JP2001006541A - プラズマディスプレイパネルとその製造方法及びその製造装置 - Google Patents

プラズマディスプレイパネルとその製造方法及びその製造装置

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JP2001006541A
JP2001006541A JP17819199A JP17819199A JP2001006541A JP 2001006541 A JP2001006541 A JP 2001006541A JP 17819199 A JP17819199 A JP 17819199A JP 17819199 A JP17819199 A JP 17819199A JP 2001006541 A JP2001006541 A JP 2001006541A
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Japan
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color filter
forming
plasma display
display panel
filter material
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JP17819199A
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English (en)
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Tetsuji Okajima
哲治 岡島
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NEC Corp
Original Assignee
NEC Corp
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  • Formation Of Various Coating Films On Cathode Ray Tubes And Lamps (AREA)
  • Gas-Filled Discharge Tubes (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】プラズマディスプレイパネルのカラーフィルタ
ーを高精度且つ細い線幅で実現し、材料の無駄を少な
く、短い簡単な工程で形成するとともに、大幅なコスト
ダウンを図ることにある。 【解決手段】プラズマディスプレイパネルの製造にあた
り、ヘッド1のカラーフィルター材料インク2をインク
ジェットによって吐出し、パターン3を作成することに
より、カラーフィルターを形成する工程を含む。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は情報表示端末や平面
型テレビなどに用いられるカラープラズマディスプレイ
パネルとその製造方法およびその製造装置に関し、特に
各放電セルにカラーフィルターを形成した高画質且つ高
コントラストで、対角1メートルクラス以上の大面積お
よびトリオピッチ1ミリメートル以下の高精細度のプラ
ズマディスプレイパネルとこれを実現するための製造方
法及びその製造装置に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、かかるプラズマディスプレイパネ
ルは、ガス放電によって発生した紫外線により蛍光体を
励起発光させ、表示動作させる表示装置である。このプ
ラズマディスプレイパネルは、放電の形態からAC型と
DC型に分けることができ、AC型は輝度、発光効率、
寿命の点でDC型より優れている。特に、AC型の中で
も反射型AC面放電型が輝度、発光効率の点で優れてお
り、ここでは反射型AC面放電型を例にとって説明す
る。
【0003】図5は従来の一例を説明するための反射型
AC面放電カラープラズマディスプレイパネルの断面図
である。図5に示すように、このパネルは、2つの基板
を別々に作成し、それらをサンドイッチ状に重ね合わせ
るものである。まず、表示面側となる透明なガラス板で
形成された前面基板20上には透明電極22が形成され
る。しかも、透明電極22は紙面に平行な方向に帯状に
複数形成され、一放電セルに対して一対づつ形成されて
いる。この隣り合う透明電極22の間に、数十kHzか
ら数百kHzのパルス状AC電圧を印加し、面放電を発
生させることにより、表示放電を得る。従って、このよ
うな透明電極22は面放電電極とも呼ばれる。なお、こ
の透明電極22上には、低抵抗化のためのバス電極が積
層されているが、本図では省略している。このバス電極
の幅は、透明電極22の幅より狭く且つ透明電極22の
端の部分に沿って形成されている。通常、この透明電極
22は酸化錫(SnO2)やインジウムチンオキサイド
(ITO)などが用いられるのに対し、バス電極は銀な
どの金属厚膜やアルミ薄膜あるいはクロム/銅/クロム
の多層薄膜で形成されている。
【0004】また、前面基板20にはカラーフィルター
30が形成されるが、このカラーフィルター30はパネ
ルの輝度の低下を最小限に抑えながら明所コントラスト
を向上させたり、蛍光体の発光色の色純度を向上させる
ためのものであり、各放電セルにそのセルの発光スペク
トルに対応した透過スペクトルのフィルターが形成され
る。このカラーフィルター30を形成する方法には、次
の3種類がある。
【0005】(1)無機の顔料微粉末層を形成し、これ
を低融点鉛ガラスの絶縁層で被覆する方法。
【0006】(2)無機の顔料微粉末と低融点鉛ガラス
の粉末を混合して基板に塗布し焼成した後、着色された
絶縁層を形成する方法。
【0007】(3)色ガラス粉末を基板に塗布し焼成し
て、着色された絶縁層を形成する方法。
【0008】このうち、(1)の方法が最もカラーフィ
ルター30の透過スペクトルの点で優れ、唯一実用化さ
れている方法であるので、以下には、この方法を例にと
って説明する。
【0009】まず、透明電極22及びバス電極の上を、
絶縁層23で被覆する。そして、この絶縁層23の中に
はカラーフィルター30が形成されている。この絶縁層
23とカラーフィルター30の製造プロセスは、最初に
通常低融点鉛ガラスを主成分とするガラスペーストをス
クリーン印刷法によって塗布し、含まれている低融点鉛
ガラスの軟化点温度程度、もしくはそれ以上の高温で焼
成する。通常、この工程を1回ないし2回程度繰り返
し、内部に気泡などを含まない平滑な7〜18マイクロ
メートル(以下、単にミクロンと称す)程度の厚さの透
明な絶縁層23を形成する。この絶縁層23を形成した
後、カラーフィルター30を形成する。
【0010】かかるカラーフィルター30を形成する無
機顔料の微粉末には、主に赤は酸化鉄系、緑はクロム
系,コバルト−アルミ−チタン−クロム系,バナジウム
−クロム系、青はコバルト−アルミ系,コバルト系,バ
ナジウム−ジルコニウム系の各材料を用いる。
【0011】ここで、緑と青は複数の顔料を示したが、
これらのうち一つもしくは複数の顔料を混合して用い
る。また、これらの無機顔料微粉末は、エチルセルロー
スなどのバインダーと有機溶剤とを混合してペーストと
し、基板上にスクリーン印刷される。このスクリーン印
刷工程は、例えば最初に赤のカラーフィルターのペース
トを印刷し、120度C程度で乾燥した後、緑のカラー
フィルターペーストを印刷し、乾燥させた後、最後に青
を同様に形成する。もちろん、各色のカラーフィルター
を形成する順番は、この例に限定されない。この後、低
融点鉛ガラスによる絶縁層23をさらにこのカラーフイ
ルタ30上に形成する。これは、透明電極22を絶縁層
で被覆したときと同様の工程である。このカラーフィル
ターペーストに含まれるバインダーは、この絶縁層23
の形成時の焼成で、気化して無くなる。このようにし
て、無機顔料微粉末のカラーフィルター30が絶縁層2
3の中に形成される。この絶縁層23の厚さはカラーフ
ィルター30の厚さを含めて25〜35ミクロン程度で
あるのに対し、カラーフィルター30そのものの厚さは
1〜2ミクロン程度である。なお、このカラーフィルタ
ー30は透明電極22とバス電極を形成した前面基板2
0上に直接形成し、その上を絶縁層で被覆しても良い。
【0012】次に、絶縁層23を被覆するように、保護
層24を形成する。この保護層24は、蒸着法やスパッ
タ法によって形成される酸化マグネシウム(MgO)の
薄膜、又は印刷やスプレー法等によって形成されるMg
Oの厚膜であり、その膜厚は0.5ミクロンから2ミク
ロン程度である。この保護層24の役割は、放電開始電
圧の低減と表面スパッタの防止である。
【0013】一方、背面基板21上には、表示データを
書き込むためのデータ電極28を形成するが、ここでは
紙面に垂直方向にデータ電極28が伸び、これが各放電
セル毎に一本形成されている。すなわち、このデータ電
極28は、前述の前面基板20上に形成された透明電極
22及びバス電極と直交する。このデータ電極28は、
低融点鉛ガラスと白色の顔料とを混合した厚膜ペースト
をスクリーン印刷、焼成して形成した絶縁層27で被覆
される。この白色の顔料には、通常酸化チタン粉末やア
ルミナ粉末が用いられるが、この絶縁層27は二酸化珪
素などの薄膜で形成することもある。なお、この絶縁層
27は省略することも可能である。ついで、この絶縁層
27の上に低融点鉛ガラスやアルミナ等の混合物からな
る隔壁25をサンドブラスト法などで形成することによ
り、放電空間29を形成する。この出来上がった隔壁2
5のディメンジョンは、例えばトリオピッチが1mmの
場合、隔壁幅70ミクロン、高さ130ミクロン程度で
あり、アスペクト比の高い構造物である。この隔壁形成
工程は、スクリーン印刷法やリフトオフ法を用いる場合
もある。ついで、放電セル毎に、それぞれのセルの発光
色に対応する蛍光体26をスクリーン印刷法によって塗
布する。各蛍光体は蛍光体塗布面積を増やし高輝度を得
るために、隔壁25の側面にも形成される。
【0014】しかる後、前述の前面基板20と背面基板
21とを張り合わせて放電空間29を気密封止するとと
もに、その内部に放電可能なガス、例えばHeとNeと
Xeとの混合ガスを500torr程度の圧力で封入す
る。
【0015】上述した工程で作成されたカラープラズマ
ディスプレイパネルにおいては、各放電セルに透明電極
22(及び透明電極22上に形成されたバス電極、以下
同様)が2本ずつ配置され、所定電圧が印加されると、
これら透明電極22間で面放電が発生する。この放電に
より発生する紫外光で蛍光体26を励起し、可視光を発
生させるので、透明電極22及び前面基板20を通して
表示発光を得る。
【0016】このような面放電を発生させる隣り合う透
明電極22の一組は、それぞれ走査電極と維持電極の役
目を受け持っている。実際のパネル駆動において、走査
電極と維持電極との間には、維持パルスが印加されてい
る。また、書き込み放電を発生させるときは、走査電極
とデータ電極28との間に電圧を印加して対向放電を発
生させ、この放電が引き続き印加される維持パルスによ
って面放電電極間に維持放電が発生する。この維持放電
が実際の表示の放電となり、この回数を制御することに
よって表示を行うことができる。
【0017】図6は図5におけるカラーフィルタの形成
方法の一例を説明するための基板の断面図である。図6
に示すように、ここではスクリーン印刷を行っていると
きの断面、すなわちスキージ33の動く方向に垂直方向
の断面を表わし、前述した前面基板20(以下、単に基
板20と称す)の上にすでに赤フィルタパターン31と
緑フィルタパターン32が形成されている状態である。
これら印刷されている赤フィルタパターン31,緑フィ
ルタパターン32は、カラーフィルタペーストを乾燥し
た状態である。つぎに、青のカラーフィルタペーストを
スクリーン35に設けたスクリーン開口部34を通して
基板20に印刷するが、このときのスクリーン35はス
キージ33によって基板20に押しつけられている。な
お、スキージ33とスクリーン35と基板20の間には
若干の隙間があるが、ここでは分かり易くするために拡
大しており、実際にはこれらは密着している。
【0018】以上は、基板20側に形成されるカラーフ
ィルタ30のスクリーン印刷形成法についてであるが、
この方法以外にも感光性ペースト法やディスペンサー
(塗布機)法がある。感光性ペースト法はスクリーン印
刷によって、感光剤を混ぜたカラーフィルターペースト
を基板上にベタパターンで成膜した後、露光現像し焼成
する方法である。一方、ディスペンサー法はカラーフィ
ルター材料ペーストをノズルの先から押し出し、直接基
板に描画する方法である。
【0019】図7は図5におけるカラーフィルタの形成
方法の他の例を説明するための基板および製造装置の断
面図である。図7に示すように、ディスペンサー法にも
種々の装置を用いる方法があるが、ここでは最も簡単な
例を示す。まず、カラーフィルター材料であるカラーフ
ィルター材料ペースト41の入ったヘッド40にピスト
ン44を用いて圧力45をかけ、カラーフィルター材料
ペースト43をノズル42から前面基板としての基板2
0上に吐出する。この時、基板20もしくはヘッド40
を移動させる事によって、カラーフィルターパターン3
0Aを描画する。この後、基板20を焼成しカラーフィ
ルター30を形成する。このカラーフィルター材料ペー
スト41は、前述したスクリーン印刷で用いられたペー
ストと同様でも良い。なお、このディスペンサーで用い
られるペーストの粘度は数千〜数十万CPSである。
【0020】
【発明が解決しようとする課題】上述した従来のカラー
フィルターの形成にあたっては、スクリーン印刷法、感
光性ペースト法、ディスペンサー法で行われているが、
これらの方法には以下のような問題点がある。
【0021】まず、スクリーン印刷法は、カラーフィル
ターパターンの材料を直接基板に印刷する方法である。
しかし、対角1メートル級もしくはそれ以上の大面積で
トリオピッチ1ミリメートル以下の高精細のカラープラ
ズマディスプレイには、パターン精度が不十分である。
また、トリオピッチが0.3ミリメートルといった高精
細カラープラズマディスプレイパネルの場合、カラーフ
ィルターの線幅は70ミクロン程度となる。しかし、ス
クリーン印刷法ではカラーフィルターの線幅が100ミ
クロン程度までしか安定に形成することができず、10
0ミクロン未満の線幅では、カラーフィルターパターン
の切れや欠けなどが生じ易く、プロセスが不安定とな
る。従って、スクリーン印刷法は、実際の製品に用いる
ことが極めて困難である。
【0022】また、スクリーン印刷では、スクリーンを
基板に密着させる必要があるため、次のような問題も生
じる。すなわち、前述した図6において、顔料微粉末は
バインダーによって基板20に付着しているだけであ
る。このため、スクリーン35を押しつけ、さらにスキ
ージ33でスクリーン35を擦ることにより、顔料微粉
末の一部、又は大部分がスクリーン35に付着してしま
うという問題がある。これにより、カラーフィルターの
一部が欠け、その部分は可視光を透過しカラーフィルタ
ーの機能を果たさなくなるので、明所コントラストが著
しく低下するという問題が生ずる。また、パネル発光の
色純度も低下する。この問題は、特に高精細プラズマデ
ィスプレイパネルの場合、即ち細かいカラーフィルター
パターンを印刷する時には、スキージ33をスクリーン
35に押しつける圧力、即ち印圧を高くする必要がある
ため、より一層発生し易くなる。
【0023】次に、感光性ペースト法はカラーフィルタ
ーペーストにネガの感光剤を混ぜ、基板上にスクリーン
印刷法によりベタパターンで成膜、乾燥した後、露光現
像し、乾燥する方法である。この方法はパターン精度の
問題は無いが、パターンを形成するための緑と赤の顔
料、特に赤の顔料は露光に用いられる365ナノメート
ルの光を透過しないため、感光剤が十分に感光しにく
く、基板との密着性が悪くなるという欠点がある。従っ
て、100ミクロン以下の細いパターンの場合、密着性
の悪さからプロセスの安定性、即ち歩留まりが悪くなる
問題がある。更に、現像によって大部分の材料を捨てて
しまう欠点や、露光現像がフォトリソプロセスであるの
で、工程が多く且つ複雑になるという欠点がある。
【0024】さらに、ディスペンサー法は、上述の2つ
の方法の欠点を解決するために検討された方法である。
この方法は、パターン精度がディスペンサーもしくは基
板の移動の機械精度で決まるので、十分高精度に実現で
きるし、カラーフィルター材料ペーストの無駄もほとん
どない。また、基板との密着性も良く、プロセスも短く
簡単である。しかし、重大な問題が2つある。
【0025】まず第1の問題は、カラープラズマディス
プレイのカラーフィルターが必要とする十分細い線幅、
即ち30〜100ミクロンの線幅を描画することが非常
に困難である。すなわち、ディスペンサーはカラーフィ
ルター材料ペーストを連続的にノズルから絞り出すため
に、線幅が細くても500ミクロン程度までしか実現で
きないからである。
【0026】ついで第2の問題は、ディスペンサーが基
板とノズルの先端を近接させる必要があるにもかかわら
ず、カラープラズマディスプレイの大面積基板のよう
に、反りやうねりがある場合、基板とノズルが接触し描
画できなくなることが、しばしば発生するという問題が
ある。かかるディスペンサーはノズルと基板の間の距離
が約100〜500ミクロンであることが必要である。
しかし、実際のカラープラズマディスプレイの基板は、
大面積基板を焼成するため、ミリメートル単位の反りや
うねりが生ずるのが普通である。
【0027】以上のような理由から、ディスペンサー法
は、その優れた位置精度や材料利用率の高さを生かすこ
とができない。
【0028】本発明の目的は、上述したカラーフィルタ
ーを対角1mクラスの大面積基板に高い位置精度で、し
かも30〜100ミクロン程度の細い線幅で実現すると
ともに、材料の無駄を少なく且つ短い簡単な工程で形成
し、大幅なコストダウンを図ることのできるプラズマデ
ィスプレイパネルとその製造方法及びその製造装置を提
供することにある。
【0029】
【課題を解決するための手段】本発明のカラープラズマ
ディスプレイパネルの製造方法は、カラーフィルターを
備えたプラズマディスプレイパネルの製造方法におい
て、インクジェット装置によりカラーフィルター材料イ
ンクを吐出し、前記カラーフィルターを形成する工程を
含んで構成される。
【0030】また、前記カラーフィルターを形成する工
程は、前記インクジェット装置を圧電体の伸縮により前
記カラーフィルター材料インクを吐出させる。
【0031】また、前記カラーフィルターを形成する工
程は、前記インクジェット装置を気泡の発生による圧力
によって前記カラーフィルター材料インクを吐出させ
る。
【0032】また、前記カラーフィルターを形成する工
程は、前記インクジェット装置を静電力によりインク室
から引き出した前記カラーフィルター材料インクを空気
圧によって吐出させる。
【0033】また、前記カラーフィルターを形成する工
程に使用する前記インクジェット装置は、オンデマンド
型のインクジェット装置を用いて前記カラーフィルター
材料インクを吐出する。
【0034】また、前記カラーフィルターを形成する工
程に使用する前記インクジェット装置は、連続型のイン
クジェット装置を用いて前記カラーフィルター材料イン
クを吐出する。
【0035】また、前記カラーフィルターを形成する工
程に使用する前記インクジェット装置は、前記カラーフ
ィルター材料インクを吐出するノズルを複数個設けて形
成される。
【0036】また、前記カラーフィルターを形成する工
程に用いる前記カラーフィルター材料インクは、無機顔
料微粒子を含有している。
【0037】また、前記カラーフィルターを形成する工
程に用いる前記カラーフィルター材料インクは、無機顔
料微粒子及び低融点鉛ガラス微粒子を含有している。
【0038】また、前記カラーフィルターを形成する工
程に用いる前記カラーフィルター材料インクは、色ガラ
ス微粒子を含有している。
【0039】また、前記カラーフィルターを形成する工
程に用いる前記カラーフィルター材料インクは、前記無
機顔料微粒子の平均粒径が0.005ミクロンから10
ミクロンまでである。
【0040】また、前記カラーフィルターを形成する工
程に用いる前記カラーフィルター材料インクは、前記無
機顔料微粒子の平均粒径が0.01ミクロンから0.1
5ミクロンまでである。
【0041】また、前記カラーフィルターを形成する工
程に用いる前記カラーフィルター材料インクは、前記低
融点鉛ガラスの微粒子の平均粒径が0.01ミクロンか
ら10ミクロンまでである。
【0042】また、前記カラーフィルターを形成する工
程に用いる前記カラーフィルター材料インクは、前記低
融点鉛ガラスの微粒子の平均粒径が0.01ミクロから
2ミクロンまでである。
【0043】また、前記カラーフィルターを形成する工
程に用いる前記カラーフィルター材料インクは、前記色
ガラスの微粒子の平均粒径が0.01ミクロンから10
ミクロンまでである。
【0044】また、前記カラーフィルターを形成する工
程に用いる前記カラーフィルター材料インクは、前記色
ガラスの微粒子の平均粒径が0.01ミクロから2ミク
ロンまでである。
【0045】また、前記カラーフィルターを形成する工
程に用いる前記カラーフィルター材料インクは、エチル
セルロース、ニトロセルロース、アクリル系樹脂の内い
ずれか1つ以上を含有している。
【0046】また、前記カラーフィルターを形成する工
程に用いる前記カラーフィルター材料インクは、テルピ
ネオール、テルペンアルコール、高沸点アルコールエス
テル、二塩基酸エステルの内いずれか1つ以上を含有し
ている。
【0047】また、前記カラーフィルターを形成する工
程に用いる前記カラーフィルター材料インクは、グリコ
ール類を1つ以上含有している。
【0048】また、前記カラーフィルターを形成する工
程に用いる前記カラーフィルター材料インクは、前記グ
リコール類がエチレングリコール、ジエチレングリコー
ル、グリセリンのいずれか1つ以上を含有している。
【0049】また、前記カラーフィルターを形成する工
程に用いる前記カラーフィルター材料インクは、グリコ
ールエーテル類を1つ以上含有している。
【0050】また、前記カラーフィルターを形成する工
程に用いる前記カラーフィルター材料インクは、前記グ
リコールエーテル類がエチレングリコールモノメチルエ
ーテル、メチルカルビトールのいずれか1つ以上を含有
している。
【0051】また、前記カラーフィルターを形成する工
程に用いる前記カラーフィルター材料インクは、含窒素
溶媒を1つ以上含有している。
【0052】また、前記カラーフィルターを形成する工
程に用いる前記カラーフィルター材料インクは、前記含
窒素溶媒がトリエタノールアミン、ホルムアミド、N−
メチル−2−ピロリドンのいずれか1つ以上を含有して
いる。
【0053】また、前記カラーフィルターを形成する工
程に用いる前記カラーフィルター材料インクは、その粘
度が1CPS以上100CPS以下である。
【0054】また、前記カラーフィルターを形成する工
程に用いる前記カラーフィルター材料インクは、その粘
度が1CPS以上10CPS以下である。
【0055】また、前記カラーフィルターを形成する工
程に用いる前記カラーフィルター材料インクは、その表
面張力が1dyn/cm以上40dyn/cm以下であ
る。
【0056】また、前記カラーフィルターを形成する工
程に用いる前記カラーフィルター材料インクは、その表
面張力が20dyn/cm以上40dyn/cm以下で
ある。
【0057】また、前記カラーフィルターを形成する工
程に用いる前記カラーフィルター材料インクは、前記無
機顔料微粒子のうち赤の無機顔料微粒子が酸化鉄、もし
くは酸化鉄を含んでいる。
【0058】また、前記カラーフィルターを形成する工
程に用いる前記カラーフィルター材料インクは、前記無
機顔料微粒子のうち緑の無機顔料微粒子がクロム系、コ
バルト−アルミ−チタン−クロム系、バナジウム−クロ
ム系の材料のいずれか一つ、もしくは2つ以上を含んで
いる。
【0059】また、前記カラーフィルターを形成する工
程に用いる前記カラーフィルター材料インクは、前記無
機顔料微粒子のうち青の無機顔料微粒子がコバルト−ア
ルミ系、コバルト系、バナジウム−ジルコニウム系の材
料のいずれか一つ、もしくは2つ以上を含んでいる。
【0060】次に、本発明のプラズマディスプレイパネ
ルは、カラーフィルターを備えたプラズマディスプレイ
パネルにおいて、前記カラーフィルターを、インクジェ
ット装置により吐出して形成される。
【0061】次に、本発明のプラズマディスプレイパネ
ルの製造装置は、カラーフィルターを備えたプラズマデ
ィスプレイパネルの製造装置において、カラーフィルタ
ー材料インクを吐出するヘッドと、前記ヘッドに取付け
たパターン信号に基く駆動手段とを有して構成される。
【0062】また、前記駆動手段は、圧電素子,ヒータ
による気泡発生手段もしくは静電手段を用い、インク滴
を前記ヘッドから吐出させる。
【0063】
【発明の実施の形態】次に、本発明の実施の形態を図面
を参照して説明する。
【0064】図1は本発明のプラズマディスプレイパネ
ルの製造方法を説明するための基板およびヘッドの斜視
図である。図1に示すように、本実施の形態では、その
特徴であるカラーフィルター形成プロセスを説明するた
めに基板とヘッドのみを示しているが、他のプロセスは
従来の方法と同様である。
【0065】図1における基板4は、前述した図5の前
面基板20に相当する。この前面基板20上にカラーフ
ィルター30を形成する際に、インクジェットを用い
る。なお、図1で基板4の上には透明電極、バス電極、
絶縁層(ただし、絶縁層はなくても良い)が形成される
が、ここでは省略する。
【0066】まず、ヘッド1からカラーフィルター材料
インク2がインクジェットによって吐出される。この
時、ヘッド1または基板4(もしくはこれら両方)を移
動させることにより、カラーフィルターを形成するため
のカラーフィルターパターン3を描画する。そして、カ
ラーフィルター材料インクの乾燥を120度C程度で行
う。この描画および乾燥の工程は、赤、緑、青の3色に
ついて行う。また、図1ではヘッド1の3つの場所(ノ
ズル)からカラーフィルター材料インク2を吐出してい
るが、もっと増やすこともできる。かかるノズルの数が
多いほど描画時間が短くなるし、またヘッド1を増やし
ても同様の効果がある。
【0067】図2は本発明のプラズマディスプレイパネ
ルの製造方法および装置の一実施の形態を説明するため
の基板とインクジェット装置の断面図である。図2に示
すように、このインクジェット装置は、微少なインクの
液滴を噴射して描画する装置であり、インクの噴射原理
によって色々な方法があるが、ここでは圧電体、即ちピ
エゾを用いるピエゾ型を説明する。このピエゾ型描画装
置は、ヘッド1の外側面に取り付けられたピエゾ8に電
圧を印加することによりピエゾ8を伸縮させ、ヘッド1
の中のカラーフィルター材料インク2をノズル7から吐
出させる。吐出されたカラーフィルター材料インクであ
るインク滴6は、微少な液滴即ち霧状になっている。こ
の時、ピエゾ8には基板4上に形成するカラーフィルタ
ーパターン3に対応したカラーフィルターパターン信号
源15からのパターン信号を入力し、ヘッド1もしくは
基板4を移動させれば、カラーフィルターパターン3を
描画することができる。このヘッド1はその上部に形成
されたインクタンク接続パイプ5を介してカラーフィル
ター材料インクタンク(図示せず)に接続され、吐出さ
れた量だけカラーフィルター材料インク2が補充され
る。なお、前述したように、図2でも基板4上には透明
電極、バス電極及び絶縁層が形成されているが、ここで
は省略する(以下同様)。
【0068】このインクジェット装置によるカラーフィ
ルター材料インク2の吐出の仕方には、大きく分けてオ
ンデマンド型と連続型の2通りある。前者のオンデマン
ド型はヘッド1もしくは基板4を移動させ、基板4の全
面をスキャンして必要な個所、即ちカラーフィルターパ
ターン3を形成する所のみに、カラーフィルター材料イ
ンク2を吐出する方式である。また、後者の連続型はカ
ラーフィルターパターン3を形成する部分だけにヘッド
1もしくは基板4(両方同時も可)を移動させ、カラー
フィルター材料インク2を連続的に吐出し続ける方式で
ある。これらの吐出方式は、どちらも本発明に適応可能
であるが、単純な直線的パターンの多いカラーフィルタ
ーでは、連続型の方がより速く描画することが可能であ
るのに対し、複雑な形状やドット状のパターンのように
離散的な場合にはオンデマンド型が適している。
【0069】また、カラーフィルター材料インク2に
は、無機顔料の微粒子が含まれており、その平均粒径は
10ミクロン以下である。これより大きいと、ノズル7
の目詰まりを起こし易くなる。このノズル7の径は、通
常直径50ミクロン程度であるが、無機顔料微粒子の粒
径によっては直径100ミクロン程度にすることもあ
る。このような目詰まり対策の観点からすると、無機顔
料微粒子の粒径は小さい程良いが、しかし一般的には前
述したような無機顔料の場合、作ることが可能な大きさ
は、平均粒径で0.005ミクロン程度が限度である。
一方、図5で説明したカラーフィルター30の特性の観
点からすると、顔料微粉末の平均粒径は0.15ミクロ
ン以下が好ましい。これは、0.15ミクロンを越える
と、顔料粉末微粒子による可視光の散乱が大きくなり、
カラーフィルター30の透過率が低下して来るためであ
る。しかし、顔料微粉末の平均粒径が0.01ミクロン
よりも小さくなると、顔料微粒子の凝集力が大きくなる
ため、カラーフィルター30にひび割れが生じ易くな
る。従って、カラーフィルター30の特性の観点からは
平均粒径0.01ミクロンから0.15ミクロンが好ま
しい。この範囲はインクジェット装置によって形成可能
な範囲に含まれる。
【0070】ここで、前述したカラーフィルター材料イ
ンク2は、無機顔料微粒子のうち赤の無機顔料微粒子を
酸化鉄、もしくは酸化鉄を含んで形成することができる
し、また無機顔料微粒子のうち緑の無機顔料微粒子をク
ロム系、コバルト−アルミ−チタン−クロム系、バナジ
ウム−クロム系の材料のいずれか一つ、もしくは2つ以
上を含んで形成することができる。さらには、このカラ
ーフィルター材料インク2は、無機顔料微粒子のうち青
の無機顔料微粒子をコバルト−アルミ系、コバルト系、
バナジウム−ジルコニウム系の材料のいずれか一つ、も
しくは2つ以上を含んで形成することができる。
【0071】さらに、上述したカラーフィルター材料イ
ンク2には、無機顔料微粒子と低融点のガラスフリット
を混合した材料を用いることもできる。この場合の材料
を用いてパターンを形成する方法は、前述のパターン形
成と同様に、基板4上にパターンを形成し、溶剤やガラ
ス材を焼成して溶すことにより、着色された絶縁層に形
成することもできる。かかる材料として用いる低融点ガ
ラスフリットとしては、例えば低融点鉛ガラスが好適で
あり、その粒径は平均で10ミクロン以下が好ましい。
この平均粒径よりも大きいと、やはりノズル7の目詰ま
りを起し易くなる。したがって、インク2を吐出する上
でより好ましい低融点鉛ガラス等のガラスフリット粉末
の平均粒径は2ミクロン以下であるが、目詰まり対策の
観点からは、低融点鉛ガラスの平均粒径は小さい程良
い。しかし、一般的に作ることが可能な大きさは、平均
粒径で0.01ミクロン程度が限度である。
【0072】また、カラーフィルター材料インク2に
は、色ガラスの粉末を用いることもできる。その場合に
も、基板4上に色ガラスの粉末を含んだインクを塗布
し、焼成することにより、着色された絶縁層に形成する
方法もある。この色ガラス粉末の平均粒径も10ミクロ
ン以下が好ましく、これより大きいと、やはりノズル1
8の目詰まりを起し易くなる。すなわち、インクを吐出
する上でより好ましい色ガラス粉末の平均粒径は2ミク
ロン以下であるが、目詰まり対策の観点からは、色ガラ
ス粉末の平均粒径は小さい程良い。しかし、一般的に作
ることが可能な大きさは、平均粒径で0.01ミクロン
程度が限度である。
【0073】さらに、カラーフィルター材料インク2に
は、バインダーとして、エチルセルロース、ニトロセル
ロース、アクリル系樹脂等の有機樹脂も混合すると良
い。これらをインク状にするためには、テルピネオー
ル、テルペンアルコール、高沸点アルコールエステル、
二塩基酸エステル等の有機溶剤も混合する。また、これ
らの代わりにエチレングリコール、ジエチレングリコー
ル、グリセリン等のグリコール類、エチレングリコール
モノメチルエーテル、メチルカルビトール等のグリコー
ルエーテル類、トリエタノールアミン、ホルムアミド、
N−メチル−2−ピロリドンなどの含窒素溶媒等を用い
ることもできるし、これらの中に無機顔料微粒子やガラ
スフリット等の微粒子を分散させるために、分散剤を混
合すると、より良い結果が得られる。
【0074】ところで、前述したインクジェット装置で
は、吐出するインク2の粘度や表面張力が微少なインク
の液滴を形成する上で非常に重要である。その場合、上
述のカラーフィルター材料インク2を正常に噴射するに
は、100CPS以下の粘度であることが必要であり、
これ以上であると、微少な液滴の形成が困難であるばか
りでなく、ノズルの目詰まりも発生し易くなる。より好
ましくは、10CPS以下で非常に安定したインクの噴
射が実現できるが、製造可能なインクの粘度の下限は1
CPS程度である。また、インク11の表面張力は1d
yn/cm以上でないと、カラーフィルター材料インク
2が液滴状にちぎれにくくなり、うまく噴射できない。
そのため、より好ましくは20dyn/cm以上の表面
張力となるように、良好な液滴を形成することが必要で
ある。なお、インクの表面張力は高い程良いが、制作可
能な範囲は40dyn/cm程度までである。
【0075】このように、インクジェット装置でカラー
フィルターを形成すると、前述したディスペンサーのよ
うにペーストを連続的にノズルから押し出す方式と違っ
て、カラーフィルター材料インク2の微少な液滴でカラ
ーフィルターパターン3を描画するので、より細いパタ
ーンが形成可能である。具体的には、30〜100ミク
ロン程度の幅が可能であり、高精細カラーPDPのカラ
ーフィルターとして十分な線幅のものが得られる。
【0076】また、パターン位置精度は機械精度で決ま
るので、大面積基板でも十分に高い位置精度を実現する
ことができる。しかも、カラーフィルターの部分だけに
カラーフィルター材料インクを吐出するので、材料の無
駄は最小限で済む上、製造プロセスも描画と焼成だけで
あるので、非常に短く簡単になり、コスト削減に大きく
寄与することができる。
【0077】また、スクリーン印刷によるカラーフィル
ターの形成法のようにパターンの欠けも生じず、安定し
た高歩留まりのプロセスか可能となり、この点からも大
幅なコストダウンを実現できる。
【0078】さらに、インクジェット装置はディスペン
サーとは異なり、インクを吐出した後、そのインクは空
間を飛翔し基板面に着弾するので、ノズルと基板の間隔
を広くとることが可能である。具体的には、インクジェ
ットの場合、数ミリメートルから数十ミリメートルの範
囲が可能である。これによって、ミリメートル単位の反
りやうねりのある大面積のカラーPDPの基板でも、ノ
ズルと基板を接触させずに描画することが可能となる。
【0079】上述した本実施の形態におけるインクジェ
ット装置には、上述のようなピエゾ型の他にもバブルジ
ェット型やビームジェット型などの装置も可能である。
【0080】図3は本発明のプラズマディスプレイパネ
ルの製造方法および装置の他の実施の形態を説明するた
めの基板とインクジェット装置の断面図である。図3に
示すように、本実施の形態におけるインクジェット装置
としてのバブルジェット型装置は、気泡(バブル)11
の発生する圧力によって、ノズル7よりインク2の液滴
6を噴射するものである。ここでは、カラーフィルター
材料インク2が入っているヘッド1の側面に形成された
ヒータ10をカラーフィルターパターン信号9で加熱す
ることにより、気泡(バブル)11が発生し、その発生
した気泡11の圧力でカラーフィルター材料インク2を
ノズル7より基板4に噴射させる。この実施の形態にお
いても、前述した図2のピエゾ型と同様に、基板4もし
くはヘッド1を移動させることにより、カラーフィルタ
ーパターン3を描画することができる。なお、5はイン
クタンク(図示省略)へ接続するためのパイプである。
【0081】図4は本発明のプラズマディスプレイパネ
ルの製造方法および装置のまた別の実施の形態を説明す
るための基板とインクジェット装置の断面図である。図
4に示すように、本実施の形態におけるインクジェット
装置としてのバブルジェット型装置は、ヘッド12の形
成にあたり、インクタンク(図示省略)へ接続される接
続パイプ5を介してカラーフィルタ材料インク2を収容
したインク室13と、その外側に形成するとともに空気
を送り込む通路14と、その通路14の外側に形成する
とともに最下端部にインク滴6を噴出するためのノズル
15を形成した外側部材と、インク2を静電気的に駆動
制御するためにインク室13の下端部に設けた制御電極
16および前記外側部材のノズル周辺に配置したバイア
ス電極17とを有し、基板4上に形成するカラーフィル
タパターン3に対応したパターン信号9を両電極間に印
加するものである。この装置においては、カラーフィル
ター材料インク2を制御電極16とバイアス電極17に
印加されたカラーフィルターパターン信号9による静電
力でノズル15へ引き出し、通路14内を常に流れてい
る空気によって基板4へインク滴6を噴射する。なお、
それ以外は前述した実施の形態における製造方法および
製造装置と同様である。
【0082】また、これらの他にも、色々なインクジェ
ットによるインクの吐出原理が開発されているが、本発
明はいずれのインクジェットの方式によっても実現可能
であることは言うまでもない。
【0083】以上3つの実施の形態について説明した
が、これらのプラズマディスプレイパネルの製造方法、
及び製造装置によって、カラーフィルター材料の無駄を
最小限に抑え、且つ反りやうねりのある大面積基板に高
精度に、しかも100ミクロン以下という細い線幅のカ
ラーフィルターを短い工程で形成することができる。ま
た、これらの実施の形態によれば、従来のスクリーン印
刷のようにスクリーンによって既に形成してあるカラー
フィルターパターンを擦り傷つける問題も解決すること
ができる。
【0084】なお、上述した実施の形態の説明は、すべ
てAC型面放電型で行ったが、AC対向放電型やDC型
のプラズマディスプレイパネルにも同様に適用すること
ができる。
【0085】
【発明の効果】以上説明したように、本発明のプラズマ
ディスプレイパネル、及びその製造方法、及びその製造
装置は、1メートルクラスもしくはそれ以上の反りやう
ねりのある大面積基板上に対しても、カラーフィルター
材料の無駄を最小限に抑えるとともに、高精度に且つ1
00ミクロン以下という細い線幅のカラーフィルター
を、短い工程で形成することができるという効果があ
る。また、本発明によれば、材料の無駄が最小限に抑え
られ、工程も短縮されたため、大幅なコスト低減が可能
となるだけでなく、スクリーン印刷のようにスクリーン
によって既に形成してあるカラーフィルターパターンを
擦り傷つける問題も解決することができるという効果が
ある。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明のプラズマディスプレイパネルの製造方
法を説明するための基板およびヘッドの斜視図である。
【図2】本発明のプラズマディスプレイパネルの製造方
法および装置の一実施の形態を説明するための基板とイ
ンクジェット装置の断面図である。
【図3】本発明のプラズマディスプレイパネルの製造方
法および装置の他の実施の形態を説明するための基板と
インクジェット装置の断面図である。
【図4】本発明のプラズマディスプレイパネルの製造方
法および装置のまた別の実施の形態を説明するための基
板とインクジェット装置の断面図である。
【図5】従来の一例を説明するための反射型AC面放電
カラープラズマディスプレイパネルの断面図である。
【図6】図5におけるカラーフィルタの形成方法の一例
を説明するための基板の断面図である。
【図7】図5におけるカラーフィルタの形成方法の他の
例を説明するための基板および製造装置の断面図であ
る。
【符号の説明】
1,12 ヘッド 2 カラーフィルター材料インク 3 カラーフィルタパターン 4,20 基板(前面基板) 5 接続パイプ 6 インク滴 7,15 ノズル 8 ピエゾ 9 パターン信号(源) 10 ヒータ 11 気泡 13 インク室 14 通路 16 制御電極 17 バイアス電極 21 背面基板 22 透明電極 23,27 絶縁層 24 保護層 25 隔壁 26 蛍光体 28 データ電極 29 放電空間 30 カラーフィルター

Claims (34)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 カラーフィルターを備えたプラズマディ
    スプレイパネルの製造方法において、インクジェット装
    置によりカラーフィルター材料インクを吐出し、前記カ
    ラーフィルターを形成する工程を含むことを特徴とする
    プラズマディスプレイパネルの製造方法。
  2. 【請求項2】 前記カラーフィルターを形成する工程
    は、前記インクジェット装置を圧電体の伸縮により前記
    カラーフィルター材料インクを吐出させる請求項1記載
    のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
  3. 【請求項3】 前記カラーフィルターを形成する工程
    は、前記インクジェット装置を気泡の発生による圧力に
    よって前記カラーフィルター材料インクを吐出させる請
    求項1記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
  4. 【請求項4】 前記カラーフィルターを形成する工程
    は、前記インクジェット装置を静電力によりインク室か
    ら引き出した前記カラーフィルター材料インクを空気圧
    によって吐出する請求項1記載のプラズマディスプレイ
    パネルの製造方法。
  5. 【請求項5】 前記カラーフィルターを形成する工程に
    使用する前記インクジェット装置は、オンデマンド型の
    インクジェット装置を用いて前記カラーフィルター材料
    インクを吐出する請求項1記載のプラズマディスプレイ
    パネルの製造方法。
  6. 【請求項6】 前記カラーフィルターを形成する工程に
    使用する前記インクジェット装置は、連続型のインクジ
    ェット装置を用いて前記カラーフィルター材料インクを
    吐出する請求項1記載のプラズマディスプレイパネルの
    製造方法。
  7. 【請求項7】 前記カラーフィルターを形成する工程に
    使用する前記インクジェット装置は、前記カラーフィル
    ター材料インクを吐出するノズルを複数個設けた請求項
    1、2、3又は4記載のプラズマディスプレイパネルの
    製造方法。
  8. 【請求項8】 前記カラーフィルターを形成する工程に
    用いる前記カラーフィルター材料インクは、無機顔料微
    粒子を含有している請求項1、2、3、4、5、6又は
    7記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
  9. 【請求項9】 前記カラーフィルターを形成する工程に
    用いる前記カラーフィルター材料インクは、無機顔料微
    粒子及び低融点鉛ガラス微粒子を含有している請求項
    1、2、3、4、5、6又は7記載のプラズマディスプ
    レイパネルの製造方法。
  10. 【請求項10】 前記カラーフィルターを形成する工程
    に用いる前記カラーフィルター材料インクは、色ガラス
    微粒子を含有している請求項1、2、3、4、5、6又
    は7記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
  11. 【請求項11】 前記カラーフィルターを形成する工程
    に用いる前記カラーフィルター材料インクは、前記無機
    顔料微粒子の平均粒径が0.005ミクロンから10ミ
    クロンまでである請求項8又は9記載のプラズマディス
    プレイパネルの製造方法。
  12. 【請求項12】 前記カラーフィルターを形成する工程
    に用いる前記カラーフィルター材料インクは、前記無機
    顔料微粒子の平均粒径が0.01ミクロンから0.15
    ミクロンまでである請求項8又は9記載のプラズマディ
    スプレイパネルの製造方法。
  13. 【請求項13】 前記カラーフィルターを形成する工程
    に用いる前記カラーフィルター材料インクは、前記低融
    点鉛ガラスの微粒子の平均粒径が0.01ミクロンから
    10ミクロンまでである請求項9記載のプラズマディス
    プレイパネルの製造方法。
  14. 【請求項14】 前記カラーフィルターを形成する工程
    に用いる前記カラーフィルター材料インクは、前記低融
    点鉛ガラスの微粒子の平均粒径が0.01ミクロから2
    ミクロンまでである請求項9記載のプラズマディスプレ
    イパネルの製造方法。
  15. 【請求項15】 前記カラーフィルターを形成する工程
    に用いる前記カラーフィルター材料インクは、前記色ガ
    ラスの微粒子の平均粒径が0.01ミクロンから10ミ
    クロンまでである請求項10記載のプラズマディスプレ
    イパネルの製造方法。
  16. 【請求項16】 前記カラーフィルターを形成する工程
    に用いる前記カラーフィルター材料インクは、前記色ガ
    ラスの微粒子の平均粒径が0.01ミクロから2ミクロ
    ンまでである請求項10記載のプラズマディスプレイパ
    ネルの製造方法。
  17. 【請求項17】 前記カラーフィルターを形成する工程
    に用いる前記カラーフィルター材料インクは、エチルセ
    ルロース、ニトロセルロース、アクリル系樹脂の内いず
    れか1つ以上を含有している請求項1、2、3、4、
    5、6又は7記載のプラズマディスプレイパネルの製造
    方法。
  18. 【請求項18】 前記カラーフィルターを形成する工程
    に用いる前記カラーフィルター材料インクは、テルピネ
    オール、テルペンアルコール、高沸点アルコールエステ
    ル、二塩基酸エステルの内いずれか1つ以上を含有して
    いる請求項1、2、3、4、5、6又は7記載のプラズ
    マディスプレイパネルの製造方法。
  19. 【請求項19】 前記カラーフィルターを形成する工程
    に用いる前記カラーフィルター材料インクは、グリコー
    ル類を1つ以上含有している請求項1、2、3、4、
    5、6又は7記載のプラズマディスプレイパネルの製造
    方法。
  20. 【請求項20】 前記カラーフィルターを形成する工程
    に用いる前記カラーフィルター材料インクは、前記グリ
    コール類がエチレングリコール、ジエチレングリコー
    ル、グリセリンのいずれか1つ以上を含有している請求
    項19記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
  21. 【請求項21】 前記カラーフィルターを形成する工程
    に用いる前記カラーフィルター材料インクは、グリコー
    ルエーテル類を1つ以上含有している請求項1、2、
    3、4、5、6又は7記載のプラズマディスプレイパネ
    ルの製造方法。
  22. 【請求項22】 前記カラーフィルターを形成する工程
    に用いる前記カラーフィルター材料インクは、前記グリ
    コールエーテル類がエチレングリコールモノメチルエー
    テル、メチルカルビトールのいずれか1つ以上を含有し
    ている請求項21記載のプラズマディスプレイパネルの
    製造方法。
  23. 【請求項23】 前記カラーフィルターを形成する工程
    に用いる前記カラーフィルター材料インクは、含窒素溶
    媒を1つ以上含有している請求項1、2、3、4、5、
    6又は7記載のプラズマディスプレイパネルの製造方
    法。
  24. 【請求項24】 前記カラーフィルターを形成する工程
    に用いる前記カラーフィルター材料インクは、前記含窒
    素溶媒がトリエタノールアミン、ホルムアミド、N−メ
    チル−2−ピロリドンのいずれか1つ以上を含有してい
    る請求項23記載のプラズマディスプレイパネルの製造
    方法。
  25. 【請求項25】 前記カラーフィルターを形成する工程
    に用いる前記カラーフィルター材料インクは、その粘度
    が1CPS以上100CPS以下である請求項1、2、
    3、4、5、6又は7記載のプラズマディスプレイパネ
    ルの製造方法。
  26. 【請求項26】 前記カラーフィルターを形成する工程
    に用いる前記カラーフィルター材料インクは、その粘度
    が1CPS以上10CPS以下である請求項1、2、
    3、4、5、6又は7記載のプラズマディスプレイパネ
    ルの製造方法。
  27. 【請求項27】 前記カラーフィルターを形成する工程
    に用いる前記カラーフィルター材料インクは、その表面
    張力が1dyn/cm以上40dyn/cm以下である
    請求項1、2、3、4、5、6又は7記載のプラズマデ
    ィスプレイパネルの製造方法。
  28. 【請求項28】 前記カラーフィルターを形成する工程
    に用いる前記カラーフィルター材料インクは、その表面
    張力が20dyn/cm以上40dyn/cm以下であ
    る請求項1、2、3、4、5、6又は7記載のプラズマ
    ディスプレイパネルの製造方法。
  29. 【請求項29】 前記カラーフィルターを形成する工程
    に用いる前記カラーフィルター材料インクは、前記無機
    顔料微粒子のうち赤の無機顔料微粒子が酸化鉄、もしく
    は酸化鉄を含んでいる請求項8又は9記載のプラズマデ
    ィスプレイパネルの製造方法。
  30. 【請求項30】 前記カラーフィルターを形成する工程
    に用いる前記カラーフィルター材料インクは、前記無機
    顔料微粒子のうち緑の無機顔料微粒子がクロム系、コバ
    ルト−アルミ−チタン−クロム系、バナジウム−クロム
    系の材料のいずれか一つ、もしくは2つ以上を含んでい
    る請求項8又は9記載のプラズマディスプレイパネルの
    製造方法。
  31. 【請求項31】 前記カラーフィルターを形成する工程
    に用いる前記カラーフィルター材料インクは、前記無機
    顔料微粒子のうち青の無機顔料微粒子がコバルト−アル
    ミ系、コバルト系、バナジウム−ジルコニウム系の材料
    のいずれか一つ、もしくは2つ以上を含んでいる請求項
    8又は9記載のプラズマディスプレイパネルの製造方
    法。
  32. 【請求項32】 カラーフィルターを備えたプラズマデ
    ィスプレイパネルにおいて、前記カラーフィルターは、
    インクジェット装置により吐出して形成したことを特徴
    とするプラズマディスプレイパネル。
  33. 【請求項33】 カラーフィルターを備えたプラズマデ
    ィスプレイパネルの製造装置において、カラーフィルタ
    ー材料インクを吐出するヘッドと、前記ヘッドに取付け
    たパターン信号に基く駆動手段とを有することを特徴と
    するプラズマディスプレイパネルの製造装置。
  34. 【請求項34】 前記駆動手段は、圧電素子,ヒータに
    よる気泡発生手段もしくは静電手段を用い、インク滴を
    前記ヘッドから吐出させる請求項33記載のプラズマデ
    ィスプレイパネルの製造装置。
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