JPS6193310A - 廃ガスの処理方法 - Google Patents
廃ガスの処理方法Info
- Publication number
- JPS6193310A JPS6193310A JP59214398A JP21439884A JPS6193310A JP S6193310 A JPS6193310 A JP S6193310A JP 59214398 A JP59214398 A JP 59214398A JP 21439884 A JP21439884 A JP 21439884A JP S6193310 A JPS6193310 A JP S6193310A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- water
- waste gas
- gas
- tower
- silicon
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F23—COMBUSTION APPARATUS; COMBUSTION PROCESSES
- F23G—CREMATION FURNACES; CONSUMING WASTE PRODUCTS BY COMBUSTION
- F23G7/00—Incinerators or other apparatus for consuming industrial waste, e.g. chemicals
- F23G7/06—Incinerators or other apparatus for consuming industrial waste, e.g. chemicals of waste gases or noxious gases, e.g. exhaust gases
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F23—COMBUSTION APPARATUS; COMBUSTION PROCESSES
- F23J—REMOVAL OR TREATMENT OF COMBUSTION PRODUCTS OR COMBUSTION RESIDUES; FLUES
- F23J15/00—Arrangements of devices for treating smoke or fumes
- F23J15/02—Arrangements of devices for treating smoke or fumes of purifiers, e.g. for removing noxious material
- F23J15/04—Arrangements of devices for treating smoke or fumes of purifiers, e.g. for removing noxious material using washing fluids
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F23—COMBUSTION APPARATUS; COMBUSTION PROCESSES
- F23G—CREMATION FURNACES; CONSUMING WASTE PRODUCTS BY COMBUSTION
- F23G2209/00—Specific waste
- F23G2209/14—Gaseous waste or fumes
- F23G2209/142—Halogen gases, e.g. silane
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は自己・燃焼性のケイ素の水素化物を含有する廃
ガスの処理方法に関する。
ガスの処理方法に関する。
（従来の技術９
半導体素子の製造工程などではシラン、ジシランなとの
ケイ素の水素化物を用いてケイ素のエピタキシャル膜、
アモルファス膜を製造することが行われている。
ケイ素の水素化物を用いてケイ素のエピタキシャル膜、
アモルファス膜を製造することが行われている。
しかしながら、ケミカルベーパーティポジノトなとのケ
イ素の水素化物を分解してケイ素の膜を成長させる方法
では、有効に利用されるケイ素の水素化物は１部であり
、大部のケイ素の水素化物はそのまま大気に放出すると
自己燃焼性であるため火災の危険があり、またそれ自身
の毒性の問題もあって分解処理等行う必要がある。
イ素の水素化物を分解してケイ素の膜を成長させる方法
では、有効に利用されるケイ素の水素化物は１部であり
、大部のケイ素の水素化物はそのまま大気に放出すると
自己燃焼性であるため火災の危険があり、またそれ自身
の毒性の問題もあって分解処理等行う必要がある。
ケイ素の水素化物を含有する廃ガスを処理する方法とし
ては、適当な洗浄塔で洗浄処理する方法、燃焼処理した
後生じた酸化ケイ素を含有する廃ガスを洗浄水に通し処
理する方法などが知られている。
ては、適当な洗浄塔で洗浄処理する方法、燃焼処理した
後生じた酸化ケイ素を含有する廃ガスを洗浄水に通し処
理する方法などが知られている。
の水素化物を吸収する安価な溶媒がなく、水で処理した
ので、吸収した水の処理を行う問題がある上に、除去効
率が悪いという問題がある。これに対し燃焼処理し次い
て洗浄水て酸化ケイ素を処理する方法は除去効率の点で
優れているが、燃焼処理した酸化ケイ素を含有する廃ガ
スの導管が閉塞するとか、燃焼炉中に酸化ケイ素が付着
するなとの問題がある上に、燃焼熱の除去、及び炉を耐
熱構造にする必要があるなどの問題があった。
ので、吸収した水の処理を行う問題がある上に、除去効
率が悪いという問題がある。これに対し燃焼処理し次い
て洗浄水て酸化ケイ素を処理する方法は除去効率の点で
優れているが、燃焼処理した酸化ケイ素を含有する廃ガ
スの導管が閉塞するとか、燃焼炉中に酸化ケイ素が付着
するなとの問題がある上に、燃焼熱の除去、及び炉を耐
熱構造にする必要があるなどの問題があった。
本発明者らは上記問題を解決し簡単な装置でケイ素の水
素化物を含有する廃ガスの処理方法について鋭意検討し
た結果、特定の方法で処理するこ吉で上記問題が解決で
きることを見い出し本発明を完成した。
素化物を含有する廃ガスの処理方法について鋭意検討し
た結果、特定の方法で処理するこ吉で上記問題が解決で
きることを見い出し本発明を完成した。
（発明の目的９
本発明の目的は自己燃焼性のケイ素の水素化物をき有す
る廃ガスの処理方法を提供することにある。
る廃ガスの処理方法を提供することにある。
（問題点を解決するための手段う
即ち本発明は、自己燃焼性のケイ素の水素化物を含有す
る廃ガスを水スプレー塔中で燃焼することを特徴とする
廃ガスの処理方法である。
る廃ガスを水スプレー塔中で燃焼することを特徴とする
廃ガスの処理方法である。
本発明において自己燃焼性のケイ素の水素化物を含有す
る廃ガスとはどのようなものであっても良い。即ち本発
明の方法は、例えばシラン、ジシラン、トリシランなと
のシラン類はもとよりモノクロルシラン、モノクロルジ
シランなど完全な水素化物でなくても自己燃焼性ケイ素
の水素化物を含有する、廃ガスに適用可能であり、ケイ
素の水素化物がほぼ１００％であるものであれ、水素、
ヘリウム、窒素などで希釈されたものであっても適用で
き、例えば半導体素子の製造工程からの廃ガス或はケイ
素の水素化物充填工程などからの廃ガスなどに適用でき
る。
る廃ガスとはどのようなものであっても良い。即ち本発
明の方法は、例えばシラン、ジシラン、トリシランなと
のシラン類はもとよりモノクロルシラン、モノクロルジ
シランなど完全な水素化物でなくても自己燃焼性ケイ素
の水素化物を含有する、廃ガスに適用可能であり、ケイ
素の水素化物がほぼ１００％であるものであれ、水素、
ヘリウム、窒素などで希釈されたものであっても適用で
き、例えば半導体素子の製造工程からの廃ガス或はケイ
素の水素化物充填工程などからの廃ガスなどに適用でき
る。
本発明において燃焼するために用いる水スプレー塔の形
状としては塔上方より比較的均一に水をスプレーするこ
とができる形状のものであれば良く、塔状の構造物上方
に単にスプレーノズルを設けた形状のものであってもよ
く、又はスプレーノズルを何個か高さを変えて設けたも
のでも良い。
状としては塔上方より比較的均一に水をスプレーするこ
とができる形状のものであれば良く、塔状の構造物上方
に単にスプレーノズルを設けた形状のものであってもよ
く、又はスプレーノズルを何個か高さを変えて設けたも
のでも良い。
又水の分散を良くするためノズルに工夫を行っても良い
。好ましくは水の１部が塔壁をったって流′れ落ちる構
造としておくことであり、このことにより塔が燃焼熱に
よって加熱されることをさけることができる。
。好ましくは水の１部が塔壁をったって流′れ落ちる構
造としておくことであり、このことにより塔が燃焼熱に
よって加熱されることをさけることができる。
廃ガスを導入するノズルは、好ましくは塔の下方に水が
たまる構造とし、水中に開口部を設けることである。こ
のことによりノズル開口部が燃焼により加熱されること
及び生じたケイ素の酸化物などによる閉塞する問題をさ
けることができる。
たまる構造とし、水中に開口部を設けることである。こ
のことによりノズル開口部が燃焼により加熱されること
及び生じたケイ素の酸化物などによる閉塞する問題をさ
けることができる。
即ち、導入された廃ガスは水中から気相に出たとの結果
中じた酸化ケイ素へただちに接触することもない。ノズ
ル開口部から気相までの間に適当な分散装置を設けて気
相へ廃ガスが均一にでるようにすることも可能であるが
、特にそのような工夫を行わなくても実質的に問題はな
い。ノズルの形状としては特別な構造とする必要なく、
内径数ミリの配管を切断したものをそのまま用いても良
い。
中じた酸化ケイ素へただちに接触することもない。ノズ
ル開口部から気相までの間に適当な分散装置を設けて気
相へ廃ガスが均一にでるようにすることも可能であるが
、特にそのような工夫を行わなくても実質的に問題はな
い。ノズルの形状としては特別な構造とする必要なく、
内径数ミリの配管を切断したものをそのまま用いても良
い。
また塔底の構造として第１図に示すような水シール部を
設けると安全に水面一定で運転することがてきる。
・ スプレーにより燃焼ガスから洗い落とされたシリカは、
搭底部水中に集まり懸；ｈ物として浮遊している。この
塔底の水をポンプで昇圧してスプレーノズルに供給する
こともできるがこの懸濁物が一定濃度以上になると、ス
プレーノズル等の詰りか生ずるので、この洗浄水は一定
割合で系外ヘパージする心安がある。パージ速度は、使
用するスプレーノズルの性能にもよβが、液中の懸濁物
の濃度が５ｗｔ％以下となる様にすればよい。こうする
ことで過大な排水の生成をさけることができる。
設けると安全に水面一定で運転することがてきる。
・ スプレーにより燃焼ガスから洗い落とされたシリカは、
搭底部水中に集まり懸；ｈ物として浮遊している。この
塔底の水をポンプで昇圧してスプレーノズルに供給する
こともできるがこの懸濁物が一定濃度以上になると、ス
プレーノズル等の詰りか生ずるので、この洗浄水は一定
割合で系外ヘパージする心安がある。パージ速度は、使
用するスプレーノズルの性能にもよβが、液中の懸濁物
の濃度が５ｗｔ％以下となる様にすればよい。こうする
ことで過大な排水の生成をさけることができる。
また、最上段ノズルの上部にスプレーミストの同イｆを
防ぐためにテミスターを設ける事が好ましい。
防ぐためにテミスターを設ける事が好ましい。
実施例
以下本発明を実施例により具体的に説明する。
（例−１）直径１０ｃｒｎ１長さ２ｍの鉄製パイプの下
から２ｍの位置に水面を保つ様にし、水面下１０ｃＩｒ
Ｌの所にモノシランガスの吹き出しノズル、水面上５α
の所に空気の吹き出しノズル、水面上２０ｃｒＩＬ及び
１００ａの所にスプレーノズルをとりつけた。オフガス
はデミスタ−を経由して一部ガスクロマトグラフへ導入
してモノシラン濃度を測定した。
から２ｍの位置に水面を保つ様にし、水面下１０ｃＩｒ
Ｌの所にモノシランガスの吹き出しノズル、水面上５α
の所に空気の吹き出しノズル、水面上２０ｃｒＩＬ及び
１００ａの所にスプレーノズルをとりつけた。オフガス
はデミスタ−を経由して一部ガスクロマトグラフへ導入
してモノシラン濃度を測定した。
各所の操作条件は、以下の通りであり１０時間運転を継
続し、１時間毎にオフガス中のモノシラン濃度を測定し
た。
続し、１時間毎にオフガス中のモノシラン濃度を測定し
た。
系内圧力は、ヘントガスラインの圧力損失のみて、水柱
４０朋程度である。また実１験中水温は３５℃で均衡し
た。
４０朋程度である。また実１験中水温は３５℃で均衡し
た。
以下の表に運転中のオフガス中モノシラン濃度を示す。
（例−２）例−１に示したのと同じ装置で同一条件で７
００時間運転した。
００時間運転した。
系は安定に推移し全く問題は生じなかった。
（例−３）例−Ｉに示したのと同じ装置でモノシランガ
スの代わりに、シシランノＪスを下記条件で流し１０時
間運転した。
スの代わりに、シシランノＪスを下記条件で流し１０時
間運転した。
以下に運転中のオフガス中ジンラン残存濃度を示す。
発明の効果
水スプレー塔で、ケイ素の水素化物を含有する廃ガスを
、理論量より過剰量（過剰率は２０％以上あればよい）
の空気で燃焼させることにより、ベントガス中のシラン
ガス類濃度を１ｏｏｐｐｍ程度に低下させることができ
る。このベントガスは全く燃焼性（爆発性）等の危険性
のないガスであるが、毒性ガスとしての恕限濃度以上で
あること（例えばモノシランガスであれば、５ｐｐＩ１
１）を銘記しておかねばならない。このベントガスは更
に触媒処理等の必要性はあるが、自己燃焼性の極めて危
険な取り扱いにくいガスを安全な形に手軽に処理できる
本発明の方法の効果は大きい。
、理論量より過剰量（過剰率は２０％以上あればよい）
の空気で燃焼させることにより、ベントガス中のシラン
ガス類濃度を１ｏｏｐｐｍ程度に低下させることができ
る。このベントガスは全く燃焼性（爆発性）等の危険性
のないガスであるが、毒性ガスとしての恕限濃度以上で
あること（例えばモノシランガスであれば、５ｐｐＩ１
１）を銘記しておかねばならない。このベントガスは更
に触媒処理等の必要性はあるが、自己燃焼性の極めて危
険な取り扱いにくいガスを安全な形に手軽に処理できる
本発明の方法の効果は大きい。
第１図は本発明の方法を行うのに好適な装置のフローを
示すものである。 ｌは水の導入ライン、２は空気導入ライン、３は被処理
廃ガス導入ライン、４は廃ガス導入ノズル、５−１．５
−２はスプレーノズル、６は処理ガス排出ライン、７は
排水排出ラインである。
示すものである。 ｌは水の導入ライン、２は空気導入ライン、３は被処理
廃ガス導入ライン、４は廃ガス導入ノズル、５−１．５
−２はスプレーノズル、６は処理ガス排出ライン、７は
排水排出ラインである。
Claims (1)
- 自己燃焼性のケイ素の水素化物を含有する廃ガスを水ス
プレー塔中で燃焼させることを特徴とする廃ガスの処理
方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59214398A JPS6193310A (ja) | 1984-10-15 | 1984-10-15 | 廃ガスの処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59214398A JPS6193310A (ja) | 1984-10-15 | 1984-10-15 | 廃ガスの処理方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6193310A true JPS6193310A (ja) | 1986-05-12 |
Family
ID=16655125
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59214398A Pending JPS6193310A (ja) | 1984-10-15 | 1984-10-15 | 廃ガスの処理方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6193310A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5123836A (en) * | 1988-07-29 | 1992-06-23 | Chiyoda Corporation | Method for the combustion treatment of toxic gas-containing waste gas |
| US5372795A (en) * | 1992-12-03 | 1994-12-13 | Wacker-Chemie Gmbh | Process for hydrophobicizing of pyrogenic silica |
| US5693293A (en) * | 1993-06-17 | 1997-12-02 | Das-Dunnschicht Anlagen Systeme Gmbh Dresden | Apparatus for the purification of waste gas |
| CN102080827A (zh) * | 2011-01-20 | 2011-06-01 | 常州恒威净化设备有限公司 | 可在线维护的硅烷燃烧塔 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6089618A (ja) * | 1983-10-19 | 1985-05-20 | Toyo Sanso Kk | 排ガス燃焼装置 |
-
1984
- 1984-10-15 JP JP59214398A patent/JPS6193310A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6089618A (ja) * | 1983-10-19 | 1985-05-20 | Toyo Sanso Kk | 排ガス燃焼装置 |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5123836A (en) * | 1988-07-29 | 1992-06-23 | Chiyoda Corporation | Method for the combustion treatment of toxic gas-containing waste gas |
| US5372795A (en) * | 1992-12-03 | 1994-12-13 | Wacker-Chemie Gmbh | Process for hydrophobicizing of pyrogenic silica |
| US5693293A (en) * | 1993-06-17 | 1997-12-02 | Das-Dunnschicht Anlagen Systeme Gmbh Dresden | Apparatus for the purification of waste gas |
| CN102080827A (zh) * | 2011-01-20 | 2011-06-01 | 常州恒威净化设备有限公司 | 可在线维护的硅烷燃烧塔 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR100847916B1 (ko) | 반도체 제조 시의 배출 가스를 산화 처리하기 위한 배기가스 스트림 처리 장치 및 방법 | |
| US5693293A (en) | Apparatus for the purification of waste gas | |
| US6468490B1 (en) | Abatement of fluorine gas from effluent | |
| EP2396598B1 (en) | Method of treating an exhaust gas stream | |
| CN100488598C (zh) | 处理废气的方法和装置 | |
| KR19990045278A (ko) | 과불화물의 처리 방법 및 그 처리 장치 | |
| CN101541400A (zh) | 气体处理装置 | |
| CN109821373A (zh) | 一种等离子体废气处理装置及方法 | |
| FI973084A (fi) | Laitteisto poistokaasujen puhdistamiseksi | |
| JP3266759B2 (ja) | 有機ハロゲン化合物の処理方法及びその処理装置 | |
| JP2001502604A (ja) | 半導体製造排気の酸化処理のための排気流処理システム | |
| JPS6193310A (ja) | 廃ガスの処理方法 | |
| EP0248224A3 (en) | Mass for removing by chemisorption homogeneous dissolved mixtures, particularly oxygen, from gases or liquids | |
| KR20030074638A (ko) | 연소 배기 가스의 처리 장치 | |
| JP2003021315A (ja) | 排ガス除害装置及び方法 | |
| JP5004453B2 (ja) | 排ガスの処理方法及び処理装置 | |
| JP2000063129A (ja) | 排気ガス処理方法および処理装置 | |
| JP4491696B2 (ja) | 排気ガス処理装置 | |
| JPH0779949B2 (ja) | 排ガス処理装置 | |
| JP2003329233A (ja) | 排ガス処理装置 | |
| CN100562355C (zh) | 废气处理装置的废气处理塔及该处理塔所用的电加热器 | |
| JPH0331085B2 (ja) | ||
| JPH0710334B2 (ja) | Ｎｆ３ 排ガス処理方法および装置 | |
| JP2688658B2 (ja) | 排ガス熱焼処理装置における逆火防止装置 | |
| JP2533582B2 (ja) | 微粉処理方法 |