KR20030030999A - 패터닝 방법 - Google Patents
패터닝 방법 Download PDFInfo
- Publication number
- KR20030030999A KR20030030999A KR1020027016476A KR20027016476A KR20030030999A KR 20030030999 A KR20030030999 A KR 20030030999A KR 1020027016476 A KR1020027016476 A KR 1020027016476A KR 20027016476 A KR20027016476 A KR 20027016476A KR 20030030999 A KR20030030999 A KR 20030030999A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- polymer material
- light emitting
- deposited
- domain
- electrode
- Prior art date
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 115
- 238000000059 patterning Methods 0.000 title claims abstract description 19
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 94
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims abstract description 45
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims abstract description 44
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims abstract description 22
- 238000005191 phase separation Methods 0.000 claims abstract description 16
- 239000002861 polymer material Substances 0.000 claims description 127
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims description 77
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 21
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 18
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 15
- 229920001940 conductive polymer Polymers 0.000 claims description 13
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims description 13
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 claims description 12
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 claims description 8
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 claims description 8
- FYGHSUNMUKGBRK-UHFFFAOYSA-N 1,2,3-trimethylbenzene Chemical compound CC1=CC=CC(C)=C1C FYGHSUNMUKGBRK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 6
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 claims description 6
- 239000003086 colorant Substances 0.000 claims description 6
- 238000009826 distribution Methods 0.000 claims description 6
- UOHMMEJUHBCKEE-UHFFFAOYSA-N prehnitene Chemical compound CC1=CC=C(C)C(C)=C1C UOHMMEJUHBCKEE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 239000008096 xylene Substances 0.000 claims description 6
- 230000005525 hole transport Effects 0.000 claims description 4
- 150000008280 chlorinated hydrocarbons Chemical class 0.000 claims description 3
- HHNHBFLGXIUXCM-GFCCVEGCSA-N cyclohexylbenzene Chemical compound [CH]1CCCC[C@@H]1C1=CC=CC=C1 HHNHBFLGXIUXCM-GFCCVEGCSA-N 0.000 claims description 3
- 238000007641 inkjet printing Methods 0.000 claims description 3
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 claims description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 2
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims description 2
- 239000004033 plastic Substances 0.000 claims description 2
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 claims description 2
- YTPLMLYBLZKORZ-UHFFFAOYSA-N Thiophene Chemical group C=1C=CSC=1 YTPLMLYBLZKORZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 125000005678 ethenylene group Chemical group [H]C([*:1])=C([H])[*:2] 0.000 claims 1
- 125000003983 fluorenyl group Chemical group C1(=CC=CC=2C3=CC=CC=C3CC12)* 0.000 claims 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 claims 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 abstract description 10
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 64
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 35
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 34
- 229920000547 conjugated polymer Polymers 0.000 description 19
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 12
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 10
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 10
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 10
- 230000008569 process Effects 0.000 description 10
- 230000001965 increasing effect Effects 0.000 description 9
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 9
- 229920000620 organic polymer Polymers 0.000 description 9
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 8
- 230000006870 function Effects 0.000 description 8
- 229920001609 Poly(3,4-ethylenedioxythiophene) Polymers 0.000 description 7
- 239000010408 film Substances 0.000 description 7
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 6
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 6
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 5
- 230000008859 change Effects 0.000 description 4
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 4
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 4
- -1 for example Substances 0.000 description 4
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 4
- PQXKHYXIUOZZFA-UHFFFAOYSA-M lithium fluoride Chemical compound [Li+].[F-] PQXKHYXIUOZZFA-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 4
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 4
- 239000013077 target material Substances 0.000 description 4
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 3
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 3
- 238000005401 electroluminescence Methods 0.000 description 3
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 3
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 3
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 3
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 3
- 238000009736 wetting Methods 0.000 description 3
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 2
- 229920000291 Poly(9,9-dioctylfluorene) Polymers 0.000 description 2
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 2
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 2
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 2
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 2
- NIHNNTQXNPWCJQ-UHFFFAOYSA-N fluorene Chemical compound C1=CC=C2CC3=CC=CC=C3C2=C1 NIHNNTQXNPWCJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 2
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 2
- 230000005660 hydrophilic surface Effects 0.000 description 2
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 2
- 229920000553 poly(phenylenevinylene) Polymers 0.000 description 2
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 2
- 239000002195 soluble material Substances 0.000 description 2
- FNQJDLTXOVEEFB-UHFFFAOYSA-N 1,2,3-benzothiadiazole Chemical compound C1=CC=C2SN=NC2=C1 FNQJDLTXOVEEFB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005964 Acibenzolar-S-methyl Substances 0.000 description 1
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003570 air Substances 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- 230000001413 cellular effect Effects 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 229920001688 coating polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 1
- 230000008602 contraction Effects 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 230000002708 enhancing effect Effects 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 239000000446 fuel Substances 0.000 description 1
- 230000005661 hydrophobic surface Effects 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 1
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 1
- 239000002346 layers by function Substances 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 238000004020 luminiscence type Methods 0.000 description 1
- 230000005012 migration Effects 0.000 description 1
- 238000013508 migration Methods 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920005787 opaque polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 1
- 238000001020 plasma etching Methods 0.000 description 1
- 229920000767 polyaniline Polymers 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 229920000128 polypyrrole Polymers 0.000 description 1
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 1
- 230000004044 response Effects 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003384 small molecules Chemical class 0.000 description 1
- 108020001568 subdomains Proteins 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 1
- 125000005259 triarylamine group Chemical group 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05B—ELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
- H05B33/00—Electroluminescent light sources
- H05B33/10—Apparatus or processes specially adapted to the manufacture of electroluminescent light sources
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K71/00—Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
- H10K71/10—Deposition of organic active material
- H10K71/12—Deposition of organic active material using liquid deposition, e.g. spin coating
- H10K71/13—Deposition of organic active material using liquid deposition, e.g. spin coating using printing techniques, e.g. ink-jet printing or screen printing
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K50/00—Organic light-emitting devices
- H10K50/80—Constructional details
- H10K50/805—Electrodes
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
- H10K59/80—Constructional details
- H10K59/805—Electrodes
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K71/00—Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
- H10K71/20—Changing the shape of the active layer in the devices, e.g. patterning
- H10K71/231—Changing the shape of the active layer in the devices, e.g. patterning by etching of existing layers
- H10K71/236—Changing the shape of the active layer in the devices, e.g. patterning by etching of existing layers using printing techniques, e.g. applying the etch liquid using an ink jet printer
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K10/00—Organic devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching; Organic capacitors or resistors having potential barriers
- H10K10/40—Organic transistors
- H10K10/46—Field-effect transistors, e.g. organic thin-film transistors [OTFT]
- H10K10/462—Insulated gate field-effect transistors [IGFETs]
- H10K10/468—Insulated gate field-effect transistors [IGFETs] characterised by the gate dielectrics
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K50/00—Organic light-emitting devices
- H10K50/10—OLEDs or polymer light-emitting diodes [PLED]
- H10K50/11—OLEDs or polymer light-emitting diodes [PLED] characterised by the electroluminescent [EL] layers
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
- H10K59/30—Devices specially adapted for multicolour light emission
- H10K59/35—Devices specially adapted for multicolour light emission comprising red-green-blue [RGB] subpixels
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K85/00—Organic materials used in the body or electrodes of devices covered by this subclass
- H10K85/10—Organic polymers or oligomers
- H10K85/111—Organic polymers or oligomers comprising aromatic, heteroaromatic, or aryl chains, e.g. polyaniline, polyphenylene or polyphenylene vinylene
- H10K85/113—Heteroaromatic compounds comprising sulfur or selene, e.g. polythiophene
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K85/00—Organic materials used in the body or electrodes of devices covered by this subclass
- H10K85/10—Organic polymers or oligomers
- H10K85/111—Organic polymers or oligomers comprising aromatic, heteroaromatic, or aryl chains, e.g. polyaniline, polyphenylene or polyphenylene vinylene
- H10K85/113—Heteroaromatic compounds comprising sulfur or selene, e.g. polythiophene
- H10K85/1135—Polyethylene dioxythiophene [PEDOT]; Derivatives thereof
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K85/00—Organic materials used in the body or electrodes of devices covered by this subclass
- H10K85/10—Organic polymers or oligomers
- H10K85/111—Organic polymers or oligomers comprising aromatic, heteroaromatic, or aryl chains, e.g. polyaniline, polyphenylene or polyphenylene vinylene
- H10K85/115—Polyfluorene; Derivatives thereof
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K85/00—Organic materials used in the body or electrodes of devices covered by this subclass
- H10K85/10—Organic polymers or oligomers
- H10K85/141—Organic polymers or oligomers comprising aliphatic or olefinic chains, e.g. poly N-vinylcarbazol, PVC or PTFE
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K85/00—Organic materials used in the body or electrodes of devices covered by this subclass
- H10K85/10—Organic polymers or oligomers
- H10K85/151—Copolymers
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
- Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
- Optical Filters (AREA)
Abstract
Description
Claims (55)
- 패터닝 방법에 있어서,제1 재료의 층을 퇴적하는 단계, 및상기 제1 재료를 또한 용해할 수 있도록 선택되는 용매 내에 제2 재료의 용액을 방울 형태로 상기 제1 재료의 제1 표면 상에 선택적으로 퇴적하는 단계를 포함하고,상기 제1 및 제2 재료는 상기 제1 재료의 층의 제2 표면 내에 끼워지고 이 제2 표면을 통하여 연장되는 상기 제2 재료를 포함하는 적어도 하나의 도메인을 제공하기 위해서 용매의 제거 시에 상기 제1 및 제2 재료 간에 상 분리(phase separation)가 생기도록 선택되며, 상기 제2 표면이 상기 제1 표면에 대향하는 패터닝 방법.
- 제1항에 있어서,상기 제1 재료는 폴리머 재료를 포함하는 패터닝 방법.
- 제1항에 있어서,상기 제2 재료는 폴리머 재료를 포함하는 패터닝 방법.
- 제1항에 있어서,상기 제1 및 제2 재료는 각각 제1 및 제2 폴리머 재료를 포함하는 패터닝 방법.
- 제4항에 있어서,상기 폴리머 재료의 하나는 코일형 체인 구조를 갖도록 선택되고, 상기 폴리머 재료의 다른 하나는 적어도 그 체인 부분에서 막대(rod)형 구조를 갖도록 선택되는 패터닝 방법.
- 제4항 또는 제5항에 있어서,상기 제1 폴리머 재료는 제1 전극 상에 퇴적되고, 상기 폴리머 재료의 하나는 전기 절연 폴리머를 포함하고 상기 폴리머 재료의 다른 하나는 광 방출 폴리머 재료를 포함하여, 상기 광 방출 폴리머 재료와 전기 접촉하는 제2 전극을 제공하는 패터닝 방법.
- 제6항에 있어서,상기 제1 폴리머 재료는 절연 폴리머 재료를 포함하는 패터닝 방법.
- 제6항 또는 제7항에 있어서,상기 제1 폴리머 재료를 용해할 수 있도록 선택된 용매 내에 또 다른 광 방출 폴리머 재료의 용액을 방울로서 선택적으로 퇴적하여, 상기 제1 및 제2 전극과전기 접촉하는 상기 또 다른 광 방출 폴리머 재료의 적어도 하나의 도메인을 제공하는 단계를 포함하는 패터닝 방법.
- 제8항에 있어서,상기 또 다른 광 방출 폴리머 재료는 제1 컬러의 광을 방출할 수 있도록 선택되고, 상기 다른 하나의 광 방출 폴리머 재료는 상기 제1 컬러와 다른 제2 컬러의 광을 방출할 수 있도록 선택되는 패터닝 방법.
- 제6항 내지 제9항 중의 어느 한 항에 있어서,상기 제1 전극은 서로 전기적으로 분리된 제1 및 또 다른 전극 패턴을 포함하는 패터닝 방법.
- 제10항에 있어서,상기 제1 및 또 다른 전극 패턴은 인터디지털형 전극 패턴을 포함하는 패터닝 방법.
- 제10항 또는 제11항에 있어서,상기 또 다른 광 방출 폴리머 재료는 상기 제1 및 또 다른 전극 패턴 중의 하나와 접촉하도록 선택적으로 퇴적되고, 상기 다른 하나의 광 방출 폴리머 재료는 상기 제1 및 또 다른 전극 패턴과 접촉하도록 선택적으로 퇴적되는 패터닝 방법.
- 제12항에 있어서,제11항에 종속될 때, 상기 또 다른 광 방출 폴리머 재료 및 상기 다른 하나의 광 방출 폴리머 재료는 상기 인터디지털형 전극 패턴 중의 하나와 상기 제2 전극 간에 전압을 인가하여 제1 다색 화상을 표시할 수 있게 하고 상기 인터디지털형 전극 패턴 중의 다른 하나와 상기 제2 전극 간에 전압을 인가하여 또 다른 다색 화상을 표시할 수 있게 하기 위해서 적어도 적색, 녹색 및 청색 광 방출 폴리머 재료의 도메인의 어레이를 포함도록 각각 배치되는 패터닝 방법.
- 제6항 내지 제13항 중의 어느 한 항에 있어서,상기 제1 및/또는 또 다른 전극(들)은 도전성 폴리머 재료를 포함하도록 선택되는 패터닝 방법.
- 제6항 내지 제14항 중의 어느 한 항에 있어서,상기 제1 폴리머 재료의 층은 스핀 코팅에 의해 퇴적되는 패터닝 방법.
- 제14항에 있어서,제10항 내지 제13항 중의 어느 한 항에 종속될 때, 상기 도전성 폴리머 재료의 상기 제1 및 제2 전극 패턴은 잉크젯 프린팅 기술을 사용하여 퇴적되는 패터닝 방법.
- 제6항 내지 제16항 중의 어느 한 항에 있어서,상기 광 방출 폴리머 재료 또는 이들의 적어도 하나는 메인 체인에서 또는 사이드 체인에서 플루오렌(fluorene) 그룹을 포함하는 패터닝 방법.
- 제6항 내지 제16항 중의 어느 한 항에 있어서,상기 광 방출 폴리머 재료 또는 이들의 적어도 하나는 메인 체인에서 p-페닐 그룹을 포함하는 패터닝 방법.
- 제6항 내지 제16항 중의 어느 한 항에 있어서,상기 광 방출 폴리머 재료 또는 이들의 적어도 하나는 메인 체인에서 p-페닐 비닐렌 그룹을 포함하는 패터닝 방법.
- 제6항 내지 제16항 중의 어느 한 항에 있어서,상기 광 방출 폴리머 재료 또는 이들의 적어도 하나는 메인 체인에서 티오펜 그룹을 포함하는 패터닝 방법.
- 제6항 내지 제16항 중의 어느 한 항에 있어서,상기 광 방출 폴리머 재료 또는 이들의 적어도 하나는 메인 체인에서 벤조티아디졸(benzothiadizole) 그룹을 포함하는 패터닝 방법.
- 제6항 내지 제21항 중의 어느 한 항에 있어서,상기 절연 폴리머 재료는 알킬 체인 및 벤젠 고리(ring)를 포함하는 패터닝 방법.
- 제22항에 있어서,상기 절연 폴리머 재료는 폴리스티렌 또는 폴리스티렌의 공중합체(co-polymer)를 포함하는 패터닝 방법.
- 제6항 내지 제23항 중의 어느 한 항에 있어서,상기 제2 전극은 증착에 의해 제조되는 패터닝 방법.
- 제6항 내지 제24항 중의 어느 한 항에 있어서,상기 재료는 하나의 도메인 내의 폴리머 재료의 두께가 다른 하나의 도메인 내의 폴리머 재료의 두께와 다르도록 일련의 방울로서 퇴적되는 패터닝 방법.
- 제6항 내지 제25항 중의 어느 한 항에 있어서,상기 방울은 상기 도메인이 본질적으로 원형이도록 퇴적되는 패터닝 방법.
- 제6항 내지 제26항 중의 어느 한 항에 있어서,상기 방울은 하나의 도메인의 영역이 다른 하나의 도메인의 영역과 다르도록 퇴적되는 패터닝 방법.
- 제6항 내지 제27항 중의 어느 한 항에 있어서,상기 방울은 그레이 스케일(gray scale)을 나타낼 수 있는 도메인을 제공하기 위해서 하나의 도메인 내의 상기 폴리머 재료의 분포 밀도가 다른 하나의 도메인 내의 상기 폴리머 재료의 분포 밀도와 다르도록 퇴적되는 패터닝 방법.
- 제6항 내지 제28항 중의 어느 한 항에 있어서,상기 제1 전극은 기판 상에 배치되는 패터닝 방법.
- 제29항에 있어서,상기 기판은 플라스틱 재료의 가요성 기판을 포함하도록 선택되는 패터닝 방법.
- 제6항 내지 제30항 중의 어느 한 항에 있어서,상기 제1 전극과 상기 제1 폴리머 재료 간에 배치된 정공 수송층을 설치하는 단계를 포함하고, 상기 정공 수송층은 상기 용매로 용해되지 않는 재료를 포함하도록 선택되는 패터닝 방법.
- 제4항에 있어서,상기 제1 폴리머 재료는 가시광에 대하여 실질적으로 불투명하도록 선택되고, 상기 제2 폴리머 재료는 제1 컬러의 광을 투과할 수 있도록 선택되는 패터닝 방법.
- 제32항에 있어서,상기 또 다른 폴리머 재료의 적어도 하나의 도메인을 제공하기 위해서 상기 제1 폴리머 재료를 용해할 수 있도록 선택된 용매 내에 또 다른 폴리머 재료의 용액을 방울로서 퇴적하는 단계를 포함하고, 상기 또 다른 폴리머 재료는 제2 컬러의 광을 투과할 수 있도록 선택되는 패터닝 방법.
- 제32항에 있어서,상기 제2 재료의 도메인은 상기 또 다른 폴리머 재료의 도메인의 두께와 다른 두께를 갖도록 배치되는 패터닝 방법.
- 제32항 내지 제34항 중의 어느 한 항에 있어서,상기 도메인은 원형을 갖도록 배치되는 패터닝 방법.
- 제33항 내지 제35항 중의 어느 한 항에 있어서,적어도 하나의 도메인은 다른 하나의 도메인의 사이즈와 다른 사이즈를 갖도록 배치되는 패터닝 방법.
- 제4항에 있어서,상기 제1 폴리머 재료는 절연 폴리머 재료를 포함하고, 상기 제2 폴리머 재료는 도전성 폴리머 재료를 포함하고 절연 폴리머 재료의 층을 통하여 연장되도록 배치되고, 상기 방법은 상기 도전성 폴리머 재료와 전기 접촉하는 전극 패턴을 설치하여 상기 전극 패턴과 상기 절연 폴리머 재료 아래에 놓인 층 간의 도전성 상호 접속을 제공하는 단계를 더 포함하는 패터닝 방법.
- 제37항에 있어서,상기 절연 폴리머 재료 아래에 놓인 층은 또 다른 전극 패턴을 포함하는 패터닝 방법.
- 제37항 또는 제38항에 있어서,상기 전극 패턴 및/또는 상기 또 다른 전극 패턴은 도전성 폴리머 재료를 포함하는 패터닝 방법.
- 제1항 내지 제39항 중의 어느 한 항에 있어서,상기 용매는 방향족 및/또는 염화 탄화수소 용매를 포함하도록 선택되는 패터닝 방법.
- 제40항에 있어서,상기 용매는 톨루엔, 크실렌, 트리메틸벤젠, 테트라메틸벤젠, 사이클로헥실벤젠, 또는 그들의 혼합물을 포함하도록 선택되는 패터닝 방법.
- 제1항 내지 제41항 중의 어느 한 항에 있어서,상기 도메인은 약 500nm보다 작은 두께를 갖도록 배치되는 패터닝 방법.
- 제42항에 있어서,상기 도메인은 약 30nm 내지 약 300nm 범위의 두께를 갖도록 배치되는 패터닝 방법.
- 제1항 내지 제43항 중의 어느 한 항에 있어서,상기 제1 및/또는 제2 재료는 폴리머 재료를 포함하고, 상기 폴리머 재료는 1000 이상의 분자량을 갖도록 선택되는 패터닝 방법.
- 제1항 내지 제44항 중의 어느 한 항에 있어서,상기 방울의 사이즈 및/또는 개수는 선택적으로 조절되는 패터닝 방법.
- 제1항 내지 제45항 중의 어느 한 항에 있어서,방울의 건조는 퇴적된 방울의 온도를 상승시킴으로써 지원되는 패터닝 방법.
- 제1항 내지 제46항 중의 어느 한 항에 있어서,방울의 건조는 가스의 흐름에 의해 지원되는 패터닝 방법.
- 제1항 내지 제47항 중의 어느 한 항에 있어서,상기 방울 또는 방울들은 잉크젯 프린트 헤드를 사용하여 퇴적되는 패터닝 방법.
- 제1항 내지 제48항 중의 어느 한 항에 기재된 방법을 포함하는 전자 장치의 제조 방법.
- 제1항 내지 제31항, 또는 제40항 내지 제48항 중의 어느 한 항에 기재된 방법에 따라서 제조된 광 방출 장치.
- 제1항 내지 제4항, 제32항 내지 제36항, 또는 제40항 내지 제48항 중의 어느 한 항에 기재된 방법에 따라서 제조된 컬러 필터.
- 제1항 내지 제4항, 또는 제37항 내지 제48항 중의 어느 한 항에 기재된 방법에 따라서 제조된 도전성 상호 접속을 포함하는 전자 장치.
- 제50항에 기재된 광 방출 장치를 포함하는 표시 장치.
- 제51항에 기재된 컬러 필터를 포함하는 표시 장치.
- 제52항에 기재된 전자 장치를 포함하는 표시 장치.
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
GB0108347A GB2374202A (en) | 2001-04-03 | 2001-04-03 | Patterning method |
GB0108347.6 | 2001-04-03 | ||
PCT/GB2002/001483 WO2002082561A1 (en) | 2001-04-03 | 2002-03-28 | Patterning method |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20030030999A true KR20030030999A (ko) | 2003-04-18 |
KR100505959B1 KR100505959B1 (ko) | 2005-08-04 |
Family
ID=9912171
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR10-2002-7016476A KR100505959B1 (ko) | 2001-04-03 | 2002-03-28 | 패터닝 방법 |
Country Status (9)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7560133B2 (ko) |
EP (1) | EP1374323B1 (ko) |
JP (1) | JP4068970B2 (ko) |
KR (1) | KR100505959B1 (ko) |
CN (1) | CN1331246C (ko) |
DE (1) | DE60220654T2 (ko) |
GB (1) | GB2374202A (ko) |
TW (1) | TWI289027B (ko) |
WO (1) | WO2002082561A1 (ko) |
Families Citing this family (27)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4648594B2 (ja) * | 2001-09-07 | 2011-03-09 | ブラザー工業株式会社 | 表示装置の製造方法 |
US7132996B2 (en) | 2001-10-09 | 2006-11-07 | Plasma Control Systems Llc | Plasma production device and method and RF driver circuit |
AU2003900180A0 (en) * | 2003-01-16 | 2003-01-30 | Silverbrook Research Pty Ltd | Method and apparatus (dam001) |
WO2004084324A1 (de) * | 2003-03-19 | 2004-09-30 | Osram Opto Semiconductors | Organische leuchtdiode mit integriertem bild |
JP4325343B2 (ja) * | 2003-09-25 | 2009-09-02 | セイコーエプソン株式会社 | 膜形成方法およびデバイス製造方法 |
US20070069634A1 (en) * | 2003-11-28 | 2007-03-29 | Pixdro Ltd. | Method and system for patterning an organic light emitting diode display by printing |
US7300861B2 (en) * | 2004-06-24 | 2007-11-27 | Palo Alto Research Center Incorporated | Method for interconnecting electronic components using a blend solution to form a conducting layer and an insulating layer |
US7351606B2 (en) * | 2004-06-24 | 2008-04-01 | Palo Alto Research Center Incorporated | Method for forming a bottom gate thin film transistor using a blend solution to form a semiconducting layer and an insulating layer |
JP2006015271A (ja) * | 2004-07-02 | 2006-01-19 | Seiko Epson Corp | 薄膜形成方法 |
DE602005020717D1 (de) | 2004-07-29 | 2010-06-02 | Konarka Technologies Inc | Verfahren zur Beschichtung von nanostrukturierte Elektroden |
JP4051631B2 (ja) * | 2004-08-20 | 2008-02-27 | セイコーエプソン株式会社 | エッチング方法、微細構造体の製造方法、導電線の形成方法、薄膜トランジスタの製造方法及び電子機器の製造方法 |
JP4167287B2 (ja) * | 2004-08-20 | 2008-10-15 | 松下電器産業株式会社 | 電界効果トランジスタの製造方法 |
TWI254594B (en) * | 2005-03-17 | 2006-05-01 | Ind Tech Res Inst | Color organic light-emitting display and manufacturing process thereof |
US7601567B2 (en) * | 2005-12-13 | 2009-10-13 | Samsung Mobile Display Co., Ltd. | Method of preparing organic thin film transistor, organic thin film transistor, and organic light-emitting display device including the organic thin film transistor |
KR101194646B1 (ko) | 2005-12-30 | 2012-10-24 | 엘지디스플레이 주식회사 | 소프트몰드 제조방법 |
EP1933393A1 (en) * | 2006-12-13 | 2008-06-18 | Samsung SDI Co., Ltd. | Method of manufacturing a substrate for an electronic device |
JP4801037B2 (ja) | 2006-12-13 | 2011-10-26 | 三星モバイルディスプレイ株式會社 | 電子素子、及びその製造方法 |
JP2009170200A (ja) * | 2008-01-15 | 2009-07-30 | Sony Corp | 表示装置の製造方法 |
WO2010093237A1 (en) | 2009-02-11 | 2010-08-19 | Nederlandse Organisatie Voor Toegepast- Natuurwetenschappelijk Onderzoek Tno | Optoelectronic device and method for fabricating such device |
EP2244315A1 (en) * | 2009-04-22 | 2010-10-27 | Nederlandse Organisatie voor toegepast -natuurwetenschappelijk onderzoek TNO | Method of manufacturing an organic light emitting diode (OLED) |
WO2011048956A1 (ja) * | 2009-10-22 | 2011-04-28 | コニカミノルタホールディングス株式会社 | 装飾発光体およびその製造方法 |
DE102010032839B4 (de) | 2010-07-30 | 2019-03-28 | Jörg R. Bauer | Sandwichbauteil mit einer Bedienschicht und einer Funktionsschicht |
EP2476784A1 (en) | 2011-01-18 | 2012-07-18 | Nederlandse Organisatie voor toegepast -natuurwetenschappelijk onderzoek TNO | Method for manufacturing an electronic device by electrodeposition from an ionic liquid |
US20140264294A1 (en) * | 2013-03-15 | 2014-09-18 | Elwha Llc | Three-dimensional Printing Surface Treatments |
EP2849244A1 (en) * | 2013-09-13 | 2015-03-18 | Nederlandse Organisatie voor toegepast -natuurwetenschappelijk onderzoek TNO | Multicolour light-emitting diode, semiconductor display unit, and methods of manufacturing thereof |
US9498142B2 (en) * | 2014-07-03 | 2016-11-22 | Heraeus Deutschland GmbH & Co. KG | Multi-layered structure and method |
JP7040006B2 (ja) * | 2017-12-27 | 2022-03-23 | コニカミノルタ株式会社 | 画像表示部材及び画像表示部材の製造方法 |
Family Cites Families (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5950444A (ja) * | 1982-09-16 | 1984-03-23 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | 微細加工用ホトマスク |
JPH0325937A (ja) * | 1989-06-22 | 1991-02-04 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体装置の製造方法 |
JPH0335937A (ja) * | 1989-07-04 | 1991-02-15 | Nippon Carbide Ind Co Inc | ワイヤカット放電加工における加工液の処理方法 |
US5242711A (en) * | 1991-08-16 | 1993-09-07 | Rockwell International Corp. | Nucleation control of diamond films by microlithographic patterning |
JP2690040B2 (ja) * | 1995-05-15 | 1997-12-10 | 工業技術院長 | 微細パターンの形成方法及び微細加工方法 |
GB2376565B (en) | 1997-10-14 | 2003-02-05 | Patterning Technologies Ltd | Method of forming an electronic device |
US7090890B1 (en) * | 1998-04-13 | 2006-08-15 | The Trustees Of Princeton University | Modification of polymer optoelectronic properties after film formation by impurity addition or removal |
GB2347013A (en) * | 1999-02-16 | 2000-08-23 | Sharp Kk | Charge-transport structures |
JP2001006541A (ja) | 1999-06-24 | 2001-01-12 | Nec Corp | プラズマディスプレイパネルとその製造方法及びその製造装置 |
JP5073141B2 (ja) | 1999-12-21 | 2012-11-14 | プラスティック ロジック リミテッド | 内部接続の形成方法 |
JP2001341296A (ja) * | 2000-03-31 | 2001-12-11 | Seiko Epson Corp | インクジェット法による薄膜形成方法、インクジェット装置、有機el素子の製造方法、有機el素子 |
US6641859B1 (en) * | 2000-06-08 | 2003-11-04 | Eastman Kodak Company | Method of making an emissive layer for an organic light-emitting device |
-
2001
- 2001-04-03 GB GB0108347A patent/GB2374202A/en not_active Withdrawn
-
2002
- 2002-03-28 US US10/296,181 patent/US7560133B2/en not_active Expired - Lifetime
- 2002-03-28 WO PCT/GB2002/001483 patent/WO2002082561A1/en active IP Right Grant
- 2002-03-28 CN CNB028020189A patent/CN1331246C/zh not_active Expired - Lifetime
- 2002-03-28 JP JP2002580419A patent/JP4068970B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 2002-03-28 KR KR10-2002-7016476A patent/KR100505959B1/ko active IP Right Grant
- 2002-03-28 EP EP02707008A patent/EP1374323B1/en not_active Expired - Lifetime
- 2002-03-28 DE DE60220654T patent/DE60220654T2/de not_active Expired - Lifetime
- 2002-04-01 TW TW091106522A patent/TWI289027B/zh not_active IP Right Cessation
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN1463472A (zh) | 2003-12-24 |
DE60220654T2 (de) | 2007-10-25 |
GB2374202A (en) | 2002-10-09 |
CN1331246C (zh) | 2007-08-08 |
JP2004531854A (ja) | 2004-10-14 |
US7560133B2 (en) | 2009-07-14 |
US20030157244A1 (en) | 2003-08-21 |
WO2002082561A1 (en) | 2002-10-17 |
JP4068970B2 (ja) | 2008-03-26 |
GB0108347D0 (en) | 2001-05-23 |
EP1374323A1 (en) | 2004-01-02 |
TWI289027B (en) | 2007-10-21 |
KR100505959B1 (ko) | 2005-08-04 |
DE60220654D1 (de) | 2007-07-26 |
EP1374323B1 (en) | 2007-06-13 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR100505959B1 (ko) | 패터닝 방법 | |
US6844672B2 (en) | Light emitting device and method of manufacturing the same | |
US6252253B1 (en) | Patterned light emitting diode devices | |
US8253910B2 (en) | Display employing organic material | |
US7652432B2 (en) | Organic electro-luminescence device, driving method thereof and electronic apparatus | |
CN100490210C (zh) | 场致发光器件 | |
US20090121618A1 (en) | Solvents for PEDOT-Solutions for Ink-Jet Printing | |
JP2004111278A (ja) | インクジェット法による有機el表示装置及びカラーフィルターの製造方法、製造装置 | |
JP4170700B2 (ja) | エレクトロルミネッセンス表示装置および製造方法 | |
EP1356523A2 (en) | Display device | |
US8624233B2 (en) | Organic electroluminescence display device and electronic apparatus | |
JP2005535083A (ja) | 有機発光ダイオード | |
JP2004165140A (ja) | インクジェット法による有機el表示装置及びカラーフィルターの製造方法、製造装置 | |
US11637265B2 (en) | Display substrate having pixel definition layer comprises a lyophilic and lyophobic materials | |
US9099406B2 (en) | Organic electroluminescence display device, and electronic system | |
Haskal et al. | 21.1: Ink Jet Printing of Passive‐Matrix Polymer Light Emitting Displays | |
US7223147B2 (en) | Method of producing electroluminescence apparatus, electroluminescence apparatus and electronic device | |
US7638949B2 (en) | Organic electroluminescence device, method for driving thereof, and electronic appliance | |
JP2003203766A (ja) | エレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法 | |
JP2004139825A (ja) | エレクトロルミネッセンス素子および表示装置 | |
KR100669667B1 (ko) | 고분자 유기 전자발광소자의 제조방법 | |
Haskal et al. | Polymer light-emitting displays: Current status and outlook | |
Haskal et al. | Passive‐matrix polymer light‐emitting displays |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant | ||
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20120629 Year of fee payment: 8 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20130618 Year of fee payment: 9 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20150630 Year of fee payment: 11 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20160701 Year of fee payment: 12 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20170704 Year of fee payment: 13 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20180628 Year of fee payment: 14 |