JP2001502604A

JP2001502604A - 半導体製造排気の酸化処理のための排気流処理システム

Info

Publication number: JP2001502604A
Application number: JP10530159A
Authority: JP
Inventors: ホルスト，マーク，アール．; カーペンター，ケント; レーン，スコット; アーヤ，プラカッシュ，ヴィ．; バリュー，パトリック; スウィーニー，ジョゼフ，ディー．
Original assignee: エーティーエムアイエコシスコーポレーション
Priority date: 1996-12-31
Filing date: 1997-12-31
Publication date: 2001-02-27
Anticipated expiration: 2017-12-31
Also published as: JP3648539B2; WO1998029181A1

Abstract

(57)【要約】半導体製造作業（９０１）からの排ガスなどの気体排気物の処理用の排気流処理システム（９０３）が開示される。この排気流処理システムは、例えば、スクラバを備える前酸化処理ユニット（９０５）と、電熱酸化装置などの酸化ユニット（９１３）と、湿式または乾式スクラバなどの後酸化処理ユニット（９１７）とを備えてもよい。本発明の排気流処理システムでは、一体型の酸化装置（８５２）と、冷却装置（８６２）と、湿式スクラバアセンブリ（８７０）とを、有害またはそれ以外の場合には望ましくない成分を排気流から除去するために利用してもよい。極めて効率のよい吸込構造（１０６０、１１１０）によって、処理システムにおいて気体流を気体または液体で被着してもよい。

Description

【発明の詳細な説明】半導体製造排気の酸化処理のための排気流処理システム発明の分野本発明は、半導体製造、光起電処理などにおいて生成される排気といった産業流出流体の処理用のシステムに関する。かかるシステムは、排気処理のためのオキシダイザー、ガススクラブ処理、微粒子固体除去その他のユニット作業をさまざまな形で含んでいる。関連技術の説明産業流出流体の処理においては、上流側の処理設備からの流出物の処理のための多種多様なユニット作業及びそれに対応する別個の処理装置が組込まれてきた。例えば、半導体製造流出物及び光起電処理オフガスの処理のためには、さまざまな統合型熱システムが市販されている。これらの統合型システムは、標準的にＣＶＤ，金属エッチング、エッチング及びイオン噴射用工具と共に使用することに的を絞ったものである。市販の統合型システムとしては、Delatech制御型分解オキシダイザ（ＣＤＯ），Dunnschicht Anlagenシステム（ＤＡＳ）エスケープシステム、及びEdwords熱処理ユニット（ＴＰＵ）がある。これらの市販のシステムの各々は、高温酸化区分からのオフガスの熱制御のための湿式消化と組合わされた排気の酸化的分解用の熱処理ユニット及び酸化プロセス中に形成される酸気体及び微粒子の除去のための湿式スクラブ処理システムの統合で構成されている。 Delatech ＣＤＯにおいては、熱システムは、排気流からの特に除去困難な化合物を破壊するための火炎ベースの挿入可能な水素噴射システム（ＨＩＳ）と任意に組合わせることのできる電気的に加熱された管を含んで成る。上述のＤＡＳエスケープシステムでは、熱オキシダイザは、酸化剤としてＯ２を、そして燃料としてメタン又は水素を使用する、火炎ベースのものである。ＴＰＵでは、熱オキシダイザは、酸化剤として空気又はＯ２，燃料としてメタンを使用する火炎ベースの表面燃焼ユニットを含んで成る。これらの統合型の市販システムに加えて、ａ）非加熱物理吸着型充てん層乾式スクラバｂ）非加熱化学吸着型充てん層乾式スクラバｃ）加熱化学反応型充てん層乾式スクラバｄ）加熱触媒反応型充てん層乾式スクラバｅ）湿式スクラバ、及びｆ）火炎ベースの熱処理ユニットを含め、排気流の処理のためのさまざまな市販の独立型の単一ユニット作業システムも存在する。これらのユニット作業技術の各々は、処理を受ける気体流の性質に応じて或る種の利用分野に適したものである。一般に、これらの各々の技術は、特定の流出物流成分のための全く異なる一組の除去機構に基づいている。これらの技術は：ａ）除去を必要とする流出物流成分が、除去機構の通路内で充分に類似したものであるため、単一の除去技術で問題となっている複数のガスを除去することができるか、又はｂ）その特定の除去機構に対し応答性をもたない気体流成分種の特定の部分集合が、その気体流成分種を低減させることなく排気できるような性質を有するいずれかの場合に、優れた天元を提供する。時として、上述の独立型単一ユニット作業ベースのシステムのエンドユーザーは、このシステムを通過させられているさまざまなガスの各々のカテゴリーについて１つの処理シーケンスを提供するため、これらのさまざまな処理ユニットの２つ以上を組合わせることを選択することができる。それでもなお、かかる合併型の機器というアプローチの実施が、エンドユーザーにとっては機器のオリジナルメーカーほど便利なことでないということは明らかである。というのも、機器のオリジナルメーカーは最初のケースにおいて単一の小型処理システム内へのさまざまな作業処理ユニットの統合を提供できるからである。これとは対照的に、エンドユーザーは、合併型アセンブリ及び作業のために構成要素である独立型ユニットを実質的に修正しなければならない。さらに、これらの機器のオリジナルメーカーが統合した排気流処理システムは、明らかに或る種の利用分野において、単一ユニット作業システムに比べ利点を有するものの、標準的には、例えば酸化、急冷及びスクラブ処理といったユニット作業を行なうことができるようなこれらの統合型システムは、それぞれの区分ならびにオキシダイザ区分の吸込領域内における微粒子の詰まり、酸化区分内での微粒子の発生、スクラバ区分内での酸気体のスクラブ処理不良、酸気体及び微粒子洗浄用水の大量消費、及び酸との水性混合物の収集及び濃縮を結果としてもたらずスクラブ処理区分からの飽和オフガスの凝結を含むさまざまな欠点を有している。入口の詰まりは、（ａ）ＢＣ１３又はＷＦ６といったような流入感水性ガスとの不均質又は均質な形での加水分解反応をひき起こす、オキシダイザ区分の組合せ生成物としての水蒸気の逆行；（ｂ）入ってくる感熱性ガスの熱劣化；及び（ｃ）システム内の遷移点に起因する入ガスの凝結、を含めた複数の原因で発生しうる。これらの入口の詰まりの問題は、入口を固体の蓄積の無い状態に保つためプランジャ機構又はその他の固体除去手段を内蔵することを必要とする可能性があるが、これらの機械的解決策は、多大な出費と労力をシステムに追加する。他のケースでは、入口の詰まりの問題は系統的で、入口を固体蓄積の無い状態に保つため定期的な予防メンテナンスを必要とする可能性がある。しかしながらこのようなメンテナンスは、システムの運転停止及び製造設備内の生産性の損失を必要とする。既存の統合型現場用排気処理システムは又、その乾式スクラブ処理プロセスからの廃水の処理が困難な工場施設において問題に遭遇する可能性がある。数多くの工場がこれらの現場用システムから生成される廃水中のフッ素（Ｆ^-）の処理、又はより一般的に言うと排気処理システム自体に由来する廃水の処理に問題をもつ可能性がある。統合型システムのウォータスクラバ及び急冷部分は又、米国南西部での典型的な状態であるプロセス設備にとって利用可能な補給水の質が低い場合、詰まりの問題を有する可能性もある。直ちに利用できる水の不足、水の高いコスト、及び排出された廃水の高い処分コストも同様に、数多くの場所で重大な問題となる。一部のケースでは、これらの要因のため、詰まりの問題を予防するべくプロセス設備内に高品質の脱イオン水を使用することが必要となっている。このような解決法は、スクラバ及び急冷の詰まりを防ぐのに有効であるものの、これには高品質の脱イオン水の実質的コストに付随する非常に高い所有権コストが関与してくる。スクラブ処理作業においては、スクラバ塔内の酸気体のスクラブ処理不良が、これらのシステムを通って処理される流量が低いことをに起因して発生する可能性がある。このような少ない流量を処理するスクラバ塔の直径は、それに対応して小さいものであり、このことは、従来の大直径パッキンの使用と組合わせたとき、過度に高いパッキン要素直径対カラム直径を結果としてもたらす可能性があり、スクラバ塔における大きな壁の効果をもたらす。このようなスクラバ塔は結果として、大量の水流を必要とし、このことが今度は、スクラバ洗浄システム内を未処理の状態で通過するプロセスガスのポケットを伴っ偏流、溢流及びスラッギングをひき起こす可能性がある。これらのシステムのスクラブ処理不良に起因して、一般にこれらのシステムの下流でダクト構造内に腐食が見られ、これはスクラバからの未処理のオフガスの凝結に起因するものである。流出物流内でハロゲン化物ガスが処理されている場合、スクラバからのオフガスは、スクラバの低いスクラブ処理性能の結果として、スクラブ処理されていないハロゲン含有物を含むことになる。スクラブ処理されていないのハロゲン含有物は、ＶＬＥ露点条件で凝結したきわめて濃度の高い酸のプールの形成及び、実質的に予想以上に高い酸と水の混合物を結果としてもたらす可能性がある。発明の要約本発明は、例えば半導体材料及びデバイスの製造において生成されるもののような産業排気の現場内処理のために有用な、統合型の排気処理システムに関する。１つの形態においては、本発明の統合型排気処理システムは、例えば以下のシステムコンポーネントの一部又は全てのコンパクトな現場内デバイスとしてユニット構造のハウジング内に内含するように構成されている：（ｉ）酸気体及び微粒子除去のための前処理ユニット{例えば（前置）スクラバ}；（ii）電熱式オキシダイザ又はその他のオキシダイザユニット；（iii）オキシダイザ排気ガス急冷ユニット；（iv）酸性スクラバユニット（ｖ）能動的原動れ流手段（ブロワ、ファン、ポンプなど）又は受動的流れ手段（エダクタ、エジェクタ、吸気ノズルなど）といった気体流誘導手段；及び（vi）流入ガス温度制御手段（例えば、統合型システム内に流されたガスの適切な熱特性を確保するためのヒートトレース型フォアライン、熱交換器その他の手段を含む）、電力供給手段（サージ保護、連続電力供給（ＵＰＳ）接続又は専用ＵＰＳコンポーネントなど）及びシステム内でその作動中のプロセス条件（温度、圧力、流速及び組成）を監視し選択的に調整するための、その他のプロセス制御要素及びサブアセンブリを内含しうる、付随する制御手段。本発明の統合型排気処理システムは、上流側のプロセス設備からアセンブリへ流体流を導入するため又はその他の形でプロセスシステム内の下流側の場所に気体流の上流側の供給源からプロセス気体流を流すための吸気構造と組合わせた形で、前置スクラバ、オキシダイザ及びスクラバアセンブリを利用することができる。１つの実施形態におけるこのような吸気構造は、微粒子固体含有流体の上流側の供給源から吸気構造に対し流体流を受入れる関係を保って配置された下流側の流体処理システムまで微粒子固体含有流体流を流すことができる全体として垂直な流路を前記直列連結関係において構成する、互いに直列連結された関係で全体として垂直に配置された流路区分を含んで成る。第１の流路区分は、吸気構造の上部区分であり、流路の第１の上部部分を閉じ込める、多孔性金属又は多孔性セラミック又はその他の適当な構成材料で形成されうる内部気体透過壁を内含する。気体透過内壁は、流路の上部部分の境界となる内面を有する。気体透過壁は、この気体透過内壁と離隔された関係にある外壁により、密封された形でとり囲まれている。この外壁は、性質的に多孔ではないが、低圧気体流ポートが具備されている。このような配置により、それぞれの内部気体透過壁と外部密封壁の間には、１つの内部環状空間が形成される。一方、低圧気体流ポートは、例えば適当な弁及び制御手段によって内部環状空間内に予め定められた低速で低圧気体を流し、その後に内部環状空間から流路内へ低圧気体を流すように、かかる低圧気体源に対し流動的関係で連結され得る。第１の流路区分の外壁の中には、高圧ガスを内部環状空間内へ間欠的に流すためその供給源に対し流動的関係で連結された状態で高圧気体流ポートを任意に具備することもでき、かかる高圧気体流は、（第１の流路区分内で流路の境界を成す）その内面上に被着している可能性のあるあらゆる微粒子を内部気体透過壁から清掃するのに役立つ。同様に、高圧ガスは、適切な弁及び制御手段により望ましい圧力にて制御可能な形で流すことができる。第２の流路区分は、第１の流路区分から第２の流路区分内へ下向きに微粒子固体含有流体を流すため、第１の流路区分に直列連結されている。第２の流路には、水又はその他のプロセス液体といった液体供給源と連結されうる液体噴射ポートを中に有する外壁が内含されている。外壁は、例えば第１及び第２の流路区分のそれぞれの外壁上のはめ合い可能なフランジなどを用いて第１の流路区分と連結可能である。第２の流路は、セキを構成するよう第１及び第２の流路区分のそれぞれの内壁の間に空隙を提供するべく、第１の流路区分の内部気体透過壁に向かって延びこの壁より手前で停止する状態で、間に内部環状空間を構成するべく外壁に対し離隔した関係にある内部セキ壁を内含している。液体が、第２の流路区分の外壁とその内壁の間の内部環状空間内に流された時点で、導入された液体は、セキからあふれ、第２の流路区分の内壁の内面を下方へ流れる。内壁を下へのこのような液体の流れは、壁からあらゆる微粒子固体を洗い、内壁の内側壁表面上の固体の被着又は形成を抑制するのに役立つ。第１及び第２の流路区分の相互のフランジによる連結には、吸気構造のそれぞれの第１及び第２の流路区分の即座の分解に対応するべく、急速脱着クランプアセンブリが内含されていてよい。さらに、吸気構造の第１の流路区分は、最も上にある吸気構造急速脱着吸込区分に結合されていてよく、この区分も同様に、清掃及びメンテナンスを目的として即座に分解することができる。もう１つの形態においては、本発明は、排気から酸気体及び微微粒子を除去するための前置スクラバ、排気流内の酸化可能な成分の酸化処理のためのオキシダイザ及び排気流をその酸化処理の後にスクラブ処理するための後置されたウォータスクラバを含んで成る排気処理システムに関する。このような前置スクラブ処理/酸化/スクラブ処理システムにおいでは、オキシダイザにより放出されるような腐食性成分を含有する高温の微粒子が含む気体流を受けとった時の固体の被着、詰まり及び腐食に耐えることのできる気体／液体インターフェース構造を利用することができる。このような気体／液体インターフェース構造は、 − 内部に第１の気体流通路を構成し、気体流通路に気体流を導入するための上部入口及びこの部材内の気体流通路を通しての気体流の流れの後にそこから気体流を放出するための下部出口端部を有する、第１の垂直に延びる吸込流路部材； − 間に環状空間を構成するべく第１の流路部材に外接しそれと外向きに離隔した関係にあり、かつ第１の流路部材の下部出口端部より下でこの端部に対し下向きに延び、第１の流路部材の下部出口端部より上にある上部液体透過性部分及び第２の流路部材の気体流通路を構成する下部液体透過性部分を有する、第２の流路部材； − 第２の流路部材を密封プウする形でこれに外接し、それと共に密封された内部環状空間を構成する外壁部材；及び − 外壁部材と第２の流路部材の密封された内部環状空間の中に液体を導入するための、かかる外壁部材内の液体流吸込ポート：を含んで成り、かくして、外壁部材内の液体流吸込ポートを介して導入された液体は、閉じ込められた内部環状空間の中に入り、第１の流路部材を通って流された気体流がその下部出口端部で放出され第２の流路部材の流路を通って流れその後気体/液体インターフェース構造から放出されるようになっている状態で、微粒子固体の被着及び蓄積に耐えるべく第２の流路部材の液体透過性部分の内面上を下向きに流れる液体薄膜を提供するように、第２の流路部材の液体透過性部分の内面をその後下向きに流れるため、第２の流路部材の上部液体透過性部分の中をしみ出すように流れることになる。このような配置により、気体流は、第２の流路部材の内部壁表面により気体流の流路の境界が定められている、構造の下部部分の中で直接壁と接触しないようになっている。第２の流路部材の「しみ出しゼキ」の上部部分からの水の降下薄膜は、第２の流路部材の内部壁表面内に蓄積する微粒子固体に対する耐性をもつ。このような壁表面上の原動液体流は、気体/液体インターフェース構造からの放出のため下向きに、水薄膜と接触する気体流の中の微粒子を運ぶ。さらに、気体流の中の腐食性種は、インターフェース構造の下部部分内の降下する水薄膜によって保護されている壁と接触しないようになっている。第２の流路部材の上部液体透過性部分は、適切な多孔性構造のものであってよく、又、例えば約０.５ミクロンから約３０ミクロンの範囲内又はさらに大きな孔径をもつ可能性のある多孔性の焼結金属壁又は多孔性セラミック壁を含んでいてよい。本発明のさらにもう１つの形態は、前置スクラバユニット、オキシダイザ／急冷ユニット及びスクラバユニットを含んで成る、排気流の処理のためのシステムにおいて、前置スクラバユニットが、向流気体/液体接触塔を利用し、この中で水は塔の上部部分から下向きに流れ塔の下部部分で導入されたガスと接触し、排気は、一般に水平に心合せされ中にシールドガスを導入するべくシールドガスポートをもつ外側の外接する環状部材との関係において同心的に配置された第１の管状通路を含む吸気構造を介して導入されるシステムに関する。排気を収容する内部環状部材は、外部環状部材の中で終結する。外部管状部材は全体として予備スクラブ処理塔の下部部分の中に水平に延び、ここで、外部管状部材は、予備スクラブ処理塔の下部部分の中に配置された対角線方向に切り開らかれた開放端を有している。外部管状部材の対角線状に切断された端部は、その最長円周方向部分が外部管状部材の最短円周方向部分に直径方向に重なり合うように配置され、かくして気体流は、内部管状部材から外部管状部材の内部空間内に放出され、かつ外部管状部材の対角線方向に切り開かれれた端部から予備スクラブ処理塔の下部部分内に放出されるようになっている。外部管状部材の最短円周方向部分より上にその最大長円周方向部分を位置づけすることにより、外部管状部材は、予備スクラブ処理塔内の落下する液体がかかる管状部材の中に入るのを妨げるように配置されている。さらに、対角線方向に切断された端部のかかる配置は、前置スクラブ処理塔に導入されつつある気体流の流れが、落下する液体と中で接触するべく塔の中へのその進入点で発達した状態となることを可能にしている。以下でさらに詳述される通りのさまざまな他の吸気構造を、本発明の排気処理システム内で利用することが可能である。本発明の付加的な形態には、以下のような特長がさまざまな形で内含される可能性がある：１．詰まりの無い入口、前置スクラバ、オキシダイザ、湿/乾インターフェース、急冷、後置スクラバ及び原動手段を内含する、ユニット構造のキャビネット構成での完全統合型排気流処理システムの提供。２．フッ化水素吸収のための前処理システムの使用。このような前処理サブシステムは基本的に、酸化プロセス中に形成された細かい微粒子を除去しようとするのではなくむしろ微粒子前駆物質を除去することによって微粒子予備除去システムとして利用される。３．水の使用を著しく減少させシステムレベリングを不要にすることのできる、スリット/ホール噴射タイプの湿/乾インターフェース又は多孔性タイプのインターフェースの提供。４．管胴側で作動「流体」として放射状フラックスを使用する多管式熱交換器タイプのオキシダイザの提供。５．無凝結又は最小凝結設計及び強化されたサーモフォレシスガス及び微粒子スクラブ処理を生み出す、ウォータスクラバ内の過冷部の（以下でより詳細に記述されるその他の特長と合わせた）提供。さらに、排気処理システムを処理システム排出ラインにとって「見えない」ものにするために、流体放出用エジェクタを利用することもでき、或いは、必要とあらば（例えば半導体製造工具といったような）上流側の処理ユニット上の吸引を増大させるためにこのような放出手段を利用することもできる。６．スクラバ塔内の充てん要素としてのデミスタメッシュの使用。かかるデミスタメッシュは、小さい直径のスクラバカラム内の壁効果を実質的に低減させることができる。その結果としてのスクラバカラム内の物質移動及び熱移動は、標準的な市販の不規則充てん物を用いてのスクラバカラムの性能に匹敵するか又はそれ以上のものであり、デミスタメッシュを含むスクラバカラムは、比較的低い圧力降下を達成する。スクラバカラムの上部にある空隙部分も同様に、優れた微粒子収集装置としてのスクラバカラムを構成するように、可とう性をもたせて設計可能である。不規則充てん物はさほど可とう性をもたず、デミスタメッシュを含むスクラバカラムで達成可能な可とう性を容易に可能にするものではない。７．システムの作動全体にわたって可変的な熱フラックスを必要とする利用分野に合わせて排気流処理システムを製造するための、オキシダイザにおける熱移動増強用インサートの使用。８．排気処理システム内のオキシダイザユニットの急冷からオキシダイザユニットの入口までの飽和したＨ₂Ｏ/排出流の再循環は、ペルフルオロカーボン（ＰＦＣ）の酸化のための低コスト水素供給源を提供する。９．材料のスクラブ処理特性を変えるための、前置スクラバ内への化学物質の添加。一例としては、タングステンヘキサフルオリド流出物にＮＨ３を添加しタングステン酸アンモニウムを形成し、かくして、スクラブ処理除去のための高い可溶性をもつ材料を生み出すことが挙げられる。 10．酸化段階において反応物/生成物の固体の壁蓄積を排除するべくオキシダイザユニットのための蒸散管式反応器設計の利用。 11．急冷ユニットサイズを最小にするための、オキシダイザユニットからの高温流出物流を受入れる急冷ユニット内の複式流体噴霧ノズルの使用、又は急冷ユニット内の超音波ノズル又は圧電ノズルといったその他の小滴噴霧手段の代替的使用。 12．特定の半導体製造プロセス工具と、本発明の排気処理システムの統合。 13．例えば、以下でより詳しく記述されている詰まりのない吸気構造の展開による、詰まりを回避するための排気導入（吸込）手段の利用。 14．電気又は火炎（メタン、プロパン、水素、ブタン）ベースの酸化を利用することに対するオキシダイザユニット内の融通性、及び／又は、空気又はＯ２を使用する能力。 15．前置スクラブ処理及び後置スクラブ処理手段としての湿式スクラバ又は乾式スクラバの使用。 16．流動層熱オキシダイザユニットの使用。 17．排気流処理システム内での非ＰＦＣ破壊式ＰＦＣ循環/回収ユニットの使用。 18．気体流層流境界層の分断のためのインサートを用いた無閉塞オキシダイザユニットの提供。その他の態様、特長及び実施形態については、後述の開示から完全に明らかになることであろう。図面の簡単な説明図１〜３は、本発明の１実施形態に従った排気処理システムについての概略的流れ系統図の連続する区分を表わし、図３の破線表示では、本発明のもう１つの実施形態に従った排気処理システムのための流れ系統図の変形形態を示す。図４は、本発明のもう１つの実施形態に従った排気処理システムの概略的流れ系統図である。図５は、本発明のさらなる排気処理システム実施形態の概略的流れ系統図である。図６は、本発明のさらなる態様に従ったその修正を示す、図９の流れ系統図に例示されたものに類似するプロセスシステムの概略的流れ系統図である。図７，８及び９は、本発明のさらなる態様に従ったそれぞれの概略的流れ系統図である。図１０は、予備スクラブ処理塔に結びつけられた気体/液体インターフェース吸気構造を示す、本発明のもう１つの実施形態に従った排気処理システムの概略的流れ系統図である。図１１は、キャビネットエンクロージャ内に収納されている状態で概略的に示された本発明に従ったもう１つの排気処理システムの概略的表示である。図１２は、さまざまな任意の補助的特長を示す本発明のもう１つの実施形態に従った排気処理システムの概略的表示である。図１３は、本発明の実施例に従った詰まり耐性をもつ吸気構造の概略的表示である。図１４は、本発明の変形実施形態に従った詰まり耐性を持つ吸気構造の概略的表示である。図１５は、本発明のさらなる変形実施形態に従った詰まり耐性をもつ吸気構造の概略的表示である。図１６は、本発明のさらにもう１つの変形実施形態に従った詰まり抵抗性吸気構造の概略的表示である。図１７は、本発明の実施例に従った気体/液体インターフェース構造の概略的断面立面図である。図１８は、図１７に示されたインターフェース構造の密封された内部環状空間へと通過した液体のための接続送り装置を示す、図１７の上面平面図である。図１９は、（１）上流半導体製造システム;（２）マニフォルドアセンブリ；及び（３）下流スクラブ処理ユニットを含むシステムの概略的表示である。図２０は、本発明の実施例の概略的表示である。図２１は、図２０の実施例において実施できる通りの清掃サイクルの各段階のブロック図である。発明及びその好ましい実施形態の詳細な説明本発明の目的は、対応して多様である工業プロセスに由来するさまざまな排気流を処理するのに利用できる、改良型排気処理システムを提供することにある。１つの態様においては、本発明は、排気流内の危険な又はその他の意味合いで望ましくない種を低減させるため、酸化及びスクラブ処理プロセスが中で実施される、かかる流出物を生成する上流側の処理ユニットに由来する排気流の酸化処理のためのシステムを考慮している。特定の一態様においては、かかる排気流処理システムは、酸化及びスクラブ処理ユニット作業を含むことができ、ここでシステムは、例えば第１のケースでは上流プロセスに由来する可能性のある、又は例えば微微粒子反応生成物を結果としてもたらす排気流の酸化処理の結果として流出物処理システム内で現場にて生成される可能性のある気体流内の固体微微粒子の有害な効果を最小限におさえるように構築され配置されている。本発明はさらに、流体の流体力学的挙動の有害な効果を最小限におさえ、システム内の微微粒子固体の蓄積を最小限におさえこの蓄積に付随する詰まりを抑制するために気体/液体インターフェース構造が利用されている、排気処理システムに関する。もう１つの態様において、本発明は、市場にあるその他の統合型熱処理システムに対して競争力をもちかつそれより優れた統合型熱処理システムを考慮している。このような統合型ガス処理システムは、初期熱処理と排気ガス条件づけを組合わせ、エンドユーザに対し低い所有権コストを提供している。本発明の統合型排気流処理システムは、電気ベースの熱酸化処理ユニットを利用することができる。本書にある発明についての以下の記述は、まず第１に電気式熱処理ユニットを利用する排気流処理システムに向けられているものの、本発明の処理システムは、代替的には、例えば火炎ベースの処理、流動層処理、プラズマ処理などのその他の熱処理コンポーネントを内含するように構成できるということが認識されることであろう。融通性あるユニット作業ベースのモジュール式プラットフォームを提供することにより、本発明の排気処理システムは、例えば半導体製造工具の排気体流といったさまざまな排気流に合わせて容易に調整することができ、又不当な努力無くその他のユニット作業処理を内蔵するよう容易に修正することができる。本発明のさまざまな実施形態での排気流処理システムは、先行技術の処理システムに比べて、構成要素である排気処理ユニット及びそれに付随する流れ配管及び流路内の詰まりに対する耐性、効率の良い気体/液体インターフェース構造の結果としての増強された耐腐食性、メンテナンスが必要となるまでの商業運転時間の延長、スクラブ処理が利用される時点での低い水利用率、スクラブ処理可能な流出物種の９９.９９重量％以上の除去レベルというより優れたスクラブ処理効率、及びＨＣｌ，Ｃｌ２及びＨＦといったハロゲン種についてのＴＬＶレベル以下への低減、危険種のＴＬＶレベル以下への酸化性破壊、オキシダイザユニットの下流側のプロセスラインにおける酸の腐食性蓄積の排除、排気処理システム内の構成要素である処理ユニットの融通性ある配置、及び上流プロセス設備からの多数の排気供給源に対応する能力を含む多大な利点を提供する。本発明の排気処理システム内のオキシダイザを見てみると、このオキシダイザは、排気種の電熱酸化のため電源を利用することもできるし、或いは又水素及びメタンといった燃料を利用することもできる。システムが酸化処理におけるペルフルオロカーボンの破壊を行なうように配置される場合には、システムは、ペルフルオロカーボンの破壊を行なうためのＨ⁺ラジカル供給源として水蒸気を利用するべく配置することができる。かかる酸化処理のためのオキシダイザ媒質には、空気、酸素又はその他の酸素含有ガスが含まれていてよい。オキシダイザからの高温排気流の急冷において及びスクラブ処理目的のためには、ガス接触のために水を利用することができる、この場合この水は、排気処理システムの運転中の水消費量及び液滴サイズを最小限におさえる噴霧器のスプレーノズルその他の適切な分散装置によってかかる接触のために分散される。シリカ粒子を大量に含むオキシダイザからの流れの処理においては、シリカ粒子の除去う行なうため急冷媒質として苛性溶液を利用することが望ましい場合がある。先行技術の排気処理システムに比較して、本発明のシステムは、詰まり耐性及び耐腐食性、水使用量の削減及びコンパクトで効率のよい形態での処理システムの排気処理ユニットの配置における融通性といったことに関するさまざまな利点を達成する。プロセス流からの微粒子及び酸気体が加熱された酸化チャンバ内に到達する前でかつそれらが低温にある間にこれらを除去し、かくして下流機器の負荷必要条件を簡略化するため、本発明の排気処理システムの中で前処理ユニットを利用することも可能である。先行技術のシステムは詰まりを発生させ、特殊な詰まり除去機構の導入を必要とする一方、本発明のシステムは、第１のケースでシステムを詰まらないようにするのに、本来の流体力学に実質的に依存している。本発明の排気流処理システムは、適切な小さい設置面積をもつコンパクトなユニット構造のキャビネットの中に配置でき、かくしてプロセス施設の中でキャビネットが必要とする床の空間面積は最小限におさえられる。本発明の排気処理システムが、排気流の中の種を酸化するために酸化ユニットを利用する場合、オキシダイザ媒質は好ましくは、清潔な乾燥空気であるが、このような目的のためには、酸素又は酸素富化された空気ならびに適当な性質をもつその他の酸素含有ガスを利用することも可能である。本発明の排気処理システムは、単一の上流側の処理ユニットが生成する排気の処理のために利用することもできるし、或いは又代替的に、複数の排気供給源を存在させることもでき、この場合この供給源から、構成要素である排気流は、かかる気体流の危険な又はその他の意味合いで望ましくなく成分を低減しかかる成分が減損した最終的流出物を生み出すために、本発明の排気処理システムまで輸送される１つの全体的流れの形に統合される。一部のケースでは、実施されている排気発生プロセスが異なるため排気の組成が経時的に変動する場合、時変モードで作動することが望ましいことがある。例えば半導体製造においては、タングステン化学蒸着（ＣＶＤ）の場合、シラン排気体流は蒸着段階で発生する可能性があり、かかるＣＶＤ作業の後、ＣＶＤ反応器が清掃され、結果としてＮＦ３気体成分が生成される可能性がある。ＣＶＤ段階に由来するシランは、ＣＶＤ反応器の清掃段階からのＮＦ３と激しく反応することになるため、このような気体成分をユニット構造の処理のために混合することはできず、従って、排気処理システムの中での分離した処理が必要となる。本発明の一般的実践においては、排気処理システムは、流出物流の酸化処理の上流で予備的スクラブ処理段階を実施するため排気と水を接触させる前処理ユニットを利用することができる。従ってこのような前処理には、水でのスクラブ処理が関与していてよく、又代替的には、かかる前処理ユニットは、排気流との接触のために化学的中和混合物を利用でき、同様にして水又は化学的中和混合物を用いて酸化ユニットからの流出物をスクラブ処理することが可能である。従って、本発明の排気処理システムの広範な実践において考慮されているスクラブ処理ユニット作業は、処理中の特定の気体流に適したあらゆる適切なスクラブ処理媒質を利用することができる。代替的には、スクラブ処理を、湿式スクラブ処理ではなくむしろ乾式スクラブ処理作業として実施することもできる。このような目的のためには、さまざまなガス乾式スクラバ材料が市販のものとして容易に利用でき、本発明及び当該技術の熟練の広範な実施範囲内でかかる目的のために利用することができる。本発明の実施において利用されるスクラバユニットは、適当なあらゆるタイプのものであってよく、その運転中における固形物の詰まりの問題を最小限におさえるように構築することができる。かくして、本発明の排気処理システムは、形態及び構成要素である処理ユニットに関して広く変動するものであってよい。かかる構成処理ユニットは、熱オキシダイザ、触媒オキシダイザ、火炎オキシダイザ、蒸散オキシダイザ又は、排気流組成内の酸化可能な成分の酸化を実施するためのその他の処理ユニットといったさまざまなタイプのものでありうるオキシダイザを内含していてよい。排気処理システムは同様に、前述のとおり、中で上流側の設備が水性媒質又は化学的中和組成物と、又は代替的には乾式スクラバ組成物と接触させられ、その後の酸化及びスクラブ処理処理に先立って排気流内の成分の一部の初期低減を実施するような前処理ユニットを含んでいてもよい。酸化ユニットは、以下でより詳しく記述する通り、主スクラブ処理ユニットと統合できる急冷ゾーンに対し高温排気を放出するように構築し配置することができ、かくしてオキシダイザユニットからの排気の温度は、効率の良いその後の処理のため、著しく低下させられる。ユニットは、原動流体手段、すなわちポンプ、ファン、コンプレッサ；タービンなどの能動的手段又は、エダクタ、吸引器などといった受動的原動流体駆動機構を使用することができる。本発明の排気処理システムはさらに、スクラブ処理のための水性媒質の使用と組合わせた形で、そこから酸性成分を除去するため或いは又排気流処理システムからの水の放出を目的として望ましいｐＨレベルを達成するため、さまざまな中和プロセスを利用することができる。さらなる一変形形態としては、本発明の排気処理システムは、さらに、排気流の処理において、フリューム／プリューム制御のための湿式静電沈降分離装置を含んでいてよい。本発明の排気処理システムの設計及び構築のさまざまな態様について、以下で記述する。オキシダイザユニットには、酸化ユニットの温度制御された作動のため、適切な温度制御及びヒートトレースが具備されていてよい。排気前処理ユニットは、気体流が酸化ユニットの中に入る前に気体流からの酸気体及び微粒子をできるかぎり多くの除去するように配置することができ、かくして下流機器上の負荷必要条件は低減される。前述のとおり、かかる前処理ユニットは、湿式スクラブ処理ユニット及び代替的には乾式スクラブ処理ユニット、又は構成要素である湿式及び乾式スクラブ処理ユニットを含む組合せ型の湿式及び乾式スクラブ処理アセンブリを含んでいてよい。有用となる可能性のある湿式スクラブ処理システムとしては、湿式サイクロン、湿式充てん塔及び湿式スプレー塔が含まれる。かかる湿式塔は、並流又は向流のいずれかの流れの範囲で作動できる。排気処理システムの前処理ユニットは、例えば、塔の上部部分で噴霧されたスクラブ処理用水を導入するため窒素式噴霧ノズルを利用する湿式スプレー塔を含んでいてよい。化学的添加が望まれる場合、化学的混合は、適切な化学的貯蔵装置及び計測装置を伴うインライン液体ベースの静的混合器といった手段を使用することによって実施可能である。排気処理システムの水消費量を最小限におさえるため、及び排気成分が酸化ユニットの上流側の空気と反応するのを防ぐため、有利には、窒素式水噴霧が利用される。このような湿式処理ユニット作業からの液体は、以下でさらに詳しく記述する通り、スクラバ/急冷塔の一部として設計されうる共通の保持タンクまでドレンされる。さらなる変形形態として、酸気体吸収及び微粒子除去を実施するため湿式スプレー前処理段階をスプレー供給式のベンチュリノズルによる作業で置換えることができる。かくして、本発明は、酸化ユニットの上流側の湿式スクラブ処理ユニットの具備において、酸化ユニット内に存在する条件下で粒子形成因子である排気流成分をスクラブ処理することにより酸化ユニット内での微粒子形成を制御する能力を提供する。以上に記した酸化ユニットは、適切なあらゆる構成で構築することができる。例えば、酸化ユニットは、加熱器表面と加熱された管の間の大きな間隙をもつラップアラウンド式クラムシェル電気放射加熱器を利用する電熱式オキシダイザによって構成されていてよい。特定の１実施形態においては、酸化ユニットは、排気がスパージャを通して導入され、かつ排気が実際に酸化チャンバ内に入るまで反応を抑制するため排気が窒素被覆物によっておおわれている状態で、単一の垂直加熱式管を含んでいてよい。ひとたび酸化チャンバ内に入ると、空気又はその他のオキシダイザ媒質は、被覆された排気流と同軸的に流れるように噴射され得る。排気導入手段は望ましくは、酸化ユニットの運転中に粒子の蓄積をひきおこしうる、再循環ゾーン、渦、よどみゾーン及びその他の異常な流れ挙動を防止するため、等速層流を密にシミュレートするように構築される。このような酸化ユニット内の加熱された管は、望ましい運転温度範囲型を達成するべく、適切な熱制御手段によって選択的に制御されうる。酸化ユニット内の酸化可能な成分の点火及び破壊を達成するために最小限の温度条件が必要となる可能性はあるものの、過度に高い温度は同様に、管壁表面上の粒子の凝集及び蓄積をも促進する可能性がある。従って、加熱管酸化ユニットは、その中を流れている排気流の中の乱流への流体流の遷移を促進することにより、管の側壁上の粒子の凝集を防ぐため熱移動増強用管インサートを利用することができる。代替的には、酸化ユニットは、より高い気体流流速に対応するための伝熱管束を含むことができ、かくして、管の壁面上の粒子の凝集を抑制することができる。このような伝熱管束においては、酸化ユニットの単一の垂直加熱管形態に関連して上述したとおり、熱伝達増強インサートを利用することができる。さらにもう１つの変形形態として、酸化ユニットは、連続的にらせん状に進む気体流通路を具備することによって気体流内の粒子の乱流凝集を最大限にする一方で高い気体流流速及び長い滞留時間に対応するねじり管の多重列を含むことができる。このような配置は、気体流からのその後の固体除去が容易に実施されることになる程度までの粒度の増大を提供しうる。酸化ユニットの製造材料には、処理されつつある排気流の特定の化学的組成を正当に考慮した上で、適切なあらゆる製造材料が含まれる。適切な材料としては、ＨＦ及びＨＣｌに関する優れた強度特性を備えた高温酸化耐性合金が含まれると考えられる。酸化ユニットは、ペルフルオロカーボン成分の破壊を避けるため還元環境内で作動でき、このような還元条件に耐えるよう適切な材料を製造材料として利用することができる。この点に関して、本発明の排気処理システムは、排気流のペルフルオロカーボン成分をその再循環又はその他の処分のために回収するユニットを利用することができる。さらなる変形形態として、酸化ユニットは、排気流との混合のため高温まで空気又はその他のオキシダイザ媒質を加熱するための電気発火式加熱器と共に構築されていてもよい。このような配置は、一部のケースでは、オキシダイザ媒質との接触及び混合時点で、排気流内の酸化可能な成分の自己点火を提供することができ、これは、酸化ユニットの全体的酸化効率を上昇させ得る。さらにもう１つの変形形態としては、酸化ユニットを、蒸散式酸化ユニットとして構築することもできる。酸化ユニットは、高温にある酸化された排気流を生成する。従って、かかる高温流は、その後の処理及び排気処理システムからの最終的放出のため温度を低下させるべく、急冷又は冷却に付される。従って、排気処理システムは、酸化ユニットの下流に急冷ユニットを含んでいてよ、い。急冷ユニットは、例えば、酸化ユニットからの高温排気と水又はその他の急冷媒質とを接触させるための空気式水噴霧ノズルを伴う単一の垂直管を含んでいてよい。急冷区分内には、明確な高温／低温インターフェースを提供するための越流ゼキインターフェース構造を具備することができる。急冷ユニットは、露点腐食耐性合金といった適切な合金から作られていてよい。例としては、Ａ１６ＸＮ，Carpenter ２０，ＨａＣ−２２及びＨａＢ合金が含まれる。急冷ユニットは望ましくは、排気処理システムのその他の処理ユニット上の有害な熱効果を最小限におさえるように構築される。急冷ユニットは代替的には、熱伝達を行なうため管胴側の冷却水供給装置を伴う多管同時流下薄膜酸吸収カラムを含んでいてよい。酸化ユニット及び急冷ユニットは、異常な流れ挙動及び粒子蓄積を最小限におさえるユニット構造の線形気体流通路を提供するべく、単一の垂直な方向性で心合せすることができる。さらにもう１つの変形形態としては、急冷ユニットは、急冷及び粒子除去用のスプレー補給式ベンチェリ急冷装置で構成されていてよい。本発明の排気処理システムは、酸化ユニットの下流でスクラバを利用することができる。かかるスクラバは、充てん物カラムの上面にある液体噴射マニフォルド及びその上のデミスタパッド又はその他のミスト分離手段を伴う、単一の垂直な充てん塔を含んでいてよい。スクラバには、酸化ユニットから放出され任意にはスクラバの下流で急冷又は予備冷却に付された排気との関係において深冷されているか又は適切な温度にある液体補給水の補給を受けることができる。従ってスクラバは、スクラバ塔のとなりにあってよい深冷機を内蔵し、スクラブ処理用水又はその他の水性スクラブ処理用媒体を予備深冷することができる。残留ミスト（小型水滴）を最小限におさえるか又は排除するためにデミスタパッド又は類似の機械的手段を使用する代りに、本発明の実施においてスクラバユニットは、気体流からミスト成分を除去するべく、より大きな液滴水「ノックダウン」スプレーと気体流を接触させることによってこのようなミスト成分を流体力学的に最小限におさえるか又は実質的に排除するように構築することができる。スクラブ処理における深冷水の使用は、排気流を大気温以下に深冷させかくして、例えば半導体製造作業において排気流が半導体製造工具に由来するとき、卓越する周囲相対温度条件より低く水蒸気量を減少させるために望ましいことである。深冷水の使用は同様に、酸気体吸収及び充てんカラム内の微粒子吸収を増強させるために熱伝達効果を導入するのに望ましいものである。代替的なスクラバユニットは、吸収カラムの管胴側に深冷水が補給されている流下薄膜酸吸収カラムを含んで成る。かかるスクラバユニットの場合、前処理ユニット、急冷機及びスクラバユニットからの液体は、スクラバカラムの底面上の共通タンクの中へとドレンするよう導かれ得る。このようにして、排気処理システムからの使用済み液体流は統合され、かかるタンクをその重力補給作業用に配置することができる。代替的には、排気処理システム内の構成要素である処理ユニットからのスクラブ処理用液体及びその他の液体流は、遠心ポンプ、ぜん動ポンプ、空気駆動ポンプ、水補給式エダクタ又はその他の適当な液体原動式駆動機構手段といったような適切な圧送手段によって加圧されるか又はシステムから放出され得る。充てんカラムスクラバにおいては、デミスタを利用することができる。スクラバカラムは、排気処理システムのその他の構成要素の場合と同様、カラム内で処理中の流体流の中の腐食性種に対する適切な耐性をもつコーティングを有する、金属合金又はコーティング済みの構造鋼又はその他の金属といった任意の適切な材料で形成可能である。本発明の排気処理システムは、使用済み液体流の再循環のための備えを伴って又は伴わずに製造することができる。上述のとおり、スクラバユニットは、乾式スクラバを含んでいてよく、又一部のケースでは、スクラバユニット及び急冷ユニットを乾式スクラバカートリッジユニットで置換することも実施可能でありうる。スクラバは同様に、スクラバユニットへの湿式又は乾式化学薬品噴射の使用を可能にするため、任意の化学的前処理ユニットが具備されていてもよい。排気処理システムを通して排気流を引出すための原動力を提供するのにエダクタを利用することが可能である。このようなエダクタは、好ましくは、望ましい圧力レベルで排気処理システムに適切な吸込圧力を提供するための加減用弁及び制御機構を伴う、清潔で乾燥した空気又はその他の排出流体を利用する耐腐食性で閉塞に強い設計のものである。エダクタは、処理システム内で利用されるとき、ウォータスクラバからの水蒸気飽和した排出流に対し加熱された乾燥空気流を供給するために利用することもできる。かくして、加熱された乾燥空気の提供は、排気流の相対湿度を周囲飽和条件により低く下げるのに役立つ。エダクタは、空気、窒素又はその他の適切な排出媒質を利用することができる。エダクタは同様に、エダクタ放出ガス内の微粒子を捕獲するためこの放出物をろ過できるようにする適切なろ過モジュールを連結されていてよい。本発明の排気処理システムは、広範な上流側のプロセス設備からの排気流の処理のために利用可能である。例えば、排気処理システム内で処理される排気には、タングステンを上に被着させるためにウェーハを処理し、その後工具アセンブリのチャンバ壁、ペディスタル要素及び電極から過剰のタングステン被着物を除去するべく工具を清掃する、半導体製造工場のタングステンＣＶＤ工具からの流出物が含まれていて良い。半導体製造設備の運転中にさまざまな化学的性質及び流出物が生成され得ること、そして、本発明の排気処理システムの構築、配置及び運転は、上流側のプロセス設備の工具及び製造作業から放出されるガスの処理を実施するべく大幅に変動させることが可能である。図を参照して、第１〜３図は、本発明の一実施例による排気処理システム１０の概略フローシートの連続的セクションであり、第３図においては本発明の他の実施例による排気処理システムのフローシートの変形を破線で示す。それに続く開示では、弁、計器および補助的制御手段は、本発明の特徴についての議論を容易にするべく、いろいろと明瞭化のために省略されており、そのような目的のために図面には概略的に示された形で表現されている。弁、配管、計器および制御手段は、当技術の範囲内で、本発明の広い実施範囲において様々に構成され、具体化されても良いことは理解されよう。第１図のフローシートのセクションは、ライン１６からの冷水がそれを通って流れ、ライン１８に放出される熱交換通路１４を内部に包含する冷水熱交換器１２を備えている。ライン１６は、弁２６を内部に包含するドレーンライン２４に接続される。ライン１６、１８は、深冷器の効率が最大限まで発揮されるように適当に絶縁されても良い。ライン３０内の水は、深冷器１２を通って流れ、マニフォルドライン３２に送られる。そのマニフォルドライン３２からの水は、示されるようにシステムを通って送られるライン３４の一方の部分と、排気流予備処理コラム４０に導入するためのスプレーヘッド３８に送られるライン３６の他方の部分との、２つの部分に分割される。排気は、ライン６２に導入され、予備処理コラム４０に送られる。ライン６２は、その長さ方法に沿って設けられたヒートトレーシング６４で絶縁されても良く、絶縁されたヒートトレーシングされた特性の、支流ライン６６は、第２図に示されるフローシートの次のセクションに進んでも良い。ライン４２は処理システムの酸素ラインであり、ライン４４はクリーン乾燥空気ラインであり、ライン４６は窒素供給ラインであり、このライン４６は、示されるように予備処理コラム４０に送られるライン３６の水に窒素を導入するための窒素送出ライン４７に枝分かれしても良い。排気流は、ライン６２を通してコラム入口セクション５０に導入され、必要ならば、所望程度まで支流ライン４８からの追加窒素によって増大されても良い。排気流はコラム４０内で予備処理されて、第３図のフローシートの部分に送られるボトムをライン６０に生成する。コラムの上端部では、第２図の反応器９０に送られるオーバーヘッドがライン６８に生成される。オーバーヘッドの一部は、ライン５６を通ってコラムに再循環されても良く、さらなる還流が示されるようにライン５８によって提供されても良い。第２図では、システム１１６は、ライン４６からの窒素をその上端部で受ける酸化反応器９０を含み、ライン４２の酸素と、支流導管１０８を経てライン４４からの任意のクリーン乾燥空気と混合されて、酸化反応器９０の上端部に送られる酸素含有気体をライン１１０に提供する。ライン３４の水は、マニフォルド９４において、第３図に示されるシステムのセクション１２０に送られる支流ライン９６と、液体流がライン４４の支流ライン９７からのクリーン乾燥空気によって増大され、酸化反応器９０内のノズル１０２に送られる支流ライン９８とに分割される。クリーン乾燥空気の残りは、ライン１１２を通って処理システムの第３図の部分に流れる。酸化反応器は、その容器の中間部分に設けられた入口９２を介してライン１００がらの水を受け入れるようにも配置されている。この酸化反応器は、電力ライン８０の支流ライン８２、８４と結合された熱交換通路８６を内部に包含する反応器ヒーター８８備えており、その電力ライン８０によって反応器ヒーター８８が励起されてライン６８を通って酸化反応器内に導入された排気流を熱的酸化させるための電気抵抗加熱を反応器に提供する。酸化反応器は、示されるようにその上端部および下端部を相互接続する再循環ライン１０６を備えていても良い。酸化反応器からの排気は、ライン１０４を通って処理システムの第３図の部分に流される。第３図は、処理システムの部分１２０から構成され、ライン９６を通ってノズル１２６に導入される水でスクラブ処理するための内部容積１２８を画定するスクラバ１２４を含む。排気流はライン１０４を通ってスクラバに導入される。ライン１３２のスクラバボトムは、ライン６０の予備処理された排気流からの液体と合流し、システムから放出され、廃液処理またはそのような液体の他の最終用途処理部に送られる。スクラブ処理済みオーバーヘッドは、ライン１３０を通ってエダクター１４４に通され、そのエダクター１４４にはライン１１２からのクリーン乾燥空気も供給されて処理システム排気を生成し、概略的に示されるようにライン１４６を通って排出１５０に流される。この排気は、ライン６６からそれに加わるバイパスフュームで増大されても良く、そのようなライン６６は前述されたようにヒートトレーシングおよび絶縁されても良い。第３図では破線で修正例を示し、ここではポンプ１３６が入口ポンプライン１３８を介してライン１３２の液体ボトムを再循環させて液体ライン１３４に放出するように配備され、そのライン１３４から再循環液体がライン９６の洗浄水と合流して、内部で行われる再循環液体の処理による洗浄動作を促進する。次に処理済み液体は、弁１４２を内部に包含するライン１４０のシステムから放出される。第４図は、本発明の他の実施例による排気処理システムの概略フローシートである。このシステムでは、排気流は、ライン１６０、１６２、１６４、１６６に導入され、ライン１８４で合流して混合された排気流を形成し、次にライン１７８に接続された熱交換導管１８０を含む熱交換器１８２に通されて、合併流の熱交換を実行する。熱交換された排気流は、次にライン２１２を通って排気流予備処理コラム２１０に送られでも良い。代わりに、排気流の一部または全てがその処理システムからバイパス経由して、必要ならば、ライン１８６を通って排出２５６に流出されても良い。冷水熱交換器１７４は、ライン１６８で送られた冷水を受け入れ、リターンライン１７２でリターン冷水を放出する。ライン１７０の水は、深冷器を通過し、主窒素供給ライン２１６からの支流ライン２２２の窒素とライン２２４で合流し、予備処理コラム２１０内にノズル２２６を介して放出される。追加的窒素が、主窒素供給ライン２１６からライン２２０を通して予備処理コラム２１０に導入されても良い。クリーン乾燥空気は、ライン１７６を通ってシステムに導入され、その一部は、ライン２４０を通って反応器１９８の上端部に、ライン２１６の窒素と共に送られても良い。酸素はライン２１４を通って反応器に導入される。反応器はライン２３０を通して予備処理コラム２１０からのオーバーヘッドを受け入れる。電力ライン２１８は、示されるように反応器１９８の電気抵抗ヒーター２００にエネルギーを提供する。酸化反応器１９８をその上端部に包含する容器の急冷部分は、ライン２０２からの水を入口２０８で受け入れ、水とクリーン乾燥空気との混合体が容器の急冷部分内のノズル２０６にライン２０４を通して導入される。この容器の急冷部分はスクラバ１９４と連通している。このスクラバの上端部でライン１９２のノズル１９６からの水を受け入れる。スクラバからのオーバーヘッドガスは、ライン２５０を通ってライン２５０のエダクター２５２に送られる。このエダクターは、ライン２４０からのクリーン乾燥空気をライン２５９を通して受け入れる。ライン２５４の抽出された流れは、次にライン１８６からの任意のバイパスされた排気と合流して、ライン２５８を通って処理システムの排出２５６に流出される。排気流予備処理コラム２１０からのボトムとライン２３６のスクラバ１９４からのボトムとは、ライン２３８で合流し、廃液放出または他の処理部に送られても良い。第５図は、本発明の他の排気処理システムの概略フローシートである。この排気流は、ライン３１０の窒素と、ノズル３０６を介して導入されるライン３０２の水と共に、ライン３１２を通って予備処理コラム３０８に導入される。ノズル３０６への水流は、ライン３０４からの再循環された液体で増大されても良い。ライン３１４の予備処理コラムオーバーヘッドは、ライン３３０の酸素およびライン３２８の窒素をも受け入れる酸化反応器３３４に通される。酸化反応器３３４から構成される容器は、電気抵抗ヒーター３３２を備えでおり、急冷水は、ライン３２４を通して容器３３３の下側急冷部分に導入される。水または空気/ 水混合体は、、必要ならばライン３１８からの循環液体によって増大されて、ライン３２０のノズル３２２から容器３３３の急冷部分に噴射される。スクラバ３３６は、ライン３５６にスクラブ処理済み気体を放出し、洗浄水は、ライン３４４に流され、ポンプ３４２によってライン３４１にポンプ供給された容器３３８からの処理化学物質３４０と合流して、ライン３４６に流れ、ライン３４８の再循環液と合流して洗浄液を形成し、スクラバ３３６に導入された洗浄媒体をノズル３５０に提供する。スクラバからのボトムは、ライン３０４を通って廃水熱交換器３５２に流され、ライン３５４の冷水で熱交換される。第６図は、本発明の他の態様によるその修正例を示す第９図のフローシートで示されたものと同様の処理システムの概略フローシートである。第６図の実施例では、スクラバ４００は、ライン４０２のスクラブ処理済みのオーバーヘッドと、ライン４０４のボトムとを放出する。ボトム液の一部は、ライン４０８で再循環され、ライン４１０の冷水による熱交換器４１４で熱交換され、さらにライン４３０に導入され、主ライン４１０のライン４１２、４１８を貫流する冷水による熱交換器４１６内で熱交換された水から成る洗浄液を補充するものとして使用されても良い。その結果得られる洗浄液は、ポンプ４２６によりライン４２４からポンプ供給される容器４２０からライン４０６への液体処理化学物質４２２の追加によってさらに増大され、ライン４３０からの洗浄液と合流し、ライン４０６を通ってスクラバ４００内のノズルに送られる。第７図、８図、９図は、本発明のさらなる態様によるそれぞれの概略フローシートである。第７図では、フュームは、ライン４４０の水または水/窒素混合体と共に、ライン４４２を通って予備処理コラム４３８に導入され、予備処理コラム４３８内でそのフュームはライン４４６からの液体と接触して、ライン４４３を通って酸化反応器４５０に至るオーバーヘッドが生成される。この酸化反応器は、ライン４５４の酸素およびライン４５２の窒素を受け入れる。酸化反応器４５０を包含する容器の下側部分は、急冷セクション内のノズル４６０に導入するための、ライン４５８の空気とライン４５６の水と共に、ライン４４８の再循環急冷液を受け入れる急冷セクションである。スクラバ４６４は、先に説明されたように構成され、ライン４６８の予備処理コラムのボトムと、示されるようにライン４７０のそのボトムを混合されたスクラバボトムとから得られる洗浄液を再循環ライン４７２からライン４７８を通して受け入れる。ライン４７２の再循環液は、ライン４７６の冷水によって熱交換器４７２で熱交換されても良い。ライン４７８の洗浄液は、ライン４９４からの化学液のそれへの添加によって増大されても良い。そのような目的の化学液は、ライン４８２の混合容器４８０９に導入される水と、ライン４８４の容器４８０に導入された乾燥化学物質とから作製される。代わりに、または追加的に、容器４８６内の液状化学物質は、ライン４８８を経てポンプ４９０によりライン４９２にポンプ供給されても良く、さらにその液状化学物質はそのようなラインに導入される水で希釈されても良い。このようにして、第７図に示されたシステムは、本発明の処理システムの所定最終用途で必要、または望ましい場合に、洗浄液内へのウエットまたはドライ化学物質の添加を利用できるようにしてある。第８図では、排気流は、ライン４９６の水または水/窒素混合体と共に、ライン４９８を通して予備処理コラム５００に導入される。そのような液体の一部は、ライン５０４で進路が変えられ、ライン５０６からの再循環液と混合され、予備処理容器内のノズルに送られても良い。予備処理コラム５００では、排気流は液体と接触して、ライン５０２を通って酸化反応器５１０に至るオーバーヘッドを生成する。酸化反応器は、ライン５１６の酸素およびライン５１８の窒素を受け入れる。反応器を包含する容器４５０の下側部分は、ライン５１２、５１４の水と共に、ライン５０８の再循環急冷液を受け入れる急冷セクションである。スクラバ５２０は先に説明されたように構成され、ライン５４０の洗浄液を、ライン５３０の冷水によって熱交換器５３８で熱交換した後に、受け入れる。ライン５２４のスクラバボトムは、ライン５２６からの予備処理コラムボトムと混合され、ライン５２９の混合された液流は、廃液処理または他の処理に送られても良く、混合されたボトム液の一部分はライン５０６を通って再循環される。スクラブ処理された排気オーバーヘッドは、スクラバのライン５２２から放出される。第９図では、排気流は、ライン５４４の水または水/窒素混合体と共に、ライン５４６を通って予備処理コラム５４２に導入され、その中で排気流がライン５４８からの液体と接触して、ライン５５０を経て反応器５６０に至るオーバーヘッドを生成する。この反応器は、ライン５６２の酸素およびライン５６４の窒素を受け入れる。反応器を包含する容器５６０の下側部分は、急冷セクションの内部に配備されたノズルで導入するためのライン５５６の空気とライン５５４の水と共に、ライン５５８再循環急冷液を受け入れる急冷セクションである。スクラバ５５６は、先に説明されたように構成され、ライン５５２の予備処理コラムのボトムと、示されるようにライン５５８のそのボトムと混合されたスクラバボトムとから得られる洗浄液を再循環ライン５６０からライン５８２を通して受け入れる。ライン５６０の再循環液は、ライン５６８の冷水によって熱交換器５６４で熱交換されても良い。ライン５６８の冷水の一部分は、ライン５７０に引き込まれ、ライン５７２に導入される水との熱交換のために、熱交換器５８０に通される。ライン５６０からの再循環液と後に混合させるため、ライン５８２の化学物質/水と混合され、次にスクラバ５５６の上部端におけるノズルに導入されるので、化学添加物が、ポンプ５７８の作動時にライン５７６の貯蔵器５７４から加えられて、ライン５７２の洗浄水を増加させても良い。排気流のスクラブ処理は、そのようにして行われて、ライン５６２のスクラバから放出されるスクラブ済みオーバーへッドを生成する。第１０図は、予備処理ユニット、酸化ユニット、スクラバを利用する本発明の他の実施例による排気処理システムの概略図であり、ここでスクラバと酸化ユニットとは急冷チャンバを介して結合されている。上流処理ユニット６０２は、排気処理システムの入口６０６に入るライン６０４に排気流を放出する。入口６０６は、開口放出端部６１０を有する内部筒状部材６０８と連通して排気流が自在に流れるように接続されている。この筒状部材６０８は、外部筒状形部材６１８内の同心円上に配置されて、それらの間に内部管状容積６１２を提供する。外部筒状部材６１８は、筒状拡張部６２２によって画定された排気吸込ポート６２０を備えており、それに供給容器６２４からの気体が、内部および外部筒状部材間の内部管状容積６１２を貫流するようにライン６２６の筒状拡張部６２２に適当に流入されるので、内部筒状部材の開口放出端部６１０において放出された排気流が気体供給６２４から供給された気体で包まれる。気体供給６２４からの気体の流れを調整するためには、ライン６２６は、筒状拡張部６２２に気体を所定流速度で送るようにするための流量制御弁または他の流量制御手段を包含しても良い。入口構造の外部筒状部材６１８は、斜めにカットした放出端部６３０を有し、外部円筒状部材６１８の最大長の円周部分がそのような筒状部材の最小長円周部分より上の位置になるように配置される。このようにして、最大長円周部分は、「オーバーハング」構造として作用するので、気体供給６２４からの保護気体に包まれたまま、予備処理タワー６３４内の下降液６３２とのそのように包まれた排気流の早期接触もなく、排気流の流れの展開が可能となる。予備処理タワー６３４は、概略的に示されるように構成され、タワーからの洗浄液の導管６３８での収集および排出を提供する下側液貯蔵器６３６を備えている。このタワーは、上側部分６４０を備えており、その内部には、液供給６４６から供給され、導管６４４に結合されたライン６４８を通って、導管６４４からの予備洗浄液で供給されるスプレーノズル６４２を有する。ライン６４８は、タワー６３４への予備洗浄液の流れを調整するための適当な流量制御弁または他の手段を包含しても良い。故に、上流工程の設備６０２からの排気流は、入口構造を通ってタワー６３４の下側部分６５０内に導入され、スプレーノズル６４２から放出された予備洗浄液６３２と向流的に接触する。故に、排気流は予備スクラブ処理されて気体の微粒子および酸性成分を除去する。予備スクラブ処理された気体は、次にタワー６３４の上側端部を通過し、デミスターパッド６５２を通過してその気体から混入した水を除去する。水分を除去した排気混合体は、次に導管６５４を通って、入口ユニット６６に至り、そこで導管６５４は、ライン６７４を通って気体供給６７２からの包囲気体を受け入れるプレナム６７０と連通するより大きい直径を有する同心導管６６８に対して同心円上に配置される。この外部導管６６８は、順に、ライン６８０によってプレナム６７６に接続された酸素媒体供給６７８からの空気または他の酸素含有気体など、酸化媒体を受け入れるプレナム６７６によって外接される。ライン６７４およびライン６８０は、それぞれの気体の流れを調整するための、流量制御弁または他の流量制御手段を内部に包含しても良い。そのような入口構造６６６によって、導管６５４内に入る排気流は、供給６７２からの窒素または他の不活性気体で包まれ、供給６７８から得られるプレナム６７６からの酸化媒体と共に酸化ユニット６８２に同時に導入される。酸化ユニット６８２は、ヒーター６８８によって外接され、気体流路６８６を内部に画定する気体流通路６８８を備えた、マルチゾーン酸化反応チャンバであっても良い。このヒーター６８８は、電熱ユニット、または他の適当な加熱手段であっても良く、それによって気体流路６８６内の気体が気体流内の酸化性成分の酸化を引き起こすのに適当な高温度にまで加熱される。酸化された排気流は、次に、導管６８４内を通って後に詳述される滴下セキ気体/液体境界構造６９０を通過する。この滴下セキ気体/液体境界構造は、液体供給ライン６９４を通って液体供給６９２からの液体を受け入れる。この滴下セキ気体/液体境界構造は、急冷チャンバ６９６に近接した導管６８４の下側壁を保護するように作用するので、導管６８４のそのような内部壁表面は、酸化ユニット６８２内で処理される排気流内の高熱、腐食性反応生成物から隔絶される。同時に、滴下セキ気体/液体境界構造は、滴下セキ気体/液体境界構造６９０の下にある導管６８４のそのような内部壁表面上に水の落下カーテンを供給して、微粒子を飛沫同伴させ、導管６８４の内部壁表面上へのそれらの蓄積および融合を防ぐ。急冷チャンバ６９６では、急冷空気は、ライン７０４を通って水供給７０２から混合チャンバ７０６への急冷水の流れと同時に、ライン７００を通って急冷空気供給６９８から急冷チャンバに送られ、結果として得られた空気/水の流れはノズル７０８によって急冷チャンバ７０６に放出されて、排気流の急冷冷却を実行する。急冷された排気は、次に充填ベッド７１６およびデミスターパッド７１８を経由し，て、スクラバユニット７１０の下側部分７１２から上側部分７１４まで、スクラバユニット７１０に流入して、放出ライン７２４の排気処理システムからの最終放出のため、エダクター７２２の作動下でオーバーヘッド導管７２０にスクラバユニットから放出される処理済み排気流を生成する。このスクラバユニット７１０は、供給貯蔵器７３０からの洗浄媒体を供給するための送出導管７２８によって提供されるスプレーノズル７２６を内部に有する。この洗浄媒体は、任意にスクラビングユニットの洗浄効果を高めるための化学的補助剤を含む、水または他の水性媒体であっても良い。急冷室は、急冷液および洗浄液を内部に収集する下部サンプ部分７５０を有し、このサンプ部分７５０は放出導管７５２を介してタンク７５４に連通し、タンク７５４は、ライン６３８を介して前処理ユニットから底部液体をさらに受け入れる。排気流処理システムの処理ユニットからのこうした「底部液体」は、１種類または複数種類の処理用化学薬品を添加するためのポート７５８、７６０および７６２を有する処理タンク７５６に適切な酸性または塩基性試薬を添加するなどの方法でタンク７５４内で処理され、、その後、最終的に処理された液体が放出導管７６４を介してシステムから放出される。図１１は、本発明のもう１つの実施例による処理システムの概略的な表現であり、キャビネット８００内に配置された状態を概略的に示す。図１１の排気流処理システムは、半導体製造設備などのような上流側の処理ユニット８０６からの排気流を搬送する排気流供給ライン８０４から排気流を受け入れる排気流吸込導管８０２を特徴とする。この吸込導管８０２は、ライン８１８内のリザーバ８１６から気体を受け入れる吸込ポート８１４を有する円筒形の壁８１２を備える気体シュラウド構造８１０と連通する。壁８１２は、内部の気体透過壁８２０により内部の環状の内部空間８２２を画成し、リザーバ８１６から導入される気体は、この内部空間８２２から気体透過壁８２０を貫通して流れ、吸込導管８０２から導入される排気流の流れを囲う。次に、排気流の流れは、前処理ユニット８２６の第１脚部８２４を貫通して下方に流れる。前処理ユニットの第１脚部８２４には、供給導管８３０に連通するスプレーノズル８２８が装備され、供給導管８３０は適切な空気源および給水源（図示しない）に結合する。こうして、下方に流れる排気流は空気／水の噴霧に接触して、気体が前処理されてその酸性が低下し、ノズル８２８から導入される水性相の排気流から微粒子が引き込まれる。次に、結果として得られる液体は、前処理ユニットの下部Ｕ形部分８３２内に収集され、導管８３４によってサンプ８３６に流れる。サンプ８３６は、マニフォルド８４２によりスクラバユニット（以下でさらに詳しく説明する）のサンプ８４０に連通する。排気流は、前処理ユニットの第１脚部で空気／水の噴霧に接触した後、前処理ユニットの第２脚部８４４を貫通して上方に流れる。排気流は、この第２脚部８４４内で、ノズル８４６から下方に落下する水の噴霧に流れと逆方向に接触する。ノズル８４６は、導管８４８により、水またはその他の洗浄媒体（図示しない）など、適切な液体源に結合する。前処理された排気流は、前処理ユニット８２６から導管８５０内を通って、排気流管８５４を備える熱酸化ユニット８５２に達する。排気流は、排気流管８５４の内部空間８５６を貫通して流れるとともに、十分な温度まで加熱されて酸化し、気体流の有害な酸化可能成分が破壊される。次に、酸化した排気流は、熱酸化ユニット８５２から滴下セキの気体／液体インタフェース構造８６０（以下でさらに詳しく説明する）に放出される。次に、排気流は、水または空気／水の噴霧などのような急冷媒体を導入する供給ポート８６４を装備された急冷室を備える導管８６２内を流れてスクラバタワー８７０に達する。スクラバタワーは、蓄積した液体を排水管８７６からサンプ８４０に排出する底部リザーバ８７４を備える下部部分８７２を有し、液体は、サンプ８４０からマニフォルド８４２および関連する排水管を介して排出される。スクラバタワー８７０は、その上部に洗浄媒体噴霧ノズル８７８が装備され、供給導管８８０を介して水またはその他の水性もしくは洗浄性媒体を含む適切な洗浄媒体源（図示しない）に結合する。スクラバタワーは、ノズル８７８の上にデミスター、または洗浄済み気体の水分もしくは液体分を減少させるその他の液体分流手段（図示しない）を適宜備える。洗浄済み気体はスクラバタワーの上端８９０に上昇し、頭上導管８９２内に放出され、ライン８９４を通って排気流処理システムキャビネットの外側に出る。図１１に示す装置により、排気流は、熱酸化ユニットの上流で二成分洗浄処理を受け、熱酸化ユニットから放出された排気流は下流で洗浄される。熱酸化ユニットは任意の適切なタイプで良いが、排気流を２０００°Ｆ以上の温度など、高温で処理できなければならない。１つの単体キャビネット内に酸化ユニット並びに前処理（つまり前酸化処理）洗浄および後酸化洗浄ユニットを提供することにより、設置面積が小さく、排気流処理システムを半導体製造設備内に展開するか、または本発明のシステムにより排気流が処理されるその他の処理設備を配置するのに適するコンパクトな装置構成が形成される。上記のとおり、本発明の排気流処理システム内の洗浄ユニットは、その他の湿式もしくは乾式スクラバ、または微粒子および酸性成分並びにその他の司溶性成分もしくは排気流から洗浄して除去可能な成分を除去するその他の処理システムと置き換えることができる。図１２は、上流側の処理ユニット９０１からの排気流を処理する処理システムを概略的に示し、排気流は、ライン９０７でキャビネット９０３に入り、処理ユニット９０５で処理されて酸性成分および微粒子固体を除去される。処理ユニット９０５内で処理された気体流は、次にライン９１１内を流れて酸化処理ユニット９１３に達し、そこで排気流は、気体流の有害であるかまたは好ましくない酸化可能な成分を除去して排気流を清浄にするために酸化条件に暴露される。酸化した排気流は、次にライン９１５内を流れて洗浄ユニット９１７に達し、気体の洗浄処理が行われて、最終的な処理済み気体流が生成され、起動流体ドライバ９２１の起動力によってライン９１９で排気流処理システムから放出される。上記のとおり、起動流体ドライバは、ファン、ポンプ、タービンもしくは圧縮機などの能動装置またはエダクタもしくはアスピレータなどの受動装置で良い。図１２の排気流処理システムは、急冷ユニット９２３をさらに備え、排気流の酸化処理後に排気流の潜熱を抽出し、酸化処理排気流を適当な温度まで冷却すると、スクラバユニット９１７内で効果的に洗浄することができる。酸性成分／微粒子除去ユニット９０５は、弗化水素などの成分の除去を目的とした弗化水素吸収用前処理サブシステムを適宜備えることができる。排気流処理システム内の個々の処理ユニットの吸気口は、スリット／孔式噴射タイプまたは多孔性タイプのインタフェースなど、湿式／乾式インタフェース構造を適宜使用すると、排気流処理システムの様々な処理ステップにおける水の使用量を最小限にすることができる。酸化処理ユニット９１３は、シェルおよび管の熱交換器を酸化装置として備えるが、任意の適切な手段または方法を使用して良い。たとえば、熱交換器のシェル側に放射フラックスを使用すると、排気流を適当な温度まで加熱して、排気流中の酸化可能な成分を酸化させることができる。後酸化洗浄ユニット９１７は、気体を冷却する熱交換手段を備えると、凝結を制限して洗浄処理の効率を高めることができる。排気流処理システム内の洗浄作業は、デミスターメッシュを使用して洗浄済み排気流中の水分を分流するスクラバコラム内で行われる。このコラムの頭上内部空間は、微粒子固体を排気流から確実に除去するための空隙率として形成される。本発明の排気流処理システムのその他の変形例として、システムは、クロロフルオロ１カーボン、ペルフルオロカーボンなどを回収するためのハロカーボン回収ユニット９２７を使用することができる。こうしたクロロ／フルオロカーボン回収ユニット（ＣＲＵ）は、１９９５年２月２７日に提出されたＧｌｅｎｎＭ．Ｔｏｍ等の係属米国特許出願第０８／３９５，１６２号「ＭＥＴＨＯＤＡＮＤＡＰＰＡＲＡＴＵＳＦＯＲＣＯＮＣＥＮＴＲＡＴＩＯＮＡＮＤＲＥＣＯＶＥＲＹＯＦＨＡＬＯＣＡＲＢＯＮＳＦＲＯＭＥＦＦＬＵＥＮＴＧＡＳＳＴＲＥＡＭＳ」および１９９５年６月７日に提出されたＧｌｅｎｎＭ．Ｔｏｍ等の米国特許出願第０８／４７４，５１７号「ＰＲＯＣＥＳＳＦＯＲＲＥＭＯＶＩＮＧＡＮＤＲＥＣＯＶＥＲＩＮＧＨＡＬＯＣＡＲＢＯＮＳＦＲＯＭＥＦＦＬＵ４ＥＮＴＰＲＯＣＥＳＳＳＴＲＥＡＭＳ」に開示されており、これらの出願の開示事項は、引用することにより全体的に本明細書に包含する。ハロカーボン回収ユニット９２７は、処理ユニット９０５内における気体流の洗浄またはその他の前酸化処理の後に、ライン９１１からライン９２５内に排気流を受け入れる。回収されたハロカーボンは、次に、ＣＲＵユニット９２７からライン９２９に放出され、再循環されるかまたは必要に応じてその他の方法で使用される。その他の代替例として、ハロカーボンは、排気流の酸化処理の下流で回収される。酸化処理ユニット９１３は、上記のとおり熱交換器を備え、こうした熱交換器は、熱交換器の熱伝達経路内に熱の伝達を強化するインサートを使用している。この点に付いては、ＭａｒｋＲ．Ｈｏｌｓｔ等の名義で１９９６年２月１５日に提出された米国特許出願第０８／６０２，１３４号「ＰＯＩＮＴ−ＯＦ−ＵＳＥＣＡＴＡＬＹＴＩＣＯＸＩＤＡＴＩＯＮＡＰＰＡＲＡＴＵＳＡＮＤＭＥＴＨＯＤＯＦＴＲＥＡＴＭＥＮＴＯＦＶＯＣ−ＣＯＮＴＡＩＮＩＮＧＧＡＳＳＴＲＥＡＭＳ」に詳しく記載されており、この出願の開示事項は、引用することにより全体的に本明細書に包含する。図１２に概略的に示す排気流処理システムのさらに他の変形例として、急冷ユニット９２３からの飽和水／排出流は、ライン９３１で酸化ユニット９１３の入口に再循環され、ペルフルオロカーボンの破壊が必要な場合は回収せずに、ペルフルオロカーボンを酸化させるための低コストの水素源になる。前酸化処理ユニット９０５は、洗浄される材料の特性を変えるために化学薬品が導入される予備スクラバを備え、たとえば、アンモニアをタングステンヘキサフルオリド排気流に添加すると、アンモニウムタングステートを生じる。アンモニウムタングステートは良好な可溶性を有し、洗浄して除去することができる。酸化ユニット９１３は、こうしたステップで壁に蓄積する反応体／生成物の固体を除去するために、搬送管反応器を備える。急冷ユニット９２３は、水および空気またはその他の気体など、複数の流体投入部を用いる噴霧ノズルを使用して、急冷ユニットのサイズを縮小する。こうした急冷ユニットは、あるいは超音波ノズル、噴霧器、または急冷作業を行う石油電気ノズルなどの噴霧手段を備えても良い。酸化ユニット９１３は電気熱酸化を利用するか、または火炎酸化並びにその他の適切な酸化機器および方法により酸化に作用する。火炎酸化ユニットは、任意の適切な燃料、たとえばメタン、プロパン、水素、ブタンなどを利用し、酸化ユニットに使用する酸化媒体は、空気、酸素、酸素増量空気、またはその他の酸素含有媒体を一般に含む。酸化ユニットは、こうした処理ステップを実施する広い範囲内で、流動床熱酸化ユニットを備えることもできる。上記のとおり、前酸化処理ユニット９０５および後酸化処理ユニット９１７は、任意の適切なタイプのスクラバ、たとえば湿式および乾式スクラバ、並びに任意の適切な前酸化および後酸化処理手段を備えることができる。したがって、本発明の排気流処理システムは、各種の成分処理部品構成として具体化するのに適し、こうした処理ユニットは、半導体製造プラントなどの処理設備に使用する単体のキャビネットまたはハウジングとしてコンパクトに具体化できることが分かるであろう。一般に、本発明の処理システムは、気体／液体および気体／気体のインタフェース構造を使用して、気体または液体の外接層または外装により排気流を「囲う」ことを意図している。排気流をこうして外装することは、たとえば、気体流をこのように外装しない場合に発生する可能性がある固体の蓄積および付着、並びに特に外装用液膜の場合の粒子の連行、および気体流からの有害成分の可溶化に関連して気体流通路の収容壁を保護する上で好ましい。したがって、具体的なタイプのインタフェース構造は、以降、こうした方法に関する特定の構造上の特徴および実施例を指す。図１３は、本発明の具休的な実施例による耐閉塞性吸気構造を概略的に示す。この吸気構造は、図１３では、こうした吸気構造に導入される気体流の源に吸気構造を結合するプロセス配管に接続できるものとして示されている。こうした上流の配管は、上流の気体流源、たとえば半導体製造工具から図示の吸気構造上の吸気フランジまで、従来の方法で適切にヒートトレースすることができる。こうしたヒートトレースの目的は、配管内の気体流に十分なエネルギーを加えて、こうした気体流の成分が吸気構造内で凝結または昇華するのを防ぐことである。図１３の吸気構造１０６０は、吸気フランジ１０１６を含む吸気部１００７を備える。吸気フランジは、上端がこのフランジで終端する上側の環状部分１００８のフランジ１０１８に嵌合できる。吸気部は、上流の微粒子固体含有流および／または微粒子固体形成流生成設備１０９０、たとえば半導体製造工具に結合される。環状部分１００８は、適度に多孔性で通気性である内側の多孔性壁１００６と外側のソリッドウォール１００９とを備え、これらの壁の間に環状内部空間１０２０が画成される。したがって、内側の多孔性壁１００６は、上側の環状部分１００８で流路１０６６に界接する。外側のソリッドウォール１００９の上端および下端は、内側の多孔性壁１００６に関連して端壁１０４０および１０４２により囲まれて、環状の内部空間を囲む。外側のソリッドウォール１００９は、気体供給ライン１０２４が結合される吸気ポート１０２２が装備される。この気体供給ライン１０２４は、その外側端部で気体源１００４に接続される。逆止弁１０１４は、気体供給ライン１０２４内に配置され、環状の内部空間１０２０内への気体の流れを受け入れる。供給ライン１０２４は、その他の流量制御手段（図示しない）がさらに装備され、システムが作動しているときに、気体を供給源４から環状の内部空間１０２０内に所望の量だけ、所望の流量で選択的に供給することができる。気体供給ライン１０２４を加熱する手段は、多孔性壁１００６を透過する気体の温度を上昇させるために装備される。気体供給ライン１０２４を加熱する手段は、電気抵抗ヒーター、ストリームトレースライン、加熱マントル、または当業者が周知しており、熱エネルギーを気体供給ライン１０２４の内部通路に伝達して気体の温度を上昇させるのに有用なその他の加熱システムを備える。具体的に示すため、図１３の実施例に使用する加熱手段は、加熱コイル１０２３により構成される。サーマルジャケットは、気体線１０５２の内部温度を上昇させる加熱手段とも連動する。上側の環状部分１００８には、任意の高圧気体噴射ポート１０５０がさらに装備され、このポート１０５０は、高圧気体供給ライン１０５２に結合し、ひいては高圧気体供給源１００５に結合する。この気体供給ラインは、内部に流量制御弁１０５１を備えており、予め決められた順序で流量制御弁１０５１を作動させる流量制御手段（図示しない）に結合する。あるいは、高圧気体供給ライン１０５２は、高圧気体噴射ポート１０５０に対して任意の適切な角度、たとえば傾斜角で配置しても良い。任意の高圧気体噴射ポート１０５０および高圧気体供給ライン１０５２は、ライン１０２４で環状の内部空間１０２０に導入される低圧気体が一定して流動する（つまり「流出する」）にも関わらず、気体透過壁の内壁面に固体が蓄積する場合に有利である。高圧気体供給ライン１０５２を加熱する手段は、気体の温度を上昇させるために備えられる。気体供給ライン１０５２を加熱する手段は、電気抵抗ヒーター、ストリームトレースライン、加熱マントル、または当業者が周知しており、気体供給ライン１０５２の内部通路に熱エネルギーを伝達して気体の温度を１１昇させるのに有用なその他の加熱システムを備える。具体的に示すため、図１３の実施例に使用する加熱手段は、加熱コイル１０５４により構成する。サーマルジャケットは、気体供給ライン１０５２の内部温度を上昇させる加熱手段とも連動する。上側の環状部分１００８は、その下端が、下側の環状部分１０３０のフランジ１０２８と嵌合するフランジ１０２６で終端する。フランジ１０２６および１０２８は、図１３のＯリング１０１０などのような密閉手段を形成して密閉される。下側の環状部分１０３０は、その上端がフランジ１０２８で終端する外壁１０１２を備える。この外壁は、その下端が端壁１０４４によりセキ壁１０１１に結合して、外壁１０１２と内側のセキ壁１０１１との間に環状の内部空間を形成する。内側のセキ壁１０１１は、図示のとおり垂直に上方に延在し、その上端１０４６が、上側の環状部分１００８の内側の気体透過壁１００６の下端と離間配置されて終端し、それらの間に下側の環状部分１０３０の越流ゼキを画定する隙間１０３６を形成する。下側の環状部分１０３０の外壁１０１２には吸水ポート１０４８が装備され、給水源１００３に結合された給水ライン１０８０が給水ポート１０４８に結合されて、給水ライン１０８０の内部には液体流量制御弁１０８１が備わり、この流量制御弁１０８１は、下側の環状部分１０３０に供給される液体を所望の量に保つその他の流量制御手段に作動的に結合する。吸水ポート１０４８は、径方向の向きかまたは接線方向の向きで下側の環状部分１０３０に固定される。好適な実施例では、下側の環状部分１０３０に固定される吸水ポート１０４８は接線方向の向きに配置され、下側の環状部分に導入される水の運動量ジェットは、下側の環状部分内に流出水の接線方向の渦を形成することにより、固定壁方向に向かわずに噴流自体が散逸する。接線方向に水を導入すると、水の液膜の一番上のレベルに対する運動量の摂動として、下側の環状部分から流出する水の液膜の平坦性が最適化される。延長気体流送出管１０７０を使用し、吸込構造の特定の位置において微粒子固体含有および／または微粒子固体形成気体流を導入してもよい。送出管１０７０は、上流側のソース１０９０に対して気体流受入関係で連結されており、内部の気体流路１０６６内の適当な位置に気体流を送って排出し、吸込構造内での固体の形成を最低限に抑えている。送出管１０７０は、送出管１０７０を収容するように改良された入口１００７を有する外側のソリッドウォール１００９によって囲まれている。送出管１０７０を加熱し、管１０７０を流れる気体流の凝結に対処してもよい。図１３に示す吸込構造では、管１０７０は内側の多孔性壁１００６によって囲まれ、多孔性壁１００６と同軸である。送出管１０７０の外面と多孔性壁１００６の内面との間に環状の空間が規定されている。気体送出管１０７０は、ガス流源１０９０に対して気体流受入関係で連結された第１の端部１０７２と、気体流路１０６６内の気体流を排出する第２の端部１０７４とを含む。第２の端部１０７４は、上側の環状部分１００８内に位置する気体流路１０６６内で気体流を排出してもよいし、あるいは下側の環状部分１０３０内に位置する気体流路１０６６内で気体流を排出してもよい。図示の実施例では、管１０７０はセキ壁上端１０４６の約１／２インチ下の点で気体流を排出するが、気体流、プロセス用途および条件に応じて、管１０７０をセキ壁上端１０４６がらさらに下まで延長してもよいし、あるいはセキ壁上端１０４６より上で終端させてもよい。送出管１０７０は、例えば、内径約１／２〜約４インチのステンレス鋼で構成することができる。様々な材料、様々な大きさ、様々な断面、様々な形状の管１０７０を構成可能であることは、当業者であれば理解できよう。多孔性壁１００６および越流ゼキ１０１１を考慮して送出管１０７０を配置することで形成される共通の環状フローパターンが、プロセスガスが送出管を出て領域６６に入る際の、プロセスガスとセキ１０１１からの水蒸気との混合を最小限に抑えるよう作用する。したがって、送出管１０７０から流出するプロセスガスとセキ１０１１からの水蒸気との間の固体形成反応は、セキ１０１１の作用によって一切の固体を下流側の除去装置に流し出すことができるように、十分に下流の点まで非常に効果的に最小限に抑えられる。本発明の範囲内に包含される特定の入口設計の閉塞防止効率を判断するために、適した評価技術は、窒素キャリアガスの平均流量でトリクロロシランの流量１〜５ｓｌｐｍとなった数分後に、固体の堆積量および特定の吸込構造の位置を監視し、設計の適切および吸込構造のパラメータ変更による影響を判断することである。固体成長の性質を監視するには監視時間を長くする方が望ましい場合もある。また、気体流、プロセス用途および条件によっては、気体送出管ならびに気体送出管の外側と多孔性壁の内側との間の環状部分における気体の層状気体軸流を維持し、排出流を適切に保護して入口の壁を収容できるようにすると有利である場合もある。また、送出管１０７０を加熱して凝結気体を減らしてもよい。固体は、管を流動する気体の凝結によって管１０７０の壁面に形成される。管１０７０を加熱するための適した手段としては、電気抵抗ヒーター、ストリームトレースライン、加熱マントルなどが挙げられる。このような加熱システムは、送出管１０７０の内部の通路に熱エネルギを伝達して凝結に対処するように構成および配置されている。図示の目的で、加熱手段は、加熱コイル１０７６を含むものとして示されている。サーマルジャケットと加熱手段とを協働させ、送出管１０７０の内部温度を上昇させてもよい。サーマルジャケットを用いて側壁温度を上昇させ、凝結可能なプロセスガスが管内で凝結するのを防止してもよい。その下端において、下側の環状部分１０３０をウォータースクラバ１０１３のハウジングに適宜結合してもよい。ウォータースクラバは、プロセス流の微粒子および可溶化成分をスクラブ除去するように従来の方法で構成可能である。あるいは、入口端から放出端まで、吸込構造を通る気体流の処理（ｔｒｅａｔｍｅｎｔ／ｐｒｏｃｅｓｓｉｎｇ）用の他の任意の処理装置に吸込構造１０６０を連結してもよい。このように、吸込構造１０６０によって気体流路１０６６が得られる。この流路を介して、流入気体は図１３において矢印１００１で示す方向に流動し、図１３において矢印１００２で示す方向に放出端まで達することができる。動作時、上述したようにヒートトレースを行って吸込構造内での気体流成分の有害な昇華または凝結を抑制しておいてもよい適当な接続管によって、半導体製造工具（図示せず）などの上流側のソースから微粒子固体含有気体を導入する。流れは矢印「１」で示す流動方向で吸込構造１０６０に入り、入口部分１００７（または送出管１０７０を設置してある場合にはこの管）を通過し、上側の環状部分１００８に流入する。窒素または他のガスなどの気体は、ソース４からポート１０２２に接続された気体供給ライン１０２４を介して、環状の内部空間１０２０に流入する。環状の内部空間１０２０から、導入された気体は気体透過壁１００６を介して内部の気体流路１０６６に流動する。このため、気体供給ライン１０２４からの気体が環状の内部空間１０２０に流入して気体透過壁１００６を通過すると、微粒子含有気体または微粒子形成気体は内部の気体流路１０６６を介して流動し、ウォータースクラバ１０１３に入る。このようにして、ソース１００４からの気体で環状の内部空間１０２０を加圧する。このような圧力によって、多孔性壁を介して内部の気体流路１０６６へと流入する安定した気体流を保証できる。このような低流量で安定した、気体透過壁を通る気体流によって、内部の気体流路１０６６を流れる気体流中の微粒子は吸込構造の内壁面から離れた状態に維持される。さらに、内部の通路１０６６において気体流と一緒に存在する気体も同様に吸込構造の内壁面から離れた状態に維持される。必要があれば、気体供給ライン１０２４をヒートトレースすることが可能である。このようなヒートトレースは、吸込構造を流動する気体流が、凝結または昇華して吸込構造の壁面に堆積することのある種を含む場合に望ましいことがある。同時に、高圧気体供給装置１００５からの高圧気体を、高圧気体噴射ポート１０５０経由で高圧気体供給ライン１０５２に周期的に流し、環状の内部空間１０２０に供給してもよい。この目的のため、ライン１０５２の内部に流量制御弁（図示せず）を設け、高圧気体の周期的な導入を調節してもよい。このようにして、気体透過壁１００６の内面に堆積した粒子をすべて剥離するために、特定の間隔または予め定められた間隔で高圧気体を環状の内部空間に噴射する。過度に実験を行うことなく、当業者の知識の範囲内で高圧気体の周期的な導入の継続時間および時間的な順序を容易に決定し、気体透過壁表面での固体の堆積を防止する所望の壁面洗浄作用を達成することができる。必要があれば、半導体製造工具用のウォータースクラバと関連して吸込構造を用いる場合には、工具のバッチサイクルの間はこのような高圧噴射を中断し、工具制御系に作用的にリンクした制御手段を適切に調節することによって、工具排出ポートにおける圧力の変動をなくすようにしてもよい。この目的のために、工具アセンブリの制御手段にソレノイド弁などの制御弁を適宜連結してもよい。図示の吸込構造の実施例では、フランジ１０２６および１０２８を互いに締付けて、上側の環状部分１００８の下側の環状部分１０３０からの急速脱着を可能にしてもよい。このような目的のために、急速クランプを用いてもよい。フランジ１０２６と１０２８との間のシーリングガスケット１０１０については、耐腐食性高温エラストマー材料などの適当な材料で形成すればよい。このエラストマーガスケットはさらに、吸込構造の上側の環状部分から下側の環状部分への伝熱を最小限に抑えるための熱障壁として機能する。この特徴は、本発明のヒートトレースを施した実施例において特に重要である。入口構造の上側の環状部分の気体透過壁１００６は、例えば、セラミック、金属および金属合金ならびにプラスチックなどの、適当な任意の気体透過性材料で形成可能である。具体的な例として、ハステロイ２７６材料で壁を形成することができる。上側の環状部分の外壁１００９も同様に、適当な任意の材料で形成可能であり、例えば薄壁ステンレス鋼パイプなどであってもよい。吸込構造の下側の環状部分１０３０は、ポリ塩化ビニルプラスチックなどの任意の適当な材料で形成可能である。外壁１０１２と内側のセキ壁１０１１との間の環状の内部空間１０３２に、ライン１０５０を介して給水源１００３から水を噴射する。好ましくは、この水を接線方向に噴射し、環状の内部空間１０３２において水の角運動量が得られるようにし、水がセキ壁１０１１の上端１０４６上を螺旋状に移動して、吸込構造の内部の流路１０６６においてセキ壁の内面を下方向に流れるようにする。このようなセキ壁１０１１の内面を下方向に流れる水を用いて、一切の微粒子を流路１０６６の下に洗い流し、吸込構造の下のウォータースクラバ１０１４に送る。上述したように、下側の環状部分１０３０は任意の構造であり、例えば下流側の処理ユニットが燃焼式スクラバである場合には、この特徴は省略可能である。吸込構造を介しての圧力降下は、上流側の処理ユニットからの排出パイプおよび吸込構造下流のスクラバユニットの圧力を測定することによって、容易に判断可能である。圧力降下は、Ｐｈｏｔｏｈｅｌｉｃゲージまたは他の適当な圧力検知ゲージ用いて検知することができ、このような圧力降下の目盛を適当な監視制御機器に送ってスクラバ入口の閉塞を監視することができる。本発明による吸込構造を使用することによって、ウォータースクラバと半導体製造作業からの工具排出流との間に、通常のプロセス動作時は繰り返し閉塞の起こらないインタフェースを提供することができる。本発明の吸込構造によって、２本の補助プロセス流すなわち固定の低流量パージ流および高圧パルス流を有するインタフェースが得られる。低流量パージ流は、例えば窒素などの不活性ガスの、上側の環状部分の内面から離れて中央の流路１０６６の中心線に向かう正味フラックスを生成する。高圧気体フロー流は、固体閉塞を防ぐ自己清浄機能を提供する。高圧気体フローを用いて、中央の流路１０６６の吸込構造上側の環状部分内面への粒子の堆積をなくす。次に、粒子混入気体および前に付着した粒子を、吸込構造の下側の環状部分内の内壁面において溢流に送り、流体力を利用して吸込構造下流のウォータースクラバに送る。このようにして、上側の環状部分の気体透過壁と吸込構造の下側の環状部分のセキ壁との間の直接的なインタフェースが、動作時に微粒子固体の堆積を効率よく最小限に抑える効率の良い入口形状を提供している。本発明の吸込構造は多数の利点を有する。半導体製造設備ならびに、半導体処理設備における工具からの排ガス排気物を処理するためのウォータースクラバ処理系への応用時、工具排出ポートから、ウォータースクラバ吸込構造のウォーターインタフェースまでの全工程にわたって、半導体工具からの排気を連続的に加熱することが可能である。入口ラインでのヒートトレースを用いて、強制対流によって流動している気体流にエネルギを伝達する配管系にエネルギを伝達することによって、ラインを加熱することができる。気体を上側の環状部分まで送る気体流ラインをヒートトレースすること、ならびに周期的な高圧気体を吸込構造の上側の環状部分の内部の環状空間に供給している高圧気体フローラインをヒートトレースすることによって、吸込構造の下側の環状部分の越流ゼキ壁までの全工程にわたってプロセスガスを加熱してもよい。この加熱気体の流れによって、プロセスガスは、上流側の処理ユニットから吸込構造まで流動する気体流における微粒子形成気体の蒸気圧ごとに定められる温度で、吸込構造の中央の流路を流れ続けるが、このようにせずにおくとプロセスガスが凝結または昇華して吸込構造の壁面に付着してしまう。本発明の吸込構造のもう１つの利点は、このような構造が容易に分解可能であることである。吸込構造が動作時に閉塞してしまった場合には、吸込構造のフランジを互いに保持しているクランプまたは他の固定要素を単に取り外すだけで、この構造を容易に外すことができる。このため、それぞれのフランジを適所に保持しているクランプを取り外し、上側の環状部分へのそれぞれの気体供給ラインを遮断することによって、上側の環状部分を交換することができる。本発明の吸込構造のさらに別の利点は、この構造に合った自己洗浄式であるという点である。上流側の処理ユニットから吸込構造への気体流に捕捉された粒子または吸込構造内での化学反応によって形成された粒子は、吸込構造の上側の環状部分における内部の環状空間に対して周期的に行われる高圧気体噴射によって、吸込構造の気体透過壁から容易に洗浄可能である。次に、このようにして吸込構造の上側の環状部分の内壁面から取り除かれる粒子を、セキ壁の越流部分に送る。ここで、このような微粒子固体は洗い流されて下流側のスクラバに送られる。高圧気体圧力パルスの圧力、継続時間および周期は、普及しているシステムの微粒子濃度状態およびこのような固体の特徴に適応するよう容易に設定可能である。周期的な高圧気体噴射の効力は、微粒子固体の特徴によって左右される。したがって、本発明の吸込構造は本来自己清浄型であり、従来技術の流体処理システムのいわゆる自己洗浄装置に一般的なスクレーパまたはプランジャ装置を使用しないタイプのものである。吸込構造の上側の環状部分の多孔性壁要素の材料の仕様は、上流側の処理ユニットからの流入プロセスガスに左右される。気体流が酸気体成分を含む場合、このような気体はウォータースクラバにおいて吸着され、吸込構造の下側の環状部分における越流ゼキ壁に再循環される水の中に含まれることになる。越流ゼキ壁の水のうち一部が吸込構造の上側の環状部分の多孔性内壁上にはねかかる可能性がある。このような場合の多孔性壁は、耐腐食性構成材料から選択しておくのが望ましい。このような目的のために好ましい金属材料は、低温の含水酸性条件下で優れた耐腐食性を呈するハステロイ２７６鋼である。本発明の吸込構造のもう１つの利点は、本願明細書において例示的に説明するようにウォータースクラバの上流で吸込構造を用いている場合に、ウォータースクラバ頂部からプロセス配管への水蒸気の逆流を最小限に抑えているという点である。この利点を説明することで、半導体工具によっては、プロセス工具から捕捉された微粒子として、あるいは、気体流の流路内における化学反応の試薬として、排出流中に微粒子が存在する場合があることは理解できよう。本発明は、上述したリチャードソンの環状空間効果を最小限に抑えるかまたは排除する。吸込構造の上側の環状部分の多孔性壁内面における固定の気体溢流がゆえに、上側の環状部分内壁面における静止境界層状態が広がることはない。プロセスガス流を「押して」吸込構造の中央の流路の境界を定めている壁から離すよう作用し、静止境界条件が存在するのを回避することで、気体透過壁からの流動気体の正味フラックスが存在し、リチャードソンの環状空間効果を回避している。したがって、フロー流において化学反応の結果として粒子が形成され、このようにして形成された粒子には凝集する場となる壁が存在しない。したがって、粒子は凝集せずに気体流と一緒にウォータースクラバに流入する。同じことが捕捉された粒子についても言える。一度入口の頂部に達すると、集合する壁面がないため粒子は気体流に捕捉される。リチャードソンの環状空間効果を生じる条件に抗することで、本発明の吸込構造の上側の環状部分における多孔性壁は、処理システムの排出ラインへの水蒸気の逆行に対する効果的なバリアとして機能する。上述した相互拡散機構がゆえに、上述した逆行は全て非常に低速である。スクラバの流入ラインおよび排出ラインは本発明の吸込構造では殆ど閉塞しないため、この要因がスクラバの障害までの平均時間を大幅に延ばすこどになる。送出管７０を用いる場合、多孔性壁６を介して流れる気体の作用によって形成される環状の気体境界層によって、水蒸気の逆流が最小限になるかまたは排除される。本願明細書では、金属材料で構成されたものとして本発明の吸込構造の上側の環状部分の多孔性壁部材を説明しているが、このような気体透過壁は、適当な構成材料であればどのような材料で形成してもよいことは理解できよう。例えば、多孔性壁は、多孔性セラミック、プラスチック（例えば多孔性ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリテトラフルオロエチレンなど）、あるいは、本発明の吸込構造の使用時に存在し得る腐食環境、極暑および入力圧に耐えるだけの機能を有する他の材料などで形成可能である。本願明細書では、フランジなどによって互いに連結され、急速クランプまたは他の相互連結手段と関連した別個の上側および下側の環状部分を備えるものとして図１３に例示的に示す実施例において本発明を説明しているが、本発明の特定の最終用途において望ましい場合または必要に応じて、このような吸込構造を一体（ｕｎｉｔａｒｙ／ｉｎｔｅｇｒａｌ）構造として形成してもよいこと、ならびに下側の環状部分は上側の環状部分に対する任意の部分であり、場合によっては必ずしも必要であるとは限らないことは理解できよう。以下、図１４を参照すると、閉塞防止吸込構造の他の実施例が示されている。入口１１００は、中空ではない外壁１１１０によって囲まれた円錐形スカート１０５を含んでもよい。送出管１１１２の外面と円錐形スカート１１０５の内面との間には、環状の気体流路１１１５が規定されている。円錐形スカートは、微粒子固体含有気体流および／または固体形成気体流を不活性ガスおよび／または液体で環状に包囲する。不活性ガスは、供給ライン１１２０を介して吸込構造に流入する。下流方向かつ外方向に張り出した円錐形スカートは、段階的に小さくなっている断面領域を有する。これによって、不活性ガスの速度が増し、圧力が小さくなる。円錐形スカート１１０５は、不活性ガスの速度を送出管１１１２から排出される気体流の速度と等しくするように設計されている。気体流と不活性ガスの流速が一致することで、同時層流が有利に形成され、気体流の乱流を防止すると共に、２本の流れが混じってしまうのを防止することができる。したがって、動作時に微粒子固体の堆積を最小限にすることで入口の効率が高められる。下流方向かつ外方向に張り出している円錐形スカートを利用して、液体を吸込構造に有利に導入することもできる。外壁１１１０および円錐形スカートの下端（底周）は、互いに横方向に離隔した関係にあり、間に液体流路１１３５を規定している。入口内でスプレーノズル１１２５を互いに円周方向に離隔させ、液体をそらすことができる。円錐形スカートは、液体を壁面１１３０の方に送る。液体が、例えば水である場合には、壁面１１３０表面に水の薄膜が形成され、微粒子固体を下流側のスクラバまで洗い流す。円錐形スカートの材料の仕様は、送出管１１１２を流れる気体流および不活性ガスによって異なる。気体流に酸ガス成分が含まれる場合、このような気体はスプレーノズル１１２５まで再循環される水中に存在する。この場合の円錐形スカートは、耐腐食性材料で作製されると望ましい。図１３の実施例において説明したように、送出管、不活性ガスおよび／または水を加熱して凝結を減らしてもよい。図１５は、閉塞防止入口構造１２００の他の実施例を示している。外側のソリッドウォール１２０５と多孔性内壁１２１０との間に環状の内部空間が規定されている。延長気体流送出管１２１２を使用し、吸込構造の所望の位置において微粒子固体含有および／または微粒子固体形成気体流を導入してもよい。送出管１２１２は、上流側のソースに対して気体流受入関係で連結されており、吸込構造内の適当な位置に気体流を送って排出している。送出管１０７０は、送出管１０７０を収容するように改良された入口１００７を有する外側のソリッドウォール１００９によって囲まれている。内部の多孔性壁１２１０の内側部の対向面は、送出管１２１２の外側の対向面を囲んでいる。外壁１２０５の上端はエンドキャップ１２１５に収容されている。外壁には、給水源と結合可能な水吸込口１２２５が設けられている。エンドキャップ１２１５には、保護用の不活性ガスを軸方向に吸込構造まで導入するための気体吸込口１２３０が設けられている。エンドキャップ１２１５は、不活性ガスを軸方向に吸込構造まで散布するための多孔性散布構造を含んでいてもよい。気体孔またはリザーバに、任意に窒素などの不活性ガスを収容し、入口に導入してもよい。水は、この実施例では多孔性内壁１２１０を介して噴出され、薄い液膜を形成して吸込構造経由で微粒子を洗い流す。多孔性壁１２１０は、例えば、セラミック、金属、金属合金またはポリ塩化ビニルなどのプラスチックなどの任意の適当な材料で形成可能である。上述したように、送出管、不活性ガスおよび／または水を加熱して凝結を抑制または排除してもよい。図１５に示す具体的な構造に対するさらに他の例として、多孔性内壁１２１０の代わりに、図１３を参照して示したようなタイプのセキを用いることも可能である。セキ壁は、例えば、その上端と上側のエンドキャップ１２１５とが離れていて両者の間に越流ゼキを規定するギャップが形成されるように構成されている。図１６は、閉塞防止入口構造１３００のもう１つの実施例を示している。上側の環状部分１３０５は、上側の環状内チャンバ１３２０が間に形成されている上側の内部多孔性壁１３１０および外部上側のソリッドウォール１３１５を含む。延長気体流送出管１３２２は、上側の多孔性壁１３１０によって囲まれており、多孔性壁１３１０と同軸に位置した状態で示されている。気体送出管の外面と上側の多孔性壁の内面との間には環状の内部空間が形成されている。送出管１３２２は、上流気体源に対して気体流受入関係で連結されている。上側のソリッドウォール１３１５は、適当な流体を上側の内チャンバ１３２０に導入するための吸込口１３２５を含む。下側の環状部分１３３０は、下側の環状内チャンバ１３４５が間に規定された下側の内部多孔性壁１３３５と、外部の下側のソリッドウォール１３４０とを含む。下側のソリッドウォールは、流体を下側のチャンバ１３４５に導入するための吸込口１３５０を含む。動作時、図１６の吸込構造は、不活性ガスが上側の多孔性壁１３１０を通過するのを可能にし、水が下側の多孔性壁１３３５を介して噴出するのを可能にする。不活性ガスの流れによって、気体流中の微粒子は吸込構造の内壁面から離れた状態で維持される。下側の内部多孔性壁１３３５の内面上の薄い水膜が、全ての微粒子を吸込構造から洗い流す。図１６は、上側部分１３０５と下側部分１３３０との間の移行領域１３５５上の気体流を排出している送出管１３２２を示している。移行領域１３５５は、上側の環状部分１３０５と下側の環状部分１３３０とを当接結合している領域であってもよい。また、移行領域１３５５は、上側部分１３０５と下側部分１３３０とを分離し、気体送出管１３２２を囲む領域を含んでもよい。送出管を移行領域１３５５の下まで延ばして下側部分にかかるようにしてもよいことは理解できよう。送出管１３２２が、上側部分内で気体流を排出するか、移行領域内で排出するかまたは下側部分内で排出するかは、気体流、プロセスの用途および条件によって異なる。上述したように、送出管、不活性ガスおよび／または水を加熱して凝結を抑制または排除してもよい。図１７は、本発明の一実施例による気体／液体インタフェース構造１４１０の概略断面図である。気体／液体インタフェース構造１４１０は、細長い円筒形の壁１４１４によって規定される第１の垂直に延在する吸込流路部材１４１２を含む。円筒形の壁１４１４は、吸込流路部材１４１２内の流路１４１８を囲んでいる。円筒形の壁１４１４の上端には、気体／液体インタフェース構造を、関連のプロセスフロー配管、導管、機器などに結合するために、半径方向外側に延在しているフランジ１４１６が設けられている。このため、第１の吸込流路部材１４１２は、その上端に入口１４２０を有し、下端に対応する出口１４２２を有する。開放された入口端および出口端が流路１４１８を含む流路の内側の空間を規定し、上流側の処理ユニット１４５８からの気体が図１７に例示的に示すライン１４６０で流動するのと同様にこれを介して流動可能であるようにしている。第１の吸込流路部材１４１２の長さは、図１３に示すものより有意に短くてもよく、このような流路部材の出口１４２２の端は、この構造の内部の環状空間１４３０における上端壁１４３８のすぐ下で終端していてもよい。あるいは、このような流路部材の出口１４２２の端は、図１３に例示的に示す第２の流路部材１４２４内の下側の垂直点で終端していてもよい。したがって、第１の吸込流路部材１４１２を垂直下方向にどれだけ延ばしておくかは、本発明の実施にあたって変わるものであり、具体的な長さおよび寸法的な特徴は、形状および配置を選択するための過度の実験を行わなくても容易に判断可能であり、これによって本発明の吸込構造の具体的な用途において所望の動作特性を達成する。上流側の処理ユニット１４５８は、例えば、半導体製造工具および関連の排気処理装置を備える。このような排気処理装置は、排気中の酸化可能な成分を酸化するための酸化装置を備えてもよい。適した酸化装置は、様々なタイプのものであり、例えば、熱酸化ユニット、電熱酸化装置などで構成される。上流側の処理ユニット１４５８が半導体製造作業用の気体生成手段および気体処理手段を備える場合、第１の吸込流路部材１４１２の入口１４２０に導入される気体流の温度を上げ、実質的な濃度の微粒子固体を例えばサブミクロンサイズの粒子の形で含むようにしてもよい。インタフェース構造１４１０はさらに、図示のように第１の流路部材１４１２から距離をおいてこれを囲み、環状の空間１４３０を間に規定する第２の流路部材２４を備える。第２の流路部材１４２４は、第１の流路部材１４１２の下端の下の下端１４６８まで下方向に延在しているため、第１の流路部材の開放された出口１４２２は、第２の流路１４２４の開放された下端１４６８から垂直に距離をおいた関係にある。上述したように、第１の流路部材の出口１４２２の位置は、本発明の広義での実施にあたり、垂直方向に様々に変更可能である。第２の流路部材１４２４は、上側の液体透過性部分１４２６と、図示のように液体透過性部分１４２６から下方向に延在している残りの液体透過性部分１４２８とを備える。上側の液体透過性部分１４２６および下側の液体透過性部分１４２８は、例えば、上側の円筒形の多孔性セグメント１４２６を最初は分離していた下側のソリッドウォールの円筒形セグメント１４２８とを、それぞれの部分を、ロウ付け、ハンダ付け、熔接、機械的な固定具による固定、あるいは適当な結合手段および方法を用いた他の適当な方法で互いに結合した状態で結合するなど、どのような方法で形成してもよい。あるいは、一体の円筒形管部材から第２の流路部材１４２４を形成してもよい。このような管部材の上部分に多孔性または透過性の特徴を付与できるウォータージェット加工、エッチング、焼結、マイクロ電子加工または他の任意の適当な技術などの処理によって、この部材の上部分を本質的に液体透過性にする。好ましくは、最初は別々の上と下の部分を有し、これが互いに結合され、上の部分が多孔性の焼結金属材料、多孔性プラスチック材料、多孔性セラミック材料、または他の多孔性材料で構成され、以下においてより詳細に説明するように、液体の透過を可能にするのに十分な寸法的な特徴の気孔率が得られる第２の流路部材を形成する。気体／液体インタフェース構造１４１０はさらに、第２の流路部材を包囲すると共に内部の環状空間１４７０を規定している外壁部材１４３４を備える。外壁部材１４３４は、円筒形の側壁１４３６、上端壁１４３８および底端壁１４４０を備える。これらは協働して内部の環状空間１４７０を囲んでいる。側壁１４３６には、液体導入ポート１４４２が設けられている。このポートは、任意の適当な方法で形成可能であるが、図示の実施例では、環状ポート延長部１４４４によって構成されている。あるいは、このポートは、側壁に形成された単なるオリフィスまたは開口であってもよいし、他の吸込構造であってもよい。これによって、液体を外部の液体供給源から内部の環状空間１４７０に導入することができる。図１７の実施例では、液体吸込口１４４２が、流量制御弁１４４８を内部に収容した液体導入ライン１４４６と連結されている。液体吸込ライン１４４６は、液体供給リザーバ１４５０と接続されている。図１８は、図１７の装置の上面図であり、図１８に示すインタフェース構造の内部の環状空間１４７０を通る液体の接線的な供給配置を示している。図１８は、外壁部材の円筒形の側壁と接線的に交差し、これと結合されるように配置された管状ポート延長部１４４４を示す。このような方法で、導入された液体を上側の円筒形の多孔性セグメント（液体透過性の上側部分１４２６）の周囲で極めて均等に円周に沿って分配することができるため、円筒形の多孔性セグメントを介した液体浸出によって生成される液膜は、これに対応して円周に沿って均一になり、以下において一層完全に説明するように内壁面１４７２を保護する。ライン１４４６における液体流量制御弁１４４８は、予め定められているか、それ以外の場合には選択された液体の流れをリザーバ１４５０からライン１４４６経由で液体吸込口１４４２まで提供するための、中央処理装置(ＣＰＵ)、マイクロプロセッサ、流量制御コンソールおよび／または補助監視制御手段を含む適当な制御装置／タイマ手段と連結されていてもよい。このように導入された液体は、内部の環状空間１４７０を満たし、このような液体を適当な処理条件で導入してもよい。半導体製造作業からの高温微粒子含有排気流などの気体流の処理のために、内部の環状空間１４７０における液体には水または他の水性媒体を用いることができる。第２の流路部材１４２４の上側の液体透過性部分１４２６の液体透過性の特徴によって、内部の環状空間１４７０からの液体は、第２の流路部材の上側部分１４２６を透過し、このような上側部分の内壁面１４３２において液滴１４５４として表れる。重力作用の結果として生じるこのような液滴は、下に落ちて他の液滴と合体し、凝集して下方向に流れ落ちる液膜１４５６を第２の流路部材の下側の液体透過性部分の内壁面１４７２上に形成する。第２の流路部材の下側の開放端１４６８から排出している液膜の液体を、例えば気体流がライン１４６２の第２の流路部材の気体流路１４５２から流入する下流側の処理ユニット１４６４での同時処理などのために、適当な回収処理手段（図示せず）に送っても良い。下流側の処理ユニット１４６４は、ウォータースクラバ、反応室、または他の処理装置または処理領域であってもよい。この場合、ライン１４６２の通路１４５２から流れる気体流にさらに処理が施され、最終的な排気がライン１４６６の下流側の処理ユニットから排出される。このため、気体／液体インタフェース構造１４１０は、第２の流路部材上側の液体透過性部分１４２６と共に、第１の流路部材と第２の流路部材との間に内部の環状空間１４３０が得られるように構成されているため、液体透過性の上側部分を流れる液体は合体して、流れ落ちる液膜１４５６を形成することができる。この配置により、流路１４１８から流路１４５２に流れる気体は、保護液膜１４５６によって覆われた第２の流路部材の下側部分の内壁面１４７２に流れていく。したがって、第１の流路部材の下側の開放端１４２２から排出される気体の腐食性の種は、内壁面との関係で「緩和」され、第２の流路部材のこのような内壁面での腐蝕および副反応作用が最小限に抑えられる。さらに、第２の流路部材と外壁部材１４３４との間の内部の環状空間１４７０に液体を導入することで、液体リザーバ「ジャケット」構造が得られる。これによって、液体は第２の流路部材の多孔性の上側部分に供給され、これを透過して、液体を下方向に「滴らせて」第２の流路部材の内壁面上に保護膜を形成する。第２の流路部材の内面１４７２上に形成されるこのような流れる膜は、このような液膜が存在しないと第２の流路部材の内壁面に付着して凝集してしまう場合がある微粒子を伴出して、気体流から運び去る作用もある。したがって、流れ落ちる液膜は、第２の流路部材の内壁面に対する保護機能をもたらすと同時に、微粒子固体および他の気相成分を全て運び去る伴出媒体となる。これらの固体および気相成分は、液膜がないと流路部材の内壁面に堆積して有害なものである。図１７に例示的に示す構造のさらに他の利点として、上側の液体透過性部分１４２６を使用することで、液体越流ゼキなどの構造を設ける場合よりも用いる液体の量を最小限に抑えられることが挙げられる。この場合、内部の環状空間１４７０からの液体が単に壁１４２６の上端に溢流し、壁綿の膜で下方向に流動し、第２の流路部材の全内面長が覆われる。動作に必要な液体は、本発明の滴下ゼキ構造によって極めて低位に維持される。単なる液体の越流ゼキ構造よりも優れた本発明の滴下ゼキ構造のもう１つの利点は、越流ゼキではセキを設計通り効率よく機能させるためには垂直に対して正確に整列配置する必要があるが、滴下ゼキ構造では動作設計効率を落とすまたは悪くすることなく、法線方向（垂直）の向きからの偏位に対して許容範囲があるという点にある。換言すれば、本発明の滴下ゼキ構造は、（従来の越流構造のようにセキからの初期液体放出のために構築および維持される閾値の液体リストは存在しないため、）越流ゼキ水追加速度と、構造の水平さならびに液体透過性セキ壁による最小湿り率とを切り離すことを特徴とする。図１７に例示したようなタイプの気体／液体インタフェース構造の図示の例として、インタフェース構造１４１０に流入するライン１４６０の気体流の温度が上昇し、シリカや微粒子金属、サブミクロンサイズの粒子またはこれよりも大きな固体などの微粒子ならびに腐食性固体を捕捉するように、半導体製造作業からの排気を処理する熱酸化装置ユニットの下流にこのような構造を用いてもよい。このような実施例では、第２の流路部材の上側部分１４２６を、厚さ約１／１６インチ、平均細孔径約２ミクロンの焼結金属壁で構成してもよい。第１の流路部材１４１２の長さは約４４８インチ、径は約２．５インチである。対応する第２の流路部材１４２４はこれに対応する約１３．５インチの長さでよく、径は約４．５インチでよい。外壁部材１４３４の垂直方向の長さは約５．５インチ、直径約６インチである。このようなシステムでは、第２の流路部材の上側の液体透過性部分１４２６の内面１４３２上に液体を流し、内部の環状空間１４７０に導入されるリザーバ１４５０からの液媒として水を用いてもよい。このようなシステムで用いる水の量は、動作１分あたり約０．１〜０．３ガロンとすることができる。図１９は、排気を生成する上流のシステム１５１２と、出口ライン１５１４と、マニフォルドダクトライン１５１６と、第１および第２の吸込ライン１５１８および１５２０と、下流のスクラバユニット１５５０とを含むシステム１５１０の概略図である。図示のように、例えば半導体製造設備または半導体処理工具を含んでもよい上流のシステムは、マニフォルドおよび吸込ラインを介してスクラバユニットと気体流連通状態で閉じている。出口ライン、マニフォルドラインおよび吸込ラインは、適当な任意の直径でよく、例えば１．５〜３インチの範囲の直径である。図２０は、本発明の一例としての実施例の概略図である。例えば半導体製造工具などの上流のシステム１６１２を出口ライン１６１４に連結する。出口ライン１６１４は、内部に流路を有する細長い管を規定している壁と、第２の端部よりも上流にある第１の端部とを有する。出口ライン１６１４の内部の流路は、その第１の端部で上流のシステム１６１２と接続され、上流のシステムからの排気を受け入れている。出口ライン１６１４の第２の端部は、吸気マニフォルドライン１６１６のほぼ中点において接続されている。吸気マニフォルドライン１６１６は、内部に流路を有する細長い本体を規定する壁と、第１および第２の端部とを有する。吸気マニフォルドライン１６１６の第１および第２の端部は、ほぼ中点の出口ライン１６１４との接続部よりも下流にある。出口ライン１６１４とマニフォルド１６１６とを接続することで、ライン１６１４の内部の流路からマニフォルドライン１６１６の内部の流路まで排気を効率よく通過させやすくなる。第１の吸気ライン１６１８および第２の吸気ライン１６２０は、内部の通路を規定する壁と、第１および第２の端部とを有する。吸気ライン１６１８および１６２０のそれぞれの第１の端部は、マニフォルドライン１６１６の第１および第２の端部に接続されている。これによって、マニフォルドライン１６１６の内部の流路から吸気ライン１６１８および１６２０内部の流路までの排気の通過が容易になる。吸気ラインの第２の端部は、第１の端部よりも下流にある。吸気ライン１６１８および１６２０のそれぞれの第２の端部は、スクラバユニット１６５０に接続されている。スクラバ１６５０は、図示のようにスクラバ水線１６５２に接続されている。この接続によって、水をスクラバ水線１６５２からスクラバ１６５０に送りやすくなる。スクラバ１６５０はまた、スクラバ１６５０からの気体をライン１６５４経由で放出位置まで送るための換気放出ライン１６５４にも接続されている。スクラバ１６５０はまた、液体廃棄物をスクラバ１６５０から液体廃棄物放出位置まで途中の妨害なく送るための流体廃棄ライン１６５６にも接続されている。スクラバ水線１６５２、換気放出ライン１６５４、流体廃棄ライン１６５６、出口ライン１６１４、マニフォルド吸気ライン１６１６および第１および第２の吸気ライン１６１８および１６０は、設備で必要となる具体的な気体流量および処理ユニット動作に適した適当な任意の直径とすることができる。マニフォルドライン内の通路が、第１および第２の吸気ライン内の通路内からの水の逆行を遅らせるウォーターバッフルとして機能するように、マニフォルド吸気ラインと第１および第２の吸気ラインとの接続は４５〜９０°の角度でなされる。第１および第２の吸気ダクトの上流端に近接して接続されているのは、第１および第２の吸気弁１６２２および１６２４である。この吸気弁は二方弁であり、各々開位置および閉位置を有している。閉位置にある時には、吸気弁はマニフォルドライン１６１６から吸気ラインへの排気の流れを防止する。吸気ラインの第２の下流端に近接して位置するのは、第１および第２の加熱手段１６４６および１６４８である。ヒーターコイルの形で示してはあるが、加熱手段は、熱エネルギを第１および第２の吸込ライン内の通路に伝達するための、当業者間で周知のどのような加熱システムを備えていてもよい。例示の目的で、加熱手段を加熱コイルと呼ぶ。以下、気体源からの気体を第１および第２の吸気ライン内の通路まで送出するための気体送出系について説明する。本発明の気体送出系は、気体源１６２６と、内部に通路を有する第１および第２の気体送出ライン１６２８および１６３２と、第１および第２の端部と、第１および第２の気体流量制御弁１６３０および１６３４とを含む。本願明細書に記載の気体送出系は２個以上の気体源を含んでもよいことは理解できよう。複数の気体源を気体流連通状態で気体源マニフォルドに接続する。気体源マニフォルドは、各気体源ごとの気体源分離弁と、各気体源ごとの気体源流量制御弁とを含んでもよい。この気体源マニフォルドを気体流連通状態で気体送出系に接続する。気体源１６２６は、第１および第２の吸気ラインに近接して位置している。気体源６２６は、１時間あたり２〜１００標準立方フィートの量で第１および第２の吸気ライン１６１８および６２０内の通路に送出される窒素などの気体を供給する。吸気ラインへの効率的な気体送出は、（カップリング、コネクタなどの適当な任意の接続手段によって）第１および第２の気体送出ラインを第１および第２の吸気ラインに接続することで容易になる。気体源１６２６は、ライン１６２３の第１の端部において第１の気体送出ライン１６２８に接続されている。第２の気体送出ライン１６３２の第１の端部は、第１の気体送出ライン１６２８の長さ方向に沿ったほぼ中点で接続されている。前記第１の気体線１６２８と第２の気体線１６３２との間の接続は、ライン１６２８の気体がライン６３２内の通路に漏洩したり障害にぶつかったりすることなく流れるようになされている。第２の気体送出ライン１６３２を、ライン１６２８と気体源１６２６との接続より下流のライン１６２８の長さ方向に沿った点においてライン１６２８に接続する。第１の気体送出ライン１６２８の下流端は、第２の弁１６２４より下流の第２の吸気ライン１６２０の長さ方向に接続されている。気体線１６２８と吸気ライン１６２０との接続によって、気体線１６２８内の通路にある気体が、ライン１６２０内の通路に漏洩せずに障害なく自由に流動する。ライン１６３２の第１の端部よりも下流にある第２の気体送出ライン１６３２の第２の端部は、第１の吸気ライン１６１８に接続されている。気体線１６３２と吸気ライン１６１８とを接続することで、ライン１６３２内にある気体を吸気ライン１６１８内に漏洩させずに自由に流動させることができる。第２の吸気ライン１６２０との接続より上流かつ第２の気体送出ライン１６３２との接続より下流の第１の気体送出ライン１６２８に沿って位置しているのは、第１のガス弁１６３０である。第１のガス弁１６３０は、上述した第１および第２の吸気弁と等価な二方弁である。第１のガス弁１６３０は、第１の気体送出ライン１６２８内に沿った第２の吸気ライン１６２０への気体の通過を調節する。第１の気体線との接続より上流の第２の気体送出ライン上に位置しているのは第２のガス弁１６３４である。第２のガス弁１６３４は、これを介しての第２の気体線から第１の吸気ラインへの気体の通過を容易にする。以下、加圧水送出系について説明する。水送出系は、水源１６３６と、第１および第２の端部および内部の通路を有する第１および第２の水線１６３８および１６４２と、第１および第２の水弁１６４０および１６４４とを含む。第１および第２の吸気ラインに近接して位置しているのは加圧水源６３６である。加圧水源１６３６は、１分あたり０．５〜５ガロンの範囲の圧力で水の流れを生成する。水源６３６は、ライン１６３８の第１の端部において第１の水線１６３８内の通路に接続されている．この接続によって、加圧水をソースからライン１６３８内の通路に効果的に通しやすくなる。前記第１の端部より下流の第１の水線１６３８の第２の端部は、加圧水を第１の水線１６３８内の通路から第２の吸気ライン１６２０内の通路に送出するための第２の吸気ライン１６２０に接続されている。第２の吸気ライン１６２０との接続より上流の第１の水線１６３８上に位置しているのは、吸気ライン１６２０への加圧水の選択的な通過を容易にするための第１の水弁１６４０である。第１の水弁１６４０は二方弁である。第２の水送出ライン１６４２の第１の端部は、第１の水弁１６４０より上流かつ水源１６３６より下流の位置で第１の水送出ライン１６３８に接続されている。第１の端部より下流の第２の水送出ライン１６４２の第２の端部は、加圧水をライン６３８内の通路から吸気ライン１６１８内の通路まで送出するための第１の吸気ライン１６１８に接続されている。第１の吸気ライン１６１８に対する接続より上流の第２の水線上に位置しているのは、加圧水の通過を選択的に制御するための第２の水弁１６４４である。第２の水弁１６４４は二方弁である。第１のサーマルジャケット１６５８は、第１の吸気ライン１６１８の端から端まで、第１の吸気弁１６２２、ライン１６１８と第２の気体送出ライン１６３４との接続部、ライン６１８と第２の水送出ライン１６４２との接続部、第１の加熱手段１６４８を収容している。第１のサーマルジャケットは、内部に収容された要素に対する絶縁特性を提供し、加熱手段と協働して第１の吸気ダクトライン１６１８の内部温度を上昇させる。サーマルジャケット１６５８は、Ｎ₂流動時に側壁温度を上昇させ、側壁に付着した水を蒸発させる。また、サーマルジャケット１６５８は、側壁温度を上昇させ、凝結可能なプロセスガスがラインで凝結するのを防止する。金属エッチの例では、プロセスからのＢＣｌ₃が、スクラバ入口での加水分解反応時にホウ酸を生成するが、同時にプロセスラインを加熱してラインに沿ったＡｌＣｌ₃の凝結を防止しなければならない。次に、金属エッチまたはＷＣＶＤの場合と同様にこのラインをプロセス源から加熱してもよい。第２のサーマルジャケット１６６０は、第２の吸気ライン１６２０の端から端まで、第２の吸気弁１６２４、ライン１６２０と第１の気体線２８との間の接続、ライン１６２０と第１の水線１６３８との間の接続、第２の加熱手段１６４６を収容している。第２のサーマルジャケットは、内部に収容された要素に対する絶縁特性を提供し、加熱手段と協働して第２の吸気ライン１６２０の内部温度を上昇させる。上述した弁は、各々開位置および閉位置を有する二方弁である。以下での説明の目的で、この弁は、空気による開動作モードとバネによる閉動作モードとを有する空気圧弁であると仮定する(この弁は、システム要件、性能、目的に応じて、空気による閉モードとバネによる開モードのあるものでもよい)。このような空気圧弁はＫＦ−５０接続、一体式ソレノイドを有する電空弁、閉確認スイッチおよび開確認スイッチリードを含んでもよい。このような弁は、ＭＫＳＩｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓのＨＰＳＤｉｖｉｓｉｏｎから型番１９０として入手可能である。上述した弁と以下に述べる弁との間の電気接続は、制御パネル（図示せず）に対して維持される。制御パネルは、システム弁との電気接続にプログラムできる論理制御器（ＰＬＣ）を含む。ＰＬＣは、弁との電気接続を維持して弁位置を監視し、弁位置（開または閉）を切り換える。また、タイマをＰＬＣに接続し、弁位置のＰＬＣ計時を容易にする。しかしながら、本発明の趣旨または範囲を逸脱することなく他の弁および制御の実施例に置き換えてもよいことは、当業者であれば理解できよう。例えば、この弁は、様々な市販のタイプのうち、電気的、機械的、電気機械的、磁気的または他のタイプの弁であってもよい。特に、この弁は、サイクルタイマ制御手段または他の制御手段に電気的に接続されたリミットスイッチを含む。リミットスイッチは、弁位置を確認し、インターロックを制御してプロセスガスの流れが常に空搬送にならないようにし、水がオンライン（オンストリーム）の気体流ラインに導入されないようにするのを助ける。以下、本発明の上述した図２０の実施例の動作方法を図２１のフローチャートを参照して説明する。この説明では、図２０の参照符号に鑑みて装置を識別する。本発明の動作における第１番目のステップ（図２１のフローチャートのブロック１７０１）は、全ての弁１６２２、１６２４、１６３０、１６３４、１６４０および１６４４を閉じることである。プログラムできる論理制御器（ＰＬＣ）が、空圧空気の流れ（図示せず）を調節することによって弁の開閉を制御する。弁への空圧空気の供給を停止すると、バネが弁のバッフルを閉塞位置まで移動させ、これによって弁の上流位置から弁の下流位置への気体流材料の流れを防止する。第１番目のステップでは、上述したダクトライン一切を介しての排気、加圧水、または他の気体の全ての流れを防止する。これは、本発明の装置を使用する前に、上流のシステム１６１２からの排気の流れがどの吸気ラインにあるかをオペレータが常に気にすることができるようにするための安全上の理由からなされる最初のステップである。この最初のステップでは、（加圧水および気体源１６３６からの気体を伴う）排気の流れはまだ開始されていない。本発明の動作における第２番目のステップ（図２１のフローチャートのブロック１７０２）では、全ての弁が閉じているか否か照会する。この照会は、制御パネルに収容されたＰＬＣによって実行される。上述したように、ＰＬＣは、上述した弁に収容された電気位置インジケータ手段と電気的に通信を行っている。この照会は、位置決めインジケータ手段からの信号を検出し、これを閉位置を示す予め定められた弁と関連させることでＰＬＣによって実行される。上述した弁が閉位置にあると判断されると、第３番目のステップが開始される。上述した弁が開位置位置にあると判断されると、アラームの音が発せられ、前のステップが繰り返される。第３番目のステップ（図２１のフローチャートのブロック１７０３）では、第２の吸気弁１６２４を開放する。弁１６２４の開放は、空圧空気を弁に流入させ、第２の吸気弁１６２４を介してマニフォルド１６１６からの排気が第２の吸気ライン１６２０に送られるように弁バッフルの位置を内部のバネで調節することで達成できる。第２の吸気弁１６２４の開放はＰＬＣによって作動される。第１の吸気弁１６２２は閉位置に維持されているため、第１の吸気ラインへの排気流は遮断され、排気はオフガスによって第２の吸気ライン１６２０を介してのみ流れる。第４番目のステップ（図２１のフローチャートのブロック１７０４）では、第２の吸気弁１６２４が開放されているか否か照会する。弁位置についての照会は、ステップ２において説明した弁位置照会と同一の方法でＰＬＣによって実行される。ＰＬＣによって第２の吸気弁が閉じていると判断されると、アラームの音が発せられ、前のステップが繰り返される。吸気弁が開放されていることをＰＬＣが検出すると、動作手順における次のステップが実施される。第５番目のステップ（図２１のフローチャートのブロック１７０５）では、第２の水弁１６４４を開放する。弁１６４４の開放は、上述したものと同様にしてＰＬＣによって行われる。弁１６４４を開放することで、水源１６３６からの加圧水の流れを、第１の水送出ライン１６３８および第２の水送出ライン１６４２経由で第１の吸気ライン１６１８に送る出口が形成される。第１の水弁１６４０は、水源１６３６からの水がこれを介して第２の吸気ライン１６２０に流れることがないように閉位置に維持される。弁１６４４は、ＰＬＣに接続されたタイマによって設定および監視される時間の第１の継続時間、ＰＬＣによって開放状態に維持される。第２の水弁１６４４は、１分〜１０分の範囲の時間開放状態に維持される。第１の吸気ライン１６１８への加圧水の流れによって、ライン１６１８内の通路を洗い流すと共に、可溶性微粒子を溶解し、これによって微粒子などを第１の吸気ラインの第２の端部経由でスクラバユニット１６５０に排出する。第６番目のステップ（図２１のフローチャートのブロック１７０６Ａ）では、第１の継続時間経過後に水弁１６４４を閉じる。第２の水弁１６６４が閉じられた後、第２のガス弁１６３４を開放し(図２１のフローチャートのブロック１７０６Ｂ)、まだ作動していなければ第１の加熱手段を作動させる(図２１のフローチャートのブロック１７０６Ｃ）。弁の開閉は、上述したようにしてＰＬＣによって行われる。ＰＬＣの制御下で電流を生成して流すことによって第１の加熱要素を作動させる。電流には、加熱手段の自然の抵抗が加わり、常に電気抵抗があるため熱が発生する。第２のガス弁１６６４は、ＰＬＣに接続されたタイマによって設定および監視される第２の継続時間、開放状態に維持される。第２のガス弁を開放状態で放置し、加熱手段を作動させておく好ましい時間範囲は、３０分から８時間である。気体源１６２６からの気体の流れが第１の気体送出ライン１６２８に沿って第２の気体送出ライン１６３２および第１の吸気ライン１６１８に送られるように、第１のガス弁は閉位置に維持される。第１の加熱手段６４８によって伝達される熱と協働して、気体は第１の吸込ラインの壁の内側を乾燥させる。第７番目のステップ（図２１のフローチャートのブロック１７０７）では、第１の加熱手段を停止させ、第１の吸気弁１６２２を開放する。弁１６２２の開放は、上述したものと同様にして行われる。加熱手段は、ＰＬＣによる制御下で電流の供給を遮断することで停止される。第８番目のステップ（図２１のフローチャートのブロック１７０８）では、第１の吸気弁１６２２が開放されているか否かを照会する。この照会は、上述した照会方法と同様にしてＰＬＣによって行われる。第１の吸気弁が開放されていないとＰＬＣによって判断されると、アラームが作動して第７番目のステップが繰り返される。新たに洗浄された入口が開放されていることをＰＬＣが確認した場合に限り、ＰＬＣは他の入口を洗浄用に閉じる。それ以外の場合には、プロセスガスの流れを遮断することができる。第１の吸気弁が開放されていることをＰＬＣが判断した場合、動作手順における次のステップが実施される。第９番目のステップ（図２１のフローチャートのブロック１７０９）では、第２の吸気弁１６２４を閉じる。第１の吸気弁１６２２は開位置に維持される。第２の吸気弁１６２４を閉じることで、排気の流れの方向が現在閉じられた第２の吸込ラインから現在開放されている第１の吸込ラインへと変わる。第１０番目のステップ（ブロック１７１０の図２１のフローチャート）では、第２の吸気弁１６２４が閉じているか否かを照会する。この照会は、上述したようにして第２の吸気弁との電気接続状態でＰＬＣによって行われる。第２の吸気弁が閉じていないことがＰＬＣによって判断された場合、アラームが作動して第９番目のステップが繰り返される。第２の吸気弁は閉じていると判断された場合には、動作手順における次のステップが実施される。第１１番目のステップ（図２１のフローチャートのブロック１７１１）では、第１の水弁１６４０を開放する。第２の水弁１６４４は閉位置に維持される。第１の水弁の開放（および第２の水弁１６４４の閉止）によって、加圧水が水源１６３６から第１の水送出ライン１６３８および第１の水弁１６４０経由で第２の吸気ライン１６２０に流入するための通路が開放される。第２の水弁１６４４を閉位置に維持し、水がここを通って第１の吸込ライン１６１８に流入しないようにする。加圧水は、第１の吸気ラインに対して上述したような洗い流しおよび洗浄作用を行いながら、第２の吸気ライン１６２０経由で流れる。加圧水は、スクラバ１６５０に接続された第２の端部を経由して第２の吸気ラインから出る。この加圧水は、１分〜１０分の予め選択された時間範囲の間、第２の吸気ラインを洗い流すことができる。ＰＬＣに電気接続された調整可能なタイマが、これと協働して加圧水の放出時間を計時する。第１２番目のステップ（図２１のフローチャートのブロック１７１２）では、第１の水弁１６４０を閉じる。第１３番目のステップでは、第１のガス弁１６３０を開く(図２１のフローチャートのブロック１７１３)。第１４番目のステップ（図２１のフローチャートのブロック１７１４）では、第２の加熱手段１６４６を作動させる。弁の開閉は、上述したようにしてＰＬＣによって行われる。第２のガス弁１６３４を閉位置に維持し、気体がここを通過して第１の吸込ダクトライン１６１８に流入しないようにする。第１のガス弁１６３０を開放することで、気体が気体源１６２６から第１の気体送出ライン６２８および第１のガス弁１６３０経由で第２の吸込ライン１６６０に流入する通路が開放される。第２のサーマルジャケット１６６０と協働して第２の加熱手段を作動させると、第２の吸込ラインの内部温度が上昇する。気体および第２の加熱手段によって生成される熱が、第２の吸込ライン１６２０内の通路を乾燥させる。気体は、第２の吸込ラインを介してラインの第２の端部経由でスクラバ１６５０に流入する。３０分〜８時間の計時した継続時間、第１のガス弁は開放状態で保持され、第２の加熱手段は作動状態にある。計時した継続時間は、上述したようにＰＬＣに接続されたタイマによって監視される。第１５番目のステップ（図２１のフローチャートのブロック１７１５）では、計時した継続時間に達した後に、第１のガス弁１６３０を閉じて第２の加熱手段６４６を停止させる。第１６番目のステップ（図２１のフローチャートのブロック１７１６）では、ＰＬＣは第１の吸気弁１６２２に照会を行い、弁が開放状態に維持されていることを確認する。弁の動作は、上述したようにして行われる。第１７番目のステップ（図２１のフローチャートのブロック１７１７）では、第２の吸気弁１６２４を開放し、第２の吸気弁１６２４が開放されているか否かについて、ＰＬＣが照会を行う(図２１のフローチャートのブロック１７１８)。第２の吸気弁が開放されていないと判断されると、アラームが作動され、前のステップが繰り返される。ＰＬＣは、上述したものと同様にして照会プロセスを行う。第１９番目のステップ（図２１のフローチャートのブロック１７１９）では、第１の吸気弁１６２２を閉じ、第１の吸気弁が閉じていることを確認するための照会を行う(図２１のフローチャートのブロック１７２０)。弁１６２２が閉じていない場合には、アラーム音が発せられ、前のステップが繰り返される。第１の吸気弁１６２２が閉じている場合には、動作手順はオペレータに対して以下のように照会を行う。最後に、オペレータは、第５番目のステップに戻って上述した洗浄ステップを繰り返すか、あるいは洗浄サイクルを終了するかについて照会を受ける(図２１のフローチャートのブロック１７２１)。産業上の利用可能性本発明の排気流処理システムは、半導体製造、光電処理ならびに、他の排気生成作業において生成される排気などの産業排気流体の処理に有効利用される。この処理では、排気流体を純化処理し、ここから有用な気体流成分を抽出し、温度を高めた排出流から熱を熱交換回収し、および／または最終的な排出流体に所望の特徴を持たせるための他の処理を施す。この排気流処理システムは、コンパクトな一体型装置形状に適宜組み込むことができる。半導体製造の排気流の場合における排気処理では、有害流成分の酸化、気体のスクラブ処理および微粒子固体の除去を含むと有利である場合がある。本発明の排気処理システムは、微粒子固体の付着、気体流の劣化および流体力学的な流れの悪影響などの入口での影響を最小限に抑えるように構成および配置された吸込構造を有効利用できる。

【手続補正書】特許法第１８４条の８第１項【提出日】平成１０年８月２０日（１９９８．８．２０）【補正内容】１．処理システムに流入する排気流の酸気体濃度および微粒子成分濃度を低くするための前処理ユニットであって、スクラバを備える前処理ユニットと、前記前処理ユニットから酸気体および微粒子濃度が低くなった排気流を受け入れ、前記排気流の酸化可能な成分の少なくとも一部を酸化させるように配置された酸化処理ユニットと、（ｉ）前記酸化処理ユニットからの排気流を受け入れ、（ｉｉ）処理システムからの最終放出用に前記排気流の特質を良くするよう前記排気流をスクラブ処理するように配置された後酸化処理ユニットと、前記排気流処理システムの前記前処理ユニットに前記排気流を導入するための閉塞防止吸込構造であって、微粒子固体含有排気流を下方向に流すために略垂直に配置された流路を備える、閉塞防止吸込構造と、を備え、前記流路が、セキ開口が形成された境界壁と、前記セキ開口と液体供給関係で前記セキ開口を囲んでいる環状の液体供給リザーバとを含み、該リザーバが、前記環状の液体供給リザーバに液体を供給しで前記セキ開口を介して流動させるための手段を有し、前記環状の液体供給リザーバに液体が流入すると、導入された液体が前記セキ開口を介して流れて前記流路の前記境界壁を流れ落ち、前記微粒子固体含有気体流が前記吸込構造の前記流路を介して流動すろ際に、前記壁から微粒子固体を洗い流し、かつ前記境界壁の内面への固体の付着または形成を抑制する、排気流処理システム。２．前記酸化処理ユニットと、前記後酸化処理ユニットとのうち少なくとも１つが、ユニットに導入される排気流を流体被着媒体で被着するための排気流吸込構造を含む、請求項１に記載の排気流処理システム。３．前記排気流吸込構造が、排気流を被着するための気体媒体をなくすための手段を含む請求項２に記載の排気流処理システム。４．前記排気流吸込構造が、排気流を被着するための液体媒体をなくすための手段を含む請求項２に記載の排気流処理システム。５．排気流を前処理し、排気流の腐食性気体および微粒子成分のうちの少なくとも一部を除去し、続く酸化処理のために該排気流の特質を良くするための前処理ユニットと、前記前処理ユニットからの前処理後の排気流を受け入れ、前処理後の排気流の酸化可能な成分のうち少なくとも一部を酸化させて、酸化可能な成分の濃度が低くなった排気流を生成するように配置された酸化ユニットと、酸化可能な成分の濃度が低くなった排気流を前記酸化ユニットから受け入れるように配置され、酸化可能な成分の濃度が低くなった前記排気流とスクラブ処理媒体とを接触させ、酸化可能な成分の濃度が低くなった前記排気流からスクラブ処理可能な成分を除去し、かつ、処理システムからの最終放出用に、酸化可能な成分の濃度が低くなった前記排気流の特質を良くするためのスクラバを備える後酸化処理ユニットと、を備え、前記前処理ユニット、前記酸化ユニットおよび後酸化ユニットのうち少なくとも１つが、ユニットに導入される排気流を流体被着媒体で被着するための吸込構造を含み、前記吸込構造が、気体／液体インタフェース構造を備え、該気体／液体インタフェース構造が、前記排気気流を導入するための上側の入口と前記排気流を放出するための下端とを有する、垂直に延在する第１の吸込流路部材と、前記第１の流路部材を囲み、該第１の流路部材とは互いに離れた関係で該第１の流路部材との間に環状の空間を規定する第２の流路部材であって、第１の流路部材の下端の下にある下端まで下方向に延在し、前記第１の流路部材の下端よりも高さ的に上にある上側の液体透過性部分と前記上側の液体透過性部分よりも下にある下側の液体不透過性部分とを有ずる第２の流路部材と、前記第２の流路部材を包囲し、該第２の流路部材と共に内部の囲まれた環状空間を規定する外壁部材と、前記第２の流路部材と前記外壁との間の前記内部の囲まれた環状空間に液体を導入するために前記外壁部材に形成された液体流吸込ポートと、を備える、排気流処理システム。６．前記第２の流路部材の前記上側の液体透過部分が、円筒形の多孔性壁部材を含む請求項５に記載の排気流処理システム。７．前記円筒形の多孔性壁部材が、焼結金属材料で形成されている請求項６に記載の排気流処理システム。８．前記第２の流路部材の前記上側の液体透過性部分が、多孔性セラミック材料で形成されている請求項５に記載の排気流処理システム。９．前記液体透過性部分が、平均細孔径が約０．５〜約３０ミクロンの範囲である多孔性壁で構成される請求項５に記載の排気流処理システム。１０．前記第１の流路部材および前記第２の流路部材が、各々あつらえ向きの円筒形を有し、互いに同軸である請求項５に記載の排気流処理システム。１１．前記第２の流路部材を包囲する前記外壁部材が、前記第２の流路部材に対して半径方向に離れた関係で配置された円筒形の側壁と、第１の液体流路部材が貫通して延在する上端壁と、前記第２の流路部材と前記外壁部材の前記側壁との間の底端壁と、を備える、請求項５に記載の排気流処理システム。１２．排気流を前処理し、排気流の腐食性気体および微粒子成分のうちの少なくとも一部を除去し、続く酸化処理のために該排気流の特質を良くするための前処理ユニットと、前記前処理ユニットからの前処理後の排気流を受け入れ、前処理後の排気流の酸化可能な成分のうち少なくとも一部を酸化させて、酸化可能な成分の濃度が低くなった排気流を生成するように配置された酸化ユニットと、酸化可能な成分の濃度が低くなった排気流を前記酸化ユニットから受け入れるように配置され、酸化町能な成分の濃度が低くなった前記排気流とスクラブ処理媒体とを接触させ、酸化可能な成分の濃度が低くなった前記排気流からスクラブ処理可能な成分を除去し、かつ、処理システムからの最終放出用に、酸化可能な成分の濃度が低くなった前記排気流の特質を良くするためのスクラバを備える後酸化処理ユニットと、を備え、前記前処理ユニット、前記酸化ユニットおよび後酸化ユニットのうち少なくとも１つが、ユニットに導入される排気流を流体被着媒体で被着するための吸込構造を含み、前記吸込構造が、微粒子固体含有排気流をユニットに導入するための閉塞防止吸込構造を備え、前記吸込構造が、互いに直列連結関係で略垂直に配置され、前記ユニットまで前記微粒子固体含有流体流を流動させることが可能な略垂直な流路を当該直列連結関係で規定している第１および第２の流路部分を備え、前記第１の流路部分が、前記吸込構造の上側部分を有し、流路の上側の部分の境界を定める内面を有する内側の気体透過壁と、該気体透過壁を包囲する外壁とを含み、両者の間に内部の環状空間を規定し、前記吸込構造はさらに、前記第１の流路部分の前記外壁に形成され、予め定められた流量で前記内部の環状空間に低圧気体を流入させ、続いて前記内部の環状空間から前記吸込構造の垂直流路へ低圧気体を流入させるための低圧気体源に連結可能な低圧気体流ポートと、前記第１の流路部分の前記外壁に形成され、前記内部の環状空間に高圧気体を流入させ、前記気体透過壁表面に付着または形成された微粒子を該気体透過壁から洗浄する高圧気体源に連結可能な高圧気体流ポートと、を備え、前記第２の流路部分が、微粒子固体含有流体を前記第１の流路部分から前記第２の流路部分に下方向に流動させるように前記第１の流路部分と直列に連結され、かつ、前記第２の流路部分が、液体噴射ポートを内部に有する、前記第１の流路部分と連結された外壁と、前記外壁に対して離れた関係で配置されて該外壁との間で内部の環状空間を規定する内部のセキ壁と、を含み、前記内部のセキ壁が、前記第１の流路部分の前記気体透過壁に向かって延在しているが、該気体透過壁よりも手前で終端し、両者間にセキを規定するギャップが形成され、前記セキ壁が、前記第２の流路部分における前記流路の境界を定める内面を有し、前記第２の流路部分の前記外壁とその内部のセキ壁との間の前記内部の環状空間に液体が流入すると、導入された液体が前記セキを越流して前記第２の流路部分の前記内壁の内面を流れ落ち、前記微粒子固体含有気体流が前記吸込構造の前記流路を介して流動する際に、前記壁から微粒子固体を洗い流し、かつ前記内部のセキ壁の内面への固体の付着または形成を抑制する、請求項２に記載の排気流処理システム。１３．前記第１の流路部分の前記外壁に形成された低圧気体ポートに低圧気体源が連結されている請求項１２に記載の排気流処理システム。１４．前記第１の流路部分の前記外壁に形成された高圧気体ポートに高圧気体源が連結されている請求項１２に記載の排気流処理システム。１５．前記第２の流路部分の下端が、前記吸込構造の流路を介して流動する前記微粒子固体含有気体流をスクラブするためのウォータースクラバに結合されている請求項１２に記載の排気流処理システム。１６．前記第１の流路部分および前記第２の流路部分が、互いに急速脱着式に連結されている請求項１２に記載の排気流処理システム。１７．前記第１の流路部分が円筒形である請求項１２に記載の排気流処理システム。１８．前記第１の流路部分と前記第２の流路部分とが互いに同軸に整列配置されている請求項１２に記載の排気流処理システム。１９．前記気体透過壁が多孔性金属材料で形成されている請求項１２に記載の排気流処理システム。２０．前記気体透過壁が多孔性セラミックで形成されている請求項１２に記載の排気流処理システム。２１．前記第１の流路部分の前記気体透過壁および外壁が、断面円形である請求項１２に記載の排気流処理システム。２２．前記第２の流路部分の前記外壁および内部のセキ壁が、断面円形である請求項１２に記載の排気流処理システム。２３．前記第１の流路部分が、上流側の微粒子固体含有気体流供給手段に結合されている請求項１２に記載の排気流処理システム。２４．前酸化ユニットが湿式スクラバを含む請求項１に記載の排気流処理システム。２５．前記スクラバが、スクラブ媒体液を用いた湿式スクラバである請求項２４に記載の排気流処理システム。２６．前記スクラバが乾式スクラバである請求項２４に記載の排気流処理システム。２７．前記前処理ユニットが、前記排気流と洗浄媒体液とを接触させる湿式スクラバ塔を含む、請求項１に記載の排気流処理システム。２８．前記洗浄媒体液が水である請求項２７に記載の排気流処理システム。２９．前記洗浄媒体液が化学薬品を含む請求項２７に記載の排気流処理システム。３０．前酸化ユニットが、前記排気流を、該前酸化ユニットへの導入時に、気体被着構造に通す気体吸込構造を含む、請求項１に記載の排気流処理システム。３１．前記前酸化処理ユニットが、洗浄媒体液を導入するために内部に配置されたスプレーノズルを有する上側部分を含むスクラブ処理塔であって、該塔の前記スプレーノズルを被覆する前記上側部分に霜取構造を有するスクラブ処理塔を備える、請求項１に記載の排気流処理システム。３２．前記酸化ユニットよりも上流に気体被着用吸込構造を備える請求項１に記載の排気流処理システム。３３．前記酸化ユニットよりも下流に、液体被着された気体輸送構造をさらに備える、請求項１に記載の排気流処理システム。３４．前記酸化ユニットと後酸化ユニットとの間に急冷ユニットをさらに備える、請求項１に記載の排気流処理システム。３５．前記酸化ユニット、前記急冷ユニットおよび前記後酸化ユニットが、これらを介した前記気体流路に対して一体の構造を備える、請求項３４に記載の排気流処理システム。３６．後酸化処理ユニットが、スクラブ処理用媒体を通して放出し、前記排気流と向流接触させるためのスプレーノズルを上側部分に有する湿式スクラバ塔を備える、請求項１に記載の排気流処理システム。３７．後酸化スクラバ塔が気体／液体接触を促進するためのパッキングを内部に有する請求項３６に記載の排気流処理システム。３８．後酸化スクラバ塔が、その前記上側部分において前記ノズルの上に霜取構造を備える、請求項３６に記載の排気流処理システム。３９．前記酸化ユニットの下流に急冷ユニットが配置され、該急冷ユニットが、前記酸化ユニットからの前記排気流を冷却するための急冷媒体を導入する手段を備える、請求項３１に記載の排気流処理システム。４０．前酸化ユニットおよび後酸化ユニットが各々、接触後の液体を回収するための集液リザーバを含む湿式スクラバと、前記集液リザーバに対して液体流受入関係で結合され、前記湿式スクラバユニットから接触後の液体を回収するためのリザーバと、を備える、請求項１に記載の排気流処理システム。４１．前記酸化ユニットよりも下流に急冷ユニットを備え、該急冷ユニットが、前記急冷ユニットから前記酸化ユニットへの飽和水蒸気を再循環させ、前記酸化ユニットにおけるパーフルオロカーボンを酸化させる手段を含む、請求項１に記載の排気流処理システム。４２．前記酸化ユニットが電熱酸化装置を備える請求項１に記載の排気流処理システム。４３．前記酸化ユニットが火炎ベースの酸化装置を備える請求項１に記載の排気流処理システム。４４．前記酸化ユニットが流動床熱酸化装置を備える請求項１に記載の排気流処理システム。４５．前記酸化ユニットが熱交換器を備える請求項１に記載の排気流処理システム。４６．前記熱交換器が、その流路内に熱伝達促進インサートを備える請求項４５に記載の排気流処理システム。４７．前記酸化ユニットの上流または下流でパーフルオロカーボンを回収する請求項１に記載の排気流処理システム。４８．前酸化ユニット、前記酸化ユニットおよび後酸化ユニットが、一体型のキャビネット構造内に収容されている、請求項１に記載の排気流処理システム。４９．後酸化処理ユニットよりも下流に流体原動駆動装置を備える請求項１に記載の排気流処理システム。５０．前記流体原動駆動装置がポンプを含む請求項４９に記載の排気流処理システム。５１．前記流体原動駆動装置が放出器を含む請求項４９に記載の排気流処理システム。５２．前酸化処理ユニットが、前記排気流に化学物質を添加し、スクラブ除去できるように溶解性を高めた反応生成物を反応的に形成するための手段を備え、該化学物質の添加および反応に続いて前記排気流を湿式スクラブ処理する、請求項１に記載の排気流処理システム。５３．前酸化ユニットが、横断ヨーク部分によって互いに結合された第１および第２の脚部分を含むＵ字形ハウジングを備え、前記第１の脚部が、前記排気流と噴霧水とを接触させて酸性度を下げ、前記排気流の微粒子を捕捉するための散水手段を含み、前記第２の脚部が、前記排気流に噴霧水をさらに接触させるための散水手段を含み、前記横断ヨーク部分が、前記第１および第２の脚部分において前記排気流に噴霧してこれと接触させるための水を保持する回収リザーバを構成する、請求項１に記載の排気流処理システム。５４．前記酸化処理ユニットが蒸散酸化処理ユニットを含む請求項１に記載の排気流処理システム。５５．前処理手段が、前記酸化ユニット内に存在する条件下で、粒子形成剤である排気流成分をスクラブ処理することによって、前記酸化ユニットにおける微粒子形成を制御するための湿式スクラブユニットを、前記酸化ユニットよりも上流に備える、請求項１に記載の排気流処理システム。５６．排気流を前処理し、排気流の腐食性気体および微粒子成分のうちの少なくとも一部を除去し、続く酸化処理のために該排気流の特質を良くするための前処理ユニットと、前記前処理ユニットからの前処理後の排気流を受け入れ、前処理後の排気流の酸化可能な成分のうち少なくとも一部を酸化させて、酸化可能な成分の濃度が低くなった排気流を生成するように配置された酸化処理ユニットと、（ｉ）前記酸化処理ユニットから、酸化可能な成分の濃度が低くなった前記排気流を受け入れ、(ｉｉ)酸化可能な成分の濃度が低くなった前記排気流の腐食性成分および／または微粒子成分をさらに除去し、処理システムからの最終放出用に、酸化可能な成分の濃度が低くなった前記排気流の特質を良くするように配置された後酸化処理ユニットと、前記排気流処理システムの少なくとも１つの処理ユニットに、前記微粒子含有排気流を導入するための閉塞防止吸込構造であって、微粒子固体含有排気流を下方向に流すために略垂直に配置された流路を備える、閉塞防止吸込構造と、を備え、前記流路が、セキ開口が形成された境界壁と、前記セキ開口と液体供給関係で前記セキ開口を囲んでいる環状の液体供給リザーバとを含み、該リザーバが、前記環状の液体供給リザーバに液体を供給して前記セキ開口を介して流動させるための手段を有し、前記環状の液体供給リザーバに液体が流入すると、導入された液体が前記セキ開口を介して流れて前記流路の前記境界壁を流れ落ち、前記微粒子固体含有気体流が前記吸込構造の前記流路を介して流動する際に、前記壁から微粒子固体を洗い流し、かつ前記境界壁の内面への固体の付着または形成を抑制する、排気流処理システム。５７．前記セキ開口上の前記境界壁の一部を気体被着する手段をさらに備える請求項５６に記載の排気流処理システム。５８．前記酸化ユニットから放出される前記排気流を冷却するための急冷ユニットをさらに備える請求項１に記載の排気流処理システム。５９．前記急冷ユニットが、前記酸化ユニットから放出される前記排気流を苛性溶液と接触させ、シリカ粒子を前記排気流から除去するように構成および配置されている、請求項１に記載の排気流処理システム。６０．フルーム／煙条制御用の湿式電気集塵装置をさらに備える請求項１に記載の排気流処理システム。【手続補正書】特許法第１８４条の８第１項【提出日】平成１０年１２月１１日（１９９８．１２．１１）【補正内容】６１．上流側のプロセスから処理システムに流入する排気流の酸気体濃度および微粒子成分濃度を低くするための前処理ユニットであって、並流湿式スクラバ部分を規定するＵ字形状の第１の脚と、向流湿式スクラバ部分を規定するＵ字形状の第２の脚と、前記並流湿式スクラバ部分と前記向流湿式スクラバセクションとを連通させるＵ字形状の横断底部分と、を含むＵ字形形状を有し、排気流と水様媒体とを前記並流湿式スクラバ部分において第１の並流接触させるための手段と、続いて、前記並流湿式スクラバ部分および前記横断底部分を介した前記排気流の流れの後に、前記排気流と前記水様媒体とを前記向流湿式スクラバ部分において向流接触させるための手段と、含む並流向流湿式スクラバを備え、酸気体濃度および微粒子成分濃度が低くなった排気流を生成する前処理ユニットと、前記前処理ユニットから酸気体および微粒子濃度が低くなった排気流を受け入れ、前記排気流の酸化可能な成分の少なくとも一部を酸化させるように配置された酸化処理ユニットと、酸化処理後の前記排気流を受け入れ、前記排気流を冷却するように配置された急冷チャンバと、（ｉ）前記急冷チャンバからの排気流を受け入れ、（ｉｉ）水様媒体で前記排気流をスクラブ処理し、前記排気流の腐食性気体および／または微粒子成分をさらに除去し、かつ処理システムからの最終放出用に前記排気流の特質を良くするように配置された後酸化処理ユニットと、前記前処理ユニット、前記急冷チャンバおよび前記後酸化処理ユニットと液体流連通状態にあり、前記並流向流湿式スクラバ、前記急冷チャンバおよび後処理湿式スクラバから水様媒体を受け入れて、かつ前記排気流から水様媒体を放出するように配置された集液タンクと、を備える排気流処理システム。６２．処理システムに流入する排気流の酸気体濃度および微粒子成分濃度を低くするための前処理ユニットであって、スクラバを備える前処理ユニットと、前記前処理ユニットから酸気体および微粒子濃度が低くなった排気流を受け入れ、前記排気流の酸化可能な成分の少なくとも一部を酸化させるように配置された酸化処理ユニットと、（ｉ）前記酸化処理ユニットがらの排気流を受け入れ、（ｉｉ）処理システムからの最終放出用に前記排気流の特質を良くするように前記排気流をスクラブ処理するように配置された後酸化処理ユニットと、を備え、前記排気流処理システムの前記前処理ユニット、前記酸化ユニットおよび前記後酸化処理ユニットのうち少なくとも１つが、前記排気流を導入するための閉塞防止排気流吸込構造を有し、該吸込構造が、前記排気気流を導入するための上側の入口と前記気体流を放出するための下端とを有する、垂直に延在する第１の吸込流路部材と、前記第１の流路部材を囲み、該第１の流路部材とは互いに離れた関係で該第１の流路部材との間に環状の空間を規定する第２の流路部材であって、第１の流路部材の下端の下にある下端まで下方向に延在し、上側の部分と前記上側の部分よりも下にある下側の部分とを有する第２の流路部材と、を備え、前記第２の流路の前記上側の部分が、前記第１の流路部材と前記第２の流路部材との間の前記環状の空間に被着流体を導入し、前記環状の空間を介して該被着流体を下方向に流すのに適しており、前記吸込構造がさらに、前記第２の流路部材に液体を供給して、前記第２の流路部材の前記下側の部分の内面全体に、前記被着流体の少なくとも一部として液体の下方向への流れを提供するための手段を有し、前記第２の流路部材に液体を供給するための前記手段が、以下の群すなわち、（ｉ）前記第２の流路部材の前記上側の部分が、前記環状の空間を規定している内面と、外面とを有する多孔性壁を含み、前記外面に液体を供給してこれを透過して前記内面まで送り、該内面および前記第２の流路部材の前記下側の部分の内面に沿って下方向に流動させるように液体源が配置されるか、（ｉｉ）前記第２の流路部材の前記下側の部分が、前記環状の空間を規定している内面と、外面とを有する多孔性壁を含み、前記外面に液体を供給してこれを透過して前記内面まで送り、前記第２の流路部材の前記下側の部分の内面に沿って下方向に流動させるように液体源が配置されるか、（ｉｉｉ）前記第２の流路部材の前記下側の部分が、前記環状の空間を規定している内面を有する壁を備え、前記壁が、その上側の部分に開口を規定し、前記開口に液体を供給し、これを前記壁の前記上側の部分上全体に流動させ、かつ前記第２の流路部材の前記下側の部分の内面上に下方向に流動させるように液体源が配置された、うちの１つを含む、排気流処理システム。【手続補正書】【提出日】平成１１年１１月２日（１９９９．１１．２）【補正内容】請求の範囲１．処理システムに流入する排気流の酸気体濃度および微粒子成分濃度を低くするための前処理ユニットであって、スクラバを備える前処理ユニットと、前記前処理ユニットから酸気体および微粒子濃度が低くなった排気流を受け入れ、前記排気流の酸化可能な成分の少なくとも一部を酸化させるように配置された酸化処理ユニットと、（ｉ）前記酸化処理ユニットからの排気流を受け入れ、（ｉｉ）処理システムからの最終放出用に前記排気流の特質を良くするよう前記排気流をスクラブ処理するように配置された後酸化処理ユニットと、前記排気流処理システムの前記前処理ユニットに前記排気流を導入するための閉塞防止吸込構造であって、微粒子固体含有排気流を下方向に流すために略垂直に配置された流路を備える、閉塞防止吸込構造と、を備え、前記流路が、セキ開口が形成された境界壁と、前記セキ開口と液体供給関係で前記セキ開口を囲んでいる環状の液体供給リザーバとを含み、該リザーバが、前記環状の液体供給リザーバに液体を供給して前記セキ開口を介して流動させるための手段を有し、前記環状の液体供給リザーバに液体が流入すると、導入された液体が前記セキ開口を介して流れて前記流路の前記境界壁を流れ落ち、前記微粒子固体含有気体流が前記吸込構造の前記流路を介して流動する際に、前記壁から微粒子固体を洗い流し、かつ前記境界壁の内面への固体の付着または形成を抑制する、排気流処理システム。２．前記酸化処理ユニットと、前記後酸化処理ユニットとのうち少なくとも１つが、ユニットに導入される排気流を流体被着媒体で被着するための排気流吸込構造を含む、請求項１に記載の排気流処理システム。３．前記排気流吸込構造が、排気流を被着するための気体媒体をなくすための手段を含む請求項２に記載の排気流処理システム。４．前記排気流吸込構造が、排気流を被着するための液体媒体をなくすための手段を含む請求項２に記載の排気流処理システム。５．排気流を前処理し、排気流の腐食性気体および微粒子成分のうちの少なくとも一部を除去し、続く酸化処理のために該排気流の特質を良くするための前処理ユニットと、前記前処理ユニットからの前処理後の排気流を受け入れ、前処理後の排気流の酸化可能な成分のうち少なくとも一部を酸化させて、酸化可能な成分の濃度が低くなった排気流を生成するように配置された酸化ユニットと、酸化可能な成分の濃度が低くなった排気流を前記酸化ユニットから受け入れるように配置され、酸化可能な成分の濃度が低くなった前記排気流とスクラブ処理媒体とを接触させ、酸化可能な成分の濃度が低くなった前記排気流からスクラブ処理可能な成分を除去し、かつ、処理システムからの最終放出用に、酸化可能な成分の濃度が低くなった前記排気流の特質を良くするためのスクラバを備える後酸化処理ユニットと、を備え、前記前処理ユニット、前記酸化ユニットおよび後酸化ユニツトのうち少なくとも１つが、ユニットに導入される排気流を流体被着媒体で被着するための吸込構造を含み、前記吸込構造が、気体／液体インタフェース構造を備え、該気体／液体インタフェース構造が、前記排気気流を導入するための上側の入口と前記排気流を放出するための下端とを有する、垂直に延在する第１の吸込流路部材と、前記第１の流路部材を囲み、該第１の流路部材とは互いに離れた関係で該第１の流路部材との間に環状の空間を規定する第２の流路部材であって、第１の流路部材の下端の下にある下端まで下方向に延在し、前記第１の流路部材の下端よりも高さ的に上にある上側の液体透過性部分と前記上側の液体透過性部分よりも下にある下側の液体不透過性部分とを有する第２の流路部材と、前記第２の流路部材を包囲し、該第２の流路部材と共に内部の囲まれた環状空間を規定する外壁部材と、前記第２の流路部材と前記外壁との間の前記内部の囲まれた環状空間に液体を導入するために前記外壁部材に形成された液体流吸込ポートと、を備える、排気流処理システム。６．前記第２の流路部材の前記上側の液体透過部分が、円筒形の多孔性壁部材を含む請求項５に記載の排気流処理システム。７．前記円筒形の多孔性壁部材が、焼結金属材料で形成されている請求項６に記載の排気流処理システム。８．前記第２の流路部材の前記上側の液体透過性部分が、多孔性セラミック材料で形成されている請求項５に記載の排気流処理システム。９．前記液体透過性部分が、平均細孔径が約０．５〜約３０ミクロンの範囲である多孔性壁で構成される請求項５に記載の排気流処理システム。１０．前記第１の流路部材および前記第２の流路部材が、各々あつらえ向きの円筒形を有し、互いに同軸である請求項５に記載の排気流処理システム。１１．前記第２の流路部材を包囲する前記外壁部材が、前記第２の流路部材に対して半径方向に離れた関係で配置された円筒形の側壁と、第１の液体流路部材が貫通して延在する上端壁と、前記第２の流路部材と前記外壁部材の前記側壁との間の底端壁と、を備える、請求項５に記載の排気流処理システム。１２．排気流を前処理し、排気流の腐食性気体および微粒子成分のうちの少なくとも一部を除去し、続く酸化処理のために該排気流の特質を良くするための前処理ユニットと、前記前処理ユニットからの前処理後の排気流を受け入れ、前処理後の排気流の酸化可能な成分のうち少なくとも一部を酸化させて、酸化可能な成分の濃度が低くなった排気流を生成するように配置された酸化ユニットと、酸化可能な成分の濃度が低くなった排気流を前記酸化ユニットから受け入れるように配置され、酸化可能な成分の濃度が低くなった前記排気流とスクラブ処理媒体とを接触させ、酸化可能な成分の濃度が低くなった前記排気流からスクラブ処理可能な成分を除去し、かつ、処理システムからの最終放出用に、酸化可能な成分の濃度が低くなった前記排気流の特質を良くするためのスクラバを備える後酸化処理ユニットと、を備え、前記前処理ユニット、前記酸化ユニットおよび後酸化ユニットのうち少なくとも１つが、ユニットに導入される排気流を流体被着媒体で被着するための吸込構造を含み、前記吸込構造が、微粒子固体含有排気流をユニットに導入するための閉塞防止吸込構造を備え、前記吸込構造が、互いに直列連結関係で略垂直に配置され、前記ユニットまで前記微粒子固体含有流体流を流動させることが可能な略垂直な流路を当該直列連結関係で規定している第１および第２の流路部分を備え、前記第１の流路部分が、前記吸込構造の上側部分を有し、流路の上側の部分の境界を定める内面を有する内側の気体透過壁と、該気体透過壁を包囲する外壁とを含み、両者の間に内部の環状空間を規定し、前記吸込構造はさらに、前記第１の流路部分の前記外壁に形成され、予め定められた流量で前記内部の環状空間に低圧気体を流入させ、続いて前記内部の環状空間から前記吸込構造の垂直流路へ低圧気体を流入させるための低圧気体源に連結可能な低圧気体流ポートと、前記第１の流路部分の前記外壁に形成され、前記内部の環状空間に高圧気体を流入させ、前記気体透過壁表面に付着または形成された微粒子を該気体透過壁から洗浄する高圧気体源に連結可能な高圧気体流ポートと、を備え、前記第２の流路部分が、微粒子固体含有流体を前記第１の流路部分から前記第２の流路部分に下方向に流動させるように前記第１の流路部分と直列に連結され、かつ、前記第２の流路部分が、液体噴射ポートを内部に有する、前記第１の流路部分と連結された外壁と、前記外壁に対して離れた関係で配置されて該外壁との間で内部の環状空間を規定する内部のセキ壁と、を含み、前記内部のセキ壁が、前記第１の流路部分の前記気体透過壁に向かって延在しているが、該気体透過壁よりも手前で終端し、両者間にセキを規定するギャップが形成され、前記セキ壁が、前記第２の流路部分における前記流路の境界を定める内面を有し、前記第２の流路部分の前記外壁とその内部のセキ壁との間の前記内部の環状空間に液体が流入すると、導入された液体が前記セキを越流して前記第２の流路部分の前記内壁の内面を流れ落ち、前記微粒子固体含有気体流が前記吸込構造の前記流路を介して流動する際に、前記壁から微粒子固体を洗い流し、かつ前記内部のセキ壁の内面への固体の付着または形成を抑制する、請求項２に記載の排気流処理システム。１３．前記第１の流路部分の前記外壁に形成された低圧気体ポートに低圧気体源が連結されている請求項１２に記載の排気流処理システム。１４．前記第１の流路部分の前記外壁に形成された高圧気体ポートに高圧気体源が連結されている請求項１２に記載の排気流処理システム。１５．前記第２の流路部分の下端が、前記吸込構造の流路を介して流動する前記微粒子固体含有気体流をスクラブするためのウォータースクラバに結合されている請求項１２に記載の排気流処理システム。１６．前記第１の流路部分および前記第２の流路部分が、互いに急速脱着式に連結されている請求項１２に記載の排気流処理システム。１７．前記第１の流路部分が円筒形である請求項１２に記載の排気流処理システム。１８．前記第１の流路部分と前記第２の流路部分とが互いに同軸に整列配置されている請求項１２に記載の排気流処理システム。１９．前記気体透過壁が多孔性金属材料で形成されている請求項１２に記載の排気流処理システム。２０．前記気体透過壁が多孔性セラミックで形成されている請求項１２に記載の排気流処理システム。２１．前記第１の流路部分の前記気体透過壁および外壁が、断面円形である請求項１２に記載の排気流処理システム。２２．前記第２の流路部分の前記外壁および内部のセキ壁が、断面円形である請求項１２に記載の排気流処理システム。２３．前記第１の流路部分が、上流側の微粒子固体含有気体流供給手段に結合されている請求項１２に記載の排気流処理システム。２４．前酸化ユニットが湿式スクラバを含む請求項１に記載の排気流処理システム。２５．前記スクラバが、スクラブ媒体液を用いた湿式スクラバである請求項２４に記載の排気流処理システム。２６．前記スクラバが乾式スクラバである請求項２４に記載の排気流処理システム。２７．前記前処理ユニットが、前記排気流と洗浄媒体液とを接触させる湿式スクラバ塔を含む、請求項１に記載の排気流処理システム。２８．前記洗浄媒体液が水である請求項２７に記載の排気流処理システム。２９．前記洗浄媒体液が化学薬品を含む請求項２７に記載の排気流処理システム。３０．前酸化ユニットが、前記排気流を、該前酸化ユニットへの導入時に、気体被着構造に通す気体吸込構造を含む、請求項１に記載の排気流処理システム。３１．前記前酸化処理ユニットが、洗浄媒体液を導入するために内部に配置されたスプレーノズルを有する上側部分を含むスクラブ処理塔であって、該塔の前記スプレーノズルを被覆する前記上側部分に霜取構造を有するスクラブ処理塔を備える、請求項１に記載の排気流処理システム。３２．前記酸化ユニットよりも上流に気体被着用吸込構造を備える請求項１に記載の排気流処理システム。３３．前記酸化ユニットよりも下流に、液体被着された気体輸送構造をさらに備える、請求項１に記載の排気流処理システム。３４．前記酸化ユニットと後酸化ユニットとの間に急冷ユニットをさらに備える、請求項１に記載の排気流処理システム。３５．前記酸化ユニット、前記急冷ユニットおよび前記後酸化ユニットが、これらを介した前記気体流路に対して一体の構造を備える、請求項３４に記載の排気流処理システム。３６．後酸化処理ユニットが、スクラブ処理用媒体を通して放出し、前記排気流と向流接触させるためのスプレーノズルを上側部分に有する湿式スクラバ塔を備える、請求項１に記載の排気流処理システム。３７．後酸化スクラバ塔が気体／液体接触を促進するためのパッキングを内部に有する請求項３６に記載の排気流処理システム。３８．後酸化スクラバ塔が、その前記上側部分において前記ノズルの上に霜取構造を備える、請求項３６に記載の排気流処理システム。３９．前記酸化ユニットの下流に急冷ユニットが配置され、該急冷ユニットが、前記酸化ユニットからの前記排気流を冷却するための急冷媒体を導入する手段を備える、請求項３１に記載の排気流処理システム。４０．前酸化ユニットおよび後酸化ユニットが各々、接触後の液体を回収するための集液リザーバを含む湿式スクラバと、前記集液リザーバに対して液体流受入関係で結台され、前記湿式スクラバユニットから接触後の液体を回収するためのリザーバと、を備える、請求項１に記載の排気流処理システム。４１．前記酸化ユニットよりも下流に急冷ユニットを備え、該急冷ユニットが、前記急冷ユニットから前記酸化ユニットへの飽和水蒸気を再循環させ、前記酸化ユニットにおけるパーフルオロカーボンを酸化させる手段を含む、請求項１に記載の排気流処理システム。４２．前記酸化ユニットが電熱酸化装置を備える請求項１に記載の排気流処理システム。４３．前記酸化ユニットが火炎ベースの酸化装置を備える請求項１に記載の排気流処理システム。４４．前記酸化ユニットが流動床熱酸化装置を備える請求項１に記載の排気流処理システム。４５．前記酸化ユニットが熱交換器を備える請求項１に記載の排気流処理システム。４６．前記熱交換器が、その流路内に熱伝達促進インサートを備える請求項４５に記載の排気流処理システム。４７．前記酸化ユニットの上流または下流でパーフルオロカーボンを回収する請求項１に記載の排気流処理システム。４８．前酸化ユニット、前記酸化ユニットおよび後酸化ユニットが、一体型のキャビネット構造内に収容されている、請求項１に記載の排気流処理システム。４９．後酸化処理ユニットよりも下流に流体原動駆動装置を備える請求項１に記載の排気流処理システム。５０．前記流体原動駆動装置がポンプを含む請求項４９に記載の排気流処理システム。５１．前記流体原動駆動装置が放出器を含む請求項４９に記載の排気流処理システム。５２．前酸化処理ユニットが、前記排気流に化学物質を添加し、スクラブ除去できるように溶解性を高めた反応生成物を反応的に形成するための手段を備え、該化学物質の添加および反応に続いて前記排気流を湿式スクラブ処理する、請求項１に記載の排気流処理システム。５３．前酸化ユニットが、横断ヨーク部分によって互いに結合された第１および第２の脚部分を含むＵ字形ハウジングを備え、前記第１の脚部が、前記排気流と噴霧水とを接触させて酸性度を下げ、前記排気流の微粒子を捕捉するための散水手段を含み、前記第２の脚部が、前記排気流に噴霧水をさらに接触させるための散水手段を含み、前記横断ヨーク部分が、前記第１および第２の脚部分において前記排気流に噴霧してこれと接触させるための水を保持する回収リザーバを構成する、請求項１に記載の排気流処理システム。５４．前記酸化処理ユニットが蒸散酸化処理ユニットを含む請求項１に記載の排気流処理システム。５５．前処理手段が、前記酸化ユニット内に存在する条件下で、粒子形成剤である排気流成分をスクラブ処理することによって、前記酸化ユニットにおける微粒子形成を制御するための湿式スクラブユニットを、前記酸化ユニットよりも上流に備える、請求項１に記載の排気流処理システム。５６．排気流を前処理し、排気流の腐食性気体および微粒子成分のうちの少なくとも一部を除去し、続く酸化処理のために該排気流の特質を良くするための前処理ユニットと、前記前処理ユニットからの前処理後の排気流を受け入れ、前処理後の排気流の酸化可能な成分のうち少なくとも一部を酸化させて、酸化可能な成分の濃度が低くなった排気流を生成するように配置された酸化処理ユニットと、（ｉ）前記酸化処理ユニットから、酸化可能な成分の濃度が低くなった前記排気流を受け入れ、（ｉｉ）酸化可能な成分の濃度が低くなった前記排気流の腐食性成分および／または微粒子成分をさらに除去し、処理システムからの最終放出用に、酸化可能な成分の濃度が低くなった前記排気流の特質を良くするように配置された後酸化処理ユニットと、前記排気流処理システムの少なくとも１つの処理ユニットに、前記微粒子含有排気流を導入するための閉塞防止吸込構造であって、微粒予固体含有排気流を下方向に流すために略垂直に配置された流路を備える、閉塞防止吸込構造と、を備え、前記流路が、セキ開口が形成された境界壁と、前記セキ開口と液体供給関係で前記セキ開口を囲んでいる環状の液体供給リザーバとを含み、該リザーバが、前記環状の液体供給リザーバに液体を供給して前記セキ開口を介して流動させるための手段を有し、前記環状の液体供給リザーバに液体が流入すると、導入された液体が前記セキ開口を介して流れて前記流路の前記境界壁を流れ落ち、前記微粒子固体含有気体流が前記吸込構造の前記流路を介して流動する際に、前記壁から微粒子固体を洗い流し、かつ前記境界壁の内面への固体の付着または形成を抑制する、排気流処理システム。５７．前記セキ開口上の前記境界壁の一部を気体被着する手段をさらに備える請求項５６に記載の排気流処理システム。５８．前記酸化ユニットから放出される前記排気流を冷却するための急冷ユニットをさらに備える請求項１に記載の排気流処理システム。５９．前記急冷ユニットが、前記酸化ユニットから放出される前記排気流を苛性溶液と接触させ、シリカ粒子を前記排気流から除去するように構成および配置されている、請求項１に記載の排気流処理システム。６０．フルーム／煙条制御用の湿式電気集塵装置をさらに備える請求項１に記載の排気流処理システム。６１．上流側のプロセスから処理システムに流入する排気流の酸気体濃度および微粒予成分濃度を低くするための前処理ユニットであって、並流湿式スクラバ部分を規定するＵ字形状の第１の脚と、向流湿式スクラバ部分を規定するＵ字形状の第２の脚と、前記並流湿式スクラバ部分と前記向流湿式スクラバセクションとを連通させるＵ字形状の横断底部分ど、を含むＵ字形形状を有し、排気流と水様媒体とを前記並流湿式スクラバ部分において第１の並流接触させるための手段と、続いて、前記並流湿式スクラバ部分および前記横断底部分を介した前記排気流の流れの後に、前記排気流と前記水様媒体とを前記向流湿式スクラバ部分において向流接触させるための手段と、含む並流向流湿式スクラバを備え、酸気体濃度および微粒子成分濃度が低くなった排気流を生成する前処理ユニットと、前記前処理ユニットから酸気体および微粒子濃度が低くなった排気流を受け入れ、前記排気流の酸化可能な成分の少なくとも一部を酸化させるように配置された酸化処理ユニットと、酸化処理後の前記排気流を受け入れ、前記排気流を冷却するように配置された急冷チャンバと、（ｉ）前記急冷チャンバからの排気流を受け入れ、（ｉｉ）水様媒体で前記排気流をスクラブ処理し、前記排気流の腐食性気体および／または微粒子成分をさらに除去し、かつ処理システムからの最終放出用に前記排気流の特質を良くするように配置された後酸化処理ユニットと、前記前処理ユニット、前記急冷チャンバおよび前記後酸化処理ユニットと液体流連通状態にあり、前記並流向流湿式スクラバ、前記急冷チャンバおよび後処理湿式スクラバから水様媒体を受け入れて、かつ前記排気流から水様媒体を放出するように配置された集液タンクと、を備える排気流処理システム。６２．処理システムに流入する排気流の酸気体濃度および微粒予成分濃度を低くするための前処理ユニットであって、スクラバを備える前処理ユニットと、前記前処理ユニットから酸気体および微粒子濃度が低くなつた排気流を受け入れ、前記排気流の酸化可能な成分の少なくとも一部を酸化させるように配置された酸化処理ユニットと、（ｉ）前記酸化処理ユニットからの排気流を受け入れ、（ｉｉ）処理システムからの最終放出用に前記排気流の特質を良くするように前記排気流をスクラブ処理するように配置された後酸化処理ユニットと、を備え、前記排気流処理システムの前記前処理ユニット、前記酸化ユニットおよび前記後酸化処理ユニットのうち少なくとも１つが、前記排気流を導入するための閉塞防止排気流吸込構造を有し、該吸込構造が、前記排気気流を導入するための上側の入口と前記気体流を放出するための下端とを有する、垂直に延在する第１の吸込流路部材と、前記第１の流路部材を囲み、該第１の流路部材とは互いに離れた関係で該第１の流路部材との間に環状の空間を規定する第２の流路部材であって、第１の流路部材の下端の下にある下端まで下方向に延在し、上側の部分と前記上側の部分よりも下にある下側の部分とを有する第２の流路部材と、を備え、前記第２の流路の前記上側の部分が、前記第１の流路部材と前記第２の流路部材との間の前記環状の空間に被着流体を導入し、前記環状の空間を介して該被着流体を下方向に流すのに適しており、前記吸込構造がさらに、前記第２の流路部材に液体を供給して、前記第２の流路部材の前記下側の部分の内面全体に、前記被着流体の少なくとも一部として液体の下方向への流れを提供するための手段を有し、前記第２の流路部材に液体を供給するための前記手段が、以下の群すなわち、（ｉ）前記第２の流路部材の前記上側の部分が、前記環状の空間を規定している内面と、外面とを有する多孔性壁を含み、前記外面に液体を供給してこれを透過して前記内面まで送り、該内面および前記第２の流路部材の前記下側の部分の内面に沿って下方向に流動させるように液体源が配置されるか、（ｉｉ）前記第２の流路部材の前記下側の部分が、前記環状の空間を規定している内面と、外面とを有する多孔性壁を含み、前記外面に液体を供給してこれを透過して前記内面まで送り、前記第２の流路部材の前記下側の部分の内面に沿って下方向に流動させるように液体源が配置されるか、（ｉｉｉ）前記第２の流路部材の前記下側の部分が、前記環状の空間を規定している内面を有する壁を備え、前記壁が、その上側の部分に開口を規定し、前記開口に液体を供給し、これを前記壁の前記上側の部分上全体に流動させ、かつ前記第２の流路部材の前記下側の部分の内面上に下方向に流動させるように液体源が配置された、うちの１つを含む、排気流処理システム。６３．少なくとも１個の半導体製造プロセス・ツールから排気流を受けるよう構成される請求項１に記載の排気流処理システム。６４．前記排気流を前処理する前記前処理手段が前処理ユニットを備え、前記排気流から水溶性成分を除去するよう構成される、請求項６３に記載の排気流処理システム。６５．前記前処理ユニットが前記排気流から微粒子を除去するよう構成される請求項６３に記載の排気流処理システム。６６．前記排気流の前記酸化可能な成分の少なくとも一部を酸化させる際に、前記酸化ユニットが前記排気流の温度を上昇させるよう構成される、請求項１に記載の排気流処理システム。６７．前記酸化ユニットの下流に急冷ユニットをさらに備え、前記排気流の温度を下降させるよう構成される、請求項１に記載の排気流処理システム。６８．前記後酸化処理手段が後処理ユニットを備え、前記流体流から酸性成分を除去するよう構成される、請求項１に記載の排気流処理システム。６９．前記後処理ユニットが前記流体流から微粒子を除去するよう構成される請求項６８に記載の排気流処理システム。７０．前記排気流の前処理手段が湿式スプレー塔を備える請求項１に記載の排気流処理システム。７１．前記湿式スプレー塔が不活性ガス利用型噴霧ノズルを備える請求項７０に記載の排気流処理システム。７２．前記排気流を後酸化処理する前記後酸化処理手段が湿式スプレー塔を備える請求項７１に記載の排気流処理システム。７３．前記湿式スプレ塔がデミスタメッシュ・パッキングを備える請求項７２に記載の排気流システム。７４．前記急冷ユニットが噴霧ノズルを備える請求項６７に記載の排気流処理システム。７５．前記酸化ユニットが触媒酸化装置を備える請求項１に記載の排気流処理システム。７６．前記酸化ユニットが熱酸化装置を備える請求項１に記載の排気流処理システム。７７．前記酸化ユニットが排気流と酸化触媒とを混合するよう構成される請求項１に記載の排気流処理システム。７８．前記半導体製造プロセス・ツールがＣＶＤツール、エッチング・ツールおよびイオン噴射用ツールから成るグループから選択される、請求項６３に記載の排気流処理システム。７９．前記酸化ユニットが前記流体流のハロゲン含有成分の少なくとも一部の分解を行なうために水素源を利用するよう構成される、請求項１に記載の排気流処理システム。８０．前記水素源が水蒸気を備える請求項７９に記載の排気流処理システム。８１．前記ハロゲン含有成分がフッ素、塩素およびパーフルオロカーボンの少なくとも１個を含む、請求項７９に記載の排気流処理システム。８２．１個または複数個の半導体製造プロセス・ツールからの前記流体流を処理するための装置であって、少なくとも１個の半導体製造プロセス・ツールの下流にあり、前記流体流の温度を上昇させ、前記流体流のハロゲン含有成分の少なくとも一部の分解を行うため水素源を利用し、前記流体流の前記酸化可能な成分の少なくとも一部の酸化を行うよう構成される酸化ユニットと、前記酸化ユニットの下流にあり、前記流体流から酸性物質を除去するよう構成される後処理ユニットと、を備える装置。８３．急冷ユニットを前記酸化ユニットの下流、前記後処理ユニットの上流にさらに備え、前記流体流の温度を下降させるよう構成される、請求項８２に記載の装置。８４．前記急冷ユニットからの水蒸気が、前記流体流の前記ハロゲン含有成分の少なくとも一部の分解を行うための水素源として利用されるために前記酸化ユニットに再循環される、請求項８３に記載の装置。８５．１個または複数個の半導体製造プロセス・ツールから前記流体流を処理する方法であって、前記流体流から水溶性気体を除去する工程と、前記流体流の酸化可能な成分の少なくとも一部を酸化する工程と、前記流体流から酸性成分を除去する工程と、を含む方法。８６．酸化ユニットを含むシステムを利用して１個または複数個の半導体製造プロセス・ツールから前記流体流を処理する方法であって、前記酸化ユニット内で水素源を使用して前記流体流の前記ハロゲン含有成分の少なくとも一部の分解および前記流体流の前記酸化可能な成分の少なくとも一部の酸化を行う工程と、前記流体流から前記酸性成分を除去する工程と、を備える方法。８７．酸化を行う工程が、前記流体流を酸化触媒および水蒸気と混合する工程と、前記流体流を加熱する工程と、を含む請求項８６に記載の方法。８８．前記水素源が水蒸気を備える請求項８２に記載の方法。８９．前記水素源が水蒸気を備える請求項８６に記載の方法。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (31)優先権主張番号７７８，３９６ (32)優先日平成８年12月31日(1996．12．31) (33)優先権主張国米国（ＵＳ） (31)優先権主張番号８５７，４４８ (32)優先日平成９年５月16日(1997．5．16) (33)優先権主張国米国（ＵＳ） (31)優先権主張番号８７０，７０５ (32)優先日平成９年６月６日(1997．6．6) (33)優先権主張国米国（ＵＳ） (81)指定国ＥＰ(ＡＴ，ＢＥ，ＣＨ，ＤＥ，ＤＫ，ＥＳ，ＦＩ，ＦＲ，ＧＢ，ＧＲ，ＩＥ，ＩＴ，ＬＵ，ＭＣ，ＮＬ，ＰＴ，ＳＥ)，ＣＮ，ＪＰ，ＫＲ，ＳＧ (72)発明者カーペンター，ケントアメリカ合衆国，コネチカット州 06903, スタムフォード，バターナットレーン 257 (72)発明者レーン，スコットアメリカ合衆国，アリゾナ州 85224，チャンドラー，ウエストモアロスストリート 1233 (72)発明者アーヤ，プラカッシュ，ヴィ. アメリカ合衆国，ロードアイランド州 02905，クランストン，ノーウッドアベニュー 179 (72)発明者バリュー，パトリックアメリカ合衆国，コロラド州 80524，フォートコリンズ，レッドベリーコート 1513 (72)発明者スウィーニー，ジョゼフ，ディー. アメリカ合衆国，カリフォルニア州 94112，サンフランシスコ，ロシアアベニュー 502

Claims

【特許請求の範囲】１．排気流処理システムであって、排気流を前処理し、続く酸化処理のために該排気流の特質を良くするための手段と、前記排気流の酸化可能な成分の少なくとも一部を酸化し、このような酸化可能な成分を除去する酸化ユニットと、前記排気流を後酸化処理し、前記処理システムから排出するために前記排気流の特質を良くするための手段と、を備える排気流処理システム。２．液体または気体の被着媒体を前記排気流に被着させるための気体流吸込構造を備える、請求項１に記載の排気流処理システム。３．前記被着媒体が気体を含む請求項２に記載の排気流処理システム。４．前記被着媒体が液体を含む請求項２に記載の排気流処理システム。５．前記吸込構造が、前記排気流を上流側の排気流源から下流側の処理ユニットまで運ぶ気体／液体インタフェース構造を備え、該気体／液体インタフェース構造が、前記気体流を導入するための上側の入口と前記気体流を放出するための下端とを有する、垂直に延在する第１の吸込流路部材と、前記第１の流路部材を囲み、該第１の流路部材とは互いに離れた関係で該第１の流路部材との間に環状の空間を規定する第２の流路部材であって、第１の流路部材の下端の下にある下端まで下方向に延在し、前記第１の流路部材の下端よりも高さ的に上にある上側の液体透過性部分と前記上側の液体透過性部分よりも下にある下側の液体不透過性部分とを有する第２の流路部材と、前記第２の流路部材を包囲し、該第２の流路部材と共に内部の囲まれた環状空間を規定する外壁部材と、前記第２の流路部材と前記外壁との間の前記内部の囲まれた環状空間に液体を導入するために前記外壁部材に形成された液体流吸込ポートと、を備える、請求項２に記載の排気流処理システム。６．前記第２の流路部材の前記上側の液体透過性部分が、円筒形の多孔性壁部材を有する請求項５に記載の排気流処理システム。７．前記円筒形の多孔性壁部材が、焼結金属材料で形成されている請求項６に記載の排気流処理システム。８．前記第２の流路部材の前記上側の液体透過性部分が、多孔性セラミック材料で形成されている請求項５に記載の排気流処理システム。９．前記液体透過性部分が、平均細孔径が約０．５〜約３０ミクロンの範囲である多孔性壁で構成される請求項５に記載の排気流処理システム。１０．前記第１の流路部材および前記第２の流路部材が、各々あつらえ向きの円筒形を有し、互いに同軸である請求項５に記載の排気流処理システム。１１．前記第２の流路部材を包囲する前記外壁部材が、前記第２の流路部材に対して半径方向に離れた関係で配置された円筒形の側壁と、第１の液体流路部材が貫通して延在する上端壁と、前記第２の流路部材と前記外壁部材の前記側壁との間の底端壁と、を備える、請求項５に記載の排気流処理システム。１２．前記吸込構造が、排気流システムにおける処理ユニットに微粒子固体含有流体流を導入するための閉塞防止吸込構造を備え、前記吸込構造が、互いに直列連結関係で略垂直に配置され、上流側の微粒子固体含有流体源から前記吸込構造に対して流体受入関係にある前記処理ユニットまで前記微粒子固体含有流体流を流動させることが可能な略垂直な流路を当該直列連結関係で規定している第１および第２の流路部分を備え、前記第１の流路部分が、前記吸込構造の上側部分を有し、流路の上側の部分の境界を定める内面を有する内側の気体透過壁と、該気体透過壁を包囲する外壁とを含み、両者の間に内部の環状空間を規定し、前記吸込構造はさらに、前記第１の流路部分の前記外壁に形成され、予め定められた流量で前記内部の環状空間に低圧気体を流入させ、続いて前記内部の環状空間から前記吸込構造の流路へ低圧気体を流入させるための低圧気体源に連結可能な低圧気体流ポートと、前記第１の流路部分の前記外壁に形成され、前記内部の環状空間に高圧気体を流入させ、前記気体透過壁表面に付着または形成された微粒子を該気体透過壁から洗浄する高圧気体源に連結可能な高圧気体流ポートと、を備え、前記第２の流路部分が、微粒子固体含有流体を前記第１の流路部分から前記第２の流路部分に下方向に流動させるように前記第１の流路部分と直列に連結され、かつ、前記第２の流路部分が、液体噴射ポートを内部に有する、前記第１の流路部分と連結された外壁と、前記外壁に対して離れた関係で配置されて該外壁との間で内部の環状空間を規定する内部のセキ壁と、を含み、前記内部のセキ壁が、前記第１の流路部分の前記気体透過壁に向かって延在しているが、該気体透過壁よりも手前で終端し、両者間にセキを規定するギャップが形成され、前記セキ壁が、前記第２の流路部分における前記流路の境界を定める内面を有し、前記第２の流路部分の前記外壁とその内部のセキ壁との間の前記内部の環状空間に液体が流入すると、導入された液体が前記セキを越流して前記第２の流路部分の前記内壁の内面を流れ落ち、前記微粒子固体含有気体流が前記吸込構造の前記流路を介して流動する際に、前記壁から微粒子固体を洗い流し、かつ前記内部のセキ壁の内面への固体の付着または形成を抑制する、請求項２に記載の排気流処理システム。１３．前記第１の流路部分の前記外壁に形成された低圧気体ポートに低圧気体源が連結されている請求項１２に記載の排気流処理システム。１４．前記第１の流路部分の前記外壁に形成された高圧気体ポートに高圧気体源が連結されている請求項１２に記載の排気流処理システム。１５．前記第２の流路部分の下端が、前記吸込構造の流路を介して流動する前記微粒子固体含有気体流をスクラブするためのウォータースクラバに結合されている請求項１２に記載の排気流処理システム。１６．前記第１の流路部分および前記第２の流路部分が、互いに急速脱着式に連結されている請求項１２に記載の排気流処理システム。１７．前記第１の流路部分が円筒形である請求項１２に記載の排気流処理システム。１８．前記第１の流路部分と前記第２の流路部分とが互いに同軸に整列配置されている請求項１２に記載の排気流処理システム。１９．前記気体透過壁が多孔性金属材料で形成されている請求項１２に記載の排気流処理システム。２０．前記気体透過壁が多孔性セラミックで形成されている請求項１２に記載の排気流処理システム。２１．前記第１の流路部分の前記気体透過壁および外壁が、断面円形である請求項１２に記載の排気流処理システム。２２．前記第２の流路部分の前記外壁および内部のセキ壁が、断面円形である請求項１２に記載の排気流処理システム。２３．前記第１の流路部分が、上流側の微粒子固体含有気体流供給手段に結合されている請求項１２に記載の排気流処理システム。２４．前酸化ユニットがスクラバを含む請求項１に記載の排気流処理システム。２５．前記スクラバが湿式スクラバである請求項２４に記載の排気流処理システム。２６．前記スクラバが乾式スクラバである請求項２４に記載の排気流処理システム。２７．前記スクラバが、前記排気流と洗浄媒体液とを接触させる湿式スクラバ塔を含む、請求項２４に記載の排気流処理システム。２８．前記洗浄媒体液が水である請求項２７に記載の排気流処理システム。２９．前記洗浄媒体液が化学薬品を含む請求項２７に記載の排気流処理システム。３０．前酸化ユニットが、前記排気流を、該前酸化ユニットへの導入時に、気体被着構造に通す気体吸込構造を含む、請求項１に記載の排気流処理システム。３１．前記前酸化処理ユニットが、洗浄媒体液を導入するために内部に配置されたスプレーノズルを有する上側部分を含むスクラブ処理塔であって、該塔の前記スプレーノズルを被覆する前記上側部分に霜取構造を有するスクラブ処理塔を備える、請求項１に記載の排気流処理システム。３２．前記酸化ユニットよりも上流に気体被着用吸込構造を備える請求項１に記載の排気流処理システム。３３．前記酸化ユニットよりも下流に、液体被着された気体輸送構造をさらに備える、請求項１に記載の排気流処理システム。３４．前記酸化ユニットと後酸化ユニットとの間に急冷ユニットをさらに備える、請求項１に記載の排気流処理システム。３５．前記酸化ユニット、前記急冷ユニットおよび前記後酸化ユニットが、これらを介した前記気体流路に対して一体の構造を備える、請求項３４に記載の排気流処理システム。３６．後酸化処理ユニットが、スクラブ処理用媒体を通して放出し、前記排気流と向流接触させるためのスプレーノズルを上側部分に有する湿式スクラバ塔を備える、請求項１に記載の排気流処理システム。３７．後酸化スクラバ塔が気体／液体接触を促進するためのパッキングを内部に有する請求項３６に記載の排気流処理システム。３８．後酸化スクラバ塔が、その前記上側部分において前記ノズルの上に霜取構造を備える、請求項３６に記載の排気流処理システム。３９．前記酸化ユニットの下流に急冷ユニットが配置され、該急冷ユニットが、前記酸化ユニットからの前記排気流を冷却するための急冷媒体を導入する手段を備える、請求項３１に記載の排気流処理システム。４０．前酸化ユニットおよび後酸化ユニットが各々、接触後の液体を回収するための集液リザーバを含む湿式スクラバと、前記集液リザーバに対して液体流受入関係で結合され、前記湿式スクラバユニットから接触後の液体を回収するためのリザーバと、を備える、請求項１に記載の排気流処理システム。４１．前記酸化ユニットよりも下流に急冷ユニットを備え、該急冷ユニットが、前記急冷ユニットから前記酸化ユニットへの飽和水蒸気を再循環させ、前記酸化ユニットにおけるパーフルオロカーボンを酸化させる手段を含む、請求項１に記載の排気流処理システム。４２．前記酸化ユニットが電熱酸化装置を備える請求項１に記載の排気流処理システム。４３．前記酸化ユニットが火炎ベースの酸化装置を備える請求項１に記載の排気流処理システム。４４．前記酸化ユニットが流動床熱酸化装置を備える請求項１に記載の排気流処理システム。４５．前記酸化ユニットが熱交換器を備える請求項１に記載の排気流処理システム。４６．前記熱交換器が、その流路内に熱伝達促進インサートを備える請求項４５に記載の排気流処理システム。４７．前記酸化ユニットの上流または下流でパーフルオロカーボンを回収する請求項１に記載の排気流処理システム。４８．前酸化ユニット、前記酸化ユニットおよび後酸化ユニットが、一体型のキャビネット構造内に収容されている、請求項１に記載の排気流処理システム。４９．後酸化処理ユニットよりも下流に流体原動駆動装置を備える請求項１に記載の排気流処理システム。５０．前記流体原動駆動装置がポンプを含む請求項４９に記載の排気流処理システム。５１．前記流体原動駆動装置が放出器を含む請求項４９に記載の排気流処理システム。５２．前酸化処理ユニットが、前記排気流に化学物質を添加し、スクラブ除去できるように溶解性を高めた反応生成物を反応的に形成するための手段を備え、該化学物質の添加および反応に続いて前記排気流を湿式スクラブ処理する、請求項１に記載の排気流処理システム。５３．前酸化ユニットが、横断ヨーク部分によって互いに結合された第１および第２の脚部分を含むＵ字形ハウジングを備え、前記第１の脚部が、前記排気流と噴霧水とを接触させて酸性度を下げ、前記排気流の微粒子を捕捉するための散水手段を含み、前記第２の脚部が、前記排気流に噴霧水をさらに接触させるための散水手段を含み、前記横断ヨーク部分が、前記第１および第２の脚部分において前記排気流に噴霧してこれと接触させるための水を保持する回収リザーバを構成する、請求項１に記載の排気流処理システム。５４．前記酸化ユニットが蒸散酸化ユニットを含む請求項１に記載の排気流処理システム。５５．前処理手段が、前記酸化ユニット内に存在する条件下で、粒子形成剤である排気流成分をスクラブ処理することによって、前記酸化ユニットにおける微粒子形成を制御するための湿式スクラブユニットを、前記酸化ユニットよりも上流に備える、請求項１に記載の排気流処理システム。５６．前記吸込構造が、排気流システムの処理ユニットに微粒子固体含有流体流を導入するための閉塞防止吸込構造を備え、前記吸込構造が、微粒子固体含有流体を通して下方向に流動させるために略垂直に配置された流路を備え、該流路が、セキ開口が形成された境界壁と、前記セキ開口と流体供給関係で前記セキ開口を囲んでいる環状の液体供給リザーバどを含み、該リザーバが、環状の液体供給リザーバに液体を供給して前記セキ開口を介して流動させるための手段を有し、前記環状の液体供給リザーバに液体が流入すると、導入された液体が前記セキ開口を介して流れて前記流路の前記境界壁を流れ落ち、前記微粒子固体含有気体流が前記吸込構造の前記流路を介して流動する際に、前記壁から微粒子固体を洗い流し、かつ前記境界壁の内面への固体の付着または形成を抑制する、請求項２に記載の排気流処理システム。５７．前記セキ開口上の前記境界壁の一部を気体被着する手段をさらに備える請求項５６に記載の排気流処理システム。５８．前記酸化ユニットから放出される前記排気流を冷却するための急冷ユニットをさらに備える請求項１に記載の排気流処理システム。５９．前記急冷ユニットが、前記酸化ユニットから放出される前記排気流を苛性溶液と接触させ、シリカ粒子を前記排気流から除去するように構成および配置されている、請求項５８に記載の排気流処理システム。６０．フルーム／煙条制御用の湿式電気集塵装置をさらに備える請求項１に記載の排気流処理システム。６１．以下の吸込構造（Ａ）、（Ｂ）および（Ｃ）すなわち、（Ａ）気体流路を内部に有する気体透過壁および前記気体透過壁を囲んで間に環状の気体リザーバを規定する外部の環状ジャケットと、前記気体が前記気体透過壁を透過して前記気体透過壁の内面への固体の付着または形成に抗するのに十分な圧力で、当該吸込構造を介して、前記微粒子固体含有気体流および／または固体形成気体流を気体処理システムまで流動させる間に、前記環状の気体リザーバに気体を導入するための手段と、を備える吸込構造と、（Ｂ）前記気体流を導入するための上側の入口と前記気体流を放出するための下端とを有する、垂直に延在する第１の吸込流路部材と、前記第１の流路部材を囲み、該第１の流路部材とは互いに離れた関係で該第１の流路部材との間に環状の空間を規定する第２の流路部材であって、第１の流路部材の下端の下にある下端まで下方向に延在し、上側の液体透過性部分と前記上側の液体透過性部分よりも下にある下側の液体不透過性部分とを有する第２の流路部材と、前記第２の流路部材を包囲し、該第２の流路部材と共に内部の囲まれた環状空間を規定する外壁部材と、前記第２の流路部材と前記外壁との間の前記内部の囲まれた環状空間に液体を導入するために前記外壁部材に形成された液体流吸込ポートと、を備える吸込構造と、（Ｃ）上流のソースからの気体を受け入れるマニフォルドであって、気体を下流のプロセスまで流すために交互に用いられる第１および第２の吸込ラインを含み、前記吸込ラインが各々、その第１の端部においてマニフォルド導管と結合され、前記第１および第２の吸込ラインが各々、その第２の端部において下流側の処理ユニットと流体連通状態でこれに結合され、前記第１および第２の吸込ラインの各々が、内部を通る気体の流れを確立または遮断するために選択的に開放可能または閉止可能である弁を内部に含み、前記マニフォルドが、前記上流のソースからの気体を受け入れ、前記マニフォルドと第１または第２の吸込ラインのいずれかとを経由して前記気体を流動させ、当該ラインのうち一方が前記上流のソースからの気体を積極的に前記下流のプロセスまで流動させる一方で、他方がそれぞれの弁を閉じることで前記気体の流れを遮断するように配置され、前記第１および第２の吸込ラインの各々に対する水流ラインによって前記マニフォルドと連結された加圧水源を備え、前記水流ラインが各々、これを通る加圧水の流れを確立または遮断するために選択的に開放可能または閉止可能である弁を含む、前記マニフォルドと、前記第１および第２の吸込ラインのうちの一方の弁が開放され、前記第１および第２の吸込ラインのうちの他方の弁が閉じた状態で、上流のプロセスからの気体が前記マニフォルドに流入し、前記マニフォルドに流入する気体が、吸込ラインのうち開いている弁を含む特定の１つを介して流動し、前記吸込ラインのうち開いている弁を含み、かつオンストリームのラインを構成している特定の１つを介して気体が流動して前記下流のプロセスを通るように、一方前記マニフォルドの他方の吸込ラインが前記弁が閉じて気体の流れを防止するオフストリームのラインを構成するように、動作時に前記マニフォルドおよび弁の動作を制御するよう構成および配置されたサイクルタイマ制御手段と、を備え、前記オフストリームのラインが、気体を流していない間に、それぞれの吸込ラインにおける前記弁が、当該弁のうちの１つを特定のタイミングで開放し、他方を閉じて前記ラインをオフストリームで洗浄し、前記ラインを以後のオンストリーム動作用にリニューアルする状態で制御されるように、さらなる処理用に再生させるために洗浄され、前記オフストリームのラインが、前記加圧水源と前記オフストリームのラインとを接続している前記水流ラインの弁を開き、一方他方の水流ラインでは、水流ラインの弁を閉じ、前記加圧水が前記水源から前記オンストリームのラインに流入するのを防止し、加圧水を洗浄目的で前記オンストリームのラインに通した後は、それぞれの吸込ラインにおける吸込ライン弁を反対の開／閉状態に切り換えて、前記加圧水源から前記オフストリームのラインに加圧水を加えることで洗浄され、前記気体流を、交互かつ連続的に、前記吸込ラインの各々を介して供給し、特定の吸込ラインの前記オフストリーム期間の間、前記オフストリームのラインを加圧水で洗い流し、前記吸込ラインを以後の気体流通のためにリニューアルする、吸込構造と、からなる群から選択される吸込構造を備える請求項１に記載の排気流処理システム。