JP6345109B2 - 剥離方法および剥離装置 - Google Patents

Description

この発明は、互いに密着した２枚の板状体を剥離させる剥離方法および剥離装置に関するものである。

ガラス基板や半導体基板などの板状体に所定のパターンや薄膜を形成する技術として、他の板状体に担持されたパターンや薄膜（以下、「パターン等」という）を基板に転写するものがある。この技術においては、２枚の板状体を密着させてパターン等を一方から他方に転写した後、パターン等を損壊させることなく２枚の板状体を剥離する必要がある。

この目的のために利用可能な技術として、例えば特許文献１に記載されたものがある。この技術においては、互いに密着した第１板状体および第２板状体からなる密着体が、第１板状体がステージに吸着保持されることにより水平姿勢に保持される。そして、第２板状体側に配列された複数の剥離手段が順番に第２板状体に当接し、第２板状体を保持しながら第１板状体から離間する方向に移動することにより、第１板状体と第２板状体との間の剥離が所定の剥離方向に進行する。このとき、当接部材が第２板状体の表面に当接しながら剥離方向に移動することによって、剥離が一定の速度で進行するように管理される。

特開２０１４−１８９３５０号公報

板状体のサイズの大型化や、２枚の板状体の間に薄膜が担持される場合にはその密着力の違い等に対応して、設けられる剥離手段の数や間隔が増減されることがある。また、剥離手段と当接部材との協調動作により剥離の進行を良好に制御するために、当接部材が通過した後、第２板状体の表面に剥離手段が当接して保持するまでの時間についてはできるだけ短くすることが好ましい。これらを可能とするために、剥離手段と当接部材との干渉を防止しつつ、当接部材通過後の第２板状体表面に対して剥離手段を速やかに当接させることが必要となってきている。そのため、当接部材と協働する各剥離手段の動作タイミングを、剥離手段の配置に応じて適切にかつ簡単に設定することが求められる。

上記従来技術では剥離手段の設置数が少なく、それらの間隔も比較的大きい。このため、例えば当接部材の位置と剥離手段の移動タイミングとの対応関係を予めティーチング作業により装置に学習させる方法を用いるなど、動作タイミングを最適化することは比較的容易である。しかしながら、剥離手段の設置数が大きくなるとこのような調整作業は非常に煩雑なものとなる。

この発明は上記課題に鑑みなされたものであり、互いに密着した２枚の板状体を剥離させる剥離方法および剥離装置において、剥離手段の配置に応じて、個々の剥離手段の動作を簡単に最適化することのできる技術を提供することを目的とする。

この発明にかかる剥離方法の一の態様は、互いに密着して密着体をなす第１板状体と第２板状体とを剥離させる剥離方法であって、上記目的を達成するため、保持手段が前記第１板状体を保持することにより前記密着体を保持し、各々が前記第２板状体に部分的に当接して前記第２板状体を保持する機能を有する複数の剥離手段が前記密着体の主面と平行な剥離方向に沿って、かつ前記第２板状体の表面と前記剥離手段との間に当接部材が通過するためのギャップを隔てて配列される配置工程と、前記第２板状体の表面に前記当接部材が当接しながら前記剥離方向に移動し、該移動により前記当接部材よりも前記剥離方向において上流側に位置することとなった前記剥離手段の各々が順次、前記第２板状体側に移動して前記第２板状体の表面に当接し、前記第２板状体を保持しながら前記第１板状体から離間方向に移動して、前記第１板状体と前記第２板状体とを剥離させる剥離工程と、前記剥離工程よりも前に、前記当接部材が前記剥離方向に移動し、該移動中の前記当接部材の前記剥離方向における位置を示す位置情報と、前記当接部材が前記剥離手段との対向位置を通過するタイミングとの対応関係に基づき、前記剥離手段各々の移動タイミングが設定される設定工程とを備え、前記設定工程では、前記剥離手段を検出する検出手段が前記当接部材と一体的に前記剥離方向に移動し、前記検出手段の検出結果と前記位置情報との対応関係に基づき前記剥離手段各々の移動タイミングが設定される。

また、この発明にかかる剥離装置の一の態様は、上記目的を達成するため、第１板状体と第２板状体とが互いに密着した密着体を、前記第１板状体を保持することにより保持する保持手段と、前記保持手段により保持される前記密着体の前記第２板状体の表面に当接しながら、前記密着体の主面と平行な剥離方向に沿って移動する当接部材と、前記剥離方向に沿って配列され、各々が前記第２板状体に部分的に当接して前記第２板状体を保持する機能を有するとともに、前記第２板状体の表面に当接する当接位置と前記第２板状体の表面から前記当接部材が通過するためのギャップを隔てた待機位置との間で移動可能な複数の剥離手段と、前記剥離手段および前記当接部材の移動を制御して、前記複数の剥離手段が前記剥離方向における上流側から順に前記第２板状体を保持しながら前記第１板状体と離間する方向に移動して前記第１板状体と前記第２板状体とを剥離させ、前記当接部材が前記第２板状体に当接しながら前記剥離方向に移動することで剥離の進行を制御する剥離動作を実行させる制御手段と、前記当接部材と一体的に前記剥離方向に移動しながら前記剥離手段を検出する検出手段とを備え、前記制御手段は、前記当接部材を前記剥離方向に移動させ、該移動中の前記当接部材の前記剥離方向における位置を示す位置情報と、前記当接部材が前記剥離手段との対向位置を通過するタイミングとの対応関係に基づき、前記剥離手段各々の移動タイミングを設定する設定動作を実行し、前記設定動作では、前記検出手段の検出結果と前記位置情報との対応関係に基づき前記剥離手段各々の移動タイミングを設定する。

このように構成された発明では、当接部材が実際に移動したときに剥離手段との対向位置を通過するタイミングに基づき、当接部材と協働して剥離を進行させる剥離手段各々の移動タイミングが設定される。すなわち、当接部材が実際に剥離手段との対向位置を通過するタイミングが把握された上で、剥離手段の動作が決定される。特に、当接部材と一体的に移動する検出手段により剥離手段を検出することで、当接部材の移動と剥離手段の位置とを実機に即して的確に把握することが可能となる。そのため、剥離手段がどのように配置されていたとしても、その配置に応じたタイミングで各剥離手段を動作させることができる。したがって、当接部材が通過するよりも前に剥離手段が第２板状体に接近して当接部材と剥離手段とが衝突したり、剥離手段による第２板状体の保持が遅すぎて剥離を良好に行えなくなったりする問題が回避され、各剥離手段の動作を最適化することが可能となる。

上記のように、本発明によれば、各剥離手段の移動タイミングを剥離手段の実際の配置に応じたものとすることが可能であり、当接部材と剥離手段との干渉を回避しながら、個々の剥離手段の動作を簡単に最適化することができる。

この発明にかかる剥離装置の一実施形態を示す斜視図である。 この剥離装置の主要構成を示す斜視図である。 初期剥離ユニットの構造および各部の位置関係を示す側面図である。 この剥離装置の電気的構成を示すブロック図である。 剥離動作の過程における各部の動作を示す図である。 吸着ユニットの配設パターンが異なる例を示す図である。 ローラユニットと吸着ユニットとの位置関係を示す図である。 撮像部による吸着ユニットの撮像の態様を示す図である。 吸着ユニットの移動タイミングの設定方法を示すフローチャートである。 吸着ユニットの移動タイミングの設定原理を説明する図である。

図１はこの発明にかかる剥離装置の一実施形態を示す斜視図である。各図における方向を統一的に示すために、図１右下に示すようにＸＹＺ直交座標軸を設定する。ここでＸＹ平面が水平面、Ｚ軸が鉛直軸を表す。より詳しくは、（＋Ｚ）方向が鉛直上向き方向を表している。

この剥離装置１は、主面同士が互いに密着した状態で搬入される２枚の板状体を剥離させるための装置である。例えばガラス基板や半導体基板等の基板の表面に所定のパターンを形成するパターン形成プロセスの一部において用いられる。より具体的には、このパターン形成プロセスでは、被転写体である基板に転写すべきパターンを一時的に担持する担持体としてのブランケット表面にパターン形成材料を均一に塗布し（塗布工程）、パターン形状に応じて表面加工された版をブランケット上の塗布層に押し当てることによって塗布層をパターニングし（パターニング工程）、こうしてパターンが形成されたブランケットを基板に密着させることで（転写工程）、パターンをブランケットから基板に最終転写する。

このとき、パターニング工程において密着された版とブランケットとの間、または転写工程において密着された基板とブランケットとの間を離間させる目的のために、本装置を好適に適用することが可能である。もちろんこれらの両方に用いられてもよく、これ以外の用途で用いられても構わない。例えば担持体に担持された薄膜を基板に転写する際の剥離プロセスにも適用することができる。

この剥離装置１は、筺体に取り付けられたメインフレーム１１の上にステージブロック３および上部吸着ブロック５がそれぞれ固定された構造を有している。図１では装置の内部構造を示すために筐体の図示を省略している。また、これらの各ブロックの他に、この剥離装置１は後述する制御ユニット７０（図４）を備えている。

ステージブロック３は、版または基板とブランケットとが密着されてなる密着体（以下、「ワーク」という）を載置するためのステージ３０を有しており、ステージ３０は、上面が略水平の平面となった水平ステージ部３１と、上面が水平面に対して数度（例えば２度程度）の傾きを有する平面となったテーパーステージ部３２とを備えている。ステージ３０のテーパーステージ部３２側、すなわち（−Ｙ）側の端部近傍には初期剥離ユニット３３が設けられている。また、水平ステージ部３１を跨ぐようにローラユニット３４が設けられる。

一方、上部吸着ブロック５は、メインフレーム１１から立設されるとともにステージブロック３の上部を覆うように設けられた支持フレーム５０と、該支持フレーム５０に取り付けられたＮ組（Ｎは自然数）の吸着ユニット５１，５２，５３，…，５Ｎとを備えている。これらの吸着ユニット５１〜５Ｎは（＋Ｙ）方向に順番に並べられている。以下、各吸着ユニットを区別する必要がある場合には、（＋Ｙ）方向に数えて第ｉ番目（ｉは自然数）の吸着ユニット５ｉを「第ｉ吸着ユニット」と称することとする。

図２はこの剥離装置の主要構成を示す斜視図である。より具体的には、図２は、剥離装置１の各構成のうちステージ３０、ローラユニット３４および第ｉ吸着ユニット５ｉの構造を示している。ステージ３０は、上面３１０が略水平面となった水平ステージ部３１と上面３２０がテーパー面となったテーパーステージ部３２とを備えている。水平ステージ部３１の上面３１０は載置されるワークの平面サイズより少し大きい平面サイズを有している。

テーパーステージ部３２は水平ステージ部３１の（−Ｙ）側端部に密着して設けられており、その上面３２０は、水平ステージ部３１と接する部分では水平ステージ部３１の上面３１０と同じ高さ（Ｚ方向位置）に位置する一方、水平ステージ部３１から（−Ｙ）方向に離れるにつれて下方、つまり（−Ｚ）方向へ後退している。したがって、ステージ３０全体では、水平ステージ部３１の上面３１０の水平面とテーパーステージ部３２の上面３２０のテーパー面とが連続しており、それらが接続する稜線部ＥはＸ方向に延びる直線状となっている。

また、水平ステージ部３１の上面３１０には格子状の溝が刻設されている。より具体的には、水平ステージ部３１の上面３１０の中央部に格子状の溝３１１が設けられるとともに、該溝３１１が形成された領域を取り囲むように、矩形のうちテーパーステージ部３２側の１辺を除いた概略コの字型となるように、溝３１２が水平ステージ部３１の上面３１０周縁部に設けられている。これらの溝３１１，３１２は制御バルブを介して後述する負圧供給部７０４（図４）に接続されており、負圧が供給されることで、ステージ３０に載置されるワークを吸着保持する吸着溝としての機能を有する。２種類の溝３１１，３１２はステージ上では繋がっておらず、また互いに独立した制御バルブを介して負圧供給部７０４に接続されているので、両方の溝を使用した吸着の他に、一方の溝のみ使用した吸着も可能となっている。

このように構成されたステージ３０を跨ぐように、ローラユニット３４が設けられる。具体的には、水平ステージ部３１のＸ方向両端部に沿って、１対のガイドレール３５１，３５２がＹ方向に延設されており、これらのガイドレール３５１，３５２はメインフレーム１１に固定されている。そして、ガイドレール３５１，３５２に対し摺動自在にローラユニット３４が取り付けられている。

ローラユニット３４は、ガイドレール３５１，３５２とそれぞれ摺動自在に係合するスライダ３４１，３４２を備えており、これらのスライダ３４１，３４２を繋ぐように、ステージ３０上部を跨いでＸ方向に延設された下部アングル３４３が設けられている。下部アングル３４３には適宜の昇降機構３４４を介して上部アングル３４５が昇降自在に取り付けられている。そして、上部アングル３４５に対して、Ｘ方向に延設された円柱状の剥離ローラ３４０が回転自在に取り付けられる。

上部アングル３４５が昇降機構３４４により下方、つまり（−Ｚ）方向に下降されると、ステージ３０に載置されたワークの上面に剥離ローラ３４０の下面が当接する。一方、上部アングル３４５が昇降機構３４４により上方、つまり（＋Ｚ）方向の位置に位置決めされた状態では、剥離ローラ３４０はワークの上面から上方に離間した状態となる。上部アングル３４５には、剥離ローラ３４０の撓みを抑制するためのバックアップローラ３４６が回転自在に取り付けられるとともに、上部アングル３４５自体の撓みを防止するためのリブが適宜設けられる。剥離ローラ３４０およびバックアップローラ３４６は駆動源を有しておらず、これらは自由回転する。

ローラユニット３４は、メインフレーム１１に取り付けられたモータ３５３によりＹ方向に移動可能となっている。より具体的には、下部アングル３４３が、モータ３５３の回転運動を直線運動に変換する変換機構としての例えばボールねじ機構３５４に連結されており、モータ３５３が回転すると下部アングル３４３がガイドレール３５１，３５２に沿ってＹ方向に移動し、これによりローラユニット３４がＹ方向に移動する。ローラユニット３４の移動に伴う剥離ローラ３４０の可動範囲は、（−Ｙ）方向には水平ステージ部３１の（−Ｙ）側端部の近傍まで、（＋Ｙ）方向には水平ステージ部３１の（＋Ｙ）側端部よりも外側、つまりさらに（＋Ｙ）側へ進んだ位置までとされる。

さらに、ローラユニット３４には撮像部３４７が取り付けられている。撮像部３４７は撮像機能を有する例えばＣＣＤカメラであり、撮像方向を上向きにして上部アングル３４５に取り付けられている。詳しくは後述するが、撮像部３４７はローラユニット３４の移動に伴い剥離ローラ３４０と共にＹ方向に移動し、ローラユニット３４の上方に配列された吸着ユニット５１等を撮像する。

次に第ｉ吸着ユニット５ｉ（ｉ＝１，２，…，Ｎ）の構成について説明する。なお、第１ないし第Ｎ吸着ユニット５１〜５Ｎはいずれも同一構造を有している。第ｉ吸着ユニット５ｉは、Ｘ方向に延設されて支持フレーム５０に固定される梁部材５ｉ１を有しており、該梁部材５ｉ１には鉛直下向き、つまり（−Ｚ）方向に延びる１対の柱部材５ｉ２，５ｉ３がＸ方向に互いに位置を異ならせて取り付けられている。柱部材５ｉ２，５ｉ３には図では隠れているガイドレールを介してプレート部材５ｉ４が昇降自在に取り付けられており、プレート部材５ｉ４はモータおよび変換機構（例えばボールねじ機構）からなる昇降機構５ｉ５により昇降駆動される。

プレート部材５ｉ４の下部にはＸ方向に延びる棒状のパッド支持部材５ｉ６が取り付けられており、該パッド支持部材５ｉ６の下面に複数の吸着パッド５ｉ７がＸ方向に等間隔で配列されている。図２では第ｉ吸着ユニット５ｉを実際の位置よりも上方に移動させた状態を示しているが、昇降機構５ｉ５によりプレート部材５ｉ４が下方へ移動されたとき、吸着パッド５ｉ７が水平ステージ部３１の上面３１０にごく近接した位置まで下降することができ、ステージ３０にワークが載置された状態では該ワークの上面に当接する。各吸着パッド５ｉ７には後述する負圧供給部７０４からの負圧が付与されて、ワークの上面が吸着保持される。

図３は初期剥離ユニットの構造および各部の位置関係を示す側面図である。まず図１および図３を参照しながら初期剥離ユニット３３の構造を説明する。初期剥離ユニット３３は、テーパーステージ部３２の上方でＸ方向に延設された棒状の押圧部材３３１を有しており、押圧部材３３１は支持アーム３３２により支持されている。支持アーム３３２は鉛直方向に延設されるガイドレール３３３を介して柱部材３３４に昇降自在に取り付けられており、昇降機構３３５の作動により、支持アーム３３２が柱部材３３４に対して上下動する。柱部材３３４はメインフレーム１１に取り付けられたベース部３３６により支持されるが、位置調整機構３３７によりベース部３３６上での柱部材３３４のＹ方向位置が所定の範囲内で調整可能となっている。

水平ステージ部３１およびテーパーステージ部３２により構成されるステージ３０に対して、剥離対象物たるワークＷＫが載置される。前述したパターニング工程におけるワークは版とブランケットとがパターン形成材料の薄膜を介して密着した密着体である。一方、転写工程におけるワークは基板とブランケットとがパターニングされたパターンを介して密着した密着体である。以下では転写工程における基板ＳＢとブランケットＢＬとの密着体をワークＷＫとした場合の剥離装置１の剥離動作について説明するが、版とブランケットとによる密着体をワークとする場合でも同様の方法によって剥離を行うことが可能である。

ワークＷＫにおいて、基板ＳＢよりもブランケットＢＬの方が大きい平面サイズを有しているものとする。基板ＳＢはブランケットＢＬの略中央部に密着される。ワークＷＫはブランケットＢＬを下、基板ＳＢを上にしてステージ３０に載置される。このとき、図３に示すように、ワークＷＫのうち基板ＳＢの（−Ｙ）側端部が水平ステージ部３１とテーパーステージ部３２との境界の稜線部Ｅの略上方、より詳しくは稜線部Ｅよりも僅かに（−Ｙ）側にずれた位置となるように、ワークＷＫがステージ３０に載置される。したがって、（−Ｙ）方向において基板ＳＢよりも外側のブランケットＢＬはテーパーステージ部３２の上にせり出すように配置され、ブランケットＢＬの下面とテーパーステージ部３２の上面３２０との間には隙間が生じる。ブランケットＢＬの下面とテーパーステージ部３２の上面３２０とがなす角θはテーパーステージ部３２のテーパー角と同じ数度（この実施形態では２度）程度である。

水平ステージ部３１には吸着溝３１１，３１２が設けられており、ブランケットＢＬの下面を吸着保持する。このうち吸着溝３１１は基板ＳＢの下部に当たるブランケットＢＬの下面を吸着する一方、吸着溝３１２は基板ＳＢよりも外側のブランケットＢＬの下面を吸着する。吸着溝３１１，３１２は互いに独立して吸着をオン・オフすることができ、２種類の吸着溝３１１，３１２を共に使用して強力にブランケットＢＬを吸着することができる。一方、外側の吸着溝３１２のみを使用して吸着を行い、パターンが有効に形成されたブランケットＢＬの中央部については吸着を行わないようにすることで、吸着によるブランケットＢＬの撓みに起因するパターンの損傷を防止することができる。このように、中央部の吸着溝３１１と周縁部の吸着溝３１２とへの負圧供給を独立に制御することで、ブランケットＢＬの吸着保持の態様を目的に応じて切り換えることが可能となっている。

このようにしてステージ３０に吸着保持されるワークＷＫの上方に、第１ないし第Ｎ吸着ユニット５１〜５Ｎと、ローラユニット３４の剥離ローラ３４０とが配置される。前述したように第ｉ吸着ユニット５ｉの下部には複数の吸着パッド５ｉ７がＸ方向に並べて設けられている。より詳しくは、吸着パッド５ｉ７は、例えばゴムやシリコン樹脂などの柔軟性および弾性を有する材料により形成されており、下面がワークＷＫの上面（より具体的には基板ＳＢの上面）に当接してこれを吸着する機能を有している。以下では各吸着ユニット５１，５２，…，５Ｎに設けられた吸着パッドにそれぞれ符号５１７，５２７，…，５Ｎ７を付すことにより互いを区別することとする。

第１吸着ユニット５１は水平ステージ部３１の（−Ｙ）側端部の上方に設けられており、下降したときに基板ＳＢの（−Ｙ）側端部の上面を吸着する。一方、第Ｎ吸着ユニット５Ｎは、ステージ３０に載置される基板ＳＢの（＋Ｙ）側端部の上方に設けられ、下降したときに基板ＳＢの（＋Ｙ）側端部の上面を吸着する。第２吸着ユニット５２ないし第（Ｎ−１）吸着ユニット５（Ｎ−１）はこれらの間に適宜分散配置され、例えば吸着パッド５１７〜５Ｎ７がＹ方向において略等間隔となるようにすることができる。なお、後述するように、吸着パッド５１７〜５Ｎ７の間隔は必要に応じて不均等としてもよい。これらの吸着ユニット５１〜５Ｎの間では、上下方向への移動および吸着のオン・オフを互いに独立して実行可能となっている。

剥離ローラ３４０は上下方向に移動して基板ＳＢに対し接近・離間移動するとともに、Ｙ方向に移動することで基板ＳＢに沿って水平移動する。剥離ローラ３４０が下降した状態では、基板ＳＢの上面に当接して転動しながら水平移動する。最も（−Ｙ）側に移動したときの剥離ローラ３４０の位置は、第１吸着ユニット５１の吸着パッド５１７の（＋Ｙ）側直近位置である。このような近接位置への配置を可能とするために、第１吸着ユニット５１については、図２に示す第ｉ吸着ユニット５ｉと同一構造のものが、図１に示すように他の第２ないし第Ｎ吸着ユニット５２〜５Ｎとは反対向きにして支持フレーム５０に取り付けられている。

初期剥離ユニット３３は、テーパーステージ部３２の上方に突き出されたブランケットＢＬの上方に押圧部材３３１が位置するように、そのＹ方向位置が調整されている。そして、支持アーム３３２が下降することにより、押圧部材３３１の下端が下降してブランケットＢＬの上面を押圧する。このとき押圧部材３３１がブランケットＢＬを傷つけることがないように、押圧部材３３１の先端は弾性部材により形成されている。

図４はこの剥離装置の電気的構成を示すブロック図である。装置各部は制御ユニット７０により制御される。制御ユニット７０は、装置全体の動作を司るＣＰＵ７０１と、各部に設けられたモータ類を制御するモータ制御部７０２と、各部に設けられたバルブ類を制御するバルブ制御部７０３と、各部に供給する負圧を発生する負圧供給部７０４と、ユーザからの操作入力を受け付けたり装置の状態をユーザに報知するためのユーザインタフェース（ＵＩ）部７０５と、画像信号に基づき所定の画像処理を実行する画像処理部７０６とを備えている。なお、工場用力など外部から供給される負圧を利用可能である場合には制御ユニット７０が負圧供給部を備えていなくてもよい。

モータ制御部７０２は、ステージブロック３に設けられたモータ３５３および昇降機構３３５，３４４、上部吸着ブロック５の各吸着ユニット５１〜５Ｎにそれぞれ設けられた昇降機構５１５〜５Ｎ５などのモータ群を駆動制御する。バルブ制御部７０３は、負圧供給部７０４から水平ステージ部３１に設けられた吸着溝３１１，３１２につながる配管経路上に設けられてこれらの吸着溝に対し所定の負圧を個別に供給するためのバルブ群Ｖ3、負圧供給部７０４から各吸着パッド５１７〜５Ｎ７につながる配管経路上に設けられて各吸着パッド５１７〜５Ｎ７に所定の負圧を供給するためのバルブ群Ｖ5などを制御する。

画像処理部７０６は、撮像部３４７から出力される画像信号を受信して、所定の画像処理を実行する。詳しくは後述するが、画像処理部７０６は撮像部３４７により撮像された画像から第ｉ吸着ユニットの像を検出する。

次に、上記のように構成された剥離装置１の動作について説明する。この剥離装置１により実行される剥離動作は、前述の特許文献１（特開２０１４−１８９３５０号公報）に記載された剥離装置における剥離動作と基本的に同一である。そこで、この剥離装置１における剥離動作についての詳しい説明を省略し、ここでは剥離動作における各部の動きを簡単に説明する。

この剥離装置１に外部から剥離対象物たるワークＷＫが搬入されステージ３０の所定位置に載置されると、装置各部が図３に示す初期状態に位置決めされる。初期状態では、ワークＷＫが吸着溝３１１，３１２の一方または両方によって吸着保持され、初期剥離ユニット３３の押圧部材３３１、ローラユニット３４の剥離ローラ３４０、第１ないし第Ｎ吸着ユニット５１〜５Ｎの吸着パッド５１７〜５Ｎ７はいずれもワークＷＫから離間している。各吸着ユニット５ｉは、Ｙ方向に走行するローラユニット３４と干渉することがないように、吸着パッド５ｉ７と基板ＳＢとの間に十分なギャップを隔てて配置される。また剥離ローラ３４０は、第１吸着ユニット５１の吸着パッド５１７よりもわずかに（＋Ｙ）側に寄った位置で、ワークＷＫから離間した状態にある。この状態から剥離動作が実行される。

図５は剥離動作の過程における各部の動作を示す図である。最初に、第１吸着ユニット５１が下降し、負圧を供給された吸着パッド５１７が基板ＳＢの（−Ｙ）側端部上面に当接して基板ＳＢを吸着保持する。また、剥離ローラ３４０が下降して基板ＳＢの上面に当接する。この状態から、図５（ａ）に示すように、押圧部材３３１が下降してブランケットＢＬの端部を押し下げる。ブランケットＢＬの端部はテーパーステージ部３２の上方に突出しており、その下面とテーパーステージ３２の上面３２０との間には隙間がある。したがって、押圧部材３３１がブランケットＢＬの端部を下方へ押圧することにより、ブランケットＢＬの端部がテーパーステージ部３２のテーパー面に沿って下方へ屈曲する。その結果、第１吸着ユニット５１により吸着保持される基板ＳＢの端部とブランケットＢＬとの間が離間し剥離が開始される。

続いて、図５（ｂ）に示すように、第１吸着ユニット５１の上昇が開始されるとともに、剥離ローラ３４０が基板ＳＢ表面に当接して転動しながら（＋Ｙ）方向に移動する。これにより、基板ＳＢとブランケットＢＬとの剥離が（＋Ｙ）方向に向かって進行するが、剥離ローラ３４０を当接させているため、剥離ローラ３４０が基板ＳＢに当接する領域を超えて剥離が進行することはない。剥離ローラ３４０を基板ＳＢに当接させながら一定速度で（＋Ｙ）方向に移動させることで、剥離の進行速度を一定に維持することができる。

以下では、基板ＳＢとブランケットＢＬとが既に剥離した剥離領域と、まだ剥離していない未剥離領域との境界線を「剥離境界線」と称することとする。剥離ローラ３４０はＸ方向に延びるローラ部材であり、これが基板ＳＢに当接しながら（＋Ｙ）方向に移動する。このため、剥離境界線はローラ延設方向つまりＸ方向に沿った一直線状に維持され、しかも一定速度で（＋Ｙ）方向に進行する。これにより、剥離の進行速度の変動による応力集中に起因するパターンの損傷を確実に防止することができる。

剥離ローラ３４０が通過した後の基板ＳＢに対して、吸着ユニット５２，５３，…が順次下降し、ブランケットＢＬから剥離した後の基板ＳＢに当接してこれを保持する。具体的には、図５（ｂ）に示すように、第２吸着ユニット５２は、その直下位置を剥離ローラ３４０が通過すると下降を開始し基板ＳＢに向けて進行する。吸着パッド５２７が基板ＳＢ上面に当接すると、負圧供給部７０４から供給される負圧によって、第２吸着ユニット５２による基板ＳＢの吸着保持が開始される。

図５（ｃ）に示すように、第２吸着ユニット５２は、基板ＳＢの吸着保持を開始すると上昇に転じる。これ以後、基板ＳＢは、第１吸着ユニット５１と第２吸着ユニット５２とによって保持されることとなる。これにより、ブランケットＢＬとの剥離が進行する基板ＳＢがより確実に保持され、基板ＳＢが下向きに撓んでブランケットＢＬと再接触したり、吸着パッド５１７から脱落したりするという問題が防止される。また、剥離境界線近傍における基板ＳＢとブランケットＢＬとの角度を適正に保つことで、剥離を良好に進行させる効果も得られる。

他の吸着ユニット５３，５４，…，５Ｎも同様に、当該吸着ユニットの下方を剥離ローラ３４０が通過すると下降を始め、吸着パッドが基板ＳＢに当接した時点で吸着保持を開始し上昇することにより、基板ＳＢを上方へ引き上げる。各吸着ユニットはステージ３０から所定の高さまで上昇した時点で停止する。

剥離進行方向の最下流側、つまり最も（＋Ｙ）側の吸着ユニット５Ｎが基板ＳＢを保持して所定位置まで上昇することにより、図５（ｄ）に示すように、基板ＳＢとブランケットＢＬとが完全に分離し、剥離が完了する。剥離ローラ３４０および押圧部材３３１が基板ＳＢ、ブランケットＢＬのいずれからの離間した位置に退避することで、互いに分離された基板ＳＢとブランケットＢＬとが搬出可能となる。こうして剥離動作が完了する。

上記のような剥離動作において、吸着ユニットの配設数やその配置については、基板ＳＢの種類や厚さ、ブランケットＢＬとの間に形成されたパターンや薄膜の種類によって変更されることが好ましい場合がある。

図６は吸着ユニットの配設パターンが異なる例を示す図である。例えば基板ＳＢとブランケットＢＬとの密着力が、両者の間に担持されるパターンの材料や形状に起因して比較的弱い場合には、図６（ａ）に示すように、剥離後の基板ＳＢとブランケットＢＬとがなす角αを比較的小さな値に保って剥離を進行させることが好ましい。このような目的においては、剥離に要する引き上げ力も小さいため、Ｙ方向において吸着ユニットを比較的大きな間隔で配置すればよい。

一方、例えば基板ＳＢとブランケットＢＬとの密着力が比較的強い場合には、図６（ｂ）に示すように、剥離後の基板ＳＢとブランケットＢＬとがなす角βをより大きな値に維持して剥離を進行させることが好ましい。また、基板ＳＢを引き上げる力をより大きくする必要がある。このためには、Ｙ方向における吸着ユニット間の間隔をより小さくする必要があり、場合によっては吸着ユニットの配設数を増加させる必要が生じる。

また、例えば基板ＳＢの剛性が高く撓みにくい場合には、基板ＳＢとブランケットＢＬとがなす角を小さくしつつ、比較的強い引き上げ力で基板ＳＢを引き上げる必要がある。この場合にも、吸着ユニットの数を増加させる必要が生じる。例えばこのような場合に対応するため、図６（ｃ）に示すように基板ＳＢの端部付近で吸着ユニットを近接配置するなど、吸着ユニットの間隔を不均等とすることも考えられる。

このように、吸着ユニットの配設数およびそれらの配置については、目的に応じて変更することができると装置の利用範囲が広がり便宜である。しかしながら、これを可能にするためには次のような問題が生じ得る。

図７はローラユニットと吸着ユニットとの位置関係を示す図である。図７（ａ）に示すように、剥離動作においてローラユニット３４は（＋Ｙ）方向に一定速度で走行する。一方、吸着ユニット５ｉは、下部に吸着パッド５ｉ７が設けられたプレート部材５ｉ４をＺ方向に昇降させることで、基板ＳＢの保持および引き上げを行う。そのため、これらの移動タイミングが適切に設定されなければ、両者が干渉して接触するおそれがある。

図７（ｂ）に示すように、原則的にはローラユニット３４が直下位置を通過した後にプレート部材５ｉ４が下降を開始すれば干渉は生じない。しかし、基板ＳＢとブランケットＢＬとのなす角αを一定に維持し剥離を安定的に進行させるためには、剥離ローラ３４０が通過した後の基板ＳＢをできるだけ早く吸着パッド５ｉ７により保持することが望ましい。つまり、吸着パッド５ｉ７が下降開始する際のパッド支持部材５ｉ６の（＋Ｙ）側端面５ｉ６ｙと剥離ローラ３４０が基板ＳＢに当接する位置とのＹ方向における間隔Ｗができるだけ小さいことが好ましく、この間隔Ｗを０とするのが理想的である。

従来、このような動作を実現するための各部の移動タイミングは、例えば、オペレータが周期的に出力されるタイミング信号と各部の移動タイミングとを関連付けて装置に記憶させるティーチング作業を行うことにより設定される。しかしながら、前記したように吸着ユニットの配設個数が多い場合や配置が不均等となる場合にはティーチング作業も煩雑となり、取り付け位置のばらつきに対応する微調整まで含めると作業工数が膨大となる。

そこで、この実施形態の剥離装置１は、ローラユニット３４が走行する際のローラユニット３４と各吸着ユニット５ｉとの位置関係を検出し、その結果に基づいて各吸着ユニット５ｉの移動タイミングを決定する機能を有している。具体的には、ローラユニット３４に撮像部３４７（図２）が設けられ、ローラユニット３４の移動に伴い撮像部３４７が剥離ローラ３４０と一体的に移動するように構成される。そして、ローラユニット３４が吸着ユニット５ｉの下方を通過し、撮像部３４７が上方に位置する吸着ユニット５ｉを撮像することで、ローラユニット３４から見た各吸着ユニット５ｉの位置が画像処理により把握される。その結果に基づき、ローラユニット３４の走行タイミングを基準とする各吸着ユニット５ｉの移動タイミングが設定される。

図８は撮像部による吸着ユニットの撮像の態様を示す図である。図８（ａ）に示すように、撮像部３４７は、剥離ローラ３４０の概ね直上位置で、撮像方向が上向きとなるように上部アングル３４５に固定されている。したがって、ローラユニット３４が吸着ユニット５ｉの直下位置にあるときに撮像部３４７により撮像される画像ＩＭには、図８（ｂ）に示すように、当該吸着ユニット５ｉの一部、例えばパッド支持部材５ｉ６の像が含まれることになる。言い換えれば、撮像部３４７により撮像される画像ＩＭに吸着ユニット５ｉの像が含まれるとき、ローラユニット３４が当該吸着ユニット５ｉの直下位置にあることがわかる。このことから、ローラユニット３４がその走行において各吸着ユニット５ｉの直下位置を通過するタイミングを把握することができる。

撮像部３４７から出力される画像信号は画像処理部７０６により解析される。画像処理部７０６は、吸着ユニット５ｉのうちローラユニット３４と干渉するおそれのある部位であって、ローラユニット３４の走行方向における最下流側に位置する部位を画像ＩＭから検出する。このような部位がローラ上部を通過するタイミングを把握しておくことによって、ローラユニット３４と吸着ユニット５ｉとの干渉を確実に回避することが可能となるからである。この実施形態では、パッド支持部材５ｉ６の（＋Ｙ）側端面５ｉ６ｙが、当該部位として検出される。

図８（ｃ）に示すように、画像ＩＭ内に基準線Ｌｓが設定される。基準線Ｌｓは、図７（ｂ）に示す間隔Ｗ、すなわちパッド支持部材５ｉ６の（＋Ｙ）側端面５ｉ６ｙと剥離ローラ３４０が基板ＳＢに当接する位置との間隔が０であるときの、画像ＩＭにおけるパッド支持部材端面５ｉ６ｙの位置に相当する。したがって、画像ＩＭにおいてパッド支持部材端面５ｉ６ｙの位置が基準線Ｌｓと一致するとき、間隔Ｗが０となっているということができる。このことを利用して、ローラユニット３４の走行に伴って間隔Ｗが０となるタイミングで吸着パッド５ｉ７の下降を開始するような移動タイミングを、各吸着ユニット５ｉについて定めることができる。

より具体的には、各吸着ユニット５ｉが撮像部３４７により撮像されるタイミングを、装置の稼働に伴って周期的に発生する信号を用いて、走行するローラユニット３４の位置と関連付けることができる。ローラユニット３４を走行させるモータ３５３が例えばステッピングモータのようなパルスモータであるとき、該モータ３５３を駆動するためにモータ制御部７０２から出力される駆動パルスの数をローラユニット３４の位置を示す情報として用いることができる。モータの回転量が駆動パルスの数に比例するから、駆動開始からの駆動パルスのカウント値がローラユニット３４の現在位置を指標する位置情報となる。したがって、ローラユニット３４の位置を指標する情報と吸着ユニット５ｉが検出された画像ＩＭが撮像されたタイミングとを関連付けておけば、ローラユニット３４が各吸着ユニット５ｉの直下位置を通過するタイミングを個別に把握することができる。

このようにローラユニット３４の位置および通過タイミングがわかっていれば、ローラユニット３４と干渉せず、かつローラ通過後に遅滞なく基板ＳＢを保持するために必要な各吸着ユニット５ｉの移動タイミングを設定することができる。位置情報としては、ローラユニット３４の位置を指標する各種の情報を用いることが可能である。ここに例示したモータ駆動パルス数以外に、駆動を開始してからの時間計測値や、制御クロックのカウント値のようにローラユニット３４の移動に伴って定期的に発生する信号の計測値などを用いることができる。また、ローラユニットの位置を検出する機能を有する検出手段からの出力信号、例えばポジションセンサやリニアエンコーダの出力信号、監視カメラからの画像信号などから位置情報を取得することも可能である。

なお、各吸着ユニット５ｉの基本的な動作シーケンスは、
（１）プレート部材５ｉ４が基板ＳＢに向けて下降する、
（２）吸着パッド５ｉ７が基板ＳＢに当接し基板ＳＢを吸着保持すると下降を中止する、
（３）プレート部材５ｉ４が所定位置まで上昇する、
というものであり、この順序は吸着ユニットの配設数や配設位置によって変わるものではない。上記（１）の開始タイミングが、吸着ユニットの配設数や配設位置に応じて変更される。

この実施形態では、各吸着ユニット５ｉのプレート部材５ｉ４が下降を開始するタイミングがモータ３５３の駆動パルスカウント値によって規定される。すなわち、ローラユニット３４を駆動するモータ３５３に与えられる駆動パルス数がカウントされ、駆動開始からのカウント値が規定値に達したときに吸着ユニット５ｉのプレート部材５ｉ４が下降を開始する。この規定値は、各吸着ユニット５ｉについて個別に設定され、しかも、ローラユニット３４が実際に走行しながら撮像部３４７が取得した画像に基づいて自動的に設定される。そのため、オペレータの作業負担が大幅に軽減され、また吸着ユニット５ｉの数や配置によらず、同一のプロセスで各吸着ユニット５ｉの移動タイミングを設定することができる。

図９は吸着ユニットの移動タイミングの設定方法を示すフローチャートである。また、図１０はその原理を説明する図である。この原理に基づく移動タイミングの設定処理は、ＣＰＵ７０１が予め記憶された制御プログラムを実行して装置各部に所定の動作を行わせることにより実行される。

この処理では、最初に装置各部が初期状態に設定される（ステップＳ１０１）。このときの初期状態は、前記した剥離動作における初期状態とは異なる状態である。この処理における初期状態では、図１０（ａ）に示すように、ステージ３０にワークは載置されない。また、各吸着ユニット５ｉのプレート部材５ｉ４はステージ３０から上方に離間した位置に位置決めされ、ローラユニット３４が走行しても干渉しない状態となっている。

また、ローラユニット３４は、図において点線で示すように、Ｚ方向においては剥離ローラ３４０がステージ３０に接触しない位置に位置決めされる一方、Ｙ方向においては、ローラ走行方向である（＋Ｙ）方向において最上流側に位置する第１吸着ユニット５１の吸着パッド５１７よりも上流側、つまり（−Ｙ）側に位置決めされる。

上記のような初期状態から、撮像部３４７による撮像および画像処理部７０６による画像処理が開始される（ステップＳ１０２）。画像処理部７０６により実行される画像処理は、撮像された画像ＩＭを解析してパッド支持部材端面５ｉ６ｙを検出する処理であり、例えば公知のエッジ検出処理を用いて、画像ＩＭからパッド支持部材端面５ｉ６ｙに相当するエッジを検出することができる。

続いて、モータ３５３に駆動パルスが与えられることによりローラユニット３４が（＋Ｙ）方向への走行を開始し、パルス数のカウントが開始される（ステップＳ１０３、Ｓ１０４）。これにより、パルスカウント、撮像部３４７による撮像および画像処理部７０６による解析が継続されつつ、ローラユニット３４が（＋Ｙ）方向に走行する。

撮像部３４７により随時撮像される画像ＩＭからパッド支持部材端面５ｉ６ｙに相当するエッジが検出されると（ステップＳ１０５においてＹＥＳ）、そのときのパルスカウント値が記憶される（ステップＳ１０６）。エッジが検出されなければステップＳ１０６はスキップされる。

なお、求めるべきパルスカウント値は、パッド支持部材端面５ｉ６ｙが基準線Ｌｓと一致するときの値である。しかしながら、吸着ユニット５ｉの配置および撮像部３４７が画像を取り込むタイミングによっては、図１０（ｂ）に示すように、画像ＩＭにおいて検出されるパッド支持部材端面５ｉ６ｙの位置が基準線Ｌｓと一致しない場合があり得る。このような場合には、画像ＩＭからＹ方向におけるパッド支持部材端面５ｉ６ｙと基準線Ｌｓとの位置の差分Δｙが算出される。１パルス当たりのローラユニット３４の移動量は既知であるから、その値と差分Δｙとに基づいてパッド支持部材端面５ｉ６ｙが基準線Ｌｓに到達するときのパルスカウント値を算出することが可能である。ステップＳ１０６では、このようにして算出されたパルスカウント値が記憶される。

ローラユニット３４がその可動範囲において最も（＋Ｙ）側の終了位置に到達するまで（ステップＳ１０７においてＹＥＳ）、ローラユニット３４の走行および画像ＩＭにおけるエッジ検出が継続される。これにより、全ての吸着ユニット５１，５２，５３，５４，５５，…の各々について、ローラユニット３４が当該吸着ユニット５ｉの直下位置を通過するときのパルスカウント値ｃ１，ｃ２，ｃ３，ｃ４，ｃ５，…が求められる。図に示すように、吸着ユニット５ｉの配置が不均等であるとき、計測されるパルスカウント値も不規則となる。

ローラユニット３４が終了位置に到達すると、ローラユニット３４の移動および撮像部７４３による撮像が停止される（ステップＳ１０８）。そして、記憶されている各吸着ユニット５１，５２，…に対応するパルスカウント値ｃ１，ｃ２，…に基づき、各吸着ユニット５１，５２，…の動作タイミングが決定される（ステップＳ１０９）。具体的には、吸着ユニット５ｉごとに、当該吸着ユニット５ｉのプレート部材５ｉ４が下降を開始するときのパルスカウント値の規定値が決定される。

一般的には、ローラユニット３４の走行開始から起算したパルスカウント値が先に記憶されたカウント値ｃ１，ｃ２，…となったときに各吸着ユニット５１，５２，…が動作開始するようにすればよい。ただし、プレート部材５ｉ４が下降し始めてからローラユニット３４への干渉が発生するまでに１パルス分以上の時間差がある場合には、それに対応するカウント値をオフセット値として加えてもよい。また、パルス発生のタイミングとプレート部材５ｉ４の下降を開始するタイミングとの間に適宜の時間差を与えてもよい。このようにして、各吸着ユニット５ｉの動作タイミングが決定される。

以後の剥離動作においては、ローラユニット３４を走行させる駆動パルスがカウントされ、カウント値が上記で求められた規定値となる度に各吸着ユニット５１，５２，…が順次作動して、プレート部材５ｉ４の下降が開始される。これにより、剥離ローラ３４０が通過しブランケットＢＬから離間した直後の基板ＳＢに対して吸着パッド５ｉ７が当接して基板ＳＢを保持することができる。

以上のように、この実施形態は、互いに密着してワークＷＫをなすブランケットＢＬと基板ＳＢとを剥離させる剥離装置１である。この剥離装置１において、ステージ３０がブランケットＢＬを吸着保持する。そして、Ｙ方向に複数配列された吸着ユニット５ｉが順次基板ＳＢに当接してこれを保持し、ブランケットＢＬから離間する方向に移動する。これにより、基板ＳＢの一方端から他方端に向けてブランケットＢＬとの間での剥離が進行する。このとき、剥離ローラ３４０が、基板ＳＢに当接しながら剥離の進行方向に沿って一定速度で走行する。これにより、剥離を一方向にかつ一定速度で進行させることができ、パターン等の損壊を防止しながら良好に剥離を進行させることができる。

吸着ユニット５ｉは、剥離ローラ３４０が走行する際にはこれと干渉することなく、しかも剥離ローラ３４０の通過後には速やかに基板ＳＢを保持することが求められる。この実施形態では、剥離ローラ３４０が実際に走行してその過程で各吸着ユニット５ｉを撮像し、その画像から、剥離ローラ３４０から見た各吸着ユニット５ｉの位置が把握される。そして、その結果に基づき、各吸着ユニット５ｉが作動するタイミングが剥離ローラ３４０の位置情報と関連付けて決定される。このため、吸着ユニット５ｉの数や配置に関わらず同一のプロセスを用いて各吸着ユニット５ｉの移動タイミングを最適化することができる。その結果、調整作業を行うオペレータの負担を大きく軽減することができ、また人的ミスに起因するトラブルを未然に防止することができる。

なお、本発明は上記した実施形態に限定されるものではなく、その趣旨を逸脱しない限りにおいて上述したもの以外に種々の変更を行うことが可能である。例えば、上記実施形態では、ローラユニット３４の走行と各吸着ユニット５ｉの位置とを関連付けるために、撮像機能を有する例えばＣＣＤカメラからなる撮像部３４７が用いられている。しかしながら、吸着ユニット５ｉの位置を検出する手段としてはこのような撮像機能を有するものに限定されない。

例えば、ローラユニット３４および各吸着ユニット５ｉの一方に投光器、他方に受光器を設けて、投光器からの光が受光器に受光されるタイミングから吸着ユニット５ｉの位置を検出するようにしてもよい。また、フォトインタラプタを用いて、ローラユニット３４が吸着ユニット５ｉの直下位置を通過する際に光が遮蔽される（または遮蔽が解除される）構成であってもよい。また、このような光学的手法による検出に限らず、例えばマイクロスイッチを用いた機械的な検出方法や、磁気センサを用いた電磁気的な検出方法であってもよい。

また例えば、上記実施形態の移動タイミング設定処理では、第１吸着ユニット５１よりも（−Ｙ）側の位置からローラユニット３４の走行が開始される。これは他の吸着ユニットと同様に、第１吸着ユニット５１の位置についてもローラユニット３４の駆動パルス数と関連付けて記憶するためである。しかしながら、第１吸着ユニット５１は基板ＳＢの（−Ｙ）側端部を保持するものであり、その位置は吸着ユニットの配設数や配置に影響されない。このことから、第１吸着ユニット５１の位置については既に判っているものとして、第２吸着ユニット５２以降の各吸着ユニットの位置をローラユニット３４の走行によって把握する構成であってもよい。このとき、ローラユニット３４の走行開始位置は、Ｙ方向において第１吸着ユニット５１と第２吸着ユニット５２との間の位置、例えば図３に示した剥離動作における初期位置と同じにすることが可能である。

また例えば、上記実施形態ではローラユニット３４の上部アングル３４５に撮像部３４７が取り付けられているが、上記したように、撮像部３４７は、剥離動作に先立って各吸着ユニット５ｉの移動タイミングを決定するために用いられるものであり、剥離動作においては特段の機能を有していない。このことから、撮像部をローラユニットに対して着脱可能な構成として、各吸着ユニット５ｉの移動タイミングが決定された後にはローラユニットから取り外されてもよい。例えば工場出荷後に吸着ユニット５ｉの数や配置が変更されることのない製品においては、調整後に撮像部を取り外した状態で装置が出荷される態様であってもよい。なお、剥離動作における各部の動作を監視するために、撮像部が利用されてもよい。

また例えば、上記実施形態ではステージ３０に格子状の吸着溝３１１，３１２を設けてブランケットＢＬを吸着保持しているが、吸着溝の形状はこれに限定されない。例えば環状の吸着溝を設けてもよく、また負圧が供給される吸着孔を適宜配置してブランケットを吸着してもよい。

また、上記実施形態では、剥離後の基板ＳＢの姿勢を平面に近い状態に維持するように各吸着ユニット５１〜５Ｎの上昇が制御されて基板ＳＢに加わるストレスが低減されているが、基板ＳＢの引き上げの態様はこれに限定されない。例えば、剥離後の基板が略水平となるように各吸着ユニットを一定高さで停止させたり、あるいは基板が所定の曲率を持って湾曲するような姿勢に保持するようにしてもよい。これらは各吸着ユニットの上昇の態様を制御することによって自由に設定可能である。

また、上記実施形態では真空吸着によって基板およびブランケットを保持しているが、保持の態様はこれに限定されない。例えば静電的または磁気的な吸着力により吸着保持するものであってもよい。特に、最初に基板ＳＢを保持する第１吸着ユニット５１については、吸着によらず、基板周縁部を機械的に把持することにより保持してもよい。

また、上記実施形態ではテーパーステージ部３２にブランケットＢＬを突き出させて保持し、押圧部材３３１によりブランケットＢＬを屈曲させて剥離のきっかけを作っているが、このようにすることは必須の要件ではなく、例えば第１吸着ユニット５１の引き上げのみで剥離を開始させるようにしてもよい。この場合、ステージにテーパーを設ける必要はなくなる。

以上説明したように、この実施形態においては、ブランケットＢＬおよび基板ＳＢがそれぞれ本発明の「第１板状体」および「第２板状体」に相当しており、これらがパターン等を介して一体化されたワークＷＫが、本発明の「密着体」に相当している。また、この実施形態では、（＋Ｙ）方向が本発明の「剥離方向」に相当している。

また、上記実施形態では、ステージ３０が本発明の「保持手段」として機能する。また、複数の吸着ユニット５ｉがそれぞれ本発明の「剥離手段」として機能している。より具体的には、吸着ユニット５ｉのうち、プレート部材５ｉ４および吸着パッド５ｉ７を含む可動部が「剥離手段」に相当する。また、剥離ローラ３４０が、本発明の「当接部材」として機能している。そして、ローラユニット３４を駆動するモータ３５３に与えられる駆動パルス数が、本発明の「位置情報」に相当している。また、上記実施形態では、撮像部３４７が本発明の「検出手段」および「撮像手段」として機能している。

以上、具体的な実施形態を例示して説明してきたように、本発明は、例えば、第２板状体のうち当接部材が当接する当接位置が、当接部材の移動に伴い、剥離手段の剥離方向における下流側端部との間隔がゼロとなる位置に到達する時に、剥離手段の移動が開始されるように、剥離手段各々の移動タイミングが設定される構成であってもよい。このような構成によれば、当接部材と干渉せず、かつ当接部材の通過後に遅滞なく第２板状体を保持するために必要な各剥離手段の移動タイミングを設定することが可能となる。

また例えば、検出手段は剥離手段を撮像する撮像機能を有し、撮像される画像に基づき当接部材が剥離手段との対向位置を通過するタイミングが検出される構成であってもよい。このような構成では、画像として撮像された剥離手段が検出されることにより、他の部材を誤検出することが防止される。

また例えば、位置情報としては、当接部材の移動に伴って定期的に発生する信号を計測することにより得られる各種の情報を用いることができる。装置内では各種の定期的信号が発生しており、これを計測値により、当接部材の位置を適切に指標することが可能である。例えば、当接部材を剥離方向に移動させるパルスモータの駆動パルス数を位置情報として用いることが可能である。当接部材の移動量はこれを駆動するパルスモータに与えられる駆動パルス数に比例するから、駆動パルス数の計測値により、当接部材の位置を高い精度で表すことが可能である。

また例えば、保持手段が第２板状体を上側にした水平姿勢で密着体を保持し、剥離手段が密着体の上方に配列されてもよい。このような態様では、第１板状体が水平姿勢に保持された状態で第２板状体が上方に引き上げられることにより剥離が進行する。これは第１板状体を最も安定な姿勢で保持することのできる態様であり、第２板状体を離間させる際に第１板状体がこれに追随して剥離が失敗するのを防止することができる。

また例えば、移動タイミングの設定は、密着体を保持していない保持手段に対して剥離手段が配置された状態で実行されてもよい。本発明による剥離手段の移動タイミングの設定では、密着体が保持手段に保持されていることを必要としない。

この発明は、２枚の板状体を密着させてパターン等を転写させるパターン形成処理における剥離プロセスに適用することができるほか、このようなパターン転写を伴うものに限らず、互いに密着した２枚の板状体を良好に剥離する種々の目的に対して好適に適用可能である。

１ 剥離装置
３０ ステージ（保持手段）
５ｉ（ｉ＝１，２，…，Ｎ） 吸着ユニット（剥離手段）
３４ ローラユニット
３４０ 剥離ローラ（当接部材）
３４７ 撮像部（検出手段、撮像手段）
３５３ モータ（パルスモータ）
５ｉ４（ｉ＝１，２，…，Ｎ） プレート部材
５ｉ６（ｉ＝１，２，…，Ｎ） パッド保持部材
５ｉ７（ｉ＝１，２，…，Ｎ） 吸着パッド
ＢＬ ブランケット（第１板状体）
ＳＢ 基板（第２板状体）
ＷＫ ワーク（密着体）

Claims (12)

1. 互いに密着して密着体をなす第１板状体と第２板状体とを剥離させる剥離方法において、
   保持手段が前記第１板状体を保持することにより前記密着体を保持し、各々が前記第２板状体に部分的に当接して前記第２板状体を保持する機能を有する複数の剥離手段が前記密着体の主面と平行な剥離方向に沿って、かつ前記第２板状体の表面と前記剥離手段との間に当接部材が通過するためのギャップを隔てて配列される配置工程と、
   前記第２板状体の表面に前記当接部材が当接しながら前記剥離方向に移動し、該移動により前記当接部材よりも前記剥離方向において上流側に位置することとなった前記剥離手段の各々が順次、前記第２板状体側に移動して前記第２板状体の表面に当接し、前記第２板状体を保持しながら前記第１板状体から離間方向に移動して、前記第１板状体と前記第２板状体とを剥離させる剥離工程と、
   前記剥離工程よりも前に、前記当接部材が前記剥離方向に移動し、該移動中の前記当接部材の前記剥離方向における位置を示す位置情報と、前記当接部材が前記剥離手段との対向位置を通過するタイミングとの対応関係に基づき、前記剥離手段各々の移動タイミングが設定される設定工程と
   を備え、
   前記設定工程では、前記剥離手段を検出する検出手段が前記当接部材と一体的に前記剥離方向に移動し、前記検出手段の検出結果と前記位置情報との対応関係に基づき前記剥離手段各々の移動タイミングが設定される剥離方法。
2. 前記設定工程では、前記第２板状体のうち前記当接部材が当接する当接位置が、前記当接部材の移動に伴い、前記剥離手段の前記剥離方向における下流側端部との間隔がゼロとなる位置に到達する時に、前記剥離手段の移動が開始されるように、前記剥離手段各々の移動タイミングが設定される請求項１に記載の剥離方法。
3. 前記検出手段は前記剥離手段を撮像する撮像機能を有し、撮像される画像に基づき前記当接部材が前記剥離手段との対向位置を通過するタイミングが検出される請求項１または２に記載の剥離方法。
4. 前記位置情報は、前記当接部材の移動に伴って定期的に発生する信号を計測することにより得られる情報である請求項１ないし３のいずれかに記載の剥離方法。
5. 前記位置情報は、前記当接部材を前記剥離方向に移動させるパルスモータの駆動パルス数である請求項４に記載の剥離方法。
6. 前記配置工程では、前記保持手段が、前記第２板状体を上側にした水平姿勢で前記密着体を保持し、前記剥離手段が前記密着体の上方に配列される請求項１ないし５のいずれかに記載の剥離方法。
7. 前記設定工程は、前記密着体を保持していない前記保持手段に対して前記剥離手段が配置された状態で実行される請求項１ないし６のいずれかに記載の剥離方法。
8. 第１板状体と第２板状体とが互いに密着した密着体を、前記第１板状体を保持することにより保持する保持手段と、
   前記保持手段により保持される前記密着体の前記第２板状体の表面に当接しながら、前記密着体の主面と平行な剥離方向に沿って移動する当接部材と、
   前記剥離方向に沿って配列され、各々が前記第２板状体に部分的に当接して前記第２板状体を保持する機能を有するとともに、前記第２板状体の表面に当接する当接位置と前記第２板状体の表面から前記当接部材が通過するためのギャップを隔てた待機位置との間で移動可能な複数の剥離手段と、
   前記剥離手段および前記当接部材の移動を制御して、前記複数の剥離手段が前記剥離方向における上流側から順に前記第２板状体を保持しながら前記第１板状体と離間する方向に移動して前記第１板状体と前記第２板状体とを剥離させ、前記当接部材が前記第２板状体に当接しながら前記剥離方向に移動することで剥離の進行を制御する剥離動作を実行させる制御手段と、
   前記当接部材と一体的に前記剥離方向に移動しながら前記剥離手段を検出する検出手段と
   を備え、
   前記制御手段は、前記当接部材を前記剥離方向に移動させ、該移動中の前記当接部材の前記剥離方向における位置を示す位置情報と、前記当接部材が前記剥離手段との対向位置を通過するタイミングとの対応関係に基づき、前記剥離手段各々の移動タイミングを設定する設定動作を実行し、前記設定動作では、前記検出手段の検出結果と前記位置情報との対応関係に基づき前記剥離手段各々の移動タイミングを設定する剥離装置。
9. 前記制御手段は、前記第２板状体のうち前記当接部材が当接する当接位置が、前記当接部材の移動に伴い、前記剥離手段の前記剥離方向における下流側端部との間隔がゼロとなる位置に到達する時に、前記剥離手段の移動を開始させるように、前記剥離手段各々の移動タイミングを設定する請求項８に記載の剥離装置。
10. 前記検出手段は前記剥離手段を撮像する撮像手段である請求項８または９に記載の剥離装置。
11. 前記当接部材を前記剥離方向に移動させるパルスモータを備え、
    前記位置情報は、前記パルスモータの駆動パルス数である請求項８ないし１０のいずれかに記載の剥離装置。
12. 前記保持手段が前記第２板状体を上側にした水平姿勢で前記密着体を保持し、前記剥離手段が前記密着体の上方に配列される請求項８ないし１１のいずれかに記載の剥離装置。

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