KR20020059417A

KR20020059417A - 유리 기판의 처리 방법과 디스플레이 스크린 제조용 유리기판

Info

Publication number: KR20020059417A
Application number: KR1020027004716A
Authority: KR
Inventors: 제랄딘 드위시; 올리비어 고메; 르노 지
Original assignee: 추후제출; 쌩-고벵 글래스 프랑스
Priority date: 1999-11-22
Filing date: 2000-11-22
Publication date: 2002-07-12
Also published as: DE60016461D1; ES2233483T3; CN1391538A; CA2391934A1; US6810688B1; DE60016461T2; EP1246780A1; FR2801302A1; PT1246780E; EP1246780B1; CN1239425C; KR100725136B1; JP2003514758A; FR2801302B1; ATE283830T1; WO2001038249A1

Abstract

본 발명은 변형점이 540℃ 이상인 유리 조성물로 구성되어 있고 디스플레이 스크린을 제조하도록 제작된 유리판을 처리하는 방법에 관한 것으로, 상기 방법은 유리판 표면 중 적어도 일부분에 행하는 이온 교환 처리 단계와, 가열 및 어닐링 처리 단계를 포함한다.

Description

유리 기판의 처리 방법과 디스플레이 스크린 제조용 유리 기판{METHOD FOR TREATING GLASS SUBSTRATES AND GLASS SUBSTRATES FOR PRODUCING DISPLAY SCREENS}

특히 본 발명의 디스플레이 스크린은 FED(전기장 방출 디스플레이) 스크린, LED(광 방출 디스플레이) 스크린, LCD(액정 디스플레이) 스크린과 같은 모든 종류의 플라즈마 스크린이고, 보다 일반적으로는 스크린을 제조하는 동안 유리 기판이 열 처리를 거치는 모든 디스플레이 스크린이다.

본 발명은 필수적으로 2 장의 유리판으로 구성된 플라즈마 스크린 제조 방법을 참조로 보다 구체적으로 설명될 것이다. 이러한 유리판 중 적어도 한 유리판에는 하나 이상의 전극 배열과, 유전 물질층과, 예를 들어 녹색 적색 청색에 해당되는 인광체(phosphor)로 구성된 층이 증착되어 있다. 유리판은 결합되기 전에 다수의 셀(cell)을 형성하고 두 장의 유리를 일정간격 떨어뜨리는 작용을 하는 차단제와 스페이서(spacer)를 수용한다.

이러한 전극, 층 또는 스페이서를 제조하는 모든 작업에는 열처리가 수반된다.

일반적으로 이러한 종류의 기판에 사용하는 유리 조성물은 실리카 소다 석회 종류의 유리 조성물로서, 이것을 현재 상태로 사용한다면 상기 조성물의 변형점보다 높은 온도에 의해 앞에서 언급한 열처리를 거치는 동안 크기가 변하게 된다.

이와 같이 발생하는 치수의 변형은 다른 애플리케이션에서는 극히 미미하다. 그러나, 앞에서 언급한 디스플레이 스크린에는 특히 플라즈마가 형성되는 각각의 셀을 형성하기 위해서 치수의 정확성이 상당히 필요하다. 이는, 이러한 셀 제조시의 정확성, 보다 정확하게는 상술한 여러 가지 층의 증착 정확성이 스크린의 작동 품질에 직접적으로 영향을 미치기 때문이다. 전극 정렬시의 정확성과 여러 가지 증착 단계 중의 정확성에 의해서 스크린 해상도와 영상 품질을 향상할 수 있다.

이에 따라 이러한 유리판에 대한 제 1 조건은 디스플레이 스크린을 제조하는 동안 유리판이 거치는 여러 가지 열 처리 중 치수 안정성이다.

이러한 치수 안정성을 개선하기 위한 해결책이 이미 제안되어 있다.

이미 제안되어 있는 첫 번째 해결책은 유리판이 "예비 수축" 처리를 거치게 하는 방법으로, 이러한 처리는 유리 조성물에 알맞고 스크린을 제조하는 동안 유리판이 거치는 열 처리에도 맞는 열 사이클(heat cycle)을 갖는 열 처리로 구성된다. 이러한 처리는 예를 들어, 디스플레이 스크린 제조에 해당되는 열 처리를 실행하기 전에 실리카 소다 석회 종류의 유리 조성물로 제조된 유리판에서 실행한다.

제안된 또 다른 해결책은 변형점이 높은 특별한 조성물로 유리판을 제조하는 것이다. 이러한 유리판이 거치는 열 처리에 의해 보다 일반적인 실리카 소다 석회종류의 유리 조성물보다 치수의 변화가 더 적게된다.

특히 문서 WO 99/13471과 WO 99/15472에 설명되어 있는 최종 해결책은 일반적인 실리카 소다 석회 종류의 유리판을 알칼리성 배쓰(bath)에 침적(dipping)함으로써 화학적으로 강화하는 것이다.

이러한 문서에 따라 얻어지는 보다 우수한 치수 안정성과는 별도로, 이 해결책은 또한 디스플레이 스크린 애플리케이션과 관련된 제 2 요구조건을 만족하는데, 이는 유리판에 실행하는 화학적인 강화를 통해 유리판의 기계적 강도를 증가하는 압축성 표면 응력(compressive surface stress)을 유리판에 가하기 때문이다. 이는 이러한 유리판이 디스플레이 스크린 제조 사이클이 끝날 때까지 아주 많은 수의 공정 작업, 특히 실행해야만 하는 많은 증착 단계를 거쳐야 하기 때문이다. 또한, 유리판은 디스플레이 스크린을 제조하는 공정 중에 층의 증착과 관련된 열 처리를 거치는 동안 응력을 받는다. 열에 의해 발생하는 이러한 응력은 제조 중 균열이 일어날 위험을 일으키고, 이러한 위험은 생산자가 제조 순환 과정을 가속화하고 생산율을 높이고자 할 때 더욱 심각해진다. 기계적 특성을 향상함으로써 가능한 한 상기 유리 기판이 균열을 일으킬 위험을 가능한 한 제한할 수 있다. 또한, 화학적 강화에 의해 발생하는 이러한 향상은 여러 층을 증착하기 위해 실행하는 여러 가지 열 처리 이후 사라진다.

현재, 디스플레이 산업 부분에서는 이미 조립되고 여기에 모든 열처리를 행하였으며 충분한 기계 강도를 갖는 유리창인 스크린을 제조하고자 하기 때문에, 디스플레이 스크린을 제조하기 위해 유리 기판과 관련된 새로운 요구 조건에 대한 경향이 있다. 이와 같이 형성된 스크린은 제조를 완성하기 위해 여러 가지 공정 작업을 거쳐야 하고, 또한 사용 중에 자연적으로 발생하거나 단순히 사용에 의해 발생하는 인장력을 받을 수 있다. 예를 들어, FED 타입의 스크린은 유리 표면에 가해지는 대기압에 의해 발생하는 인장력을 받는다. 이와 다른 예는 가장자리보다는 스크린의 중앙을 초과 가열함으로써 열적 응력을 받는 플라즈마 스크린에 관한 것이다.

본 발명은 유리 기판 처리 방법에 관한 것으로, 보다 구체적으로는 디스플레이 스크린을 제조하기 위해 후속해서 층이나 다른 코팅으로 코팅되는 유리 기판에 관한 것이다.

본 발명자는 층의 증착과 관련된 열 처리 중 만족할만한 치수 안정성과 상기 열 처리 전에 발생하는 기계적인 강화와 같이 앞에서 언급한 제 1 요구조건을 만족하고, 다른 한편으로 유리판을 조립한 후 이에 따라 상기 모든 열 처리를 행한 후에 만족할만한 기계 강도를 갖는 유리 기판이나 유리판의 제조를 맡았다.

이러한 목적은 변형점(10^14.6푸아즈의 점성도에 해당하는 온도)이 540℃ 이상인 유리 조성물로 구성되고 디스플레이 스크린을 제조하기 위한 유리판 처리 공정을 통해 본 발명에 따라 이루어지고, 상기 공정은 유리판의 표면 중 적어도 일부분에 대한 적어도 하나의 이온 교환 처리 단계와 예비 수축 단계를 포함한다.

예비 수축 처리는 팽창 연화점(dilatometric softening point) 이하의 온도에서 실행하는 처리이다. 이러한 처리를 이용해서 구조를 느슨하게 함으로써, 여러 가지 층 증착 작업에 해당하는 그 다음의 열 사이클이 일어나는 동안 이 구조는 보다 안정하게 된다.

유리하게도, 이러한 처리는 10¹²푸아즈(poise) 이상의 유리 점성도에서 실행한다.

유리판은 log₁₀ρ> 7.5를 만족하는 저항율(ρ)(250℃에서 ohm.cm의 단위로 표시됨)을 갖는 것이 바람직하다. 이러한 저항률은 디스플레이 스크린을 작동하는데 사용하는 전압이 높기 때문에 디스플레이 스크린의 경우에 특히 유리하다.

유리하게도 특히 산업적인 규모로 생산할 수 있는 제품을 얻기 위해, 플로트 공정에 따라 얻어진 유리판에 가할 처리 공정이 설계된다.

본 발명에 따라 실행할 제 1 방법에 따라, 예비 수축 처리를 이온 교환 처리와 결합하고, 이에 따라 예비 수축 처리는 동시에 실행되고, 이온 교환 열 사이클을 예비 처리에 사용한다.

본 발명을 실행하는 제 2 방법에 따라, 이 처리는 두 가지 연속 단계로 실행되는데, 첫 번째 단계는 예비 수축 단계로 구성되고, 두 번째 단계는 유리판의 표면 중 적어도 일부분에서 행하는 이온 교환 단계로 구성되어 있다.

본 발명자는 변형점이 540℃ 이상인 유리에 가해지는 본 발명에 따른 처리에 의해 치수 안정성의 제한을 만족시킬 수 있고, 다른 한편으로 디스플레이 스크린을 제조하기 위한 층의 증착에 해당하는 열 사이클 이후에 남아있는 유리판에 기계적인 강화를 제공할 수 있는 것으로 사실상 증명했다.

본 발명에 따라 얻어진 이러한 결과는 놀랄만한 일로, 높은 저항률과 높은 변형점과 같이 서로 결합된 특성이 유리 내의 알칼리 금속 농도가 제한되도록 하기 때문에(이것은 유리에서의 이온 교환에는 유리하지 않음), 높은 변형점과 높은 저항률을 갖는 유리를 이온 교환 처리함으로써 얻어진 강화가 충분할 수 있고, 또한 디스플레이 스크린의 제조에 해당되는 열 처리 이후에 (적어도 부분적으로) 유지될 수 있는 것으로는 예상되지 않았다.

본 발명을 실행하는 바람직한 방법에 따라서, 예비 수축 처리는 1 내지 200시간 동안, 유리하게는 특정 실행 방법에서 400 내지 660℃ 사이의 온도에서 1 내지 20 시간 동안 온도를 유지하는 단계로 구성되어 있는 열처리로서, 온도 유지는 적어도 한 시간, 바람직하게는 적어도 두 시간 내에 도달되는 것이 바람직하고, 다음으로 온도는 적어도 한 시간, 바람직하게는 적어도 세 시간이 지나서 90℃로 돌아온다.

이온 교환 처리에 관해, 이온 교환 처리는 유리판의 표면 중 적어도 일부를 증착함으로써 제 1 변형에 따라 실행되고, 페이스트는 알루미나 또는 실리카, 또는 황산염이나 염화물을 원료로 한 내화물과 같이 녹는점이 높은 화합물과 칼륨염을 포함한다. 이러한 이온 교환 강화 방법은 특히 프랑스 특허 FR-A-2 353 501에 설명되어 있다. 이러한 방법은 강화하고자 하는 유리판 부분만을 강화함으로써 상대적으로 단시간 내에 실행할 수 있다.

본 발명의 제 2 변형에 따라, 유리판의 적어도 일부분에 행하는 이온 교환은 적어도 하나의 알칼리 금속 염을 포함하는 배쓰에서 실행할 수 있다.

배쓰는 유리판 표면에서 나트륨/칼륨 교환을 일으키도록 용융된 질산 칼륨염을 함유하는 것이 바람직하다.

또한, 이러한 화학적 강화 또는 이온 교환은 400 내지 660℃, 유리하게는480℃ 이상의 온도에서 1 내지 360 시간 동안, 유리하게는 200 시간 미만 동안 배스에서 실행하는 것이 바람직하다. 유리하게도, 배쓰 온도는 적어도 한 시간에 걸쳐 바람직하게는 두 시간에 걸쳐 증가한다. 또한, 배쓰의 온도는 적어도 한 시간에 걸쳐서 바람직하게는 세 시간에 걸쳐서 90℃로 감소하는 것이 유리하다.

본 발명은 또한 디스플레이 스크린 제조용으로 사용될 수 있는 특성을 갖는 유리 기판 또는 유리판에 관한 것이다.

플로트 공정을 사용해서 유리하게 제조되는 이러한 유리 기판은 본 발명에 따라 변형점이 540℃ 이상인 유리 조성물로 이루어지고, 디스플레이 스크린 제조를 위해 층을 증착하는 열 처리를 적어도 한 번 행한 후에는 60 ppm 미만의 절대 수축값과 130℃를 초과하는 열 성능(DT)을 갖는다.

이러한 유리 조성물은 65×10^-7K^-1을 초과하는 확장 계수를 갖는 것이 유리하다. 이러한 확장 계수 값은 스크린 제조에 필요한 밀폐 작업에 특히 유리하다.

또한 유리 조성물은 log₁₀ρ> 7.5 를 만족하는 저항율(ρ)(250℃에서 ohm.cm의 단위로 표시됨)을 갖는 것이 유리하다. 이러한 저항률 값은 디스플레이 스크린에 존재할 수 있는 높은 전압에 특히 더 적합하다.

수축값은 백만분의 일(ppm) 단위로 표시되고, 유리 기판의 치수 안정성을 나타내는 양에 해당한다. 상기 열처리 전후 기판 위에서 측정한 초기 길이에 해당하는 견본을 측정함으로써 열 처리 후 열 처리에 따른 치수 변화 비율을 결정하여 수축값을 결정한다. 사용된 열처리는 580℃에서 두 시간 동안 온도를 유지하는 것에해당하는데, 10℃/min의 속도로 온도가 증가하고, 다음에 5℃/min의 속도로 온도가 떨어진다. 이러한 처리는 디스플레이 스크린을 제조하기 위해 유리 기판이 거치는 하나 이상의 열 처리를 나타낸다.

열 성능은 디스플레이 스크린을 형성하는 기준을 거친 유리 기판 위에서 열에 의한 균열 테스트를 실행함으로써 결정된다. 치수가 415×415mm²이고 두께가 2.8mm의 유리판인 8개의 견본에 이러한 테스트를 실행한다. 이러한 테스트는 유리판의 중앙부를 복사 에너지에 의해 가열하면서, 유리판의 가장자리는 차게 유지하는 것이다. 이러한 테스트를 실행하기 위해, 기판의 가장자리는 20℃의 물이 순환하는 12.5mm 폭의 프레임 아래에 있는 래빗(rabbet)에 고정되어 있다. 기판의 중심부는 저항 가열 구성요소를 통해 4℃/min의 속도로 가열된다. 중심부와 가장자리의 온도는 균열시 기록된다. 기판의 열 성능(DT)은 균열시 중심부 온도와 가장자리 온도의 온도차이다. 이러한 열 성능과 상술된 열 테스트는 디스플레이 스크린 애플리케이션을 나타낸다. 이러한 스크린의 제조사들은 생산성을 향상하고자 하고, 생산성의 향상을 위해서는 특히 생산 속도를 증가시키고자 한다. 물론 이것에 의해 가열 시간과 냉각 시간이 더욱 짧아지고, 이에 따라 유리 기판은 상술된 테스트와 매우 유사한 열적 충격을 받게 된다. 또한, 스크린을 사용하는 동안 스크린의 디스플레이 영역은 단순히 사용하는 이유만으로 온도가 증가하는 반면, 프레임에 고정된 기판의 가장자리는 더 낮은 온도에서 유지된다. 이에 따라 열적 테스트는 디스플레이 스크린을 제조하고 상기 스크린을 사용하는 동안 유리 기판이 받는 응력을 나타낸다.

유리하게도 본 발명에 따른 기판의 유리 조성물은 아래 구성성분을 다음 중량비로 포함한다.

SiO₂40 내지 75%

Al₂O₃0 내지 12%

Na₂O 0 내지 9%

K₂O 3.5 내지 10%

MgO 0 내지 10%

CaO 2 내지 11%

SrO 0 내지 11%

BaO 0 내지 17%

ZrO₂2 내지 8%.

본 발명의 바람직한 제 1 실시예에 따라, 기판의 유리 조성물은 아래 구성성분을 다음 중량비로 포함한다.

SiO₂60.1%

Al₂O₃3.3%

Na₂O 3.7%

K₂O 8.5%

MgO 1%

CaO 5.6%

SrO 10.3%

ZrO₂6.9%.

본 발명의 바람직한 다른 실시예에 따라, 기판의 유리 조성물은 아래 구성성분을 다음 중량비로 포함한다.

SiO₂68.3%

Al₂O₃0.7%

Na₂O 4.6%

K₂O 5.6%

MgO 0.1%

CaO 9.7%

SrO 6.5%

ZrO₂4.1%.

본 발명의 보다 상세한 사항과 유리한 특징은 본 발명에 따라 제조된 기판과 다른 기판에 행한 비교 측정을 설명함으로써 아래에서 명백해질 것이다.

상대 측정을 행하기 위해서, 기판을 제조하는 두 개의 유리 조성물, 즉 변형점이 높은 조성물인 본 발명에 따른 제 1 조성물(조성물 I)과 실리카 소다 석회 종류의 표준 유리에 해당하는 제 2 조성물(조성물 II)을 우선 선택했다. 아래 표에는 이러한 조성물의 상세 사항(중량% 단위)과 변형점 값이 제공되어 있다.

	조성물 I	조성물 II
SiO₂	60.1%	71%
Al₂O₃	3.3%	0.6%
Na₂O	3.7%	13.6%
K₂O	8.5%	0.3%
MgO	1%	4.1%
CaO	5.6%	9.7%
SrO	10.3%	0%
ZrO₂	6.9%	0%
변형점	602℃	508℃

비교 테스트는 유리 조성물(I과 II)로부터 제조되고, 두께는 2.8mm이며, 예비수축 처리나 화학적 강화를 거치거나 거치지 않고, 또는 예비수축 처리와 화학적 강화 처리의 조합을 거치거나 거치지 않는 기판 위에서 수축과 열 성능(DT)을 측정하는 것이다. 모든 기판은 처리 전 서로 동일한 형성 작업을 거쳤다.

사용된 예비 수축 처리(precontraction treatment)(이후 PT로 표시함)는 유리 조성물에 따라 한정되고, 예비수축 처리 다음에 거치게 되는 열처리에 따라 한정된다. 테스트를 위해, 예비수축 처리가 한정됨으로써, 예비수축 처리는 디스플레이 스크린의 제조 단계를 가장하고 아래에 한정되어 있는 열 사이클에 대한 "안정화제(stabilizer)"이다.

조성물 I에 대해 사용된 예비수축 처리는 열 처리로서, 1시간 동안 638℃로 온도를 증가시키는 단계와, 5시간에 걸쳐 552℃로 온도가 처음 감소하는 단계와, 최종적으로 3시간에 걸쳐 실온으로 온도가 감소하는 단계를 포함한다.

조성물 II에 대해 사용된 예비수축 처리는 열 처리로서, 580℃의 온도에서 2시간 동안 온도를 유지하는 단계를 포함한다. 이러한 예비수축 처리에 대해, 온도는 10℃/min의 속도로 증가하고, 상기 기판의 온도는 5℃/min의 속도로 90℃로 감소했다.

화학적 강화(chemical toughening)(이후 CT)로 표시함)는 490℃의 온도에서 16시간 동안 질산 칼륨 배쓰에서 실행되었다.

이러한 처리를 거치지 않거나 어느 하나의 처리만을 거치거나 모든 처리를 거친 유리 기판은 다음으로 디스플레이 스크린의 제조시 하나 이상의 단계를 가장한 열 사이클을 거치게 된다. 이러한 이론적 사이클(이후 제조 사이클이라 지칭함)은 580℃의 온도에서 두 시간 동안 온도를 유지하는 단계를 포함하고, 온도는 10℃/min의 속도로 증가한 다음 5℃/min의 속도로 온도가 감소한다.

농도값(ppm 단위, ±30ppm의 오차)과 열 성능(DT)(℃ 단위로 표현됨)에 관한 여러 결과가 다음 표에 기재되어 있다.

"미처리"라는 용어는 기판이 예비수축 처리와 화학적 강화 처리 모두를 거치지 않았음을 의미한다.

	기판	농도값(ppm)	제조 사이클 전의 DT	제조 사이클 후의 DT
A	조성물I(미처리)	346	125	-
B	조성물I + PT	0	80	-
C	조성물I + CT	174	275	210
D	조성물I + PT + CT	27	310	145
E	조성물 II(미처리)	465	110	-
F	조성물II + PT	0	100	-
G	조성물II + CT	-510	>320	-
H	조성물II + PT + CT	-490	>320	75

PT: 예비수축 처리, CT: 화학적 강화

수축값은 "제조 사이클" 이후에 측정되었다. 양의 값은 기판이 수축됨을 나타내는 값이고, 음의 값은 기판이 확장됨을 나타낸다.

나타나 있지 않은 열 성능(DT) 값은 기판이 수축으로 인해 조건에 맞지 않거나 강화되지 않았기 때문에, 측정되지 않았다.

이러한 결과는, 제조 사이클 이후 60ppm 미만의 만족할만한 농도값과 130℃를 초과하는 만족할만한 열 성능(DT)을 갖는 기판만이 조성물 I로부터 제조된 "D" 기판이고, 이러한 기판은 변형점이 602℃로서, 예비수축 처리를 거친 다음에 화학적 강화 처리를 거친다는 사실을 나타낸다.

이러한 결과와 특히 테스트 "D"와 "H"를 비교함으로써, 본 발명에 따라 얻어진 치수 안정성은 특히 변형점이 높은 유리 조성물을 사용하는 것에 의한 선험적 사실(priori)이라는 점이 나타나 있다.

상술한 바와 같이, 본 발명은 열 처리 중 만족할만한 치수 안정성과 열 처리전의 기계적인 강화를 만족하고, 또한 유리판을 조립한 후 모든 열 처리를 행한 후에 만족할만한 기계 강도를 갖는 유리 기판이나 유리판을 제조할 수 있는 효과를 갖는다.

Claims

변형점이 540℃ 이상인 유리 조성물로 구성되어 있고 디스플레이 스크린을 제조하기 위한 유리판 처리 방법으로서,

상기 방법은 상기 유리판 표면 중 적어도 일부분에 행하는 적어도 한 번의 이온 교환 처리 단계와,

예비 수축 처리(precontraction treatment) 단계를

포함하는 것을 특징으로 하는, 유리판 처리 방법.
제 1항에 있어서, 상기 예비 수축 처리 단계는 10¹²푸아즈(poise)를 초과하는 유리 점성도 해당 온도에서 실행하는 열 처리 단계인 것을 특징으로 하는, 유리판 처리 방법.
제 1항 또는 제 2항에 있어서, 상기 유리 조성물은 log₁₀ρ> 7.5 의 저항율(ρ)을 갖는 것을 특징으로 하는, 유리판 처리 방법.
제 1항 내지 제 3항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 이온 교환 및 예비 수축 처리 단계는 동시에 실행되는 것을 특징으로 하는, 유리판 처리 방법.
제 1항 내지 제 3항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 방법은 예비 수축 처리 단계로 구성된 제 1 단계와, 상기 유리판 표면 중 적어도 일부분의 이온 교환 단계로 구성된 제 2 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는, 유리판 처리 방법.
제 5항에 있어서, 상기 예비 수축 단계는 400 내지 660℃의 온도에서 1 내지 20 시간 동안 온도를 유지하는 것으로 구성된 열 처리 단계이고, 적어도 한 시간 내에 상기 온도 유지에 도달하며, 다음으로 상기 온도는 적어도 한 시간에 걸쳐 90℃로 하강하는 것을 특징으로 하는, 유리판 처리 방법.
제 1항 내지 제 6항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 이온 교환 단계는 상기 유리판 표면 중 적어도 일부분에 증착함으로써 실행되고, 페이스트(paste)는 칼륨염과 녹는점이 높은 화합물을 포함하는 것을 특징으로 하는, 유리판 처리 방법.
제 1항 내지 제 6항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 유리판 중 적어도 일부분의 이온 교환 단계는 적어도 하나의 알칼리 금속염을 함유하는 배쓰(bath)에서 실행되는 것을 특징으로 하는, 유리판 처리 방법.
제 8항에 있어서, 상기 배쓰는 용융된 질산 칼륨염을 함유하는 것을 특징으로 하는, 유리판 처리 방법.
제 8항 또는 제 9항에 있어서, 상기 이온 교환 단계는 1 내지 360 시간 동안 400 내지 660℃의 온도에서 실행되는 것을 특징으로 하는, 유리판 처리 방법.
변형점이 540℃ 이상인 유리 조성물로 구성된 유리 기판 또는 유리판으로서,

디스플레이 스크린을 제조하도록 층을 증착하는 적어도 하나의 열 처리 단계 후, 상기 기판은 60ppm 미만의 수축값을 갖고, 상기 기판은 130℃를 초과하는 열 성능(DT)을 갖는 것을 특징으로 하는, 유리 기판.
제 11항에 있어서, 상기 유리 조성물은 65×10⁷K^-1를 초과하는 확장 계수를 갖는 것을 특징으로 하는, 유리 기판.
제 11항 또는 제 12항에 있어서, 상기 유리 조성물은 log₁₀ρ> 7.5 의 저항율(ρ)을 갖는 것을 특징으로 하는, 유리 기판.
제 11항 내지 제 13항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 유리 조성물은 아래 구성성분, 즉

SiO₂40 내지 75%

Al₂O₃0 내지 12%

Na₂O 0 내지 9%

K₂O 3.5 내지 10%

MgO 0 내지 10%

CaO 2 내지 11%

SrO 0 내지 11%

BaO 0 내지 17%

ZrO₂2 내지 8%를

상기 중량비로 포함하는 것을 특징으로 하는, 유리 기판.
제 14항에 있어서, 상기 유리 조성물은 아래 구성성분, 즉

SiO₂60.1%

Al₂O₃3.3%

Na₂O 3.7%

K₂O 8.5%

MgO 1%

CaO 5.6%

SrO 10.3%

ZrO₂6.9%를

상기 중량비로 포함하는 것을 특징으로 하는, 유리 기판.
제 14항에 있어서, 상기 유리 조성물은 아래 구성성분, 즉

SiO₂68.3%

Al₂O₃0.7%

Na₂O 4.6%

K₂O 5.6%

MgO 0.1%

CaO 9.7%

SrO 6.5%

ZrO₂4.1%를

상기 중량비로 포함하는 것을 특징으로 하는, 유리 기판.