KR20020047485A - 적층 폴리에스테르 필름 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 적층 폴리에스테르 필름에 관한 것으로서, 일면의 중심선 평균 조도(Ra)가 10 내지 30nm의 범위이고, 상기 일면에 높이가 0.5㎛ 이상인 돌기가 30개/㎟ 이하로 존재하는 제1 폴리에스테르 필름층 및 상기 제1 폴리에스테르 필름층의 다른 면에 접하여 적층되며 상기 제1 폴리에스테르 필름층과 접하지 않는 면의 중심선 평균 조도(Ra)가 20 내지 50nm의 범위인 제2 폴리에스테르 필름층을 포함하는 것을 특징으로 하는 적층 폴리에스테르 필름을 제공한다.
본 발명에 따른 적층 폴리에스테르 필름을 이형 실리콘 코팅에 사용하는 경우 불량감소 및 고속화를 이룰 수 있으며, 특히 이형 실리콘 코팅 후 적층 세라믹 콘덴서 및 적층 세라믹 인덕터 제조시에 박막 세라믹 캐스팅의 캐리어 필름용으로 유용하게 사용할 수 있다.

Description

적층 폴리에스테르 필름{Laminated polyester film}
본 발명은 적층 폴리에스테르 필름에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 필름의 코팅 특성과 고속 주행성을 향상시킬 뿐만 아니라, 투명성이 양호하고 결정화도 및 스티프니스(stiffness)가 높아 이형 캐리어용으로서 우수한 공정특성을 보유한 적층 폴리에스테르 필름에 관한 것이다.
폴리에틸렌테레프탈레이트(polyethyleneterephthalate)로 대표되는 폴리에스테르(polyester) 필름은 우수한 기계적 특성, 내열성, 내후성, 전기절연성, 내약품성 등을 가지고 있으므로 포장용, 사진용, 콘덴서, 전기절연용, 자기기록용 등의 분야에 광범위하게 사용되고 있다.
상기 각 용도에 원활하게 사용하기 위해서 권취작업성, 후가공의 공정성 등에 요구되는 필름의 이활성은 특히 중요한 물성 중의 하나이다. 필름의 이활성이 부족하게 되면 필름제조공정 및 후가공 공정에서 주행 롤과의 마찰에 의해 스크래치 및 필름의 마모가 발생하게 된다. 이러한 문제점을 해결하기 위해 필름의 표면에 미세한 요철을 부여하는 방법이 널리 사용되고 있고, 그 방법으로 탄산칼슘, 실리카, 알루미나, 카올린 등의 불활성 무기입자를 폴리에스테르의 제조시에 반응계에 첨가하는 투입법이 가장 널리 사용되고 있다.
폴리에스테르 필름은 우수한 내열성과 고온에서의 치수안정성을 가지고 있기 때문에, 상기 용도 중에서도 폴리우레탄 및 폴리비닐클로라이드 시이트의 성형시에 또는 세라믹 콘덴서, 인덕터 제조에 사용되는 세라믹 시이트의 성형시에 이형 캐리어로 사용된다.
상기 폴리에스테르 필름을 이형 캐리어 용도로 사용하기 위해 먼저 폴리에스테르 필름 위에 실리콘 코팅을 하게 되는데, 이 방법에 관해서는 미국특허 5,753,346호, 5,576,356호, 5,945,475호 등에 개시되어 있다. 이 경우 실리콘이 폴리에스테르 필름 위에 0.1㎛이하의 얇은 두께로 균일하게 코팅이 이루어져야 적층 세라믹 콘덴서용 시이트를 성형할 때 이형불량의 문제가 발생하지 않으므로, 폴리에스테르 필름의 표면은 거대돌기가 없고 평활하여야 한다. 만약 평균 조도가 30nm를 넘는 경우에는 실리콘 코팅이 불균일해지는 문제가 발생한다.
또한 적층 세라믹 콘덴서(Multi-Layer Ceramic Capacitor: 이하 'MLCC'라 함) 및 인덕터의 제조에 사용되는 세라믹 시이트는 실리콘이 코팅된 필름 위에 폴리머 바인더와 세라믹 파우더를 혼합한 페이스트를 5 내지 100㎛의 두께로 코팅한 후 건조하여 성형된다. 구체적으로, 적층 세라믹 콘덴서는 상기 건조된 시이트 위에 전극을 인쇄하고 인쇄된 시이트를 가로세로 일정 크기로 절단한 후 이형 캐리어용 폴리에스테르 필름을 수작업 또는 자동으로 제거하고 나서, 상기 이형 캐리어용폴리에스테르 필름을 제거하고 남은 세라믹 시이트를 50 내지 600매 정도 적층하여 제조된다.
최근에 MLCC의 박막화, 대용량화가 급속히 진전되고 있는데, 상기 이형 캐리어용 폴리에스테르 필름의 표면에 돌기 또는 거대 피크가 있을 경우에는 MLCC의 제조공정 중에 불량을 유발할 뿐만 아니라 최종 제품의 품질에도 악영향을 미치게 된다. 이에 따라 세라믹 페이스트를 캐스팅하는 면은 더욱 평활한 표면을 요구하고 있으나, 앞서 언급한 바와 같이, 표면이 평활해질수록 이활성이 불량하여 공정 중에 스크래치 또는 블로킹(blocking) 등이 발생하고, 실리콘 코팅 공정의 속도를 증가시킬 수 없기 때문에 전체적인 생산 단가의 상승을 초래하는 문제가 있다.
이러한 문제를 해결하기 위하여 일본특허 특개평 10-86304 및 10-29287은 다층 공압출 폴리에스테르 필름의 표면조도 및 극한점도를 조절하는 방법을 개시하고 있으나, 무기 미립자의 함유량이 지나치게 많아서 필름의 헤이즈가 증가하는 문제가 있고, 필름의 헤이즈가 지나치게 높을 경우 세라믹 캐스팅 후 배면에서 캐스팅 불량을 판별하는데 어려움이 있다.
상기 살펴 본 바와 같이, 이형 실리콘 코팅 특성을 향상시키기 위해서는 표면조도가 낮고 평활해야 하지만, 고속 주행시 주행 롤과의 마찰에 의한 필름의 스크래치 또는 필름의 마모를 방지하기 위해서는 반대로 어느 정도의 표면조도를 요구하고 있다. 또한, 이형 캐리어용 폴리에스테르 필름을 제거하는 공정에서 필름의 높은 스티프니스 및 이형성이 요구된다.
본 발명은 상기와 같은 요구에 의해 안출된 것으로서, 본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는 필름의 코팅 특성과 고속 주행성을 향상시킬 뿐만 아니라, 투명성이 양호하고 결정화도 및 스티프니스가 높아 이형 캐리어용으로서 우수한 공정특성을 보유한 적층 폴리에스테르 필름을 제공하는 것이다.
도 1은 본 발명에 따른 적층 폴리에스테르 필름의 확대 단면도이다.
상기 기술적 과제를 달성하기 위해서, 본 발명은 일면의 중심선 평균 조도(Ra)가 10 내지 30nm의 범위이고, 상기 일면에 높이가 0.5㎛ 이상인 돌기가 30개/㎟ 이하로 존재하는 제1 폴리에스테르 필름층 및 상기 제1 폴리에스테르 필름층의 다른 면에 접하여 적층되며 상기 제1 폴리에스테르 필름층과 접하지 않는 면의 중심선 평균 조도(Ra)가 20 내지 50nm의 범위인 제2 폴리에스테르 필름층을 포함하는 것을 특징으로 하는 적층 폴리에스테르 필름을 제공한다.
본 발명에 따른 적층 폴리에스테르 필름에 있어서, 상기 제1 폴리에스테르 필름층은 평균입경(d50)이 0.02 내지 1.5㎛인 이산화티탄, 탄산칼슘, 황산바륨, 실리카, 카올린, 탈크 및 제오라이트로 이루어진 그룹에서 선택된 하나 이상의 무기 미립자를 0.2 내지 2.0중량% 함유하는 것이 바람직하고, 상기 제2 폴리에스테르 필름층은 평균입경(d50)이 0.1 내지 3.0㎛인 이산화티탄, 탄산칼슘, 황산바륨, 실리카, 카올린, 탈크 및 제오라이트로 이루어진 그룹에서 선택된 하나 이상의 무기 미립자를 0.01 내지 1.5중량% 함유하는 것이 바람직하다.
본 발명에 따른 적층 폴리에스테르 필름에 있어서, 상기 제1 폴리에스테르 필름층의 두께가 적층 폴리에스테르 필름 전체 두께의 5 내지 40%인 것이 바람직하다.
본 발명에 따른 적층 폴리에스테르 필름에 있어서, 상기 제2 폴리에스테르 필름층에 무기 결정화 촉진제가 0.01 내지 5.0중량% 첨가되고, 상기 무기 결정화 촉진제는 소듐아세테이트, 징크아세테이트, 실리케이트염, 마그네슘염, 티타늄옥사이드 및 징크옥사이드로 이루어진 그룹에서 선택된 하나 이상인 것이 바람직하다.
본 발명에 따른 적층 폴리에스테르 필름에 있어서, 상기 적층 폴리에스테르 필름의 전체 결정화도는 43% 이상이다.
또한 본 발명에 따른 적층 폴리에스테르 필름은 실리콘 이형캐리어 용도로 사용될 수 있다.
이하 본 발명에 따른 적층 폴리에스테르 필름의 제조방법을 보다 상세하게 설명하기로 한다.
본 발명은 일면의 중심선 평균 조도(Ra)가 10 내지 30nm의 범위이고, 상기 일면에 높이가 0.5㎛ 이상인 돌기가 30개/㎟ 이하로 존재하는 제1 폴리에스테르 필름층(11) 및 상기 제1 폴리에스테르 필름층(11)의 다른 면에 접하여 적층되며 상기 제1 폴리에스테르 필름층(11)과 접하지 않는 면의 중심선 평균 조도(Ra)가 20 내지 50nm의 범위인 제2 폴리에스테르 필름층(12)을 포함하는 적층 폴리에스테르 필름(10)을 제공한다.
상기 제1 및 제2 폴리에스테르 필름층(11, 12)을 제조하는데 사용되는 폴리에스테르 수지는 주쇄 반복 단위의 60몰% 이상이 에틸렌테레프탈레이트로 이루어져 있고, 35℃에서 오르토클로로페놀 25㎖에 0.05%, 0.1%, 0.15%로 농도를 달리하여 3점법으로 측정한 극한점도가 0.4 ~ 0.9dl/g 이며, 바람직하게는 0.5 ~ 0.8dl/g의 범위이다.
만약 극한점도가 0.4dl/g 미만일 경우에는 본 발명의 적층 폴리에스테르 필름의 제조시, 연신 중에 파단이 빈발하여 생산성이 저하될 뿐만 아니라, 최종 제품의 기계적 강도가 저하되는 문제가 발생하고, 만약 극한점도가 0.9dl/g을 초과할 경우에는 압출공정 중 용융점도가 지나치게 높아 압출 불안정 등의 공정상 어려움이 따르게 된다.
상기 폴리에스테르 수지는 방향족 디카르복실산을 주성분으로 하는 산성분과 알킬렌글리콜을 주성분으로 하는 디올 성분을 축중합한 것이다. 방향족 디카르복실산의 구체적인 예로는 디메틸테레프탈레이트, 테레프탈산, 이소프탈산, 나프탈렌디카르복실산, 싸이클로부탄디카르복실산, 싸이클로헥산디카르복실산, 5-술포이소프탈산, 5-술포프로폭시이소프탈산, 디페닐디카르복실산, 디페녹시알칸디카르복실산, 아디프산, 세바스산 등이 있으며, 이중 특히 디메틸테레프탈레이트 또는 테레프탈산을 이용하는 것이 바람직하다. 디올 성분으로는 에틸렌글리콜, 1,3-프로판디올, 1,4-부탄디올 등의 알킬렌글리콜류와 2,2-디메틸-1,3-프로판디올, 1,4-싸이클로헥산디메탄올 등이 있으며, 이중 특히 에틸렌글리콜을 이용하는 것이 바람직하다.
본 발명의 폴리에스테르는 60중량부 이상이 폴리에틸렌테레프탈레이트로 이루어진 호모폴리에스테르이고 상기에 열거한 디카르복실산 및 디올 성분들 중 하나 이상을 40중량부 이내에서 공중합하여도 무방하다.
본 발명에 따른 제1 폴리에스테르 필름층(11)은 표면(A)의 중심선평균조도(Ra)가 10 내지 30nm로 제조된다. 상기 중심선 평균조도가 10nm 미만일 경우에는 표면이 지나치게 평활하여 소기한 목적의 마찰계수, 즉 충분한 이활성을 얻을 수 없을 뿐만 아니라, 필름 권취 중에 미세한 이물의 혼입에도 돌기를 형성하여 필름의 외관이 불량해지는 문제가 있고, 반면에 상기 중심선 평균조도가 30nm를 초과할 경우에는 실리콘 코팅 불량을 유발하는 문제가 있다.
또한 상기 제1 폴리에스테르 필름층(11)은 표면(A)에 높이가 0.5㎛이상인 돌기의 개수가 30개/㎟ 이하로 제조되며, 상기 높이가 0.5㎛이상인 돌기의 개수가 30개/㎟를 초과하는 경우에는 극히 일부 존재할 수 있는 거대 입자에 의해 실리콘 코팅 불량이 유발될 수 있고, MLCC의 제조공정 중 세라믹 캐스팅 불량을 유발하는 문제가 있다.
상기 제1 폴리에스테르 필름층(11)의 표면조도는 빛의 투과율이나 색상과 같은 광학적 특성의 조절 및 마찰계수, 표면조도 및 미세한 촉감의 조절을 목적으로 무기 미립자를 폴리에스테르 수지에 첨가하는 것에 의해 형성될 수 있다.
이 경우 폴리에스테르 수지에 평균입경 0.02 내지 1.5㎛인 무기 미립자를 제1 폴리에스테르 필름층 중량 대비 0.2 내지 2.0중량% 첨가하여 형성하며, 바람직하게는 평균입경 0.05 내지 1.0㎛인 무기 미립자를 제1 폴리에스테르 필름층 중량 대비 0.4 내지 1.5중량% 첨가하여 형성한다.
상기 무기 미립자의 평균입경이 0.02㎛ 미만일 경우에는 본 발명에서 목표하는 표면조도보다 조도가 지나치게 낮아지며, 상기 무기 미립자의 평균입경이 1.5㎛를 초과하는 경우에는 무기 미립자가 필름의 표면으로 돌출하여 분화구 형태의 표면 결함을 형성함으로써 실리콘 코팅의 불량을 유발하는 문제가 있다.
또한, 상기 무기 미립자의 첨가량이 제1 폴리에스테르 필름층 중량 대비 0.2중량% 미만일 경우에는 충분한 이활성을 얻을 수 없고, 표면의 미세 돌기 수가 적어서 표면적이 작아지며 따라서 실리콘 코팅이 원활하게 이루어지지 않는 문제가 있고, 상기 무기 미립자의 첨가량이 제1 폴리에스테르 필름층 중량 대비 2.0중량%를 초과하는 경우에는 필름의 투명성이 손상되는 문제가 있다.
본 발명에 따른 제2 폴리에스테르 필름층(12)을 제조하는데 있어서, 빛의 투과율이나 색상과 같은 광학적 특성의 조절과 함께 상기 제1 폴리에스테르 필름층(11)만으로는 충분치 못한 이활성을 개선할 목적으로 무기 미립자를 폴리에스테르 수지에 첨가하는데, 이 경우 평균입경 0.1 내지 3.0㎛인 무기 미립자를 제2 폴리에스테르 필름층 중량 대비 0.01 내지 1.5중량% 첨가한다. 바람직하게는 평균입경 0.15 내지 2.0㎛인 무기 미립자를 제2 폴리에스테르 필름층 중량 대비 0.05 내지 1.0중량% 첨가하여 상기 제1 폴리에스테르 필름층(11)과 접하지 않는 면(B)의 중심선 평균 조도(Ra)가 20 내지 50nm가 되도록 조절한다.
상기 제2 폴리에스테르 필름층(12)의 상기 제1 폴리에스테르 필름층(11)과 접하지 않는 면(B)의 중심선 평균 조도가 20nm 미만일 경우에는 충분한 이활성을 얻을 수 없으며, 상기 중심선 평균 조도가 50nm를 초과하는 경우에는 상기 제2 폴리에스테르 필름층(12)의 조도가 상기 제1 폴리에스테르 필름층(11)으로 전사되어 실리콘 코팅 불량을 유발한다.
또한, 상기 무기 미립자의 평균입경이 0.1㎛ 미만일 경우에는 표면조도가 지나치게 낮아져 소기한 목적의 마찰계수, 즉 충분한 이활성을 얻을 수 없고, 상기 무기 미립자의 평균입경이 3.0㎛를 초과하는 경우에는 거대입자에 의한 표면조도가 제1 폴리에스테르 필름층(11)으로 전사되어 실리콘 코팅시 불량을 유발한다.
상기 무기 미립자의 첨가량이 제2 폴리에스테르 필름층 중량 대비 0.01중량% 미만일 경우에는 충분한 이활성을 얻을 수 없으며, 1.5중량%을 초과하는 경우에는 필름의 투명성이 손상된다.
본 발명에 따른 제1 및 제2 폴리에스테르 필름층(11, 12)에 사용가능한 무기 미립자의 예로는 이산화티탄, 탄산칼슘, 황산바륨, 실리카, 카올린, 탈크, 제오라이트 등이 있으며, 이중 적어도 1가지 이상을 선택하여 사용한다.
상기 무기 미립자를 투입하는 방법으로는 폴리에스테르 수지 합성시에 정량을 투입하는 방법, 또는 컴파운딩을 이용해서 다량을 투입하여 매스터 칩(chip)을 제조한 후 무기 미립자가 함유되지 않은 칩과 혼합하여 투입량을 조절하는 방법 등이 있는데, 이중 어느 방법을 이용해도 무방하다.
사출성형시 결정화를 촉진하기 위해 무기 결정화 촉진제가 주로 사용되는데(미국특허 4,699,942호, 4,772,652호 및 4,327,007호 등), 상기 제2 폴리에스테르 필름층은 무기 결정화 촉진제를 0.01 내지 5.0중량% 포함한다.
상기 무기 결정화 촉진제의 함량이 0.01중량% 미만일 경우에는 폴리에스테르 필름의 제조공정에서 결정화 촉진 효과가 미미하고, 5.0중량%를 초과하는 경우에는 상기 무기 결정화 촉진제가 필름의 표면 특성을 저하시키는 문제가 있다. 상기 무기 결정화 촉진제는 폴리에스테르 수지 합성공정에서 첨가될 수도 있고, 아니면 수지합성 후 컴파운딩을 이용해서 폴리에스테르와 혼합하여 매스터칩을 제조한 후 2차로 폴리에스테르와의 혼합비율을 조정하여 용융압출하는 방법으로 첨가될 수도 있는데 상기 방법 중 어느 방법을 이용해도 무방하다.
상기 제2 폴리에스테르 필름층(12)에 혼합되는 무기 결정화 촉진제는 소듐아세테이트, 징크아세테이트 및 실리케이트염, 마그네슘염 등의 무기염과 티타늄옥사이드, 징크옥사이드 등의 무기산화물이 사용될 수 있다.
본 발명에 따른 적층 폴리에스테르 필름은 공압출로 제조될 수 있는데, 상기 공압출 필름 제조방법은 통상의 알려진 방법이면 특별한 제한을 받지 않는다. 예를 들면, 멀티 매니폴드 다이 또는 피이드블록 다이에 용융된 폴리에스테르를 공급하여 회전하는 냉각드럼에 판상의 용융 폴리에스테르를 고착시킴으로써 연속 시이트를 제조할 수 있다. 멀티 매니폴드 방식을 사용하는 경우에는 표면층의 다이 립 갭(Die Lip Gap)을 조정하여 두께를 제어하고, 피이드블록 다이를 사용하는 경우에는 각 층의 토출량과 초크바를 조절하여 제1 폴리에스테르 필름층의 두께를 제어할 수 있다. 이렇게 하여 제조된 시이트를 연속적으로 적어도 일축 배향 연신하여 기계적 강도 및 수치 안정성을 부여하여 본 발명에 따른 공압출 적층 폴리에스테르 필름을 제조한다.
제1 폴리에스테르 필름층(11)과 제2 폴리에스테르 필름층(12)의 두께비는 상기 제1 폴리에스테르 필름층(11)의 두께가 전체 두께 중 5 내지 40%가 되도록 조절하며, 바람직하게는 10 내지 30%가 되도록 조절한다. 이때 상기 제1 폴리에스테르 필름층(11)의 두께가 전체 두께 대비 5% 미만일 경우에는 제2 폴리에스테르필름층(12)에 함유된 무기 미립자의 영향으로 제1 폴리에스테르 필름층(11)에 높이 1㎛ 이상의 굴곡이 형성되어 실리콘 코팅 공정 중 불량을 유발할 수 있고, 상기 제1 폴리에스테르 필름층(11)의 두께가 전체 두께 대비 40%를 초과하는 경우에는 전체 필름의 결정화도가 낮아져서 내열 치수안정성 및 스티프니스가 본 발명의 목표한 바에 도달하지 못하는 문제가 있다.
상기 과정을 거쳐 제조된 본 발명에 따른 적층 폴리에스테르 필름(10)은 필름의 결정화도가 높아 내열 치수안정성이 우수하며, 스티프니스가 높아 적층 세라믹 콘덴서 및 인덕터 제조 공정 중에 사용되는 이형 캐리어용으로서 우수한 공정특성을 보유하며, 또한, 투명성이 양호하여 세라믹 슬러리 캐스팅의 불량 판별이 용이하다.
이하 실시예를 통하여 본 발명을 상세히 설명하기로 하되, 본 발명이 하기의 실시예로만 한정되는 것은 아니다. 하기의 실시예 및 비교예에서 제조된 필름의 물성은 다음의 방법에 의하여 평가하였다.
(1) 무기 미립자의 평균입경
일본 시마쥬사의 원심분리 입도측정기를 이용하여 에틸렌글리콜에 분산된 무기 미립자의 슬러리를 측정하여 체적평균 입경으로서 나타내었다.
(2) 결정화도
사염화탄소와 노르말헵탄으로 이루어진 밀도구배관을 25℃로 유지하고 부침법에 의해 밀도를 측정한 후 결정화도로 환산하였다.
(3) 마찰계수
세이사쿠-쇼사(Seisaku-sho)(일본)의 표면성 시험기(모델명: 2227001)를 이용하여 하중 1.0kg, 속도 150mm/min 조건에서 제1 폴리에스테르 필름층과 제2 폴리에스테르 필름층간의 마찰계수를 측정하였다. 마찰계수가 낮을수록 고속 이활성이 우수한 것으로 판단하였다.
(4) 실리콘 코팅 특성 평가
용제로서 톨루엔 94%에 경화형 실리콘(신월화학 KNS-3705)을 6% 첨가하고, 미량의 경화제를 투입한 용액을 폴리에스테르 필름의 제1 필름층의 표면에 코팅한 후 코팅상태를 평가하였다. 균일하게 코팅되고 줄무늬 등의 발생상태에 따라 코팅성을 판단하였다.
(5) 필름의 표면조도 및 0.5㎛이상 돌기 개수의 측정법
WYKO, 삼차원 조도계로 필름표면의 평균조도 및 돌기 개수를 측정하였다.
(6) 필름 열안정성
제조된 폴리에스테르 필름을 가로세로 1미터 크기로 잘라 150℃의 오븐에서 10분간 열처리 한 후 필름의 열변형 상태를 평가하였다. 열변형에 의해 필름전체 또는 국부적으로 주름이 발생한 상태에 따라 열안정성을 평가하였다.
(7) 헤이즈(Haze)
니혼 세미쯔 코가쿠사(Nihon Semitsu Kogaku)(일본)의 헤이즈미터(모델명: SEP-H)로 측정하여 C-광원을 사용하여 헤이즈를 측정하였다.
<실시예 1>
당량비로 디메틸테레프탈레이트 1에 에틸렌글리콜을 2 비율로 혼합한 후, 이화합물에 에스테르 교환반응 촉매를 첨가하여 에스테르 교환반응을 실시하였다. 이후 평균입경이 0.1㎛인 실리카를 폴리에스테르 수지를 기준으로 0.1중량% 및 평균입경 0.4㎛인 탄산칼슘을 폴리에스테르 수지를 기준으로 0.3중량%와 중축합 촉매를 첨가하여 중축합 반응을 완결하여 극한점도가 0.62dl/gr인 제1 폴리에스테르 필름층을 제조하였다.
제2 폴리에스테르 필름층을 상기 제1 폴리에스테르 필름층과 동일한 방법으로 제조하되, 평균입경 1.0㎛인 실리카를 폴리에스테르 수지 대비 0.07중량% 및 결정화 촉진제로 소듐아세테이트 0.1%와 중축합 촉매를 첨가하여 중축합 반응을 완결시켜 극한점도가 0.61dl/gr인 제2 폴리에스테르 필름층을 제조하였다.
이렇게 제조된 제1 및 제2 폴리에스테르 필름층을 최종 필름에서의 제1 폴리에스테르 필름층의 두께가 8㎛, 제2 폴리에스테르 필름층의 두께가 30㎛가 되도록 피이드블록 다이를 이용하여 통상의 공압출 방법에 따라 시이트를 성형하고 종연신비 3.4배, 횡연신비 3.5배로 연신시켜 두께 38㎛의 이축연신 고분자 필름을 제조하였다. 상기 필름에 대해 전술한 바와 같은 방법에 따라 필름의 특성을 평가하여 그 결과를 하기 표 2에 나타내었다.
<실시예 2-4>
폴리에스테르 및 각종 첨가제의 첨가량을 하기 표 1과 같이 변화시킨 것을 제외하고는, 실시예 1과 동일한 방법에 따라 고분자 필름을 제조하였다. 상기 필름에 대해 전술한 바와 같은 방법에 따라 필름의 특성을 평가하여 그 결과를 하기 표 2에 나타내었다.
<실시예 5>
제1 폴리에스테르 필름층과 제2 폴리에스테르 필름층의 두께비를 하기 표 1과 같이 변화시킨 것을 제외하고는, 실시예 1과 동일한 방법에 따라 고분자 필름을 얻었다. 상기 필름에 대해 전술한 바와 같은 방법에 따라 필름의 특성을 평가하여 그 결과를 하기 표 2에 나타내었다.
<비교예 1-4>
폴리에스테르 및 각종 첨가제의 첨가량을 하기 표 1과 같이 변화시킨 것을 제외하고는, 실시예 1과 동일한 방법에 따라 고분자 필름을 얻었다. 상기 필름에 대해 전술한 바와 같은 방법에 따라 필름의 특성을 평가하여 그 결과를 하기 표 2에 나타내었다.
<비교예 5-6>
제1 폴리에스테르 필름층과 제2 폴리에스테르 필름층의 두께비를 하기 표 1과 같이 변화시킨 것을 제외하고는, 실시예 1과 동일한 방법에 따라 고분자 필름을 얻었다. 상기 필름에 대해 전술한 바와 같은 방법에 따라 필름의 특성을 평가하여 그 결과를 하기 표 2에 나타내었다.
전체두께 제1 폴리에스테르 필름층 제2 폴리에스테르 필름층
두께 무기 미립자 첨가제 두께 무기 미립자 첨가제 결정화 촉진제
종류 평균입경 첨가량 종류 평균입경 첨가량 종류 첨가량
단위 ㎛ ㎛ - ㎛ 중량% ㎛ - ㎛ 중량% - 중량%
실시예 1 38 8 실탄 0.10.4 0.10.3 30 실 1.0 0.07 소 0.1
2 38 8 실 0.8 1.0 30 실 1.0 0.2 소 0.1
3 38 8 실탄 0.10.4 0.10.3 30 실 1.0 0.07 징 1.0
4 38 8 실 0.5 0.4 30 실 2.0 0.07 소 0.1
5 38 4 실탄 0.10.4 0.10.3 34 실 1.0 0.07 소 0.1
비교예 1 38 8 실 3.2 0.4 30 실 1.0 0.07 소 0.1
2 38 8 실탄 0.10.4 0.10.3 30 실 3.2 2.0 소 0.1
3 38 8 실탄 0.10.4 0.10.3 30 실 1.0 0.07 소 0.005
4 38 8 실 0.5 0.4 30 실 0.1 0.02 소 0.1
5 38 20 실탄 0.10.4 0.10.3 18 실 1.0 0.07 소 0.1
6 38 1 실탄 0.10.4 0.10.3 37 실 1.0 0.07 소 0.1
*. 무기 미립자 첨가제
실: 실리카(SiO2) 탄: 탄산칼슘(CaCO3)
*. 결정화 촉진제
소: 소듐아세테이트 징: 징크옥사이드
표면조도 0.5㎛이상 돌기 마찰계수 헤이즈 결정화도 실리콘 코팅적성 열안정성 고속이활성
A B 동/정
단위 nm nm 개/㎟ - % % 등급 등급 등급
실시예 1 19 45 11 0.35/0.45 5.6 44 양호 양호 양호
2 28 47 25 0.32/0.43 7.5 47 양호 양호 양호
3 20 45 12 0.35/0.46 5.9 48 양호 양호 양호
4 21 47 23 0.33/0.45 6.2 49 양호 양호 양호
5 23 45 16 0.31/0.40 6.0 45 양호 양호 양호
비교예 1 62 45 83 0.29/0.38 10.0 47 불량 양호 양호
2 21 71 46 0.31/0.42 35.1 47 불량 양호 양호
3 19 45 11 0.35/0.45 5.5 40 양호 불량 양호
4 21 43 11 0.44/0.51 5.5 43 양호 양호 불량
5 19 45 11 0.35/0.45 13.0 41 양호 불량 양호
6 32 45 42 0.34/0.44 7.2 51 불량 양호 양호
* 동: 동마찰계수, 정: 정마찰계수
상기 표 2에서 보는 바와 같이, 본 발명의 실시예 1에 따라 제조된 필름은 실리콘 코팅 특성, 열안정성, 그리고 고속 이활성이 모두 우수하며 양호한 수준이었다.
또한 실시예 2 내지 5에 따라 제조된 필름의 특성 평가에서 보는 바와 같이, 각종 첨가제의 첨가량이 본 발명에서 한정된 범위를 유지하고, 제1 폴리에스테르 필름층과 제2 폴리에스테르 필름층의 두께비가 본 발명에서 한정된 범위를 유지하는 한 실리콘 코팅 특성이 우수하고 고속 이활성이 우수하며 열안정특성이 우수함을 알 수 있다.
반면, 상기 표 2의 비교예 1 내지 6에 따라 제조된 필름의 특성 평가에서 보는 바와 같이, 실시예의 경우와는 달리 각종 첨가제의 첨가량이 본 발명에서 한정된 바람직한 범위를 벗어나고, 제1 폴리에스테르 필름층과 제2 폴리에스테르 필름층의 두께비가 본 발명에서 한정된 바람직한 범위를 벗어나는 경우에는 제조된 필름이 실리콘 코팅 특성, 열안정성 및 고속 이활성 등의 특성 중 적어도 하나 이상의 특성에서 불량한 것을 알 수 있다.
상기 언급한 바와 같이, 본 발명의 적층 폴리에스테르 필름을 이형 실리콘 코팅에 사용하는 경우 불량감소 및 고속화를 이룰 수 있으며, 특히 이형 실리콘 코팅 후 적층 세라믹 콘덴서 및 적층 세라믹 인덕터 제조시 박막 세라믹 캐스팅의 캐리어 필름용으로 유용하게 사용할 수 있다.

Claims (8)

  1. 일면의 중심선 평균 조도(Ra)가 10 내지 30nm의 범위이고, 상기 일면에 높이가 0.5㎛ 이상인 돌기가 30개/㎟ 이하로 존재하는 제1 폴리에스테르 필름층 및 상기 제1 폴리에스테르 필름층의 다른 면에 접하여 적층되며 상기 제1 폴리에스테르 필름층과 접하지 않는 면의 중심선 평균 조도(Ra)가 20 내지 50nm의 범위인 제2 폴리에스테르 필름층을 포함하는 것을 특징으로 하는 적층 폴리에스테르 필름.
  2. 제1항에 있어서, 상기 제1 폴리에스테르 필름층은 평균입경(d50)이 0.02 내지 1.5㎛인 이산화티탄, 탄산칼슘, 황산바륨, 실리카, 카올린, 탈크 및 제오라이트로 이루어진 그룹에서 선택된 하나 이상의 무기 미립자를 0.2 내지 2.0중량% 함유하는 것을 특징으로 하는 적층 폴리에스테르 필름.
  3. 제1항에 있어서, 상기 제2 폴리에스테르 필름층은 평균입경(d50)이 0.1 내지3.0㎛인 이산화티탄, 탄산칼슘, 황산바륨, 실리카, 카올린, 탈크 및 제오라이트로 이루어진 그룹에서 선택된 하나 이상의 무기 미립자를 0.01 내지 1.5중량% 함유하는 것을 특징으로 하는 적층 폴리에스테르 필름.
  4. 제1항에 있어서, 상기 제1 폴리에스테르 필름층의 두께가 적층 폴리에스테르 필름 전체 두께의 5 내지 40%인 것을 특징으로 하는 적층 폴리에스테르 필름.
  5. 제1항에 있어서, 상기 제2 폴리에스테르 필름층에 무기 결정화 촉진제가 0.01 내지 5.0중량% 첨가되는 것을 특징으로 하는 적층 폴리에스테르 필름.
  6. 제6항에 있어서, 상기 무기 결정화 촉진제는 소듐아세테이트, 징크아세테이트, 실리케이트염, 마그네슘염, 티타늄옥사이드 및 징크옥사이드로 이루어진 그룹에서 선택된 하나 이상인 것을 특징으로 하는 적층 폴리에스테르 필름.
  7. 제1항에 있어서, 상기 적층 폴리에스테르 필름의 전체 결정화도가 43% 이상인 것을 특징으로 하는 적층 폴리에스테르 필름.
  8. 제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서, 실리콘 이형캐리어 용도로 사용되는 것을 특징으로 하는 적층 폴리에스테르 필름.
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