KR20010086209A - 하나 이상의 폴리우레탄 및/또는 폴리우레아 단위체를포함하는 축중합물 및 하나 이상의 카르복실 관능기를포함하는 실리콘을 함유하는 조성물 - Google Patents
하나 이상의 폴리우레탄 및/또는 폴리우레아 단위체를포함하는 축중합물 및 하나 이상의 카르복실 관능기를포함하는 실리콘을 함유하는 조성물 Download PDFInfo
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Abstract
본 발명은 화장용으로 허용 가능한 매질 내에 하나 이상의 폴리우레탄 및/또는 폴리우레아 단위체를 포함하는 축중합물, 및 하나 이상의 카르복실 관능기를 포함하는 실리콘을 함유하는 모발용 조성물에 관한 것이다. 본 발명은 또한 상기 조성물을 이용한 모발의 스타일링 또는 손질 방법, 및 모발의 손질 및 스타일링을 위한 모발 제품의 제조에의 용도에 관한 것이다.
Description
본 발명은 화장용으로 허용 가능한 매질 내에, 하나 이상의 폴리우레탄 및/또는 폴리우레아 단위체를 포함하는 축중합물 및 하나 이상의 카르복실 관능기를 포함하는 실리콘을 함유하는 모발용 조성물에 관한 것이다. 본 발명은 또한 상기 조성물의 사용을 포함하는, 헤어스타일의 유지 또는 셰이핑을 위한 방법, 및 헤어스타일의 유지 또는 셰이핑을 위한 모발용 조성물의 제조에의 상기 조성물의 용도에 관한 것이다.
헤어스타일의 고정은 스타일링의 중요한 요소로서, 이미 취한 형태의 유지 또는 모발의 셰이핑 및 고정을 동시에 수행하는 것으로 이루어진다.
화장품 시장에 있어서 헤어스타일의 셰이핑 및/또는 유지를 위한 가장 흔한 모발 제품은 실질적으로 알콜성 또는 수성 용액인 용액, 및 모발 사이에 밀착성을 부여하기 위한, 고정재로서 공지된, 일반적으로 중합체 수지인 하나 이상의 물질의 다양한 화장용 보조제와의 혼합물로 이루어진 스프레이 조성물이다. 상기 조성물은 예를 들어, 추진제를 사용하여 가압하에 적절한 에어로졸 용기 내에 포장될 수 있다.
헤어스타일의 고정 및/또는 유지를 위한 조성물은 종종 모발의 화장 특성을 저해하는 단점을 갖는다. 예를 들어, 모발이 거칠어지고 자연스러운 부드러움을 잃을 수 있다. 따라서 우수한 화장 특성을 제공하는 동시에 헤어스타일을 고정 및/또는 유지할 수 있는 스타일링 조성물이 요망된다.
특허 DE 195 41 326 호는 수성-알콜성 매질 내에, 고정 중합체로서 폴리우레탄 단위체를 함유한 중합체, 및 추진제를 함유하는 에어로졸 장치로부터 분사되는 스타일링 조성물을 개시하고 있다. 상기 조성물은 이미 헤어스타일의 고정이라는 관점에서 만족스럽지만, 특히 이들이 모발에 부여하는 화장 특성의 관점에서 개선의 여지가 있다.
뜻밖에도, 본 출원인은 특정 실리콘을 하나 이상의 폴리우레탄 및/또는 폴리우레아 단위체를 함유한 축중합물과 배합하여, 상기 요구 조건을 충족하는 것이 가능하다는 것을 발견하였다.
본 발명의 주제는 화장용으로 허용 가능한 매질 내에, 조성물의 총 중량에 대한 상대 중량비로서, 하나 이상의 폴리우레탄 및/또는 폴리우레아 서열을 포함하는 0.1 내지 20 % 의 축중합물을 함유하는 모발용 조성물로서, 하나 이상의 카르복실 관능기 또는 그의 염의 1 종 또는 그의 혼합물을 함유한, 일부 이상이, 또는 완전 중화된 하나 이상의 실리콘 0.01 내지 20 % 를 추가로 함유하는 것을 특징으로 하는 조성물이다.
본 발명의 다른 주제는 상기 조성물의 사용을 포함하는 헤어스타일의 셰이핑 또는 유지를 위한 방법에 관한 것이다.
본 발명이 또다른 주제는 헤어스타일의 유지 또는 고정을 위한 모발용 조성물의 제조를 위한 상기 조성물의 용도에 관한 것이다.
본 발명의 구체적인 목표가 되는 하나 이상의 폴리우레탄 및/또는 폴리우레아 서열을 포함하는 축중합물은 본 출원인의 소유인 특허 EP 0,751,162, EP 0,637,600, FR 2,743,297 및 EP 0,648,485 호, 그리고 BASF 사의 특허 EP 0,656,021 호 또는 WO 94/03510 및 National Starch 사의 EP 0,619,111 호에 기재되어 있는 것들이다.
본 발명에 따라서 사용되는 축중합물은, 특히 유기 또는 무기 염기에 의한 중화 이후에, 화장용으로 허용 가능한 매질 중에서 용해가능하거나, 또는 상기 매질 중에서 분산액을 형성할 수 있다. 이러한 경우에, 분산액은 축중합물이 분산액을 형성하고 분산액 중에서 유지되도록, 0.05 % 이상의 계면활성제를 포함할 수 있다.
본 발명에 따르면, 상기 분산액 중에서 임의의 종류의 계면활성제가 사용될 수 있지만, 비이온성 계면활성제가 바람직하다. 분산액 중의 축중합물 입자의 평균 크기는 바람직하게는 0.1 내지 1 마이크론이다.
예로서, 블록의 배열에 의해 축중합물이 형성될 수 있는데, 이 배열은 구체적으로 다음으로부터 얻어진다:
(1) 분자당 2 이상의 활성 수소 원자를 함유하는 하나 이상의 화합물;
(2) 하나 이상의 디올 또는 산 라디칼 또는 그 염을 함유하는 디올의 혼합물;
(3) 하나 이상의 디- 또는 폴리이소시아네이트.
이롭게는, 화합물 (1) 은 디올, 디아민, 폴리에스테롤 및 폴리에테롤, 또는 이것들의 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택된다.
바람직한 화합물 (1) 은 직쇄 폴리에틸렌 및 폴리프로필렌 글리콜, 특히 촉매로서 수산화나트륨의 존재 하에 에틸렌 옥시드 또는 프로필렌 옥시드와 물 또는 디에틸렌 또는 디프로필렌 글리콜과의 반응에 의해 수득되는 것들이다. 이러한 폴리글리콜은 일반적으로는 약 600 내지 20,000의 분자량을 갖는다.
다른 바람직한 유기 화합물은 메르캅토, 아미노, 카르복실 또는 히드록실 기를 갖는 것들이다. 이것들 중에서, 구체적으로는, 폴리에테르 디올, 폴리에스테르 디올, 폴리아세탈 디올, 폴리아미드 디올, 폴리에스테르폴리아미드 디올, 폴리(알킬렌 에테르) 디올, 폴리티오에테르 디올 및 폴리카보네이트 디올 등의 폴리히드록시 화합물을 언급할 수 있다.
바람직한 폴리에테르 디올은, 예를 들면, 에틸렌 옥시드, 프로필렌 옥시드 또는 테트라히드로푸란의 축중합 생성물, 에틸렌 옥시드와 프로필렌 옥시드의 축합물의 혼합물과 같이 그라프트되거나 블록일 수 있는 이것들의 공중합 또는 축합 생성물, 그리고 올레핀의 알킬렌 옥시드 축합물과의 고압에서의 중합 생성물이다. 예를 들면, 알킬렌 옥시드와 에틸렌 글리콜, 1,2-프로필렌 글리콜 및 1,4-부탄디올과 같은 다가 알콜의 축합에 의해 적합한 폴리에테르를 제조한다.
폴리에스테르 디올, 폴리에스테르아미드 및 폴리아미드 디올은 바람직하게는 포화되고, 에를 들면, 포화된 또는 불포화된 폴리카르복실산과, 다가 알콜, 디아민또는 폴리아민과의 반응으로부터 얻어진다. 예를 들면, 아디프산, 숙신산, 프탈산, 테레프탈산 및 말레산이 이러한 화합물을 제조하는데 사용될 수 있다. 폴리에스테르를 제조하는데 적합한 다가 알콜의 예로서는 에틸렌 글리콜, 1,2-프로필렌 글리콜, 1,4-부탄디올, 네오펜틸 글리콜 및 헥산디올을 들 수 있다. 또한, 예를 들면, 에탄올아민과 같은 아미노 알콜도 사용할 수 있다. 폴리에스테르아미드를 제조하는데 적합한 디아민은 에틸렌디아민 및 헥사메틸렌디아민이다.
예를 들어, 1,4-부탄디올 또는 헥산디올 및 포름알데히드로부터 적절한 폴리아세탈을 제조할 수 있다. 적절한 폴리티오에테르는 예를 들어 티오글리콜 단독의 축합 반응 또는 에틸렌글리콜, 1,2-프로필렌글리콜과 같은 다른 글리콜과의 축합 반응 또는 기타 폴리히드록실화 화합물과의 축합 반응으로 제조할 수 있다. 카스터 오일 및 탄수화물과 같이 추가로 개질될 수 있는 천연 폴리올, 이미 우레아 또는 우레탄기를 함유하는 폴리히드록실화 화합물을 사용할 수 있다.
더욱 바람직하게는, 기 (1) 의 화합물은 폴리에스테롤, 특히 하나 이상의 (디)폴리올 (1a) 및 하나 이상의 산 (1b) 의 반응으로 형성된 폴리에스테르 디올이다. (디)폴리올 (1a) 는 특히 네오펜틸글리콜, 1,4-부탄디올, 헥산디올, 에틸렌글리콜, 디에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜, 부틸렌글리콜, 네오펜틸글리콜 및 (디)폴리에틸렌글리콜로 이루어진 군으로부터 선택된다. 산 (1b) 는 프탈산, 이소프탈산, 아디프산 및 (폴리)락트산을 포함하는 군으로부터 선택된다.
특히 디메틸올프로판산 (DMPA) 또는 2,2-히드록시메틸카르복실산과 같은 히드록시카르복실산이 화합물 (2) 로서 사용될 수 있다. 일반적으로, 화합물 (2) 는 커플링 블록으로서 유용하다. 바람직한 화합물 (2) 는 하나 이상의 폴리((α-히드록시디올카르복실)산) 을 포함하는 것들이다.
본 발명에 따라 특히 바람직한 화합물 (2) 는 2,2-디(히드록시메틸)아세트산, 2,2-디히드록시메틸프로판산, 2,2-디히드록시메틸부티르산 및 2,2-디히드록시메틸펜탄산을 포함하는 군으로부터 선택되는 것들이다.
디- 또는 폴리이소시아네이트 (3) 은 특히 헥사메틸렌 디이소시아네이트, 이소포론 디이소시아네이트 (IPDI), 톨루일렌 디이소시아네이트, 디페닐메탄 4,4'-디이소시아네이트 (DPMD) 및 디시클로헥실메탄 4,4'-디이소시아네이트 (DCMD), 메틸렌비스(p-페닐)디이소시아네이트, 메틸렌비스(4-시클로헥실이소시아네이트), 이소포론 디이소시아네이트, 톨루엔 디이소시아네이트, 1,5-나프탈렌 디이소시아네이트, 4,4'-디페닐메탄 디이소시아네이트, 2,2'-디메틸-4,4'-디페닐메탄 디이소시아네이트, 1,3-페닐렌 디이소시아네이트, 1,4-페닐렌 디이소시아네이트, 2,4- 및 2,6-톨루엔 디이소시아네이트의 혼합물, 2,2'-디클로로-4,4'-디이소시아네이토디페닐메탄, 2,4-디브로모-1,5-디이소시아네이토나프탈렌, 부탄 1,4-디이소시아네이트, 1,6-헥산 디이소시아네이트 및 1,4-시클로헥산 디이소시아네이트로 이루어진 군으로부터 선택될 수 있다.
축중합물은 일반적으로 축중합 사슬을 연장하는 작용을 하는 부가 화합물 (4) 를 사용하여 제조할 수 있다. 상기 화합물 (4) 는 특히, 포화 또는 불포화 글리콜, 예컨대 에틸렌글리콜, 디에틸렌글리콜, 네오펜틸글리콜 또는 트리에틸렌글리콜, 아미노 알콜, 예컨대 에탄올아민, 프로판올아민 또는 부탄올아민, 헤테로시클릭, 방향족, 지환족 및 지방족 1차 아민, 디아민, 카르복실산, 예컨대 지방족, 방향족 또는 헤테로시클릭 카르복실산, 예를 들어 옥살산, 숙신산, 글루타르산, 아디프산, 세박산 또는 테레프탈산, 및 아미노카르복실산으로 이루어진 군으로부터 선택될 수 있다. 바람직한 화합물 (4) 는 지방족 디올이다.
본 발명에 따른 축중합물은 실리콘 골격을 갖는 부가 화합물 (5), 예컨대 규소 원자에 그라프트된 탄화수소 기재 사슬을 임의 함유하는 폴리실록산, 폴리알킬실록산 또는 폴리아릴실록산, 특히 폴리에틸실록산, 폴리메틸실록산 및 폴리페닐실록산으로부터 제조할 수 있다.
본 발명에 따른 조성물의 유리한 구현예에 따르면, 중합체의 폴리우레탄 및/또는 폴리우레아 서열은 하기 일반식 I 에 상응하는 반복되는 기초단위를 갖는다:
[일반식 I]
-X-B-X-CO-NH-R-NH-CO-
[식중,
- X 는 O 및/또는 NH 를 나타내고,
- B 는 치환 또는 비치환의 2가 탄화수소 기재 라디칼이며,
- R 은 방향족류의 알킬렌 라디칼, C1-20지방족 라디칼 또는 C1-20지환족 라디칼로부터 선택된 2가 라디칼이다 (상기 라디칼들은 치환 또는 비치환이다)].
바람직하게는, 라디칼 B는 C1내지 C30라디칼이고 하나 이상의 카르복실산관능기 및/또는 하나 이상의 술폰 관능기를 함유하고, 이 카르복실산 및/또는 술폰 관능기는 유리 형태이거나 무기 또는 유기 염기로 부분적 또는 전체적으로 중화된다.
R 라디칼은 유리하게는 하기 화학식에 상응하는 라디칼로부터 선택된다:
[식중, b 는 0 내지 3 의 정수이고, c 는 1 내지 20, 바람직하게는 2 내지 12 의 정수이다].
특히, R 라디칼은 헥사메틸렌, 4,4′-비페닐렌메탄, 2,4- 및/또는 2,6-톨릴렌, 1,5-나프틸렌, p-페닐렌 및 메틸렌-4,4-비스-시클로헥실 라디칼, 및 이소포론에서 유도된 2가 라디칼로부터 선택된다.
유리하게는, 본 발명에 따라 사용되는 하나 이상의 폴리우레탄 및/또는 폴리우레아 서열을 함유하는 축중합물은 반복 기초 단위체가 예를 들어 하기의 일반식II 에 상응하는 하나 이상의 폴리실록산 서열을 추가로 함유할 수 있다.
[일반식 II]
-X-P-X-CO-NH-R-NH-CO-
[식중,
- P 는 폴리실록산 세그먼트이고,
- X 는 O 및/또는 NH 를 나타내고,
- R 은 방향족류의 알킬렌 라디칼, C1-20지방족 라디칼 또는 C1-20지환족 라디칼로부터 선택된 2가 라디칼이다 (상기 라디칼들은 치환 또는 비치환이다)].
유리하게는, 폴리실록산 세그먼트 P 는 하기 일반식 III 에 상응한다 :
[일반식 III]
[식중,
- 동일하거나 상이할 수 있는 A 라디칼은, 한편으로는, 에틸렌성 불포화기가 없거나 실질적으로 없는 C1-201가 탄화수소 기재 라디칼, 다른 한편으로는, 방향족 라디칼로부터 선택되고,
- Y 는 2가 탄화수소 기재 라디칼을 나타내고,
- z 는 폴리실록산 세그먼트의 평균 분자량이 300 내지 10,000 이도록 선택되는 정수를 나타낸다].
일반적으로, 2가 라디칼 Y 는 화학식 -(CH2)a- (식 중 a 는 1 내지 10 일 수 있는 정수를 나타낸다) 의 알킬렌 라디칼로부터 선택된다.
라디칼 A 는 알킬 라디칼, 특히 메틸, 에틸, 프로필, 이소프로필, 부틸, 펜틸, 헥실, 옥틸, 데실, 도데실 및 옥타데실 라디칼, 시클로알킬 라디칼, 특히 시클로헥실 라디칼, 아릴 라디칼, 특히 페닐 및 나프틸, 아릴알킬 라디칼, 특히 벤질 및 페닐에틸, 및 톨릴 및 크실릴 라디칼로부터 선택된다.
본 발명에 따른 축중합물은, 특히 유기 또는 무기 염기로 중화시킨 이후에 화장용으로 허용 가능한 매질에 용해될 수 있거나, 상기 매질에 분산액을 형성할 수 있다. 상기의 경우 일반적으로, 분산액은 축중합물이 분산액을 형성하고, 분산액으로 유지하도록 하는 0.05 % 이상의 계면활성제를 함유한다.
본 발명에 따르면, 임의 종류의 계면활성제가 상기 분산액에 사용될 수 있으나, 비이온성 계면활성제가 바람직하다. 분산액 내의 축중합물 입자의 평균 크기는 바람직하게는 0.1 내지 1 마이크론이다.
본 발명에 따른 조성물은 조성물의 총 중량에 대한 상대 중량비로서, 하나 이상의 폴리우레탄 및/또는 폴리우레아 서열을 포함하는 0.1 내지 20 %, 더욱 유리하게는 1 내지 15 %, 보다 더 유리하게는 2 내지 8 % 의 상기 축중합물을 함유한다.
본 발명이 특히 목적으로 하는 실리콘은 본 출원사의 특허 EP 0,756,860 호,WO 98/20833 호 및 프랑스 특허 97/16507 호에 개시된 것들이다.
본 발명의 목적을 위해, 실리콘의 용어는 임의의 유기 규소 중합체 또는 직쇄 또는 시클릭, 분지쇄 또는 가교화 구조의 변할 수 있는 분자량의 올리고머로서, 적절히 관능화된 실란의 축중합 및/또는 중합 반응으로 수득되며, 규소 원자들이 산소 원자로 서로 연결되어 실록산 결합 ≡Si-O-Si≡를 형성하고, 임의 치환된 탄화수소 기재 라디칼은 탄소 원자로부터 상기 규소 원자에 직접적으로 연결되는 주요 단위체의 반복으로 이루어진다. 가장 흔한 탄화수소 기재 라디칼은 알킬 라디칼, 특히 C1-10알킬 라디칼이며, 특히 메틸, 플루오로알킬 라디칼, 및 아릴 라디칼, 특히 페닐이다.
본 발명에 따른 조성물의 제 1 구현예에 따라, 하나 이상의 카르복실 관능기를 포함하는 실리콘은 하기 화학식 I 에 상응하는 하나 이상의 단위체를 포함하는 오르가노폴리실록산이다 :
[식중,
- R1및 R3는 독립적으로 탄소수 2 내지 20 의 직쇄 또는 분지쇄 알킬렌 라디칼을 나타내고;
- R2는 히드록실기를 임의 함유하는 탄소수 1 내지 50 의 직쇄 또는 분지쇄알킬렌 라디칼을 나타내고;
- a 는 0 또는 1 을 나타내고;
- b 는 0 내지 200 의 수이고;
- M 은 수소, 알칼리 금속 또는 알칼리토금속, NH4및 4차 암모늄기, 특히 모노-, 디-, 트리- 또는 테트라(C1-4알킬)암모늄기로 이루어진 군으로부터 선택된다].
예를 들어 하기 화학식 II 에 상응하는, 카르복실 관능기를 함유하는 오르가노실록산을 사용하는 것이 가능하다 :
[식중,
- R4라디칼은 동일 또는 상이하며, 직쇄 또는 분지쇄 C1-22알킬 라디칼, C1-22알콕시 라디칼 및 페닐 라디칼로 이루어진 군으로부터 선택되고,
- R5, R6및 R7라디칼은 동일 또는 상이하며, 직쇄 또는 분지쇄 C1-22알킬 라디칼, C1-22알콕시 라디칼, 페닐 기재 라디칼 및 (R1O)a-R2-(OR3)b-COOM 라디칼로 이루어진 군으로부터 선택되며, 단, R5, R6또는 R7라디칼의 하나 이상은 -(R10)a-R2-(OR3)b-COOM 라디칼이고;
- R1, R2, R3, a, b 및 M 라디칼은 화학식 I 에서와 동일한 의미를 갖고,
- c 및 d 는 0 내지 1000 범위의 수이고, c 와 d 의 합은 바람직하게는 2 내지 1000 이다].
화학식 II 의 실리콘 가운데, 바람직한 화합물은 하기 화학식 III 을 만족시키는 화합물이다 :
[식중, X 는 -(R1O)a-R2-(OR3)b-COOM 라디칼이고, - R1, R2, R3, a, b, d 및 M 라디칼은 화학식 II 에서와 동일한 의미를 갖는다].
화학식 III 의 화합물로서, Wacker 사의 Oil M 642, SLM 23 000/1 또는 SLM 23 000/2 (상표명) 를 사용하거나, General Electric 사의 176-12057 (상표명), 또는 OSI 사의 FZ 3703 (상표명), 또는 Toray Silicone 사의 16 880 (상표명) 을 사용할 수 있다.
본 발명에 따른 조성물의 제 2 구현예에 따르면, 실리콘은 화학식 (≡Si-O-)n에 상응하는 주 실리콘 사슬에, 상기 사슬 내에 뿐만 아니라 임의로는 이의 말단의 하나 이상에 그라프트된, 하나 이상의 카르복실 관능기를 포함하는 하나 이상의탄화수소 기재 기로 형성될 수 있다.
하나 이상의 카르복실 관능기를 함유한 상기 탄화수소 기재 기의 특성 및/또는 양은, 염기성 제제를 사용한 음이온 특성을 갖는 기의 임의 중화 이후, 상응하는 실리콘 유도체가 수용성 또는 수분산성이도록 선택된다.
상기 특정 실리콘 유도체는 통상적인 상업 제품일 수 있으며, 또는 당업자에게 공지된 임의의 방법에 따라 제조할 수 있으며, 특히, (i) 규소 원자의 하나 이상에 바르게 관능화된 출발 실리콘 및 (ii) 상기 실리콘의 관능기(들)와 반응하여 공유 결합을 형성할 수 있는 관능기로 자체로서 바르게 관능화된 음이온성 화합물과의 반응으로 제조할 수 있고; 이러한 반응의 모범적인 예는 ≡Si-H 기와 비닐기 CH2=CH- 기의 히드로실화 반응, 또는 대안적으로 티오 관능기 -SH 와 상기의 비닐기의 반응이 있다.
본 발명을 수행하기에 적절한, 사슬 내에 뿐만 아니라 임의로는 이의 말단에 하나 이상의 카르복실 관능기를 함유하는 하나 이상의 탄화수소 기재 기로 그라프트된, 주 실리콘 사슬을 함유하는 실리콘 유도체의 예는, 이들의 특정 제조 양식과 함께 특허 EP 0,582,152 호 및 WO 93/23009 호에 개시되어 있다.
본 발명을 수행하기에 특히 적합한 실리콘 유도체는 하기의 단위체를 함유하는 구조를 갖는 것들이다 :
[식중, G1는 수소 또는 C1-10알킬 라디칼 또는 대안적으로 페닐 라디칼을 나타내고; G2는 C1-10알킬렌기를 나타내며; G3는 에틸렌 불포화기를 함유한 하나 이상의 음이온성 단량체의 (단독) 중합 반응으로 생성된 음이온성 중합체 잔기를 나타내며; n 은 0 또는 1 이고; a 는 1 내지 50 의 정수이며; b 는 10 내지 350 의 정수이다].
바람직하게는, 상기 화학식 (IX) 의 단위체는 하기 특성의 하나 이상, 바람직하게는 모두를 갖는다 :
- G1는 알킬 라디칼, 바람직하게는 메틸 라디칼이고,
- n 은 0 이 아니며, G2는 C1-32가 라디칼, 바람직하게는 프로필렌 라디칼이며,
- G3는 불포화 카르복실산 종류, 바람직하게는 아크릴산 및/또는 메트아크릴산의 하나 이상의 단량체의 (단독) 중합 반응으로 생성된 중합체 라디칼을 나타낸다.
최종 중합체의 카르복실레이트기의 양은 바람직하게는 200 g 의 중합체 당 1 mol 의 카르복실레이트 내지 5000 g 의 중합체 당 1 몰의 카르복실레이트이다.
바람직하게는, 실리콘 중합체의 수평균 분자량은 약 10,000 내지 1,000,000, 더욱 바람직하게는 약 10,000 내지 100,000 이다.
본 발명을 수행하기에 특히 적절한 실리콘 유도체의 예는 특히, "Plus" Polymer VS 80 (상표명, 3M 사 제조) 으로 시판되는 것들이다. 상기 제품은, 티오프로필렌 종류의 연결 사슬을 통해, 폴리(메트)아크릴산 종류 및 폴리부틸(메트)아크릴레이트 에스테르 종류의 혼합 중합체 단위체가 그라프트된 폴리디메틸실록산 (PDMS) 에 상응한다. 상기 제품은 한편으로, 티오프로필기로 예비 관능화된 폴리디메틸실록산 종류의 실리콘과, 다른 한편으로, (메트)아크릴산 및 부틸(메트)아크릴레이트로 이루어진 단량체 혼합물의 라디칼 공중합 반응으로 통상적으로 수득할 수 있다.
본 발명을 수행하기에 특히 적절한 다른 실리콘은, 카르복실산 또는 그의 염, 아미드 및 에스테르 (상기 기들의 하나 이상은 카르복실산 또는 그의 염이다) 로부터 선택된 동일 또는 상이할 수 있는 두 개 이상의 기를 포함하는 하나 이상의 치환체를 함유한 실리콘이다.
상기 실리콘은 하기 화학식 IV 의 하나 이상의 단위체를 포함하는 것이 바람직하다 :
[식중, Z 는 하기 화학식 V 에 상응한다 :
[식중,
- W, R2및 R4는 동일 또는 상이할 수 있으며, 공유 결합 및 히드록실기를 포함할 수 있는 탄소수 1 내지 6 의 직쇄 또는 분지쇄 알킬렌 라디칼로부터 선택되고,
- R3는 수소 원자, 직쇄 또는 분지쇄 C1-6알킬 라디칼을 나타내며,
- X 및 X' 는 동일 또는 상이할 수 있고, OM, NR5R6및 OR7라디칼로부터 선택되고,
- M 은 수소 원자, Na+, K+와 같은 알칼리 금속, NH4 +, 라이신, 아르기닌, 살코신, 오르니틴 또는 시트룰린과 같은 염기성 아미노산, 및 모노에탄올아민, 디에탄올아민, 트리에탄올아민, 글루카민, N-메틸글루카민 및 3-아미노-1,2-프로판디올과 같은 아미노 알콜로 이루어진 군으로부터 선택된 잔기를 함유하는 암모늄기를 나타내고,
- R5및 R6는 동일 또는 상이할 수 있으며, 수소 및 직쇄 또는 분지쇄 C1-6알킬로 이루어진 군으로부터 선택되거나, 대안적으로 R5및 R6는 함께, 몰포린과같은 5- 또는 6-원 헤테로사이클을 형성할 수 있고,
- R7은 직쇄 또는 분지쇄 C1-30알킬 라디칼로부터 선택되며,
- X 및 X' 기의 하나 이상은 OM 을 나타낸다]].
화학식 IV 에서, 동일 또는 상이할 수 있는 R 라디칼은, 알킬 라디칼, 특히 C1-10알킬 라디칼로부터 선택되며, 특히 메틸, 플루오로알킬 라디칼, 특히 C1-10플루오로알킬 라디칼, C6-12아릴 라디칼 및 특히 페닐이고; a 는 0, 1 및 2 로부터 선택되고, 바람직하게는 1 또는 2 이다.
바람직하게는, 사용되는 실리콘은 하기 조건의 하나 이상, 바람직하게는 모두를 만족하는 화학식 IV 의 하나 이상의 단위체를 포함한다 :
- W 는 공유 결합을 나타내고,
- R3은 수소 원자를 나타내며,
- R 은 메틸 라디칼을 나타내고,
- X 및 X' 는 OM 및 NR5R6로부터 선택되며,
- R2및 R4는 동일 또는 상이할 수 있고, 공유 결합 및 메틸 라디칼로부터 선택된다.
실리콘의 다른 단위체는 바람직하게는 하기 화학식 VI 의 단위체로부터 선택된다 :
[식중, R 은 화학식 IV 에서와 동일한 의미를 갖고, b 는 0, 1, 2 또는 3 이고, 바람직하게는 2 또는 3 이다].
화학식 IV 의 하나 이상의 단위체를 함유하는 실리콘은 특히 미국 특허 4,931,062 호에 개시되어 있다. 이러한 실리콘은 예를 들어, SLM 23 105 (Wacker 사 제조) 및 Densodrin OF (BASF 사 제조) 의 상표명으로 시판되고 있다.
조성물의 총 중량에 대한 실리콘 또는 실리콘 혼합물의 상대 중량비는 0.01 내지 20 %, 더욱 유리하게는 0.01 내지 10 %, 보다 더 유리하게는 0.05 내지 5 % 이다.
본 발명에 따른 조성물은 로션 또는 겔의 형태일 수 있으며, 펌프-분배기 병 또는 에어로졸로부터 분사에 의해 도포될 수 있다.
에어로졸 형태로의 포장은 특히 사용자에게 실용적이며, 어려움 없이 제품의 상당히 균일한 분포를 얻는다. 그러나, 상기 종류의 포장은, 환경에 해로운 휘발성 유기 화합물 (VOC) 의 배출을 유발하는 단점을 갖는다. 이는 특히 조성물의 제조에 선택된 추진제 및 사용된 유기 용매의 양으로부터 발생한다. 그러므로, 방출되는 휘발성 유기 화합물의 양이 점차 낮아지는 에어로졸 형태로 포장된 화장용 조성물의 제조가 가장 유리하다.
에어로졸 장치의 수단으로 수득한 스프레이의 품질, 즉, 노즐 배출구에서 공중에의 방울의 분포는 사용된 조성물의 화학적 구성에 크게 의존한다. 따라서,최적의 품질의 분사를 제공하는 화장용 조성물의 제조가 가장 유리하다.
조성물의 총 중량에 대한 상대 중량비로서, 7.5 내지 70 %, 더욱 유리하게는 10 내지 50 %, 보다 더 유리하게는 10 내지 25 % 의 유기 용매가 유리하게 사용된다.
본 발명에 따라, 유기 용매는 특히 C1-4저급 알콜, 예컨대 에탄올, 이소프로판올, 아세톤, 메틸에틸케톤, 메틸아세테이트, 부틸아세테이트, 에틸아세테이트, 디메톡시에탄 및 디에톡시에탄, 및 이들의 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택된다. 에탄올이 바람직하게 사용된다.
본 발명에 따른 조성물의 유리한 구현예에 따라, 본 발명의 조성물은 조성물의 총 중량에 대한 상대 중량비로서 15 내지 85 %, 바람직하게는 25 내지 60 % 및 더욱 유리하게는 30 내지 50 % 의 추진제 가스를 함유한다.
본 발명에 따라, 조성물에 가용성 또는 불용성인 가스, 예컨대 디메틸에테르, 플루오로 또는 비-플루오로 탄화수소, 통상적인 액화 가스 또는 상기 추진제 가스의 혼합물이 추진제 가스로서 바람직하게 사용된다. 보다 더 유리하게는 디메틸에테르가 사용된다.
유리하게는, 휘발성 유기 화합물 (VOC) 의 함량을 감소시키도록 다양한 성분의 농도 및 특성이 선택된다.
본 발명에 따른 조성물은 지방 물질, 증점제, 연화제, 억포제, 모이스춰라이저, 제한제, 염기성화제, 염료, 안료, 향료, 보존제, 계면활성제, 탄화수소 기재중합체, 상기한 것 이외의 부가의 휘발성 또는 비휘발성 실리콘, 단백질 및 비타민으로부터 선택된 통상적인 화장용 보조제를 추가로 함유할 수 있다.
특히, 조성물에 비이온성, 음이온성, 양이온성 또는 양쪽성 고정 중합체와 같은 다른 고정 중합체를 첨가하는 것이 유리할 수 있다.
본 발명에 따른 조성물의 유리한 구현예를 구성하는 하기의 비제한적인 실시예로써 본 발명을 보다 잘 이해할 수 있다.
하기 조성물을 제조하였다 (백분율은 상대 중량 %).
- 락트산/에틸렌글리콜 P(MIS-EG)-디메틸올프로판산 (DMPA)-이소포론 디이소시아네이트 폴리에스테르 축중합물 4 %
- Silicone "Plus" Polymer VS 80 0.2 %
- 아미노메틸프로판올 qs 중화
- 에탄올 15 %
- 디메틸에테르 35 %
- 탈염수 qs 100 %
Claims (23)
- 화장용으로 허용 가능한 매질 내에, 조성물의 총 중량에 대한 상대 중량비로서, 하나 이상의 폴리우레탄 및/또는 폴리우레아 서열을 포함하는 0.1 내지 20 % 의 축중합물을 함유하는 모발용 조성물로서, 하나 이상의 카르복실 관능기 또는 그의 염의 1 종 또는 그의 혼합물을 함유한, 일부 이상이, 또는 완전 중화된 하나 이상의 실리콘 0.01 내지 20 % 를 추가로 함유하는 것을 특징으로 하는 조성물.
- 제 1 항에 있어서, 축중합물이 하기로부터 수득된 블록의 배열로 형성되는 것을 특징으로 하는 조성물 :(1) 분자당 2 이상의 활성 수소 원자를 함유하는 하나 이상의 화합물;(2) 하나 이상의 디올 또는 산 라디칼 또는 그 염을 함유하는 디올의 혼합물;(3) 하나 이상의 디- 또는 폴리이소시아네이트.
- 제 2 항에 있어서, 화합물 (1) 이 디올, 디아민, 폴리에스테롤 및 폴리에테롤, 또는 그의 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 조성물.
- 제 2 항에 있어서, 화합물 (2) 가 2,2-히드록시메틸카르복실산인 것을 특징으로 하는 조성물.
- 제 2 항에 있어서, 화합물 (3) 이 헥사메틸렌 디이소시아네이트, 이소포론 디이소시아네이트, 톨루일렌 디이소시아네이트, 디페닐메탄 4,4'-디이소시아네이트, 디시클로헥실메탄 4,4'-디이소시아네이트, 메틸렌비스(p-페닐) 디이소시아네이트, 메틸렌비스(4-시클로헥실 이소시아네이트), 이소포론 디이소시아네이트, 톨루엔 디이소시아네이트, 1,5-나프탈렌 디이소시아네이트, 4,4'-디페닐메탄 디이소시아네이트, 2,2'-디메틸-4,4'-디페닐메탄 디이소시아네이트, 1,3-페닐렌 디이소시아네이트, 1,4-페닐렌 디이소시아네이트, 2,4- 및 2,6-톨루엔 디이소시아네이트의 혼합물, 2,2'-디클로로-4,4'-디이소시아네이토디페닐메탄, 2,4-디브로모-1,5-디이소시아네이토나프탈렌, 부탄 1,4-디이소시아네이트, 1,6-헥산 디이소시아네이트 및 1,4-시클로헥산 디이소시아네이트로 이루어진 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 조성물.
- 제 2 항에 있어서, 축중합물이 실리콘 골격을 갖는 하나 이상의 부가 화합물로부터 형성되며, 규소 원자에 그라프트된 탄화수소 기재 사슬을 임의 함유하는, 폴리실록산, 폴리알킬실록산 또는 폴리아릴실록산, 특히 폴리에틸실록산, 폴리메틸실록산 및 폴리페닐실록산으로 이루어진 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 조성물.
- 제 1 항에 있어서, 축중합물의 폴리우레탄 및/또는 폴리우레아 서열이 하기 일반식 I' 의 반복 기초 단위체를 갖는 것을 특징으로 하는 조성물 :[일반식 I']-X'-B-X'-CO-NH-R-NH-CO-[식중,- X' 는 O 및/또는 NH 를 나타내고,- B 는 치환 또는 비치환의 2가 탄화수소 기재 라디칼이며,- R 은 방향족류의 알킬렌 라디칼, C1-20지방족 라디칼 또는 C1-20지환족 라디칼로부터 선택된 2가 라디칼이다 (상기 라디칼들은 치환 또는 비치환이다)].
- 제 7 항에 있어서, B 가 C1-302가 탄화수소 기재 라디칼인 것을 특징으로 하는 조성물.
- 제 7 항에 있어서, R 라디칼이 헥사메틸렌, 4,4'-비페닐렌메탄, 2,4- 및/또는 2,6-톨릴렌, 1,5-나프틸렌, p-페닐렌 및 메틸렌-4,4-비스-시클로헥실 라디칼, 및 이소포론 유래의 2가 라디칼로 이루어진 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 조성물.
- 제 1 항에 있어서, 축중합물이 하기 일반식 (II') 의 반복 기초 단위체를 갖는 것을 특징으로 하는 조성물 :[일반식 II']-X'-P-X'-CO-NH-R-NH-CO-[식중,- P 는 폴리실록산 세그먼트이고,- X' 는 O 및/또는 NH 이며,- R 은 방향족류의 알킬렌 라디칼, C1-20지방족 라디칼 및 C1-20지환족 라디칼로부터 선택되는 2가 라디칼이다 (상기 라디칼들은 치환 또는 비치환이다)].
- 제 1 항 내지 제 10 항 중 어느 한 항에 있어서, 실리콘이 하기 화학식 I 의 하나 이상의 단위체를 포함하는 오르가노폴리실록산인 것을 특징으로 하는 조성물 :[화학식 I][식중,- R1및 R3는 독립적으로 탄소수 2 내지 20 의 직쇄 또는 분지쇄 알킬렌 라디칼을 나타내고;- R2는 히드록실기를 임의 함유하는 탄소수 1 내지 50 의 직쇄 또는 분지쇄알킬렌 라디칼을 나타내고;- a 는 0 또는 1 이고;- b 는 0 내지 200 의 수이고;- M 은 수소, 알칼리 금속 또는 알칼리토금속, NH4및 4차 암모늄기, 특히 모노-, 디-, 트리- 또는 테트라(C1-4알킬)암모늄기로 이루어진 군으로부터 선택된다].
- 제 1 항 내지 제 10 항 중 어느 한 항에 있어서, 실리콘이 화학식 (≡Si-O-)n에 상응하는 주 사슬에, 상기 사슬 내에 뿐만 아니라 임의로는 이의 말단의 하나 이상에, 하나 이상의 카르복실 관능기를 함유하는 하나 이상의 탄화수소 기재 기로 그라프트된 주 사슬로 형성되는 것을 특징으로 하는 조성물.
- 제 12 항에 있어서, 실리콘이 하기 화학식 IX 의 단위체를 포함하는 것을 특징으로 하는 조성물 :[화학식 IX][식중, G1는 수소 또는 C1-10알킬 라디칼 또는 대안적으로 페닐 라디칼을 나타내고; G2는 C1-10알킬렌기를 나타내며; G3는 에틸렌 불포화기를 함유한 하나 이상의 음이온성 단량체의 (단독) 중합 반응으로 생성된 음이온성 중합체 잔기를 나타내며; n 은 0 또는 1 이고; a 는 1 내지 50 의 정수이며; b 는 10 내지 350 의 정수이다].
- 제 1 항 내지 제 10 항 중 어느 한 항에 있어서, 실리콘이 하기 화학식 IV 의 하나 이상의 단위체를 포함하는 것을 특징으로 하는 조성물 :[화학식 IV]ZRaSiO(3-a)/2[식중, Z 는 하기 화학식 V 에 상응하는 라디칼이다 :[화학식 V][식중,- W, R2및 R4는 동일 또는 상이할 수 있으며, 공유 결합 및 히드록실기를 포함할 수 있는 탄소수 1 내지 6 의 직쇄 또는 분지쇄 알킬렌 라디칼로부터 선택되고,- R3는 수소 원자, 직쇄 또는 분지쇄 C1-6알킬 라디칼을 나타내며,- X 및 X' 는 동일 또는 상이할 수 있고, OM, NR5R6및 OR7라디칼로부터 선택되고,- M 은 수소 원자, Na+, K+와 같은 알칼리 금속, NH4 +, 라이신, 아르기닌, 살코신, 오르니틴 또는 시트룰린과 같은 염기성 아미노산, 및 모노에탄올아민, 디에탄올아민, 트리에탄올아민, 글루카민, N-메틸글루카민 및 3-아미노-1,2-프로판디올과 같은 아미노 알콜로 이루어진 군으로부터 선택된 잔기를 함유하는 암모늄기를 나타내고,- R5및 R6는 동일 또는 상이할 수 있으며, 수소 및 직쇄 또는 분지쇄 C1-6알킬로 이루어진 군으로부터 선택되거나, 대안적으로 R5및 R6는 함께, 몰포린과 같은 5- 또는 6-원 헤테로사이클을 형성할 수 있고,- R7은 직쇄 또는 분지쇄 C1-30알킬 라디칼로부터 선택되며,- X 및 X' 기의 하나 이상은 OM 을 나타내고, 화학식 IV 의 R 라디칼은 동일 또는 상이할 수 있고, C1-10알킬 라디칼, C1-10플루오로알킬 라디칼 및 C6-12아릴 라디칼로 이루어진 군으로부터 선택되고; a 는 0, 1 또는 2 의 정수이다]].
- 제 1 항 내지 제 14 항 중 어느 한 항에 있어서, 실리콘 또는 실리콘 혼합물의 상대 중량비가 0.01 내지 10 %, 더욱 유리하게는 0.05 내지 5 % 인 것을 특징으로 하는 조성물.
- 제 1 항 내지 제 15 항 중 어느 한 항에 있어서, 상대 중량비로서 1 내지 15 %, 더욱 유리하게는 2 내지 8 % 의, 하나 이상의 폴리우레탄 및/또는 폴리우레아 서열을 포함하는 축중합물을 함유하는 것을 특징으로 하는 조성물.
- 제 1 항 내지 제 16 항 중 어느 한 항에 있어서, 펌프-분배기 병 또는 에어로졸 장치로 전달되는 것을 특징으로 하는 조성물.
- 제 17 항에 있어서, 에어로졸 장치로 전달되며, 추가로 하기를 함유하는 것을 특징으로 하는 조성물 :(i) 7.5 내지 70 %, 바람직하게는 10 내지 50 %, 더욱 유리하게는 10 내지 25 % 의 상대 중량 농도의 유기 용매, 및(ii) 15 내지 85 %, 바람직하게는 25 내지 60 %, 더욱 유리하게는 30 내지 50 % 의 상대 중량 농도의 추진제 가스.
- 제 1 항 내지 제 18 항 중 어느 한 항에 있어서, 지방 물질, 증점제, 연화제, 억포제, 모이스춰라이저, 제한제, 염기성화제, 염료, 안료, 향료, 보존제, 계면활성제, 탄화수소 기재 중합체, 부가의 휘발성 또는 비휘발성 실리콘, 단백질 및 비타민으로 이루어진 군으로부터 선택된 통상적인 화장용 보조제를 추가로 함유하는 것을 특징으로 하는 조성물.
- 제 1 항 내지 제 19 항 중 어느 한 항에 있어서, 비이온성, 양이온성, 음이온성 또는 양쪽성 고정 중합체로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 부가의 고정 중합체를 함유하는 것을 특징으로 하는 조성물.
- 제 18 항에 따른 에어로졸 조성물을 함유하는 용기 및 상기 에어로졸 조성물을 분배하기 위한 수단으로 이루어진 에어로졸 장치.
- 헤어스타일의 유지 또는 셰이핑을 위한 방법으로서, 제 1 항 내지 제 20 항 중 어느 한 항에 따른 조성물의 사용을 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
- 헤어스타일의 유지 또는 셰이핑을 위한 모발용 조성물의 제조를 위한 제 1 항 내지 제 20 항 중 어느 한 항에 따른 조성물의 용도.
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