KR20030084620A

KR20030084620A - 처리폐가스 중에 있는 가연성 분진의 여과와 불활성화방법 및 그 장치

Info

Publication number: KR20030084620A
Application number: KR10-2003-0024707A
Authority: KR
Inventors: 베커플란츠; 레만로타; 배크틀러호르스트
Original assignee: 와커 실트로닉 아게
Priority date: 2002-04-25
Filing date: 2003-04-18
Publication date: 2003-11-01
Also published as: CN1279220C; US20030200867A1; TW200306883A; JP2004002180A; CN1453399A; DE10218491B3; US6905533B2; TWI265819B; JP4038149B2; KR100499011B1

Abstract

본 발명은 처리중에는 프로세스파라미터(process parameter)에 악영향을 주지 않으며, 가압용기(pressure vessel) 내에 배치되고 최소 250℃까지의 온도에 견딜 수 있는 최소 1개의 소결필터엘리멘트(sintered filter element)에 가연성 분진을 잔류시키고, 처리종료후에는 가압용기 내부를 산소함유가스로 블라스팅 (blasting)시켜 가연성 분진을 불활성화시킴을 특징으로 하는 처리폐가스(process off-gases) 중의 가연성 분진의 자연발화방지방법과 그 방법을 실시하는 장치에 관한 것이다.

Description

처리폐가스 중에 있는 가연성 분진의 여과와 불활성화 방법 및 그 장치{The method and device of filtering and inerting of combustible dusts in the process off-gas}

본 발명은 처리폐가스 중의 가연성 분진의 자연발화방지방법과, 그 방법을 실시하는 장치에 관한 것이다.

연소장치나 소각로, 용융로 등과 같은 열처리공정을 실시하는 설비로부터 발생하는 폐가스는 외부환경으로 배출되기 전에, 일반적으로 여과에 의해 잔류되거나, 필요할 경우 부동화(passivation) 되어야한다. 중간 정도의 산화상태에서 혼합되어 있는 특정 금속산화물과 반금속산화물(semimetal oxide)에는 자연발화온도가 100℃이하이고, 필터를 연소시키거나 또는 하류폐가스필터(downstream off - gas filters) 안에서 폭발하는 등 반응성이 높은 산업분진이 있다. 폐가스가 원심분리기(cyclone separator)에서 원통형 하우징(cyclone-like housing)속으로 접선방향으로 불어 나오게 하는 분진제거시설에서는 비교적 큰 입자가 하우징의 내벽에 쌓이고, 미세입자는 직물 또는 섬유필터 등 하류필터에 의해 분리된다. 이런 형식의 필터는 고처리온도, 스파크 및 고반응성 분진의 자연발화 때문에 사용할 수 없다.

초크랄스키(Czochralski) 도가니인발공정(crucible pulling process)을 이용하여 단결정체의 고순도의 실리콘 잉곳(ingot)을 생산하는 공장에서는 안티몬, 필요할 경우 비소, 붕소, 인 등의 도펀트(dopant)를 첨가하면 실리콘조각이 가열수정도가니(heatable quartz crucible)에 위치하여 용융된다. 단결정체의 수정잉곳은 시드결정이 용융물에 담가지고 회전되며 수직방향으로 인발됨으로써 시드결정의 단부에서 성장한다.

수정도가니(quartz crucible)의 표면과 접촉함으로써 산소는 용융물질에 공급되고, 열의 공급과 회전에 의하여 야기되는 대류의 결과로 산소가 용융물질 내에 분포된다. 그 결과로 용융물질의 성분인 산화물이 형성되고, 이런 산화물은 용융물질의 표면을 통하여 증발된다. 여러 실리콘산화물 SiO_x(x = 0 ∼ 2) 이외에, 특히 안티몬, 비소, 인 등의 화합물 및 붕소의 소정량은 높은 증기압 때문에 방출된다.

도가니인발장치(crucible pulling installation)는 일반적으로 미소한 진공하에 흐르는 바람직하게는 아르곤인 차폐가스를 가지고 있으므로, 용융물의 성분인 산화물은 도가니인발장치로부터 폐가스흐름으로 다른 산화상태에서 배출된다. 이렇게 미세하게 분포된 금속산화물/반금속산화물의 혼합물은 다른 산화상태에서 반응성이 높고 자연발화성이며 독성이다. 이런 산업분진들은 필터를 연소시키거나 특히 하류폐가스필터에서 분진폭발을 일으키는 경향이 있다.

특허문헌(DE3603511 C2)에는 폐가스, 특히 광학도파로프리폼(optical wave-guide preforms)제조공업에서 생산되는 폐가스로부터 분진과 가스 형태의 오염물질을 제거하는 방법과 장치에 대하여 기재되어있다. 첫 단계에서는 바람직하게는 폴리테트라플루오르에틸렌(polytetra-fluoroethylene)으로 코팅된 건조섬유필터에 의하여 분진을 분리하고, 1개 또는 여러 다음단계에서는 가스상태의 오염물질이 흡수액체회로(absorption liquid circuit)를 흐르는 흡수액체인 수산화나트륨(sodium hydroxide)수용액에 의하여 무(無)분진 폐가스로부터 흡수된다.

실리콘산화물의 분진을 직물필터엘리멘트(fabric filter element)로 여과하는 경우에 이 엘리멘트들은 그 구조 때문에 포켓(pocket)이 백열화되게 하고, 폴드(fold)를 연소시키므로, 필터를 파손시켜, 실리콘산화물 분진을 하류펌프로 통과시키거나, 또는 펌프폐가스를 통해 외부환경으로 배출시킨다. 프로세스파라메터 (process parameters)인 압력과 통류를(throughflow)를 전 공정이 진행되는 동안 일정하게 유지하기 위하여, 필터를 사용할 때에는 그 필터의 표면적이 매우 커야한다. 저압상태에서 가스흐름속도를 상승시키기는 불가능하며, 결과적으로 수정을 인발 하는데 적합한 프로세스파라메터의 선택이 제한된다.

특허문헌(DE19854235 A1)에는 도가니인발장치, 특히 실리콘 단결정을 인발하는 도가니인발장치의 폐가스필터에서 생성되는 가연성, 금속성의 분진을 부동화하는 방법에 대하여 기재되어있으며, 이때 도가니인발장치로부터의 폐가스흐름 중의 분진은 50∼500℃의 온도에서 반응가스에 의하여 연속적으로 부동화된다. 지속적인 부동화를 위하여, 가열장치 및 최소 1개의 반응가스유입구를 가진 반응쳄버가 도가니인발장치의 폐가스라인과 폐가스필터 사이에 삽입되었으며, 이때 반응쳄버의 온도 및 반응쳄버 내부로의 반응가스의 공급은 결정인발상태의 작용으로 조절된다. 반응가스로는 공기, 산소, 오존 또는 이들의 혼합기체가 사용된다.

반응가스의 지속적인 공급에 의한 부동화는 도가니인발장치의 가스쳄버 내부의 반응가스분압을 상승시킨다는 단점이 있다. 도가니인발장치로의 산소의 역확산은 예로써 실리콘 단결정잉곳의 전도성에 악영향을 미친다. 도가니인발공정에 필요한 진공과 차폐가스흐름상태(shielding gas flow condition) 및 도가니인발장치의산소함량을 크게 손상시키지 않기 위하여, 산화장치의 용량이 공정기술적으로 제한된다. 산화가 불완전하게 이루어지면 용융물 성분중의 반응성이 높고 자연발화성이며 독성 산화물이 분진필터에 침입하여 예를들어 도가니인발장치를 세정할 때 포켓의 백열화, 필터재의 발화 및 분진폭발이 발생하게 된다.

특허문헌(DE3705793)에서, 연소작용, 연소노, 용융로, 건조장치 등 열처리공정에서 발생하는 폐가스의 세정 및 유독성제거를 위한 필터기구에 대하여 기재되어있으며, 이것은 열과 스파크에 민감한 분진필터와 단일구조의 촉매엘리멘트의 조합에 의하여 분진과 가스상의 오염물을 폐가스로부터 제거하는 장치이다. 이런 촉매엘리멘트는 촉매로 적합한 금속화합물이나 순금속으로 코팅된 큰 털구멍을 가진 포말 세라믹(거대격자거품세라믹 - large-cell foamed ceramic)으로 구성되었다.

가스상의 오염물질을 변화시키기 위해 사용되는 이 촉매는 세라믹으로 된 지지물질과, 석영섬유나 스테인레스강섬유 등 내고온성 물질로 된 직물 또는 비직물에 사용되어 고착되어야 한다. 분진필터엘리멘트는 추후 가스상의 오염물질을 변화시키기 위해 촉매적으로 코팅된 포말세라믹엘리멘트의 상류에 장착된다.

필터엘리멘트의 세척에는 비용이 많이 들며, 비소나 인 또는 안티몬이 도프(dope)된 실리콘혼합물 등 반응성이 높고 자연발화성이며 독성이 있는 분진의 경우, 세척요원의 건강상, 안전상의 위험을 최소화하기 위해 필터세척 하부시설에 많은 경비를 지출해야 한다.

본 발명의 목적은 상기된 종래기술의 결점을 제거하는 것으로써, 특히 처리폐가스 중의 분진의 여과 및 불활성화를 경제적으로 실시할 수 있는 방법을 제공하데 있고, 반응성이 높고 자연발화성이며 독성인 분진의 제거 뿐만 아니라 이 분진의 불활성화를 공정에 통합하는데 있다. 또한 이때 주요 프로세스파라메터인 온도, 압력, 가스흐름속도를 처리동작이 진행되는 전체 시간동안 가능한 한 넓은 범위에서 일정하게 유지하는 것을 목적으로 한다.

본 목적은 처리폐가스 중의 가연성 분진의 자연발화를 방지하는 방법에 의하여 달성된다. 이 방법은 처리중 프로세스파라메터에 불리한 영향을 미치지 않으면서 분진을 가압용기에 배치된 최소 250℃까지의 온도에 견딜 수 있는 최소 1개의 소결필터엘리멘트에 잔류시키고, 또 처리가 종료된 후에는 가압용기로 산소함유가스를 블라스팅(blasting)시킴으로써 분진을 불활성화시키는 것이다.

본 발명에 의하여, 분진은 처리중 최소 1개의 필터엘리멘트에 잔류되고, 공정이 종료된 후 분진은 여과방향과 반대방향으로 흐르는 산소함유가스에 의해 필터엘리멘트에서 분리되어 가압용기쳄버 속으로 쓸려 들어가, 그 안에서 산소에 의하여 산화되어 불활성화된다.

대조적으로, 종래기술에 의한 방법에서는 가스상태인 반응성 오염물질은 먼저 여과에 의해 분진에서 분리되고, 그후 촉매물질에 의해 부동화된다. 분진은 필터엘리멘트에 잔류하며 더 이상 처리되지 않는다. 반응성이 높고 자연발화성이며 독성인 잔류분진은 인간과 환경에 대한 위험때문에 여과장치에서 제거되고 처리되어야 한다.

도 1은 본 발명의 실시예에 따른 장치의 모식도이다.

<도면에 나타난 주요부분에 대한 부호의 설명>

1 : 도가니인발장치 2 : 가압용기

3 : 배출구 4 : 진공시스템

5 : 폐가스관 6 : 통기관

7 : 배기관 8 : 아르곤 가스

9, 10 : 깨끗한 공기 또는 압축공기

V1, V2, V3, V4, V5 : 밸브

바람직한 실시례에 의하면, 본 발명은 실리콘단결정을 인발하는 도가니인발장치의 처리폐가스에서 비소, 안티몬, 붕소, 인 등으로 이루어진 그룹에서 선택된 도펀트로 도핑된 SiO_x분진을 여과 및 불활성화하는 방법에 관한 것이다. 여기서

a) 처리폐가스는 재생되는, 즉 세척하여 재사용하는, 그리고 스테인레스강이나 세라믹으로 제조된 최소 1개의 다공질소결필터엘리멘트를 가지는 가압용기를 통과한다.

b) 필터엘리멘트 또는 필터엘리멘트들은 인발처리가 종료된 후에, 축적된 분진의 처리방향과 반대방향에서 산소함유가스를 클린가스쪽으로 역플러싱시킴으로써 클린된다. 이때 축적된 분진은 가압용기쳄버에 쓸려 들어가서 필터엘리멘트의 역플러싱으로 가압용기쳄버에 있는 분진 부분에서 발열반응이 개시되며, 이에 따라 분진은 산화에 의해 불활성화 된다.

하류진공펌프에 의해 가압용기의 압력이 감소하기 때문에 산소함유가스에 의해 반대방향으로 역플러싱되기 전에 100mbar 이상의 압력범위에서 b) 단계를 여러번 시행하는 것이 바람직하다. 이 경우 압력의 차이는 가장 커진다. 불활성화는 3내지 5회 정도 반복하는 것이 바람직하며, 그 후에 불활성화된 용적 및 세척된 필터엘리멘트 또는 엘리멘트들을 가진 여과장치는 다음 공정에서 다시 이용할 수 있다.

따라서 본 발명에 의하면 처리가 종료된 후에 잔류된 반응성이 높고 자연발화성이며 독성인 분진을 산소함유가스로 역플러싱시켜서 가압용기쳄버로 휩쓸어 넣고 산화에 의해 불활성화시킬 수 있다. 역플러싱 과정이 필요한 만큼 다수회 반복된 후에, 불활성 분진은 필터 세정과정이나 분진제거과정동안 어떠한 위험이나 분진의 연소 없이 시스템에서 제거될 수 있다. 가압용기의 하단에 불활성 분진의 배출플랜지(discharge flange)가 있는 것이 특히 유리하고, 필터기구는 장치가 운행되지 않을 때에는 비워지는 것이 바람직하다.

대기압 이하의 압력에서 처리가 이루어지는 방법에서는 진공펌프, 오일실진공펌프(oil-sealed vacuum pumps)가 여과시스템의 하류에 연결되는 것이 바람직하다. 반응성이 높고 자연발화성이며 독성인 분진이 여과정도(filter rate) 보다 작은 크기를 가진 입자를 함유한 경우에, 그 분진은 펌프의 오일에 이동(convert)되며, 5㎛이하의 작은 비응집 입자가 펌프의 오일에 결합된다. 큰 입자 및 입자응집물은 표면상태가 나빠서 산화되지 않거나 충분한 범위로 산화되지 않아 반응성이 높고 자연발화성이며 독성인 분진이 관, 필터, 펌프, 폐가스에서 인간과 환경에 상당한 잠재적 위험을 나타낸다. 본 발명에 의한 방법은 반응성이 높고 자연발화성이며 독성인 분진이 필터엘리멘트 또는 필터엘리멘트들의 여과정도의 작용으로기 잔류된다. 필터엘리멘트는 여과정도가 0.3∼12㎛인 것을 사용하는 것이 바람직하며, 3∼5㎛인 것이 특히 바람직하다. 여과시스템으로부터 배출되는 공기는 처리배출공기에 공급되는 것이 바람직하다.

여과정도에 따라 필터의 표면적은 프로세스파라메터가 악 영향을 받지 않고, 또 낮은 압력하에서 가스흐름속도가 높아질 수 있도록 선택된다. 필터 표면적은 필터의 보유율이 전 공정의 진행동안 일정하게 유지되도록 여과정도와 조화시킨다. 필터 표면적은 0.5 ∼ 5㎡ 정도가 바람직하며, 1 ∼ 3㎡ 가 특히 바람직하다.

종래기술과의 또다른 중요한 차이는 여과시스템에서 발화의 위험이 제거된다는 점이다. 본 발명에 의한 방법에 있어서, 최소 250℃까지의 온도에 견딜 수 있으며, 스테인레스강 또는 세라믹으로 된 최소 1개의 다공성 소결필터엘리멘트가 스테인레스강으로 구성되어 최소 250℃까지의 온도에 견딜 수 있는 가압용기에서 사용되는 것이 바람직하다.

비소 또는 안티몬 등 유독성 화합물이 있을 경우에는 분진의 환경적 유해성 때문에 편의상 가압용기는 통기밸브에 의해 폐쇄된다. 이로 인하여 유독성 가스 또는 발암성 가스의 누출을 방지하게 된다.

본 발명에 따른 방법의 또다른 이점은 필터엘리멘트의 보유율이 처리의 전 기간 뿐아니라, 필터엘리멘트의 전체 사용수명 동안 일정하게 유지되므로 필터엘리멘트의 교환이 필요없어 결과적으로 장치의 운영비용을 감소시킬 수 있다는 점이다. 여과장치는 처리동안 낮은 압력에서 조차도 높은 흐름속도를 확보할 수 있다.

본 발명의 방법에 의하여 분진의 폐가스가 여과되는 처리공정은, 예를들어 도가니인발장치에서 실리콘 단결정의 인발, 폴리실리콘의 주조 또는 천일 실리콘의 제조 등, 실리콘을 용융하는 처리공정이다.

도 1은 본 방법을 실시하는데 적합한 장치를 도식적으로 나타내고있다. 도 1의 장치에 있어서, 도가니인발장치(1)로부터 나오는 처리폐가스는 스테인리스강으로 되고, 필터표면적 1.8㎡ 및 여과정도 3㎛를 가지며 건조가스 여과에 사용되는다공질소결스테인레스강으로 된 19개의 재생가능한 필터엘리멘트를 삽입한 가압용기(2)를 통하여 폐가스관(5)으로 배출되며, 또 진공시스템(4)을 통하여 폐가스관(5)으로 배출된다. 실리콘단결정잉곳의 도가니인발처리 동안 밸브(V2)가 열려진다. 도가니인발장치에서 진공시스템(4)은 압력 10∼500mbar로 생성되며, 아르곤가스가스(8)가 시간당 300∼10,000 liter(S.T.P)(s.t.p)의 속도로 공급되고, 처리폐가스는 가압용기에 직선관(direct line)을 통해 접선방향으로 유입된다. 그곳에서 큰 입자는 사이클론 효과에 의해 분리된 후에, 처리폐가스는 필터엘리멘트를 통해 필터기구의 클린가스쪽으로 들어간다. 더 세밀한 분리는 여과정도가 3㎛인 필터엘리멘트에서 이루어진다. 필터엘리멘트의 뒤를 따라, 처리폐가스는 컨트롤밸브(V4)를 통해서 루트펌프 (roots pump)와 블로킹 슬라이드 펌프(blocking slid pump)로 이루어 지는 것이 바람직한 진공시스템(4)에 도달한다. 소량 함유된 크기 3㎛이하의 미세분진은 진공펌프의 오일에서 습식분리 및 부동화 되고, 진공시스템 (4)의 하류에서 세정된 처리폐가스가 폐가스관(5)으로 지나간다.

공정이 종료된 후, 냉각이 종료되기 전 120분간 밸브(V1.1, V1.2, V1.3)가 공기정화를 위해 열린다. 펌프의 동작으로 밸브(V1.1, V1.2)는 함께 시간당 2200 liter(s.t.p)의 깨끗한 공기를 장치의 폐가스관으로 지나가게 한다. 밸브(V1.3)는 여과장치의 비처리가스쪽으로의 공급관으로 시간당 4500liter(s.t.p)의 깨끗한 공기를 지나가게 한다. 공기정화는 도가니인발장치의 폐가스관에서 제어산화 (controlled oxidation)에 이용되며, 필터켄들(filter candle)의 필터케익(filter cake)의 초기 산화에 이용된다. 공기정화시간은 밸브(V2, V4, V5)들이 열려 있는30분간이다. 30분 후에 밸브(V1.1, V1.2, V1.3)는 닫히고, 장치내부의 압력은 150mbar로 상승하며, 밸브(V2)는 닫히고, 밸브(V4)는 열리면서 진공시스템의 동작은 계속된다. 역플러싱밸브(V3)는 3 방향의 밸브로서, 5분 후에 열릴때 가압용기 (2)로부터 정화공기시스템으로 연결되며, 동시에 진공시스템(4)로 연결되는 라인은 폐쇄된다. 본 발명의 또다른 실시예에서는, 역플러싱밸브(V3)는 압축공기에 접속되어 있게된다. 깨끗한공기 또는 압축공기는 빠른 속도로, 열려진 역플러싱밸브(V3)를 통해 진공상태인 필터기구의 클린가스쪽으로 흐른다. 압력상승의 결과로 필터엘리멘트는 세정되며, 분진들은 가압용기쳄버속으로 휩쓸려 들어가 산소와 혼합된다. 그 결과 가압용기쳄버내에서 분진의 발열성 반응으로 산화가 시작된다. 산화진행 20분 후 역플러싱밸브(V3)는 3분 동안 진공시스템(4)으로 흐르도록 전환되며, 가압용기(2)는 다시 비워진다. 역플러싱작업은 전체 3회 반복된다.

비처리가스쪽의 정화는 필터엘리멘트의 클린 후 반복될 수 있다. 그 다음 필터기구의 클린은 종료되며, 필터기구는 다음 공정에 사용할 수 있게된다.

불활성 분진들은 배출플랜지(flange)(3)에서 일정한 간격으로 배출된다. 도 1에 나타낸 필터기구는 가압용기(2)가 배출플랜지(flange)(3)에서 분진이 제거되어, 클린되기 전에 30개의 실리콘단결정잉곳을 인발하는데 사용된다.

더 바람직한 실시예에서는 가압용기의 통기관(6)이 배기관(7)에 접속되어 있게된다.

본 발명은 필터시스템에서 화재가 발생할 위험을 제거할 수 있고, 비소나 안티몬 같은 유독성 화합물에 존재하는 환경유해성 때문에 가압용기는 통풍 밸브에 의해 편의상 차단할 수 있으며, 유독성 또는 발암성 가스가 누출되는 것을 방지할 수 있다.

또, 공정 중 뿐 만 아니라, 필터엘리멘트의 수명이 다할 때까지 일정한 보유율을 유지할 수 있으므로, 필터엘리멘트를 교체하지 않을 수 있어 운영비가 감소되며, 필터기구는 공정 동안 낮은 압력에서도 높은 흐름속도를 확보한다.

또, 반응성이 높고 자연발화성이며 독성인 분진의 제거 뿐만 아니라 이 분진의 불활성화 과정을 공정에 통합할 수 있으며, 주요 프로세스파라메터인 온도, 압력, 가스흐름속도를 처리동작이 진행되는 전체 시간동안 가능한 한 넓은 범위에서 일정하게 유지할 수 있다.

Claims

처리폐가스(process off-gases) 중에 있는 가연성 분진의 자연발화를 방지하는 방법에 있어서,

처리중에는 프로세스파라미터(process parameter)에 악영향을 주지 않으며, 가압용기(pressure vessel) 내에 배치되고 최소 250℃까지의 온도에 견딜 수 있는 최소 1개의 소결필터엘리멘트(sintered filter element)에 가연성 분진을 잔류시키고,

처리종료후에는 그 가압용기 내부를 산소함유가스로 블라스팅 (blasting)시켜 그 가연성 분진을 불활성화시킴을 특징으로 하는 방법.
제1항에 있어서, 처리(process)에는 용융실리콘 또는 도펀트(dopants) 함유 실리콘이 포함됨을 특징으로 하는 방법.
제1항 또는 제2항에 있어서, 처리는 도가니인발장치(crecible - pulling installation)에서의 실리콘단결정잉곳(silicon single crystal ingot)의 인발임을 특징으로 하는 방법.
제1항에 있어서, 가연성 분진에는 실리콘, 붕소, 인, 비소, 안티몬으로 이루어진 그룹에서 선택된 산화물(oxides) 또는 산화물의 혼합물(oxide mixtures)이 함유됨을 특징으로하는 방법.
제1항에 있어서, 최소 250℃까지의 온도에 견딜 수 있는 소결필터엘리멘트의 여과정도(filter rate)는 0.3∼15㎛ 임을 특징으로 하는 방법.
제1항에 있어서, 가압용기내에서 최소 250℃까지의 온도에 견딜 수 있는 소결필터엘리멘트는 세라믹 또는 스테인리스강으로 이루어짐을 특징으로 하는 방법.
제1항에 있어서, 처리에서는 압력 10∼500mbar를 사용함을 특징으로 하는 방법.
제1항에 있어서, 처리에서는 질소 및 아르곤으로 이루어진 그룹에서 선택된 불활성차폐가스가 시간당 300∼10000 liter(S.T.P)의 가스흐름속도로 사용됨을 특징으로 하는 방법.
제1항에 있어서, 처리종료후에는

a)가압용기를 진공배기하고

b)그 가압용기를 여과처리의 반대방향에서 산소함유가스로 배기하며, 필터엘리멘트에서 회수한 분진을 가압용기쳄버(pressure vessel chamber)내로 유입하여 처리중에 산소와 반응시켜 불활성화하는 단계를 각각의 경우 최소 1회 연속하여 교대로 실시함을 특징으로 하는 방법.
제1항에 있어서, 산소함유가스는 공기 또는 압축공기임을 특징으로 하는 방법.
제1항에 있어서, 제 1항의 방법을 사용하여 여과시키는 프로세스에서의 배출공기는 처리배출공기에 공급됨을 특징으로 하는 방법.
청구항 3에서 청구된 방법에서 얻을 수 있는 있는 실리콘 웨이퍼(siliconwafer).
처리폐가스중에서 가연성 분진의 자연발화를 방지하는 방법을 실시하는 장치에 있어서,

a) 반응성이 높고 자연발화성이며 독성인 분진을 함유한 폐가스를 생성하는 처리장치와,

b) 처리장치에 대하여 차단시킬 수 있고, 최소 1개의 공기공급밸브를 구비하는 폐가스 배출장치와,

c) 배출플랜지를 가지며, 최소 250℃까지의 온도에 견딜 수 있는 최소 1개의 소결필터엘리멘트가 배치되어있는 가압용기와,

d) 가압용기, 진공시스템 및 통기관(ventilation line)과 접속되어있는 체크밸브(nonreturn valve)와,

e) 진공시스템과,

f) 통기관으로 구성함을 특징으로 하는 장치.
제13항에 있어서, 처리장치는 도가니인발장치(crucible pulling installation)임을 특징으로 하는 장치.