KR20030071494A - 불휘발성 반도체 기억 장치 - Google Patents

불휘발성 반도체 기억 장치 Download PDF

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KR20030071494A
KR20030071494A KR10-2003-0010249A KR20030010249A KR20030071494A KR 20030071494 A KR20030071494 A KR 20030071494A KR 20030010249 A KR20030010249 A KR 20030010249A KR 20030071494 A KR20030071494 A KR 20030071494A
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Abstract

본 발명은 2 개의 기준셀의 평균 전류를 기준 전류로 하는 구성의 불휘발성 반도체 기억 장치에 있어서 안정된 판독 마진을 제공하는 것을 목적으로 한다.
불휘발성 반도체 기억 장치는 메모리 셀과, 메모리 셀과 마찬가지로 재기록이 행해지는 다이나믹 기준셀과, 다이나믹 기준셀의 제1셀과 제2셀로부터 평균 기준 전류를 구하고, 평균 기준 전류와 판독 전류를 비교함으로써 판독 데이터를 판정하는 데이터 판정 제어 회로를 포함하며, 데이터 판정 제어 회로는 제1셀의 임계치에 따라서 제2셀을 프로그램하는 것을 특징으로 한다.

Description

불휘발성 반도체 기억 장치{NONVOLATILE SEMICONDUCTOR MEMORY DEVICE PROGRAMMING SECOND DYNAMIC REFERENCE CELL ACCORDING TO THRESHOLD VALUE OF FIRST DYNAMIC REFERENCE CELL}
본 발명은 일반적으로 불휘발성 반도체 기억 장치에 관한 것이며, 자세하게는 데이터 판독시에 기준셀을 이용하는 불휘발성 반도체 기억 장치에 관한 것이다.
일반적으로, 플래시 메모리 등의 불휘발성 반도체 기억 장치에 있어서는 어느 소정의 임계치로 설정된 기준셀의 전류를 기준 전류로 하여, 판독 동작시에 판독 메모리 셀의 드레인 전류와 기준 전류의 사이에서 비교를 행한다. 판독한 메모리 셀의 드레인 전류가 기준 전류보다도 큰지의 여부에 따라서 데이터 "1" 또는 "0"의 판정을 행한다.
플래시 메모리의 재기록 횟수가 증가하면 기록 전하가 손실되는 전하 손실(charge loss)이 발생하게 되어, 코어 회로의 메모리 셀의 임계치가 작아지는 경향이 있다. 이에 대하여, 재기록 동작이 통상 실행되지 않는 기준셀에 관해서는 임계치는 그대로이다. 이 때문에, 재기록 횟수가 증가하면 기준셀의 고정 임계치에서는 판독 마진을 충분히 확보할 수 없는 상태가 발생한다.
판독 마진을 충분히 확보하기 위해서 판독 기준셀로서 데이터 "1"과 "0"의 두 가지의 기준셀을 준비하여, 그 평균 전류를 기준 전류라고 하는 동시에, 메모리 셀과 마찬가지로 이들의 기준셀에 대하여도 재기록 동작을 실행하는 방법이 있다. 즉, 프로그램된 데이터 "0"의 기준셀 Ref0과 소거된 데이터 "1"의 기준셀 Ref1을 준비하여, 2 개의 기준 전류의 평균을 판독 기준 전류로서 이용한다.
이 방법의 경우, Ref0은 어느 소정의 임계치로 설정된 프로그램 검증용 기준셀 PrRef를 이용하여, 메모리 셀과 마찬가지로 프로그램된다. 이 때의 프로그램 검증에 있어서는, 프로그램 검증용 기준셀 PrRef와 기록 대상의 셀을 비교하여 기록 대상의 셀이 기준셀 PrRef 이상의 임계치에 도달한 시점에서 기록이 종료된다. 따라서, 이와 같이 프로그램되는 기준셀 Ref0의 임계치는 하한이 설정되어 있을 뿐이며, 실제로 어느 임계치로 설정되어 있는지는 알 수 없다. 또한 기준셀 Ref1도 마찬가지로 상한이 설정되어 있을 뿐이며, 실제로 어느 임계치로 되어 있는지는 알 수 없다.
이와 같이 기준셀의 임계치는 그 기록·소거 특성에 의존하여 어느 정도의 범위를 갖은 확률 분포를 갖는다.
2 개의 기준셀의 평균인 가상적인 판독 기준셀의 임계치의 분포는 판독 마진에 큰 영향을 준다. 가상적인 판독 기준셀의 임계치가 높은 경우 메모리 셀의 데이터 "0"과의 임계치 차가 작아지고, "0"측의 마진이 작아진다. 역으로, 가상적인 판독 기준셀의 임계치가 낮은 경우 메모리 셀의 데이터 "1"과의 임계치 차가 작아지고, "1"측의 마진이 작아진다.
이와 같이, 2 개의 기준셀의 평균 전류를 기준 전류로 하는 경우 기준셀의 기록·소거의 특성에 의존하여 기준셀의 임계치에 변동이 존재하기 때문에 평균인 기준 전류에도 변동이 발생하여 판독 마진이 불안정해지게 된다.
이상을 감안하여 본 발명은 2 개의 기준셀의 평균 전류를 기준 전류로 하는구성의 불휘발성 반도체 기억 장치에 있어서, 안정된 판독 마진을 제공하는 것을 목적으로 한다.
도 1은 본 발명을 적용하는 불휘발성 반도체 기억 장치의 구성을 도시하는 도면.
도 2는 데이터 판독 동작에 관련되는 회로 구성을 도시하는 도면.
도 3은 본 발명의 제1 실시예에 의한 다이나믹 기준셀 설정의 방법을 도시하는 흐름도.
도 4는 도 3의 흐름도에 의한 다이나믹 기준셀 설정을 설명하기 위한 도면.
도 5는 제1 실시예의 기준셀 설정 동작을 실행하는 회로 구성을 도시하는 도면.
도 6은 본 발명의 제2 실시예에 의한 다이나믹 기준셀 설정의 방법을 도시하는 흐름도.
도 7은 본 발명의 제3 실시예에 의한 다이나믹 기준셀 설정의 방법을 도시하는 흐름도.
도 8은 본 발명의 제4 실시예에 의한 다이나믹 기준셀 설정의 방법을 도시하는 흐름도.
도 9는 본 발명의 제5 실시예에 의한 다이나믹 기준셀 설정의 방법을 도시하는 흐름도.
도 10은 본 발명의 제6 실시예에 의한 다이나믹 기준셀 설정의 방법을 도시하는 흐름도.
도 11은 제6 실시예의 기준셀 설정 동작을 실행하는 회로 구성을 도시하는 도면.
도 12는 본 발명의 제7 실시예에 의한 다이나믹 기준셀 설정의 방법을 도시하는 흐름도.
<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명>
10: 불휘발성 반도체 기억 장치
11: 제어 회로
12: 입출력 버퍼
13: 어드레스 래치
14: X 디코더
15: Y 디코더
16: 셀 어레이
17: 데이터 판정 제어 회로
18: 기록 회로
19: 소거 회로
20: 칩 인에이블/출력 인에이블 회로
본 발명에 의한 불휘발성 반도체 기억 장치는 메모리 셀과, 상기 메모리 셀과 같이 재기록이 행해지는 다이나믹 기준셀과, 상기 다이나믹 기준셀의 제1셀과 제2셀로부터 평균 기준 전류를 구하고, 상기 평균 기준 전류와 판독 전류를 비교함으로써 판독 데이터를 판정하는 데이터 판정 제어 회로를 포함하며, 상기 데이터 판정 제어 회로는 제1셀의 임계치에 따라서 상기 제2셀을 프로그램하는 것을 특징으로 한다.
상기 불휘발성 반도체 기억 장치에 있어서는 데이터 판정 제어 회로는 제1셀의 임계치에 따라서 상기 제2셀을 프로그램한다. 따라서, 제1셀의 임계치가 작을 때에는 상기 제2셀의 임계치가 커지도록 상기 제2셀을 프로그램하는 것이 가능해지며, 2 개의 기준셀의 평균 전류를 기준 전류로 하는 구성의 불휘발성 반도체 기억 장치에 있어서 안정된 판독 마진을 제공할 수 있다.
이하에, 본 발명의 실시예를 첨부의 도면을 이용하여 상세히 설명한다.
도 1은 본 발명을 적용하는 불휘발성 반도체 기억 장치의 구성을 도시하는 도면이다.
도 1의 불휘발성 반도체 기억 장치(10)는 제어 회로(11), 입출력 버퍼(12), 어드레스 래치(13), X 디코더(14), Y 디코더(15), 셀 어레이(16), 데이터 판정 제어 회로(17), 기록 회로(18), 소거 회로(19) 및 칩 인에이블/출력 인에이블회로(20)를 포함한다.
제어 회로(11)는 제어 신호를 외부로부터 수신하여, 제어 신호에 기초하여 상태 기계(state machine)로서 동작하며, 불휘발성 반도체 기억 장치(10)의 각 부(部)의 동작을 제어한다.
입출력 버퍼(12)는 외부로부터 데이터를 수신하여, 이 데이터를 데이터 판정 제어 회로(17)에 공급한다. 어드레스 래치(13)는 외부로부터 공급되는 어드레스 신호를 수신하여 래치하는 동시에, 이 어드레스 신호를 X 디코더(14) 및 Y 디코더(15)에 공급한다. X 디코더(14)는 어드레스 래치(13)로부터 공급된 어드레스를 디코드하며, 셀 어레이(16)에 설치된 워드선을 디코드 결과에 따라서 활성화시킨다. Y 디코더(15)는 어드레스 래치(13)로부터 공급된 어드레스를 디코드하며, 디코드 어드레스 신호에 기초하여 셀 어레이(16)의 비트선의 데이터를 선택적으로 판독하고 데이터 판정 제어 회로(17)에 공급한다.
셀 어레이(16)는 메모리 셀 트랜지스터의 배열, 워드선 및 비트선 등을 포함하며, 각 메모리 셀 트랜지스터에 데이터를 기억한다. 데이터 판독시에는 활성화 워드선에서 지정되는 메모리 셀로부터의 데이터가 비트선에 판독된다. 프로그램 또는 소거시에는 워드선 및 비트선을 각각의 동작에 따른 적당한 전위로 설정함으로써 메모리 셀에 대한 전하 주입 또는 전하 추출의 동작을 실행한다.
데이터 판정 제어 회로(17)는 Y 디코더(15) 및 X 디코더(14)에 의해서 지정되고 셀 어레이(16)로부터 공급되는 데이터의 전류를 2 개의 기준셀의 전류의 평균인 기준 전류와 비교함으로써 데이터가 0인지 1인지의 판정을 행한다. 판정 결과는판독 데이터로서 입출력 버퍼(12)에 공급된다. 또한, 프로그램 동작 및 소거 동작에 따르는 검증 동작은 Y 디코더(15) 및 X 디코더(14)에 의해서 지정되고 셀 어레이(16)로부터 공급된 데이터의 전류를 프로그램 검증용 및 소거 검증용 기준셀이 나타내는 기준 전류와 비교함으로써 행해진다.
본 발명에 있어서는, 판독 데이터 판정용의 기준셀은 셀 어레이(16) 내부에 설치되며, 메모리 셀과 마찬가지로 재기록 동작의 대상인 다이나믹 기준셀로서 제공된다. 또한, 프로그램 검증용 및 소거 검증용 기준셀은 셀 어레이(16) 외부, 예컨대 데이터 판정 제어 회로(17) 내에 설치되며, 고정의 임계치를 갖는 기준셀이다.
기록 회로(18)는 제어 회로(11)의 제어하에 데이터 판정 제어 회로(17)에 입출력 버퍼(12)로부터 공급되는 기록 데이터에 기초하여 어드레스 래치(13), X 디코더(14) 및 Y 디코더(15)를 구동하고 셀 어레이(16)에 대한 데이터 기록 동작을 실행한다. 소거 회로(19)는 소거 동작시에 워드선 및 비트선에 인가되는 전위를 생성하고 셀 어레이(16)에 대한 섹터 단위의 소거 동작을 실행한다.
칩 인에이블/출력 인에이블 회로(20)는 장치 외부로부터 제어 신호로서 칩 인에이블 신호(/CE) 및 출력 허가 신호(/OE)를 수신하며, 입출력 버퍼(12) 및 셀 어레이(16)의 동작/비동작을 제어한다.
도 2는 데이터 판독 동작에 관련되는 회로 구성을 도시하는 도면이다.
도 2의 회로는 데이터 래치(31), 센스 앰프(S/A)(32), 코어용 종속 회로(33), 기준셀 A용 종속 회로(34) 및 기준셀 B용 종속 회로(35)를 포함하며, 이들 회로에 의해 셀 어레이(16)로부터 판독되는 데이터의 레벨을 판정한다. 이들 회로는 도 1의 데이터 판정 제어 회로(17)에 해당한다.
셀 어레이(16)는 메모리 셀을 저장하는 코어 셀 영역(16A)과 다이나믹 기준셀을 저장하는 다이나믹 기준셀 영역(16B)을 포함한다. 코어 셀 영역(16A)으로부터 판독되는 데이터는 코어용 종속 회로(33)에 의해 전류 신호로부터 전압 신호로 변환되어 센스 앰프(32)에 공급된다. 또한, 다이나믹 기준셀 영역(16B)의 기준셀 A로부터 판독되는 기준 레벨은 기준셀 A용 종속 회로(34)에 의해 전류 신호로부터 전압 신호로 변환된다. 또한, 다이나믹 기준셀 영역(16B)의 기준셀 B로부터 판독되는 기준 레벨은 기준셀 B용 종속 회로(35)에 의해 전류 신호로부터 전압 신호로 변환된다. 기준셀 A용 종속 회로(34)의 출력과 기준셀 B용 종속 회로(35)의 출력은 결합되고 평균화되어 센스 앰프(32)에 공급된다. 센스 앰프(32)에서는 데이터의 전압 레벨과 기준의 전압 레벨을 비교함으로써 데이터가 "1" 또는 "0"인지에 대하여 판정을 행한다. 판정된 데이터는 데이터 래치(31)에 공급된다.
도 3은 본 발명의 제1 실시예에 의한 다이나믹 기준셀 설정의 방법을 도시하는 흐름도이다. 또한, 도 4는 도 3의 흐름도에 의한 다이나믹 기준셀 설정을 설명하기 위한 도면이다.
제1 실시예에서는 복수의 프로그램 검증용 기준셀 및 복수의 소거 검증용 기준셀을 이용함으로써 판독용 다이나믹 기준셀의 임계치를 설정한다. 도 4에 도시된 바와 같이, 제1 실시예에서 이용하는 복수의 프로그램 검증용 기준셀 PGV1 내지 PGV3은 그 임계치에 PGV1<PGV2<PGV3의 관계가 있으며, 또한 복수의 소거 검증용 기준셀 ERV1 내지 ERV3은 그 임계치에 ERV1>ERV2>ERV3의 관계가 있다. 여기서, 소거 검증용 기준셀 ERV1이 코어 셀 영역의 메모리 셀을 소거할 때의 검증용 기준이며, 프로그램 검증용 기준셀 PGV2가 코어 셀 영역의 메모리 셀을 프로그램할 때의 검증용 기준이다.
최초에, 소거 검증용 기준셀 ERV1을 이용하여 코어 셀 영역의 메모리 셀과 마찬가지로, 다이나믹 기준셀을 소거한다.
도 3의 단계 ST1에서 소거 검증용 기준셀 ERV2를 사용 기준셀로서 설정한다. 단계 ST2에서, 설정된 소거 검증용 기준셀 ERV2의 임계치로 "1"측의 다이나믹 기준셀을 검증한다. 즉, 데이터 판정한다.
데이터가 "1"이라고 판정되는 경우에는 단계 ST3에서 소거 검증용 기준셀 ERV3을 사용 기준셀로서 설정한다. 단계 ST4에서, 설정된 소거 검증용 기준셀 ERV3의 임계치로 "1"측의 다이나믹 기준셀을 검증한다. 즉, 데이터 판정한다. 데이터가 "1"이라고 판정되는 경우에는 "1"측의 다이나믹 기준셀의 임계치가 가장 작은 ERV3의 임계치보다 작아지게 된다. 따라서, 이 경우, 단계 ST5에서 가장 큰 임계치를 갖는 프로그램 검증용 기준셀 PGV3을 사용 기준셀로서 설정한다.
또한, 단계 ST2에서 데이터가 "0"이라고 판정되는 경우에는 "1"측의 다이나믹 기준셀의 임계치가 가장 큰 ERV1의 임계치와 중간의 ERV2의 임계치와의 사이에 있게 된다. 따라서, 이 경우, 단계 ST6에서 가장 작은 임계치를 갖는 프로그램 검증용 기준셀 PGV1을 사용 기준셀로서 설정한다.
또한, 단계 ST4에서 데이터가 "0"이라고 판정되는 경우에는 "1"측의 다이나믹 기준셀의 임계치가 중간의 ERV2의 임계치와 가장 작은 ERV3의 임계치와의 사이에 있게 된다. 따라서, 이 경우, 단계 ST7에서 중간의 임계치를 갖는 프로그램 검증용 기준셀 PGV2를 사용 기준셀로서 설정한다.
최후로 단계 ST8에서, 설정된 프로그램 검증용 기준셀을 사용하여 "0"측의 다이나믹 기준셀을 프로그램한다.
이와 같이 상기 실시예에 있어서는, 복수의 소거 검증용 기준셀을 비교 대상으로서 이용함으로써, 소거된 "1"측의 다이나믹 기준셀의 임계치 레벨을 판단하며, 구해진 임계치의 레벨에 따라서 "0"측의 다이나믹 기준셀을 프로그램한다. 따라서, "1"측의 다이나믹 기준셀의 임계치가 작을 때에는 "0"측의 다이나믹 기준셀의 임계치를 크게 함으로써 평균 기준 전류가 소정의 값으로 안정되도록 다이나믹 기준셀을 설정하는 것이 가능해진다.
도 5는 제1 실시예의 기준셀 설정 동작을 실행하는 회로 구성을 도시하는 도면이다.
도 5의 회로는 센스 앰프(41), 소거 검증용 기준셀(42-1∼42-3), 기준셀 선택 회로(43), 기준셀 선택 회로(44), 프로그램 검증용 기준셀(45-1∼45-3) 및 센스 앰프(46)를 포함하며, 다이나믹 기준셀 영역(16B)에 대한 기준셀의 임계치 설정 동작을 실행한다.
센스 앰프(41)는 다이나믹 기준셀 영역(16B)으로부터 판독되는 "1"측의 다이나믹 기준셀의 전류를 기준셀 선택 회로(43)가 선택하는 소거 검증용 기준셀(42-1∼42-3) 중 하나로부터의 기준 전류와 비교한다. 이 비교 동작은 도 3의 흐름도의단계 ST1로부터 단계 ST4에 해당한다.
센스 앰프(41)로부터의 판정 결과와 현재의 선택 상태에 따라서, 기준셀 선택 회로(43)는 기준셀 선택 회로(44)에 선택하여야 할 프로그램 검증용 기준셀을 통지한다. 이에 따라서, 기준셀 선택 회로(44)는 프로그램 검증용 기준셀(45-1∼45-3) 중 하나를 선택한다. 이 선택 동작은 도 3의 흐름도의 단계 ST5로부터 단계 ST7에 해당한다.
센스 앰프(46)는 선택된 프로그램 검증용 기준셀로부터의 기준 전류에 기초하여, 다이나믹 기준셀 영역(16B)으로부터 판독된 "0"측의 다이나믹 기준셀을 검증한다. 이 검증 결과에 기초하여, 기록 제어 회로(47)가 다이나믹 기준셀 영역(16B)의 "0"측의 다이나믹 기준셀을 프로그램한다.
이와 같이 하여, 복수의 소거 검증용 기준셀을 비교 대상으로서 이용함으로써, 소거된 "1"측의 다이나믹 기준셀의 임계치 레벨을 판단한다. 또한, 구해진 임계치의 레벨에 따라서 복수의 프로그램 검증용 기준셀 중 하나를 선택하고, 선택된 프로그램용의 임계치를 이용하여 "0"측의 다이나믹 기준셀을 프로그램한다.
이하에, 본 발명의 다른 실시예를 설명한다. 상기한 제1 실시예는 폴리실리콘을 부동 게이트(floating gate)로 하는 통상의 플래시 메모리를 대상으로 하는 것이다. 이에 대하여, 이하에 기재된 실시예는 질화막 등으로 이루어지는 트랩층에 전하를 축적함으로써 하나의 메모리 셀에 대하여 2 비트의 정보를 저장가능한 타입의 플래시 메모리를 대상으로 한다.
이 타입의 플래시 메모리에서는 제어 게이트와 기판과의 사이에 산화막-질화막-산화막으로 구성되는 막이 형성되며, 질화막에 전하를 트랩시켜 임계치를 변화시킴으로써 데이터의 "0"과 "1"을 구별한다. 이 경우, 질화막 등의 트랩층은 절연막이기 때문에 전하는 이동하지 않는다. 따라서, 트랩층의 양단에 독립적으로 전하를 축적함으로써 1 셀당 2 비트의 정보를 저장하는 것이 실현 가능해진다. 2 비트의 정보는 판독 동작에 있어서 드레인과 소스를 교환함으로써 각각 따로따로 판독할 수 있다.
메모리 셀로의 기록은 채널 핫 일렉트론(channel hot electron)에 의한 전자 주입에 의해 행해진다. 예컨대, 게이트 전극에 약 9 V, 드레인에 약 5 V, 소스 및 기판에 0 V를 인가하며, 채널에서 발생하는 핫 일렉트론을 질화막에 트랩시킨다. 이 때, 핫 일렉트론은 질화막 내에서 드레인에 가까운 쪽에 주입된다. 소거 동작은 핫 홀 인젝션(hot hole injection)에 의한 홀 주입에 의해 행해진다. 즉, 예컨대 게이트 전극에 약 16 V 및 드레인에 약 6 V를 인가함으로써 드레인으로부터 기판으로 흐르는 밴드간 터널 전류에 의해 발생하는 홀을 질화막에 주입하여, 전하를 중화시켜 소거한다. 하나의 셀에 대하여 2 비트분의 전하가 주입되는 경우에는 소스에도 드레인과 동일한 전압을 인가함으로써 소거 동작을 실행할 수 있다. 판독 동작은 기록시와 드레인을 역으로 하는 리버스 리드(reverse lead)에 의해 실행된다. 즉, 기록시에 약 5 V를 인가한 확산층은 역측의 확산층을 드레인으로 하고, 게이트 전극에 약 5 V, 드레인에 1.5 V, 소스와 기판에 0 V를 인가한다. 질화막 중의 소스에 가까운 쪽에 전하가 축적되어 있는 경우 트랩 전하에 의해 채널이 형성되지 않아 전류가 흐르지 않는다. 이에 따라 데이터 "0"을 판독하는 것이 가능해진다.
이와 같이 1 셀에 2 비트 저장가능한 플래시 메모리에서는 2 비트 중의 1 비트를 판독하는 경우, 판독 선택한 측이 아닌 비트의 상태에 따라 임계치가 변화된다. 즉, 판독 선택한 측과 반대측이 프로그램 상태인 경우에는 이 프로그램된 트랩 전하의 영향으로 임계치가 비교적 커지며, 또한 판독 선택한 측과 반대측이 소거 상태인 경우에는 이 소거 상태에 의해 트랩 전하가 존재하지 않아 임계치가 비교적 작아진다.
따라서, 이러한 플래시 메모리에 있어서는 판독 선택한 측과 반대측의 상태를 고려하여 임계치 설정을 실행해야 한다. 기준용으로 판독 선택한 측은 반대측의 상태에 따라서, 이하 4 개의 경우를 생각할 수 있다.
1. "1"측의 다이나믹 기준셀에 있어서 반대측이 전하를 축적하고 있지 않은 동시에, "0"측의 다이나믹 기준셀에 있어서 반대측이 전하를 축적하고 있지 않은 상태
2. "1"측의 다이나믹 기준셀에 있어서 반대측이 전하를 축적하고 있는 동시에, "0"측의 다이나믹 기준셀에 있어서 반대측이 전하를 축적하고 있지 않은 상태
3. "1"측의 다이나믹 기준셀에 있어서 반대측이 전하를 축적하고 있지 않은 동시에, "0"측의 다이나믹 기준셀에 있어서 반대측이 전하를 축적하고 있는 상태
4. "1"측의 다이나믹 기준셀에 있어서 반대측이 전하를 축적하고 있는 동시에, "0"측의 다이나믹 기준셀에 있어서 반대측이 전하를 축적하고 있는 상태
여기서 상기한 제1 경우에는 도 3과 동일한 흐름도로 임계치 설정을 실행할 수 있다.
도 6은 본 발명의 제2 실시예에 의한 다이나믹 기준셀 설정의 방법을 도시하는 흐름도이다. 이 제2 실시예는 상기한 제2 경우, 즉 "1"측의 다이나믹 기준셀에 있어서 반대측이 전하를 축적하고 있는 동시에 "0"측의 다이나믹 기준셀에 있어서 반대측이 전하를 축적하고 있지 않은 상태에 대응한다.
우선 초기 상태로서는 다이나믹 기준셀의 각각은 양쪽의 비트가 소거된 "1"의 상태로 설정되어 있다.
도 6의 단계 ST1에서 프로그램 검증용 기준셀 PGV2를 사용 기준셀로서 설정한다. 단계 ST2에서, 설정된 프로그램 검증용 기준셀을 사용하여 "1"측의 다이나믹 기준셀에 있어서 기준용으로 선택하는 것과는 반대측을 프로그램한다.
이하의 단계 ST3 내지 단계 ST10은 도 3의 흐름도의 단계 ST1 내지 단계 ST8과 기본적으로 동일하다. 이 순서에 의해서, "1"측의 다이나믹 기준셀의 선택측에 대한 임계치를 판정하여 "0"측의 다이나믹 기준셀의 선택측을 프로그램한다.
이와 같이 본 발명의 제2 실시예에 있어서는, "1"측의 다이나믹 기준셀에 있어서 반대측을 프로그램하여 전하를 축적해 둔다. 이 상태에서, "1"측의 다이나믹 기준셀의 선택측에 대한 임계치를 판정하여 "0"측의 다이나믹 기준셀의 선택측을 프로그램한다.
도 7은 본 발명의 제3 실시예에 의한 다이나믹 기준셀 설정의 방법을 도시하는 흐름도이다. 이 제3 실시예는 상기한 제2 경우, 즉 "1"측의 다이나믹 기준셀에 있어서 반대측이 전하를 축적하고 있는 동시에 "0"측의 다이나믹 기준셀에 있어서 반대측이 전하를 축적하고 있지 않은 상태에 대응한다.
우선 초기 상태로서는, 다이나믹 기준셀의 각각은 양쪽의 비트가 소거된 "1"의 상태로 설정되어 있다.
도 7의 단계 ST1에서 프로그램 검증용 기준셀 PGV2를 사용 기준셀로서 설정한다. 단계 ST2에서, 설정된 프로그램 검증용 기준셀을 사용하여 "0"측의 다이나믹 기준셀에 있어서 기준용으로 선택하는 측을 프로그램한다.
단계 ST3에서 프로그램 검증용 기준셀 PGV3을 사용 기준셀로서 설정한다. 단계 ST4에서, 설정된 프로그램 검증용 기준셀 PGV3의 임계치로 "0"측의 다이나믹 기준셀의 선택측을 검증한다. 즉, 데이터 판정한다.
데이터가 "1"이라고 판정되는 경우에는 단계 ST5에서 프로그램 검증용 기준셀 PGV2를 사용 기준셀로서 설정한다. 단계 ST6에서 설정된 프로그램 검증용 기준셀 PGV2의 임계치로 "0"측의 다이나믹 기준셀의 선택측을 검증한다. 즉, 데이터 판정한다. 데이터가 "1"이라고 판정되는 경우에는 단계 ST7에서 가장 큰 임계치를 갖는 프로그램 검증용 기준셀 PGV3을 사용 기준셀로서 설정한다.
또한, 단계 ST4에서 데이터가 "0"이라고 판정되는 경우에는 단계 ST8에서 가장 작은 임계치를 갖는 프로그램 검증용 기준셀 PGV1을 사용 기준셀로서 설정한다.
또한, 단계 ST6에서 데이터가 "0"이라고 판정되는 경우에는 단계 ST9에서 중간의 임계치를 갖는 프로그램 검증용 기준셀 PGV2를 사용 기준셀로서 설정한다.
최후로 단계 ST10에서, 설정된 프로그램 검증용 기준셀을 사용하여 "1"측의 다이나믹 기준셀의 기준용 판독 측과는 반대측을 프로그램한다.
이와 같이 상기 실시예에 있어서는, 복수의 프로그램 검증용 기준셀을 비교대상으로 하여 이용함으로써 "0"측의 다이나믹 기준셀의 임계치 레벨을 판단하고, 구해진 임계치의 레벨에 따라서 "1"측의 다이나믹 기준셀의 선택측과는 반대측을 프로그램한다. 따라서, "0"측의 다이나믹 기준셀의 임계치가 작을 때(예컨대, PGV1과 PGV2 사이인 경우)에는 "1"측의 다이나믹 기준셀의 선택측과는 반대측을 강하게(예컨대 PGV3을 이용하여) 프로그램함으로써, "1"측의 다이나믹 기준셀의 선택측의 임계치를 크게 할 수 있다. 이에 따라, 평균 기준 전류가 소정의 값으로 안정되도록 다이나믹 기준셀을 설정하는 것이 가능해진다.
도 8은 본 발명의 제4 실시예에 의한 다이나믹 기준셀 설정의 방법을 도시하는 흐름도이다. 이 제4 실시예는 전술한 경우의 분류 중 제3 경우, 즉 "1"측의 다이나믹 기준셀에 있어서 반대측이 전하를 축적하고 있지 않은 동시에, "0"측의 다이나믹 기준셀에 있어서 반대측이 전하를 축적하고 있는 상태의 경우에 해당한다.
우선 초기 상태로서는, 다이나믹 기준셀의 각각은 양쪽의 비트가 소거된 "1"의 상태로 설정되어 있다.
도 8의 단계 ST1에서 프로그램 검증용 기준셀 PGV1을 사용 기준셀로서 설정한다. 단계 ST2에서, 설정된 프로그램 검증용 기준셀을 사용하여 "0"측의 다이나믹 기준셀에 있어서 기준용으로 선택하는 것과는 반대측을 프로그램한다.
이하의 단계 ST3 내지 단계 ST10은 도 3의 흐름도의 단계 ST1 내지 단계 ST8과 기본적으로 동일하다. 이 순서에 의해서, "1"측의 다이나믹 기준셀의 선택측에 대한 임계치를 판정하여 "0"측의 다이나믹 기준셀의 선택측을 프로그램한다.
이와 같이 본 발명의 제4 실시예에 있어서는, "0"측의 다이나믹 기준셀에 있어서 반대측을 프로그램하여 전하를 축적해 둔다. 이 상태에서, "1"측의 다이나믹 기준셀의 선택측에 대한 임계치를 판정하여 "0"측의 다이나믹 기준셀의 선택측을 프로그램한다.
도 9는 본 발명의 제5 실시예에 의한 다이나믹 기준셀 설정의 방법을 도시하는 흐름도이다. 이 제5 실시예는 전술한 경우의 분류 중 제4 경우, 즉 "1"측의 다이나믹 기준셀에 있어서 반대측이 전하를 축적하고 있는 동시에, "0"측의 다이나믹 기준셀에 있어서 반대측이 전하를 축적하고 있는 상태의 경우에 해당한다.
우선 초기 상태로서는, 다이나믹 기준셀의 각각은 양쪽의 비트가 소거된 "1"의 상태로 설정되어 있다.
도 8의 단계 ST1에서 프로그램 검증용 기준셀 PGV2를 사용 기준셀로서 설정한다. 단계 ST2에서, 설정된 프로그램 검증용 기준셀을 사용하여 "1"측의 다이나믹 기준셀에 있어서 기준용으로 선택하는 것과는 반대측을 프로그램한다. 단계 ST3에서, 또한 "0"측의 다이나믹 기준셀에 있어서 기준용으로 선택하는 것과는 반대측을 프로그램한다.
이하의 단계 ST4 내지 단계 ST11은 도 3의 흐름도의 단계 ST1 내지 단계 ST8과 기본적으로 동일하다. 이 순서에 의해서, "1"측의 다이나믹 기준셀의 선택측에 대한 임계치를 판정하여 "0"측의 다이나믹 기준셀의 선택측을 프로그램한다.
이와 같이 본 발명의 제5 실시예에 있어서는, "0"측 및 "1"측의 다이나믹 기준셀에 있어서 반대측을 프로그램하여 전하를 축적해 둔다. 이 상태에서, "1"측의 다이나믹 기준셀의 선택측에 대한 임계치를 판정하여 "0"측의 다이나믹 기준셀의선택측을 프로그램한다.
제2 내지 제5 실시예는 상기 설명으로부터 명백한 바와 같이, 기본적으로 제1 실시예와 동일한 처리 순서이며, 도 5의 회로 구성과 동일한 회로 구성 또는 간단한 변형을 행한 회로 구성에 의해서 실현할 수 있다.
도 10은 본 발명의 제6 실시예에 의한 다이나믹 기준셀 설정의 방법을 도시하는 흐름도이다. 이 제6 실시예는 질화막을 이용한 1 셀에 2 비트 저장가능한 플래시 메모리를 대상으로 하며, 전술한 실시예와는 상이하게 단일 기준셀로 임계치를 설정할 수 있는 방법에 관한 것이다.
우선 초기 상태로서는, 다이나믹 기준셀의 각각은 양쪽의 비트가 소거된 "1"의 상태로 설정되어 있다.
단계 ST1에서 프로그램 검증용 기준셀 PGV를 사용 기준셀로서 설정한다. 단계 ST2에서, 설정된 프로그램 검증용 기준셀을 사용하여 "0"측의 다이나믹 기준셀 A에 있어서 기준용으로 선택하는 측을 검증한다. 이 결과에 기초하여, 단계 ST5에서 "0"측의 다이나믹 기준셀 A의 선택측을 프로그램한다. 이에 따라, "0"측의 다이나믹 기준셀 A에 저장되는 데이터는 "01"이 된다. 제1 비트는 선택측의 데이터를 나타내고, 제2 비트는 반대측의 데이터를 나타낸다.
단계 ST3에서 판독용 기준셀 READ를 사용 기준셀로서 설정한다. 단계 ST4에서, 설정된 판독용 기준셀을 사용하여 "0"측의 다이나믹 기준셀 A의 선택측과 "1"측의 다이나믹 기준셀 B의 선택측과의 평균 임계치(평균 전류)를 검증한다. 이 결과에 기초하여, 단계 ST6에서 "1"측의 다이나믹 기준셀 B의 선택측과는 반대측을프로그램한다. 이에 따라, "1"측의 다이나믹 기준셀 B에 저장되는 데이터는 "10"이 된다.
이와 같이 본 실시예에서는 "0"측의 다이나믹 기준셀 A의 선택측과 "1"측의 다이나믹 기준셀 B의 선택측과의 평균 임계치가 판독 임계치 근방에 오도록 다이나믹 기준셀에 대한 임계치 설정을 행한다. 따라서, 평균 기준 전류가 소정의 값으로 안정되도록 다이나믹 기준셀을 설정하는 것이 가능해진다.
상기 설명에서는 우선 "0"측의 다이나믹 기준셀 A의 선택측을 프로그램하고, 이 후 "1"측의 다이나믹 기준셀 B의 선택측과는 반대측을 프로그램하였다. 이것과는 역으로, "1"측을 최초에 프로그램하고, 이 후 "0"측을 프로그램하도록 구성하더라도 동일한 효과를 얻을 수 있다. 또한, 1 셀에 1 비트인 플래시 메모리에 있어서도 마찬가지로, "0"측의 다이나믹 기준셀과 "1"측의 다이나믹 기준셀과의 평균 임계치가 판독 임계치 근방에 오도록 "0"측의 다이나믹 기준셀에 대한 임계치 설정을 행할 수 있다.
도 11은 제6 실시예의 기준셀 설정 동작을 실행하는 회로 구성을 도시하는 도면이다.
도 11의 회로는 센스 앰프(51 및 52), 프로그램 검증용 기준셀(PGV)(53), 판독용 기준셀(READ)(54) 및 기록 제어 회로(55)를 포함한다. 센스 앰프(51)는 다이나믹 기준셀 영역(16B)으로부터 "0"측의 다이나믹 기준셀 A를 판독하고, 프로그램 검증용 기준셀(53)을 이용하여 검증한다. 이 결과에 기초하여, 기록 제어 회로(55)가 "0"측의 다이나믹 기준셀 A를 프로그램한다. 이 동작이 도 10의 흐름도의 단계ST1, ST2 및 ST5에 대응한다.
이 후, 센스 앰프(52)는 다이나믹 기준셀 영역(16B)으로부터 "1"측 및 "0"측의 다이나믹 기준셀 A 및 B를 판독하며, 이들의 평균 전류를 판독용 기준셀(54)에 기초하여 검증한다. 이 결과에 기초하여, 기록 제어 회로(55)가 "1"측의 다이나믹 기준셀 B에 있어서 선택측과는 반대측을 프로그램한다. 이 동작이 도 10의 흐름도의 단계 ST3, ST4, 및 ST6에 대응한다.
이와 같이 도 11의 회로 구성에 의해서 평균 기준 전류가 소정의 값으로 안정되도록 다이나믹 기준셀을 설정하는 것이 가능해진다.
도 12는 본 발명의 제7 실시예에 의한 다이나믹 기준셀 설정의 방법을 도시하는 흐름도이다. 이 제7 실시예는 질화막을 이용한 1 셀에 2 비트 저장가능한 플래시 메모리를 대상으로 하며, 단일 기준셀로 임계치를 설정할 수 있는 방법에 관한 것이다.
우선 초기 상태로서는, 다이나믹 기준셀의 각각은 양쪽의 비트가 소거된 "1"의 상태로 설정되어 있다.
단계 ST1에서 프로그램 검증용 기준셀 PGV 및 판독용 기준셀 READ를 사용 기준셀로서 설정한다. 단계 ST2에서, 설정된 프로그램 검증용 기준셀을 사용하여 "0"측의 다이나믹 기준셀 A에 있어서 기준용으로 선택하는 측을 검증한다. 이 결과에 기초하여, 단계 ST5에서 "0"측의 다이나믹 기준셀 A의 선택측을 프로그램한다. 이에 따라, "0"측의 다이나믹 기준셀 A에 저장되는 데이터는 "01"이 된다. 제1 비트는 선택측의 데이터를 나타내고, 제2 비트는 반대측의 데이터를 나타낸다.
단계 ST3에서, 단계 ST1에서 설정되어 있는 판독용 기준셀을 사용하여 "0"측의 다이나믹 기준셀 A의 선택측과 "1"측의 다이나믹 기준셀 B의 선택측과는 반대측의 평균 임계치(평균 전류)를 검증한다. 이 결과에 기초하여, 단계 ST6에서 "1"측의 다이나믹 기준셀 B의 선택측과는 반대측을 프로그램한다. 이에 따라, "1"측의 다이나믹 기준셀 B에 저장되는 데이터는 "10"이 된다.
이와 같이 이 제7 실시예에서는 "0"측의 다이나믹 기준셀 A의 선택측과 "1"측의 다이나믹 기준셀 B의 선택측과는 반대측의 평균 임계치가 프로그램용 기준셀의 임계치 근방에 오도록 다이나믹 기준셀에 대한 임계치 설정을 행한다. 따라서, "0"측의 다이나믹 기준셀 A의 선택측의 임계치가 클수록 "1"측의 다이나믹 기준셀 B의 선택측과는 반대측의 전하 주입량은 작아지며, "1"측의 다이나믹 기준셀 B의 선택측의 임계치는 작아진다. 이에 따라, 평균 기준 전류가 소정의 값으로 안정되도록 다이나믹 기준셀을 설정하는 것이 가능해진다.
상기 설명에서는 우선 "0"측의 다이나믹 기준셀 A의 선택측을 프로그램하고, 이 후 "1"측의 다이나믹 기준셀 B의 선택측과는 반대측을 프로그램하였다. 이것과는 역으로, "1"측을 최초에 프로그램하고, 이 후 "0"측을 프로그램하도록 구성하더라도 동일한 효과를 얻을 수 있다.
이상, 본 발명을 실시예에 기초하여 설명했지만, 본 발명은 상기 실시예에 한정되는 것이 아니라, 특허청구범위에 기재된 범위 내에서 여러 가지 변형이 가능하다.
상기 불휘발성 반도체 기억 장치에 있어서는 데이터 판정 제어 회로는 제1셀의 임계치에 따라서 상기 제2셀을 프로그램한다. 따라서, 제1셀의 임계치가 작을 때에는 상기 제2셀의 임계치가 커지도록 상기 제2셀을 프로그램하는 것이 가능해지며, 2 개의 기준셀의 평균 전류를 기준 전류로 하는 구성의 불휘발성 반도체 기억 장치에 있어서 안정된 판독 마진을 제공할 수 있다.

Claims (10)

  1. 메모리 셀과;
    상기 메모리 셀과 마찬가지로 재기록이 행해지는 다이나믹 기준셀과;
    상기 다이나믹 기준셀의 제1셀과 제2셀로부터 평균 기준 전류를 구하고, 상기 평균 기준 전류와 판독 전류를 비교함으로써 판독 데이터를 판정하는 데이터 판정 제어 회로
    를 포함하며, 상기 데이터 판정 제어 회로는 상기 제1셀의 임계치에 따라서 상기 제2셀을 프로그램하는 것을 특징으로 하는 불휘발성 반도체 기억 장치.
  2. 제1항에 있어서, 복수의 프로그램 검증용 기준셀을 더 포함하고, 상기 데이터 판정 제어 회로는 상기 제1셀의 임계치에 따라서 상기 복수의 프로그램 검증용 기준셀 중 하나를 선택하며, 상기 선택된 하나의 프로그램 검증용 기준셀을 이용하여 상기 제2셀을 프로그램하는 것을 특징으로 하는 불휘발성 반도체 기억 장치.
  3. 제1항에 있어서, 복수의 소거 검증용 기준셀을 더 포함하고, 상기 데이터 판정 제어 회로는 상기 복수의 소거 검증용 기준셀을 이용하여 상기 제1셀의 임계치를 판정하는 것을 특징으로 하는 불휘발성 반도체 기억 장치.
  4. 제1항에 있어서, 상기 메모리 셀은 질화막에 전하를 트랩함으로써 1 메모리셀당 2 비트의 정보를 저장하는 것을 특징으로 하는 불휘발성 반도체 기억 장치.
  5. 제4항에 있어서, 복수의 소거 검증용 기준셀 및 복수의 프로그램 검증용 기준셀을 더 포함하고, 상기 데이터 판정 제어 회로는 상기 복수의 소거 검증용 기준셀을 이용하여 상기 제1셀의 임계치를 판정하며, 상기 임계치 판정 결과에 기초하여 상기 복수의 프로그램 검증용 기준셀의 하나를 선택하고, 상기 선택된 하나의 프로그램 검증용 기준셀을 이용하여 상기 제2셀을 프로그램하는 것을 특징으로 하는 불휘발성 반도체 기억 장치.
  6. 제4항에 있어서, 복수의 프로그램 검증용 기준셀을 더 포함하고, 상기 데이터 판정 제어 회로는 상기 제1셀의 임계치에 따라서 상기 복수의 프로그램 검증용 기준셀의 하나를 선택하며, 상기 선택된 하나의 프로그램 검증용 기준셀을 이용하여 상기 제2셀의 기준용으로 선택되는 측과는 반대측을 프로그램하는 것을 특징으로 하는 불휘발성 반도체 기억 장치.
  7. 제6항에 있어서, 상기 데이터 판정 제어 회로는 상기 복수의 프로그램 검증용 기준셀을 이용하여 상기 제1셀의 임계치를 판정하는 것을 특징으로 하는 불휘발성 반도체 기억 장치.
  8. 제1항에 있어서, 상기 데이터 판정 제어 회로는 상기 제1셀과 상기 제2셀로부터 평균 기준 전류를 구하고, 상기 평균 기준 전류와 판독용 기준셀의 전류를 비교함으로써 상기 제2셀을 프로그램하는 것을 특징으로 하는 불휘발성 반도체 기억 장치.
  9. 제8항에 있어서, 상기 메모리 셀은 질화막에 전하를 트랩함으로써 1 메모리 셀당 2 비트의 정보를 저장하는 것을 특징으로 하는 불휘발성 반도체 기억 장치.
  10. 제1항에 있어서, 상기 메모리 셀은 질화막에 전하를 트랩함으로써 1 메모리 셀당 2 비트의 정보를 저장하고, 상기 데이터 판정 제어 회로는 상기 제1셀의 기준용으로 선택되는 측과 상기 제2셀의 기준용으로 선택되는 측과는 반대측으로부터 평균 기준 전류를 구하며, 상기 평균 기준 전류와 프로그램용 기준셀의 전류를 비교함으로써 상기 제1셀 또는 상기 제2셀을 프로그램하는 것을 특징으로 하는 불휘발성 반도체 기억 장치.
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