないし第4吸着ユニット52〜54とは反対向きにして支持フレーム50に取り付けられている。
初期剥離ユニット33は、テーパーステージ部32の上方に突き出されたブランケットBLの上方に押圧部材331が位置するように、そのY方向位置が調整されている。そして、支持アーム332が下降することにより、押圧部材331の下端が下降してブランケットBLの上面を押圧する。このとき押圧部材331がブランケットBLを傷つけることがないように、押圧部材331の先端は弾性部材により形成されている。
前述したように、水平ステージ部31の(−Y)側側面にはメインリフタ36が設けられている。下部位置に後退したリフタピン361とテーパーステージ部32とが干渉しないように、テーパーステージ部32の水平面321の下部が切り欠かれている。
また、テーパーステージ部32の水平面321に設けられた撮像窓323の直下位置には、例えばCCDセンサ、CMOSセンサなどの撮像素子および上向きを撮像方向とする撮像光学系を有する撮像部37が設けられている。撮像部37は水平ステージ部31、テーパーステージ部32およびメインフレーム11のいずれかに固定される。撮像部37は撮像窓323を介して該撮像窓323に臨むワークWKを下方から撮像し、取得した画像データを制御ユニット70(図6)に送信する。
なお、テーパーステージ部32は図示しない水平移動機構によりY方向に移動可能に構成されている。図4(a)に示すように、テーパーステージ部32が水平移動機構により(+Y)側位置に位置決めされた状態では、テーパーステージ部32が水平ステージ部31の側面に当接して一体のステージ30として機能する。一方、テーパーステージ部32が水平移動機構により(−Y)側位置に位置決めされた状態では、図4(b)に示すように、テーパーステージ部32が水平ステージ部31から離間して両者の間に隙間が形成され、水平ステージ部31の(−Y)側側面に取り付けられたメインリフタ36のリフタピン361はこの隙間を通って昇降する。
図4(b)は撮像部37が水平ステージ部31またはメインフレーム11に固定された場合を示しており、テーパーステージ部32の移動に伴って撮像部37が移動することはない。一方、撮像部37がテーパーステージ部32に固定された場合には、テーパーステージ部32の移動とともに撮像部37もY方向に移動する。後述するように、撮像部37は水平ステージ部31とテーパーステージ部32とが結合された図4(a)に示す状態で撮像を行うので、いずれの態様であってもよい。
水平ステージ部31に設けられた複数のリフタピン361がこのようにステージ上面310よりも上方に突出した状態では、ワークWKをステージ上面310から離間した状態で支持することが可能である。外部から剥離装置1に対してワークWKが搬入される際、リフタピン361を上部位置に突出させることでワークWKを受け取ることが可能である。こうしてワークWKを受け取った後、リフタピン361が下降してステージ上面310よりも下方に退避することで、ワークWKはステージ30に受け渡される。一方、ワークWKに対する剥離処理が終了した後にステージ30上に残るブランケットBLについても、リフタピン361によってステージ30から持ち上げることにより、外部への受け渡しが可能となる。
これらの場合において、各リフタピン361に設けた吸着パッド362に負圧を供給することで、ブランケットBLの下面を吸着保持することができる。また、必要に応じてサブリフタを作動させることで、ワークWKまたはブランケットBLの中央部が撓むのを抑制することができる。
図5はステージとこれに載置されるワークとの位置関係を示す図である。基板SBとブランケットBLとが密着してなるワークWKにおいては、ブランケットBLが基板SBより大きな平面サイズを有している。このため、基板SBではその全面がブランケットBLに対向しているのに対して、ブランケットBLはその中央部分が基板SBと対向しているが、周縁部は基板SBと対向しない余白部分となっている。基板SBの表面領域のうち周縁部を除く中央部分に、パターンが有効に転写されてデバイスとして機能する有効領域ARが設定される。したがって、この剥離装置1の目的は、ブランケットBLから基板SBの有効領域ARに転写されたパターンを損傷させることなく、基板SBとブランケットBLとを剥離させることである。
基板SBの有効領域ARの全体が水平ステージ部31の上面310に位置するように、ワークWKはステージ30に載置される。一方、有効領域ARよりも外側において、基板SBの(−Y)側端部はステージ30の水平面とテーパー面との境界の稜線部Eよりも僅かに(−Y)側に突出した位置に位置決めされる。
図においてドットを付した領域R1は吸着溝311によりブランケットBLが吸着される領域を示している。吸着溝311により吸着される領域R1は有効領域AR全体をカバーする。また、領域R2は吸着溝312によりブランケットBLが吸着される領域を示している。吸着溝312は有効領域ARよりも外側でブランケットBLを吸着する。したがって、例えば吸着溝312のみによってブランケットBLを吸着する態様では、有効領域AR内のパターンが吸着の影響を受けることが回避される。
また領域R6は、メインリフタ36のリフタピン361が当接するブランケットBLの下面領域を示している。リフタピン361は、ワークWKのうち、基板SBとブランケットBLとが重なり合う領域であって、かつ有効領域ARよりも外側の領域において、ブランケットBLの下面に当接する。これにより、支持の際に有効領域AR内のパターン等に押圧力が加わるのを防止することができる。また基板SBの剛性とブランケットBLの剛性とでワークWKを支持するので、大型で自重の大きいワークWKであっても確実に支持することができる。図5に示した他の領域R3,R4,R7については、後の動作説明の際に説明する。
図6はこの剥離装置の電気的構成を示すブロック図である。装置各部は制御ユニット70により制御される。制御ユニット70は、装置全体の動作を司るCPU701と、各部に設けられたモータ類を制御するモータ制御部702と、各部に設けられたバルブ類を制御するバルブ制御部703と、各部に供給する負圧を発生する負圧供給部704と、ユーザからの操作入力を受け付けたり装置の状態をユーザに報知するためのユーザインタフェース(UI)部705とを備えている。なお、工場用力など外部から供給される負圧を利用可能である場合には制御ユニット70が負圧供給部を備えていなくてもよい。
モータ制御部702は、ステージブロック3に設けられたモータ353および昇降機構335,344,365、水平移動機構、上部吸着ブロック5の各吸着ユニット51〜54にそれぞれ設けられた昇降機構525などのモータ群を駆動制御する。なお、ここでは各可動部の駆動源として代表的にモータを記載しているが、これに限定されるものではなく、その用途に応じて例えばエアシリンダ、ソレノイド、圧電素子などの各種アクチュエータを駆動源として用いてもよい。
バルブ制御部703は、負圧供給部704から水平ステージ部31に設けられた吸着溝311,312およびリフタピン361に設けられた吸着パッド362につながる配管経路上に設けられてこれらの吸着溝および吸着パッドに対し所定の負圧を個別に供給するためのバルブ群V3、負圧供給部704から各吸着ユニット51〜54の吸着パッド517等につながる配管経路上に設けられて各吸着パッド517等に所定の負圧を供給するためのバルブ群V5などを制御する。
さらに、制御ユニット70は、ステージブロック3に設けられた撮像部37を制御して必要な撮像動作を実行させるとともに、撮像部37により取得された画像データを受信して画像処理を行う。撮像部37はテーパーステージ部32に設けられた撮像窓323を介してブランケットBLの下面を撮像する。制御ユニット70は、撮像された画像に基づき、以下に説明する剥離動作の進行を制御する。
次に、上記のように構成された剥離装置1による剥離動作について、図7ないし図10を参照しながら説明する。図7は剥離処理を示すフローチャートである。また、図8ないし図10は処理中の各段階における各部の位置関係を示す図であり、処理の進行状況を模式的に表したものである。この剥離処理は、CPU701が予め記憶された処理プログラムを実行して各部を制御することによりなされる。
まず、オペレータまたは外部の搬送ロボット等によってワークWKがステージ30上の上記位置にロードされると(ステップS101)、装置が初期化されて装置各部が所定の初期状態に設定される(ステップS102)。初期状態では、ワークWKが吸着溝311,312の一方または両方によって吸着保持され、初期剥離ユニット33の押圧部材331、ローラユニット34の剥離ローラ340、第1ないし第4吸着ユニット51〜54の吸着パッド517等はいずれもワークWKから離間している。また剥離ローラ340はその可動範囲において最も(−Y)側に寄った位置にある。
この状態から、第1吸着ユニット51および剥離ローラ340を下降させて、それぞれワークWKの上面に当接させる(ステップS103)。このとき、図8(a)に示すように、第1吸着ユニット51の吸着パッド517が基板SBの(−Y)側端部の上面を吸着し、剥離ローラ340はその(+Y)側隣接位置で基板SBの上面に当接する。なお、図8(a)において押圧部材331の近傍に付した下向き矢印は、図に示される状態から、続く工程では押圧部材331が当該矢印方向に移動することを意味している。以下の図においても同様である。
図5に示される領域R3はこの時に第1吸着ユニット51により基板SBが吸着される領域を示し、領域R4は剥離ローラ340が基板SBに当接することにより形成される当接ニップ領域を示す。図5に示すように、第1吸着ユニット51は基板SBの(−Y)側端部を吸着保持する一方、剥離ローラ340は第1吸着ユニット51による吸着領域R3の(+Y)側に隣接する領域R4で基板SBに当接する。剥離ローラ340が当接する当接ニップ領域R4は、有効領域ARよりも外側、つまり有効領域ARから(−Y)側に寄った位置であって、ステージ30の稜線部Eよりも(+Y)側の水平面上の位置とされる。したがって、有効領域ARの内部は第1吸着ユニット51による吸着、剥離ローラ340による押圧のいずれをも受けていない。
続いて、撮像部37による撮像を開始する(ステップS104)。これ以後撮像部37は随時撮像した画像をリアルタイムで制御ユニット70に送信するが、撮像部37自体はこれ以前から動作していてもよい。図5に示される領域R7はテーパーステージ部32の水平面321のうち撮像窓323が設けられた領域を示している。図5に示されるように、撮像窓323が設けられた領域R7と剥離ローラ340により形成される当接ニップの領域R4とは互いに一部が重なり合っている。言い換えれば、このような配置となるように、撮像窓323の位置と剥離ローラ340の初期位置とが予め設定されている。
図8(a)に示すように、撮像窓323の直下位置には撮像部37が設けられており、撮像部37は撮像窓323を介して上方を撮像する。上記したように、撮像窓323には剥離ローラ340が基板SBに当接してなる当接ニップの一部が臨んでいる。図8(b)に示すように、撮像部37がブランケットBL下面を撮像する際の撮像視野FVには当接ニップ領域R4の少なくとも一部、望ましくはその(−Y)側の端部P4が含まれるようにする。
図7に戻って、次に初期剥離ユニット33を作動させ、押圧部材331を下降させてブランケットBL端部を押圧する(ステップS105)。ブランケットBLの端部はテーパーステージ部32のテーパー面322の上方に突出しており、その下面とテーパー面322との間には隙間がある。したがって、図9(a)に示すように、押圧部材331がブランケットBLの端部を下方へ押圧することにより、ブランケットBLの端部がテーパー面322に沿って下方へ屈曲する。その結果、第1吸着ユニット51により吸着保持される基板SBの(−Y)側端部PSとブランケットBLとの間が離間し剥離が開始される。押圧部材331はX方向に延びる棒状に形成され、しかもそのX方向長さがブランケットBLよりも長く設定されている。したがって、図5に示すように、押圧部材331がブランケットBLに当接する当接領域R5は、ブランケットBLの(−X)側端部から(+X)側端部まで直線状に延びる。こうすることで、ブランケットBLを柱面状に屈曲させることができ、基板SBとブランケットBLとが既に剥離した剥離領域と、まだ剥離していない未剥離領域との境界線(以下、「剥離境界線」という)を直線状にすることができる。
こうして基板端部PSから剥離が開始された状態から、第1吸着ユニット51の上昇を開始する(ステップS106)。これにより、図9(b)に示すように、第1吸着ユニット51に吸着保持された基板SBの端部PSがブランケットBLからさらに離間してゆき、これに伴って剥離境界線は(+Y)方向へ移動して剥離が進行してゆく。すなわち、この実施形態における剥離進行方向は(+Y)方向である。
図9(c)はこの間の剥離境界線の動きと撮像部37により撮像される画像との関係を模式的に示す図である。図9(a)に例示される押圧部材331の押圧により基板SBとブランケットBLとの間の剥離が開始された直後の時刻T1における剥離境界線TL1は、図9(c)に示すようにステージ30の稜線部Eよりも(−Y)側に位置しており、必ずしも撮像視野FVには入らない。
剥離境界線の(−Y)側、つまり剥離進行方向の上流側では、ブランケットBLの上面に密着していた基板SBが既に離間した剥離領域となっており、両者の間には隙間ができて周囲雰囲気が流れ込んでいる。一方、剥離境界線の(+Y)側、つまり剥離進行方向の下流側では、ブランケットBLの上面には基板SBがまだ密着したままの未剥離領域である。ブランケットBLを介した撮像では、基板SBと周囲雰囲気との色調および屈折率の差異に起因して剥離領域と未剥離領域との間で大きな輝度差があるので、剥離境界線を光学的に検出することが容易である。
この目的のために、ブランケットBLは入射光の少なくとも一部を透過させる光透過性を有するものであることが望ましい。制御ユニット70では、例えば画像において輝度変化の大きいエッジを検出することにより、剥離境界線の位置を検出することが可能である。なお、当接ニップ領域R4については、その位置と撮像視野FVとの位置関係が既知であればよく、必ずしも画像から検出可能である必要はない。
その後、図9(b)に例示される基板端部PSの引き上げが開始されて剥離境界線が(+Y)側へ進行した時刻T2においては、剥離境界線TL2が撮像視野FV内に入ってくる。このことは、撮像窓323の直上位置まで剥離が進行したことを示している。そして、さらに基板SBが引き上げられ剥離境界線が進行し、最終的には剥離ローラ340による当接ニップ領域R4まで剥離境界線が進んでくる。
このタイミングで剥離ローラ340を(+Y)方向へ移動開始させれば、その後は剥離境界線が剥離ローラ340にその進行を規制されつつさらに(+Y)方向へ進行する。つまり、剥離が剥離ローラ340の移動によって管理されながら進行する。
このとき、剥離境界線は当接ニップ領域R4に侵入しさらにこれを超えて(+Y)側まで進行することはない。したがって、剥離境界線が当接ニップ領域R4に到達してから剥離ローラ340の移動開始までに時間遅れがあれば、その間剥離の進行は停止され剥離ローラ340の移動開始とともに再開されるため、剥離速度の変動が生じる。このことはパターン等へのダメージの原因となる。また、剥離ローラ340に押さえられた基板SBを無理に引き上げることで、第1吸着ユニット51による吸着から基板SBが離脱することもあり得る。一方、剥離境界線が当接ニップ領域R4に到達する前に剥離ローラ340の移動が開始されれば、剥離ローラ340が剥離の進行を管理する機能を果たさなくなり、不規則な剥離の進行によりやはりパターン等へのダメージをもたらす。したがって、剥離境界線が当接ニップ領域R4に到達した時に遅滞なく剥離ローラ340の移動が開始されることが求められる。
この実施形態では、撮像部37により撮像される画像から剥離境界線の進行状況をリアルタイムに検出し、その検出結果に基づいて剥離ローラ340の移動を制御することで、上記要求に応えられるようにしている。具体的には、撮像部37の撮像視野FV内を進行する剥離境界線に対して、剥離ローラ340の移動開始タイミングを決める基準位置としての判定ラインJLを予め設定しておき、剥離境界線が当該判定ラインJLに到達したことを検出した時に、剥離ローラ340の移動を開始するようにしている(ステップS107、S108)。
判定ラインJLとしては、例えば当接ニップ領域R4の(−Y)側端部P4、つまり剥離進行方向における上流側端部の位置とすることができる。こうすることで、剥離境界線が当接ニップ領域R4に到達するのとほぼ同時に剥離ローラ340の移動を開始することができる。一方、剥離境界線が判定ラインJLに達してから剥離ローラ340の移動が開始されるまでに時間遅れが想定されるような場合には、例えば当接ニップ領域R4の上流側端部P4から剥離進行方向における上流側、つまり(−Y)側に所定量だけシフトさせた位置を基準位置として、この位置に判定ラインJLを設定してもよい。
さらに別の方法として、撮像される画像から撮像視野FV内における剥離境界線の進行速度を検出し、その検出結果から剥離境界線が当接ニップ領域R4に到達する時刻を予測してそのタイミングで剥離ローラ340を移動開始させるようにしてもよい。このようにすれば、剥離境界線の当接ニップ領域R4への到達と剥離ローラ340の始動との間の時間差をほぼゼロとすることが可能である。
なお、いずれの場合でも、初期状態での当接ニップ領域R4は有効領域ARよりも(−Y)側、つまり剥離進行方向の上流側に外れた位置に設定されているから(図5)、剥離境界線の当接ニップ領域R4への到達と剥離ローラ340の始動との間に微小の時間差があったとしても、それにより有効領域AR内のパターンに影響が及ぶことは回避される。
この後、第1吸着ユニット51は上方、つまり(+Z)方向に、また剥離ローラ340は(+Y)方向に、それぞれ一定速度で移動する。こうして第1吸着ユニット51の上昇に加えて剥離ローラ340の移動が開始されることにより、さらに剥離が進行する。
図10(a)に示すように、基板SBの端部を保持する第1吸着ユニット51が上昇することで基板SBが引き上げられてブランケットBLとの剥離が(+Y)方向に向かって進行するが、剥離ローラ340を当接させているため、剥離ローラ340による当接領域R4(図5)を超えて剥離が進行することはない。剥離ローラ340を基板SBに当接させながら一定速度で(+Y)方向に移動させることで、剥離の進行速度を一定に維持することができる。すなわち、剥離境界線がローラ延設方向つまりX方向に沿った一直線となり、しかも一定速度で(+Y)方向に進行する。これにより、剥離の進行速度の変動による応力集中に起因するパターンの損傷を確実に防止することができる。
その後、剥離ローラ340が予め設定された切り替え位置を通過するのを待つ(ステップS109)。この切り替え位置は、各吸着パッド52〜54に対応してそれぞれ設定されたものであり、当該吸着パッド直下の基板SB上の位置である。例えば第2吸着ユニット52に対応する切り替え位置は第2吸着ユニット52直下の基板SBの表面位置である。当該位置を剥離ローラ340が通過すると、図10(b)に示すように、第2吸着ユニット52を下降させ、第2吸着ユニット52の吸着パッド527により基板SBを捕捉した後、第2吸着ユニット52を再び上昇させる(ステップS110)。
図10(b)に示すように、剥離ローラ340が既に通過していることから、第2吸着ユニット52の直下位置では基板SBはブランケットBLから剥離して上方へ浮き上がった状態となっている。伸縮性を有する弾性部材で構成された吸着パッド527に負圧を付与しながら基板SBに近付けてゆくことで、吸着パッド527の下面が基板SBの上面に当接した時点で基板SBを捕捉し吸着することができる。吸着パッド527を所定位置まで下降させた後、引き上げられてくる基板SBを待機する態様であってもよい。いずれにおいても、吸着パッドに柔軟性を持たせることで、吸着の失敗を防止することができる。
基板SBの吸着を開始した後、第2吸着ユニット52の移動を上昇に転じる。これにより、図10(c)に示すように、剥離の進行速度は依然として剥離ローラ340により制御されつつ、剥離のための基板SBの引き上げの主体は第1吸着ユニット51から第2吸着ユニット52に引き継がれる。また剥離後の基板SBは、第1吸着ユニット51のみによる保持から第1吸着ユニット51と第2吸着ユニット52とによる保持に切り替わり、保持箇所が増加することになる。なお、各吸着ユニット51〜54が上昇する際、剥離後の基板SBの姿勢が略平面となるように、各吸着ユニット51〜54間のZ方向における相対位置が維持される。
同様の処理(ステップS109〜S111)を残りの吸着ユニット53,54についても実行することで、図10(d)に示すように、吸着ユニットによる基板SBの保持箇所が順次追加されて、基板SBの引き上げの主体が順次下流の吸着ユニットに切り替わってゆく。全ての吸着ユニットについて処理が終了すると(ステップS111)、基板SBの全体がブランケットBLから引き離される。そこで、剥離ローラ340をステージ30よりも(+Y)側まで移動させてその移動を停止させる(ステップS112)。そして、各吸着ユニット51〜54を全て同じ高さまで上昇させた後に停止させる(ステップS113)。また、初期剥離ユニット33の押圧部材331をブランケットBLから離間させ、ブランケットBLの上面より上方かつブランケットBLの(−Y)側端部よりも(−Y)側の退避位置まで移動させる(ステップS114)。その後、吸着溝によるブランケットBLの吸着保持を解除し、分離された基板SBおよびブランケットBLを装置外へ搬出することで(ステップS115)、剥離処理が完了する。
各吸着ユニット51〜54の高さを同じとするのは、剥離後の基板SBとブランケットBLとを平行に保持することで、外部ロボットまたはオペレータにより挿入される払い出し用ハンドのアクセスと、それへのブランケットBLおよび基板SBの受け渡しとを容易にするためである。
以上のように、この実施形態では、剥離の進行方向(ここではY方向)に直交するX方向に延設された剥離ローラ340を基板SBに当接させ、剥離ローラ340を剥離の進行方向に一定速度で移動させながら基板SBを引き上げることにより、剥離の進行速度を一定に保って基板SBとブランケットBLとの間を良好に剥離させることができる。すなわち、基板SBとブランケットBLとが既に剥離した剥離領域とまだ剥離していない未剥離領域との間に形成される剥離境界線の形状および進行速度を、剥離ローラ340により制御することができる。
特に、剥離が開始される基板SBの(−Y)側端部PSから、有効なパターン等が形成される有効領域ARまでの間で剥離ローラ340の当接を開始させることで、剥離境界線が有効領域ARに到達するよりも前に剥離ローラ340による剥離の進行管理が確立され、剥離進行速度の変動に起因する有効領域AR内のパターン等へのダメージを防止することができる。
剥離ローラ340による管理が確立する前の初期段階では剥離の進行速度が不安定となりやすい。しかしながら、この実施形態では、撮像部37により撮像される画像から実際の剥離境界線の進行状況を把握して剥離ローラ340の移動開始タイミングを決定しているので、実際の剥離境界線の進行に合わせて剥離ローラ340を移動させることができる。これにより、剥離ローラ340の始動前後においても剥離境界線がスムーズに進行し、剥離進行速度の変動に起因するパターン等へのダメージを確実に防止することが可能である。
また、この実施形態では、図5に示すように、剥離の初期段階で基板SBの引き上げを担う第1吸着ユニット51により基板SBが吸着される領域R3は、有効なパターンが形成された有効領域ARよりも外側である。基板SBが局所的に吸着されることによりその部分で基板SBが部分的にブランケットBLから剥離し、これによりパターンが変形したり損傷するなどの影響が生じる可能性があるが、有効領域外を吸着することで、このような問題は回避される。また、剥離境界線が剥離ローラ340の直下位置に到達するまでは剥離速度が不安定となるが、同様に初期段階における剥離ローラ340の当接領域R4を有効領域外とすることで、剥離速度の変動に起因するパターンの損傷も防止される。
一方、剥離の進行中に新たに基板SBを吸着する第2ないし第4吸着ユニット52〜54は、ブランケットBLから既に剥離した領域において基板SBと当接するため、この場合の吸着によって基板SBに転写されたパターンを傷めることはない。
以上説明したように、この実施形態においては、剥離対象物たるワークWKのうちブランケットBLが本発明の「第1板状体」に相当する一方、基板SBが本発明の「第2板状体」に相当している。また、基板SBの(−Y)側端部が本発明の「一端部」に相当し、これとは反対側の(+Y)側端部が本発明の「他端部」に相当する。そして、(+Y)方向が本発明の「剥離進行方向」に相当する。
また、この実施形態では、ステージ30が本発明の「保持手段」として機能しており、水平ステージ部31の上面310およびテーパーステージ部32の上面320が一体として本発明の「保持面」として機能している。特に、水平ステージ部31の上面310とテーパーステージ部32の水平面321とが一体として本発明の「平面部」として機能し、テーパーステージ部32のテーパー面322が本発明の「テーパー面」として機能している。
また、この実施形態では、第1吸着ユニット51が本発明の「剥離手段」として機能している。また、剥離ローラ340が本発明の「当接手段」として機能しており、図5および図8(a)に示す移動開始前の剥離ローラ340による当接ニップ領域R4の位置が本発明における「当接開始位置」に相当している。また、上記実施形態においては、撮像部37が本発明の「撮像手段」として機能し、制御ユニット70が本発明の「移動制御手段」として機能している。また、押圧部材331が本発明の「押圧部材」として機能している。
なお、本発明は上記した実施形態に限定されるものではなく、その趣旨を逸脱しない限りにおいて上述したもの以外に種々の変更を行うことが可能である。例えば上記実施形態では、テーパーステージ部32の水平面321のX方向における略中央部に1つの撮像窓323と、その直下位置に1つの撮像部37を設けている。しかしながら、前記したように剥離ローラ340による進行管理が確立されるまでの剥離境界線の進行は不規則であり、位置によっても異なる場合がある。この点から、X方向の複数箇所で剥離境界線を撮像し、その結果から剥離ローラの開始タイミングを決めるようにしてもよい。この場合、最も進行の遅い位置での剥離境界線に合わせて剥離ローラを移動開始させることが好ましい。こうすることで、少なくとも剥離境界線が当接ニップに到達するよりも前にローラの移動が開始されることは回避される。
一般的な矩形基板では、剥離力が集中的に作用する角部から剥離が始まりやすく、辺の中央では剥離が遅れる場合が多い。この点から、撮像位置を1箇所とする場合には中央部とすることが効果的であり、本実施形態はこのケースに相当する。
また、上記実施形態では真空吸着によって基板およびブランケットを保持しているが、保持の態様はこれに限定されない。例えば静電的または磁気的な吸着力により吸着保持するものであってもよい。特に基板の有効領域外を保持する第1吸着ユニット51については、吸着によらず、基板周縁部を機械的に把持することにより保持してもよい。
また、上記実施形態ではワークWKの搬入出時の受け渡しの便宜からステージ30を分離可能な構成としているが、ワーク搬入出の態様はこれに限定されるものではなく、ステージの分離構造も必須の要件ではない。
また、上記実施形態ではテーパーステージ部32にブランケットBLを突き出させて保持し、押圧部材331によりブランケットBLを屈曲させて剥離のきっかけを作っているが、このようにすることは必須の要件ではなく、例えば第1吸着ユニットの引き上げのみで剥離を開始させるようにしてもよい。この場合、ステージにテーパーを設ける必要はなくなる。