KR100388691B1 - 1개 이상의 폴리우레탄 및/또는 폴리우레아 단위를포함하는 축중합물을 포함하는 에어로졸 분배장치 - Google Patents
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Abstract
본 발명은 1개 이상의 폴리우레탄 및/또는 폴리우레아 단위를 포함하는 다중 서열 중합체를 화장적으로 허용가능한 매질 중에 포함하는 분배장치를 포함하는 에어로졸 분배장치로서, 0.75g/초 이하의 초기 에어로졸 조성물 유량을 얻는데 적합한 장치에 관한 것이다. 또한, 본 발명은 상기 장치를 사용하는 헤어스타일링 또는 헤어드레싱 방법 및 에어로졸 랙커 또는 스프레이의 제조를 위한 그 용도에 관한 것이다.
Description
헤어스타일을 고정하는 것은 이미 제공된 형태를 유지하거나 또는 모발을 형성하고 동시에 고정하는 것으로 이루어지는 스타일링의 중요한 요소이다.
화장품 시장에서 가장 보편적인 헤어스타일의 형성 및/또는 유지를 위한 모발용 제품은, 다양한 화장용 보조제와의 혼합물로서의, 일반적으로 알코올성 또는 수성 용액인 용액, 그리고 고정용 재료로서도 공지되고 모발 사이의 접합을 형성하는 기능을 하는, 일반적으로 중합체 수지인 1종 이상의 재료로 이루어지는 스프레이 조성물이다. 이 용액은, 예를 들면, 추진제를 사용하여 가압 하에 놓인 적합한 에어로졸 용기 내에 포장될 수 있다.
에어로졸 형태로 포장하는 것은 사용자가 어려움없이 제품의 매우 균질한 분포를 얻을 수 있어 특히 실용적이다. 그러나, 이러한 타입의 포장은 환경에 유해한 휘발성 유기 화합물(VOCs)을 방출한다는 단점을 갖는다. 이것은 구체적으로 사용된 유기 용매의 양 및 조성물을 제조하기 위해 선택된 추진제 가스의 양으로부터 유래한다. 따라서, 방출되는 휘발성 유기 화합물의 양이 점차 낮아지는 에어로졸 형태로 포장되는 화장용 조성물의 제조가 특히 가장 이롭다.
에어로졸 장치에 의해 얻어지는 스프레이의 질, 즉 실질적으로 노즐 출구의 공간 내에서의 액적의 분포는 사용된 조성물의 화학적 구조에 크게 좌우된다. 따라서, 최적의 스프레이의 질을 얻을 수 있는 에어로졸 장치의 제조가 특히 가장 이롭다.
DE 195 41 326에는 고정용 중합체로서 폴리우레탄 단위를 포함하는 중합체를 포함하는 스타일링 조성물의 제조가 개시되어 있다. 그러나, 이 장치는, 특히 장치가 모발에 부여하는 화장 특성, 그리고 동시에 더 나은 스프레이의 질을 제공한다는 관점에서 개선될 수 있다.
본 발명은 1개 이상의 폴리우레탄 및/또는 폴리우레아 단위를 포함하는 다중블록 중합체를 화장적으로 허용가능한 매질 중에 포함하는 용기를 포함하는 에어로졸 장치로서, 0.75 g/초 이하의 에어로졸 조성물의 초기 유량을 얻는데 적합한 에어로졸 장치에 관한 것이다. 또한, 본 발명은 이러한 장치를 사용하는 것을 포함하는 헤어스타일의 형성 또는 유지를 위한 방법, 그리고 랙커(lacquer) 또는 에어로졸 스프레이의 제조를 위한 그 용도에 관한 것이다.
모든 예상과는 대조적으로, 본 출원인은, 놀랍고도 예상밖으로, 한편으로는 화장용 조성물을 선택하고 다른 한편으로는 이 조성물을 분포시키는 수단을 선택함으로써, 상기 필요조건을 만족시키는 에어로졸 장치를 제조하는 것이 가능하다는 것을 발견하였다.
본 발명의 주제는 유체 및 1종 이상의 추진제로 형성된 모발용 조성물을 포함하는 용기, 그리고 조성물을 분포시키기 위한 수단을 포함하는 에어로졸 장치로서, 다음을 특징으로 하는 장치이다:
(1) 조성물이, 화장적으로 허용가능한 매질 중에, 하나 이상의 폴리우레탄 및/또는 폴리우레아 서열을 포함하는 1종 이상의 축중합물을 포함하고;
(2) 0.75 g/초 이하의 에어로졸 조성물의 초기 유량을 제공하는데 장치가 적합하다.
본 발명의 다른 주제는 이러한 에어로졸 장치를 사용하는 것을 포함하는 헤어스타일의 형성 또는 유지의 방법에 관한 것이다.
본 발명이 또다른 주제는 랙커 또는 에어로졸 스프레이의 제조를 위한 이러한 장치의 용도에 관한 것이다.
본 발명의 구체적인 목표가 되는 하나 이상의 폴리우레탄 및/또는 폴리우레아 서열을 포함하는 축중합물은 본 출원인의 소유인 특허 EP 0,751,162, EP 0,637,600, FR 2,743,297 및 EP 0,648,485, 그리고 BASF사의 특허 EP 0,656,021 또는 WO 94/03510 및 National Starch사의 EP 0,619,111에 기재되어 있는 것들이다.
본 발명에 따라서 사용되는 축중합물은, 특히 유기질 또는 무기질 염기에 의한 중화 이후에, 화장적으로 허용가능한 매질 중에서 용해가능하거나, 또는 다르게는 이 매질 중에서 분산액을 형성할 수 있다. 이러한 경우에, 분산액은 축중합하여 분산액을 형성하고 분산액 중에서 유지되는, 0.05% 이상의 계면활성제를 포함할 수 있다.
본 발명에 따르면, 상기 분산액 중에서 어떠한 타입의 계면활성제도 사용될 수 있지만, 비이온성 계면활성제가 바람직하다. 분산액 중의 축중합물 입자의 평균 크기는 바람직하게는 0.1 내지 1 미크론이다.
예로서, 블록의 배열에 의해 축중합물이 형성될 수 있는데, 이 배열은 구체적으로 다음으로부터 얻어진다:
(1) 분자당 2개 이상의 활성 수소 원자를 함유하는 1종 이상의 화합물;
(2) 1종 이상의 디올 또는 산 라디칼 또는 그 염을 함유하는 디올의 혼합물;
(3) 1종 이상의 디- 또는 폴리이소시아네이트.
이롭게는, (1)의 화합물을 디올, 디아민, 폴리에스테롤 및 폴리에테롤, 또는 이것들의 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택된다.
바람직한 (1)의 화합물은 선형 폴리에틸렌 및 폴리프로필렌 글리콜, 특히 촉매로서의 나트륨 히드록시드의 존재 하에서 에틸렌 옥시드 또는 프로필렌 옥시드의 물 또는 디에틸렌 또는 디프로필렌 글리콜과의 반응에 의해 얻어지는 것들이다. 이러한 폴리글리콜은 일반적으로는 약 600 내지 2,000의 분자량을 갖는다.
다른 바람직한 유기 화합물은 메르캅토, 아미노, 카르복실 또는 히드록실 기를 갖는 것들이다. 이것들 중에서, 구체적으로는, 폴리에테르 디올, 폴리에스테르 디올, 폴리아세탈 디올, 폴리아미드 디올, 폴리에스테르폴리아미드 디올, 폴리(알킬렌 에테르) 디올, 폴리티오에테르 디올 및 폴리카보네이트 디올 등의 폴리히드록시 화합물을 언급할 수 있다.
바람직한 폴리에테르 디올은, 예를 들면, 에틸렌 옥시드, 프로필렌 옥시드또는 테트라히드로푸란의 축중합 생성물, 에틸렌 옥시드와 프로필렌 옥시드의 축합물의 혼합물과 같이 그라프팅되거나 블록일 수 있는 이것들의 공중합 또는 축합 생성물, 그리고 올레핀의 알킬렌 옥시드 축합물과의 고압에서의 중합 생성물이다. 예를 들면, 알킬렌 옥시드와 에틸렌 글리콜, 1,2-프로필렌 글리콜 및 1,4-부탄디올과 같은 다가 알코올의 축합에 의해 적합한 폴리에테르를 제조한다.
폴리에스테르 디올, 폴리에스테르아미드 및 폴리아미드 디올은 바람직하게는 포화되고, 예를 들면, 포화된 또는 불포화된 폴리카르복실산의 다가 알코올, 디아민 또는 폴리아민과의 반응으로부터 얻어진다. 예를 들면, 아디프산, 숙신산, 프탈산, 테레프탈산 및 말레산이 이러한 화합물을 제조하는데 사용될 수 있다. 폴리에스테르를 제조하는데 적합한 다가 알코올의 예로서는 에틸렌 글리콜, 1,2-프로필렌 글리콜, 1,4-부탄디올, 네오펜틸 글리콜 및 헥산디올을 들 수 있다. 또한, 예를 들면, 에탄올아민과 같은 아미노 알코올도 사용될 수 있다. 폴리에스테르아미드를 제조하는데 적합한 디아민은 에틸렌디아민 및 헥산메틸렌디아민이다.
예를 들어, 1,4-부탄디올 또는 헥산디올 및 포름알데히드로부터 적절한 폴리아세탈을 제조할 수 있다. 적절한 폴리티오에테르는 예를 들어 티오글리콜 단독의 축합 반응 또는 에틸렌글리콜, 1,2-프로필렌글리콜과 같은 다른 글리콜과의 축합 반응 또는 기타 폴리히드록실화 화합물과의 축합 반응으로 제조할 수 있다. 카스터 오일 및 탄수화물과 같이 추가로 개질될 수 있는 천연 폴리올, 이미 우레아 또는 우레탄기를 함유하는 폴리히드록실화 화합물을 사용할 수 있다.
더욱 바람직하게는, 기 (1) 의 화합물은 폴리에스테롤, 특히 하나 이상의 (디)폴리올 (1a) 및 하나 이상의 산 (1b) 의 반응으로 형성된 폴리에스테르 디올이다. (디)폴리올 (1a) 는 특히 네오펜틸글리콜, 1,4-부탄디올, 헥산디올, 에틸렌글리콜, 디에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜, 부틸렌글리콜, 네오펜틸글리콜 및 (디)폴리에틸렌글리콜로 이루어진 군으로부터 선택된다. 산 (1b) 는 프탈산, 이소프탈산, 아디프산 및 (폴리)락트산을 포함하는 군으로부터 선택된다.
특히 디메틸올프로판산 (DMPA) 또는 2,2-히드록시메틸카르복실산과 같은 히드록시카르복실산이 화합물 (2) 로서 사용될 수 있다. 일반적으로, 화합물 (2) 는 커플링 블록으로서 유용하다. 바람직한 화합물 (2) 는 하나 이상의 폴리((α-히드록시디올카르복실)산) 을 포함하는 것들이다.
본 발명에 따라 특히 바람직한 화합물 (2) 는 2,2-디(히드록시메틸)아세트산, 2,2-디히드록시메틸프로판산, 2,2-디히드록시메틸부티르산 및 2,2-디히드록시메틸펜타논산을 포함하는 군으로부터 선택되는 것들이다.
디- 또는 폴리이소시아네이트 (3) 은 특히 헥사메틸렌 디이소시아네이트, 이소포론 디이소시아네이트 (IPDI), 톨루일렌 디이소시아네이트, 디페닐메탄 4,4'-디이소시아네이트 (DPMD) 및 디시클로헥실메탄 4,4'-디이소시아네이트 (DCMD), 메틸렌비스(p-페닐)디이소시아네이트, 메틸렌비스(4-시클로헥실이소시아네이트), 이소포론 디이소시아네이트, 톨루엔 디이소시아네이트, 1,5-나프탈렌 디이소시아네이트, 4,4'-디페닐메탄 디이소시아네이트, 2,2'-디메틸-4,4'-디페닐메탄 디이소시아네이트, 1,3-페닐렌 디이소시아네이트, 1,4-페닐렌 디이소시아네이트, 2,4- 및2,6-톨루엔 디이소시아네이트의 혼합물, 2,2'-디클로로-4,4'-디이소시아네이토디페닐메탄, 2,4-디브로모-1,5-디이소시아네이토나프탈렌, 부탄 1,4-디이소시아네이트, 1,6-헥산 디이소시아네이트 및 1,4-시클로헥산 디이소시아네이트로 이루어진 군으로부터 선택될 수 있다.
축중합물은 일반적으로 축중합 사슬을 연장하는 작용을 하는 부가 화합물 (4) 를 사용하여 제조할 수 있다. 상기 화합물 (4) 는 특히, 포화 또는 불포화 글리콜, 예컨대 에틸렌글리콜, 디에틸렌글리콜, 네오펜틸글리콜 또는 트리에틸렌글리콜, 아미노 알콜, 예컨대 에탄올아민, 프로판올아민 또는 부탄올아민, 헤테로시클릭, 방향족, 지환족 및 지방족 1차 아민, 디아민, 카르복실산, 예컨대 지방족, 방향족 또는 헤테로시클릭 카르복실산, 예를 들어 옥살산, 숙신산, 글루타르산, 아디프산, 세박산 또는 테레프탈산, 및 아미노카르복실산으로 이루어진 군으로부터 선택될 수 있다. 바람직한 화합물 (4) 는 지방족 디올이다.
본 발명에 따른 축중합물은 실리콘 골격을 갖는 부가 화합물 (5), 예컨대 규소 원자에 그라프트된 탄화수소계 사슬을 임의 함유하는 폴리실록산, 폴리알킬실록산 또는 폴리아릴실록산, 특히 폴리에틸실록산, 폴리메틸실록산 및 폴리페닐실록산으로부터 제조할 수 있다.
본 발명에 따른 조성물의 유리한 구현예에 따르면, 중합체의 폴리우레탄 및/또는 폴리우레아 서열은 하기 화학식 I'에 해당되는 반복되는 기초단위를 갖는다:
(식 중:
- X' 는 O 및/또는 NH 를 나타내고,
- B 는 치환되거나 또는 비치환된 2가 탄화수소계 라디칼이고,
- R 은 방향족 유형의 알킬렌 라디칼, C1내지 C20지방족 라디칼 또는 C1내지 C20지환족 라디칼로부터 선택된, 치환되거나 또는 비치환된 2가 라디칼이다.)
바람직하게는, 라디칼 B는 C1내지 C30라디칼이고 하나 이상의 카르복실산 작용기 및/또는 하나 이상의 술폰산 작용기를 함유하고, 이 카르복실산 및/또는 술폰산 작용기는 유리 형태이거나 무기 또는 유기 염기로 부분적 또는 전체적으로 중화된다.
라디칼 R은 유리하게는 하기 화학식에 해당되는 라디칼로부터 선택된다:
(식 중, b는 0 내지 3 의 정수이고, c는 1 내지 20, 바람직하게는 2 내지 12의 정수이다).
특히, 라디칼 R은 헥사메틸렌, 4,4′-비페닐렌메탄, 2,4- 및/또는 2,6-톨릴렌, 1,5-나프틸렌, p-페닐렌 및 메틸렌-4,4-비스-시클로헥실 라디칼, 그리고 이소포론에서 유도된 2가 라디칼로부터 선택된다.
또한 유리하게는, 본 발명에 따라 사용되는 하나 이상의 폴리우레탄 및/또는 폴리우레아 서열을 함유하는 축중합물은 반복 기초단위가 예를 들어 하기의 화학식 II에 해당되는 하나 이상의 폴리실록산 서열도 함유할 수 있다.
(식 중:
- P는 폴리실록산 분절이고,
- X'는 O 및/또는 NH을 나타내고,
- R 은 방향족 유형의 알킬렌 라디칼, C1내지 C20지방족 라디칼 또는 C1내지 C20지환족 라디칼로부터 선택된, 포화 또는 불포화된 2가 라디칼이다.)
유리하게는, 폴리실록산 분절 P는 하기 화학식 III에 해당된다:
(식 중:
- 동일하거나 상이할 수 있는 라디칼 A는, 한편으로는, 에틸렌성 불포화가 없거나 실질적으로 없는 C1내지 C201가 탄화수소계 라디칼, 다른 한편으로는, 방향족 라디칼로부터 선택되고,
- Y는 2가 탄화수소계 라디칼을 나타내고,
- z는 폴리실록산 분절의 평균 분자량이 300 내지 10,000 이도록 선택되는 정수를 나타낸다).
일반적으로, 2가 라디칼 Y는 화학식 -(CH2)a- (식 중 a는 1 내지 10 일 수 있는 정수를 나타낸다)의 알킬렌 라디칼로부터 선택된다.
라디칼 A는 알킬 라디칼, 특히 메틸, 에틸, 프로필, 이소프로필, 부틸, 펜틸, 헥실, 옥틸, 데실, 도데실 및 옥타데실 라디칼, 시클로알킬 라디칼, 특히 시클로헥실 라디칼, 아릴 라디칼, 특히 페닐 및 나프틸, 아릴알킬 라디칼, 특히 벤질 및 페닐에틸, 및 톨릴 및 크실릴 라디칼로부터 선택된다.
이롭게는, 유체는 유기 용매를 포함하고, 추진제 대 유기 용매의 중량비는 1.5 이상, 바람직하게는 1.75 이상이다.
에어로졸 장치의 일부를 형성하는 분포 수단은, 일반적으로는, 에어로졸 조성물이 통과하면서 기화되는 노즐을 자체적으로 포함하는 분포 헤드에 의해 제어되는 분포 밸브로 이루어진다.
본 발명에 따르면, 에어로졸 조성물이 초기 유량은 에어로졸 장치 내부에서20℃의 영역 내의 온도에 대해 측정된다. 실제적으로, 에어로졸 장치는 실온에 놓이고, 에어로졸 조성물의 유량은 열역학적 평형이 도달될 때에 측정된다.
초기 유량은 50초에 걸쳐서 앞에서 사용되지 않은 채 에어로졸 장치를 떠나는 생성물의 평균양이다. 이것은 g/초 단위로 표현된다.
에어로졸 조성물의 초기 유량(FAC)은 앞에서 사용되지 않은 채 에어로졸 장치를 떠나는 단위 시간당 에어로졸 조성물(유체+추진제)의 양에 해당된다. 이것은 mg/s 단위로 표현되고, 기화 10초전의 에어로졸의 중량(M0)과 기화 10초후의 에어로졸의 중량(M1)의 차이에 의해 측정된다:
FAC = (M0- M1)/10
이롭게는, 본 발명에 따르는 에어로졸 장치는 0.7 g/초 이하의 에어로졸 조성물의 초기 유량을 얻는데 적합하다.
본 발명에 따르는 장치로부터의 에어로졸 조성물의 초기 유량은 한편으로는 조성물에 그리고 다른 한편으로는 분포 수단에 따라 달라지는데, 원하는 특성을 얻기 위해서는 이 2가지 필요조건이 적합하여야 한다.
적절한 분포 수단의 선택 및/또는 제제의 개질에 의해 상기 정의된 구체적인 특징을 얻을 수 있다.
상기 특정한 조성물에 적합한 밸브는, 구체적으로는, 0.33 mm 내부 수축 오리피스를 갖고, 추가적인 가스 유입 오리피스를 갖지 않고, 0.33 내지 0.51 mm인 노즐 오리피스를 갖는 밸브이다. 이롭게는, 크기가 0.4 내지 0.5 mm인 노즐 오리피스를 갖는 난류 노즐을 갖는 프레스-버튼(press-button)이 사용된다.
본 발명에 따라서 사용되는 축중합물은 화장적으로 허용가능한 매질 중에 용해가능하거나 또는 이 매질 중에서 분산액을 형성할 수 있다. 이러한 경우에, 분산액은 0.05% 이상의 계면활성제를 포함할 수 있고, 이로 인해 축중합물이 분산액을 형성하고 분산액 중에서 유지될 수 있다.
본 발명에 따르면, 어떠한 타입의 계면활성제도 상기 분산액 중에서 사용될 수 있지만, 비이온성 계면활성제가 바람직하다. 분산액 중의 축중합물 입자의 평균 크기는 0.1 내지 1 미크론인 것이 바람직하다.
본 발명에 따르는 조성물은 하나 이상의 폴리우레탄 및/또는 폴리우레아 서열을 포함하는 축중합을 조성물의 총중량에 대해 0.1 내지 20 중량%, 더욱 이롭게는 1 내지 15 중량%, 한층 더욱 이롭게는 2 내지 8 중량% 포함한다.
이롭게는, 조성물은 유기 용매를 조성물의 총중량에 대해 7.5 내지 70 중량%, 바람직하게는 10 내지 50 중량%, 더욱 바람직하게는 10 내지 25 중량% 포함한다.
본 발명에 따르면, 유기 용매는, 구체적으로는, 에탄올, 이소프로판올, 아세톤, 메틸 에틸 케톤, 메틸 아세테이트, 부틸 아세테이트, 에틸 아세테이트, 디메톡시에탄 및 디에톡시에탄, 그리고 이것들의 혼합물과 같은 C1내지 C4알코올을 포함하는 군으로부터 선택된다. 에탄올이 사용되는 것이 바람직하다.
조성물 중의 추진제 가스의 조성물의 총중량에 대한 상대적인 중량 단위 비율은 이롭게는 15 내지 85 중량%, 더욱 이롭게는 25 내지 60 중량%, 한층 더욱 이롭게는 30 내지 50 중량%이다.
본 발명에 따르면, 디메틸 에테르, 플루오로 또는 비플루오로 탄화수소와 같은 조성물 중에서 가용성 또는 불용성인 가스, 통상적인 액화 가스 또는 이러한 추진제 가스의 혼합물이 추진제 가스로서 바람직하게 사용된다. 바람직하게는, 디메틸 에테르가 사용된다.
또한, 본 발명에 따르는 조성물은 구체적으로는 지방성 물질, 농조화제, 유연제, 발포방지제, 보습제, 발한방지제, 염기화제, 염료, 안료, 방향제, 보존제, 계면활성제, 탄화수소계 중합체, 휘발성 또는 비휘발성 실리콘, 특히 음이온성 실리콘, 폴리올, 단백질 및 비타민으로부터 선택된 통상적인 화장용 첨가제를 포함할 수 있다.
특히, 이롭게는, 비이온성, 음이온성, 양이온성 또는 양쪽성 고정용 중합체와 같은 기타 고정용 중합체를 조성물에 첨가할 수 있다.
본 발명은 하기 비제한적인 실시예의 도움으로 더 명확히 이해될 수 있다.
다음의 조성물을 포함하는 본 발명에 따르는 장치를 제조한다.
- 락트산/에틸렌 글리콜 P (MIS-EG)
디메틸롤 프로판산 (DMPA)-이소포론
디이소시아네이트 폴리에스테르 축중합물 4%
- 아미노메틸프로판올 qs 중화
- 에탄올 15%
- 디메틸 에테르 35%
- 탈염수 qs 100%
다음을 포함하는 밸브를 사용하였다:
- 0.33mm 노즐 오리피스,
- 추가적인 가스 유입 오리피스가 없음,
- 0.33mm 내부 수축 오리피스.
0.45mm 유출구 오리피스 난류 노즐을 갖는 프레스-버튼을 사용하였다.
20℃에서 측정된 초기 유량은 0.65g/초이다.
Claims (30)
- 유체 및 1종 이상의 추진제로 형성된 모발용 조성물을 포함하는 용기, 그리고 조성물을 분포시키기 위한 수단을 포함하는 에어로졸 장치로서, 다음을 특징으로 하는 장치:(1) 조성물이, 화장적으로 허용가능한 매질 중에, 하나 이상의 폴리우레탄, 폴리우레아 또는 폴리우레탄 및 폴리우레아 서열을 포함하는 1종 이상의 축중합물을 포함하고;(2) 장치가 0.33 mm 내부 수축 오리피스를 갖고, 추가적인 가스 유입 오리피스를 갖지 않고, 0.33 내지 0.51 mm인 노즐 오리피스를 갖는 밸브 및 노즐 오리피스의 크기가 0.4 내지 0.5 mm인 난류 노즐을 갖는 프레스-버튼을 포함하고, 0.75 g/초 이하의 에어로졸 조성물의 초기 유속을 제공하는데 적합하다.
- 제 1 항에 있어서, 에어로졸 조성물의 초기 유속이 0.7g/초 이하인 것을 특징으로 하는 장치.
- 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 유체가 유기 용매를 포함하고, 추진제 대 유기 용매의 중량비가 1.5 이상인 것을 특징으로 하는 장치.
- 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 축중합물이 블록의 배열에 의해 형성되고, 이 배열이 다음으로부터 얻어지는 것을 특징으로 하는 장치:(1) 분자당 2개 이상의 활성 수소 원자를 포함하는 1종 이상의 화합물;(2) 산 라디칼 또는 그 염을 포함하는 1종 이상의 디올 또는 디올의 혼합물;(3) 1종 이상의 디- 또는 폴리이소시아네이트.
- 제 4 항에 있어서, (1)의 화합물이 디올, 디아민, 폴리에스테롤 및 폴리에테롤, 또는 이것들의 혼합물을 포함하는 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 장치.
- 제 4 항에 있어서, (2)의 화합물이 2,2-히드록시메틸카르복실산인 것을 특징으로 하는 장치.
- 제 4 항에 있어서, (3)의 화합물이 헥사메틸렌 디이소시아네이트, 이소포론 디이소시아네이트, 톨루일렌 디이소시아네이트, 디페닐메탄 4,4'-디이소시아네이트, 디시클로헥실메탄 4,4'-디이소시아네이트, 메틸렌비스(p-페닐) 디이소시아네이트, 메틸렌비스(4-시클로헥실 이소시아네이트), 이소포론 디이소시아네이트, 톨루엔 디이소시아네이트, 1,5-나프탈렌 디이소시아네이트, 4,4'-디페닐메탄 디이소시아네이트, 2,2'-디메틸-4,4'-디페닐메탄 디이소시아네이트, 1,3-페닐렌 디이소시아네이트, 1,4-페닐렌 디이소시아네이트, 2,4- 및 2,6-톨루엔 디이소시아네이트의 혼합물, 2,2'-디클로로-4,4'-디이소시아네이토디페닐메탄, 2,4-디브로모-1,5-디이소시아네이토나프탈렌, 부탄 1,4-디이소시아네이트, 1,6-헥산 디이소시아네이트 및 1,4-시클로헥산 디이소시아네이트을 포함하는 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 장치.
- 제 4 항에 있어서, 축중합물이 실리콘 골격을 갖는 1종 이상의 추가적인 화합물로부터 형성되고, 규소 원자 상에 그라프팅된 탄화수소계 사슬을 임의적으로 포함하는 폴리실록산, 폴리알킬실록산 또는 폴리아릴실록산을 포함하는 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 장치.
- 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 중합체의 폴리우레탄, 폴리우레아 또는 폴리우레탄 및 폴리우레아 서열이 하기 화학식 I'에 해당되는 반복되는 기초단위를 갖는 것을 특징으로 하는 장치:[화학식 I']-X'-B-X'-CO-NH-R-NH-CO-(식 중:- X' 는 O, NH 또는 O 및 NH 를 나타내고,- B 는 탄화수소-기재의, 치환되거나 또는 비치환된 라디칼이고,- R 은 방향족 유형의 알킬렌 라디칼, C1내지 C20지방족 라디칼 또는 C1내지 C20지환족 라디칼로부터 선택된, 치환되거나 또는 비치환된 2가 라디칼이다.)
- 제 9 항에 있어서, B가 C1내지 C302가 탄화수소계 라디칼인 것을 특징으로 하는 장치.
- 제 9 항에 있어서, 라디칼 R이 헥사메틸렌, 4,4'-비페닐렌메탄, 2,4-, 2,6- 또는 2,4- 및 2,6-톨릴렌, 1,5-나프틸렌, p-페닐렌 및 메틸렌-4,4-비스-시클로헥실 라디칼을 포함하는 군으로부터 선택되고, 2가 라디칼이 이소포론으로부터 유도되는 것을 특징으로 하는 장치.
- 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 축중합물이 하기의 화학식 II'에 해당되는 반복 기초단위를 갖는 것을 특징으로 하는 장치:[화학식 II']-X'-P-X'-CO-NH-R-NH-CO-(식 중:- P는 폴리실록산 분절이고,- X'는 O, NH 또는 O 및 NH을 나타내고,- R 은 방향족 유형의 알킬렌 라디칼, C1내지 C20지방족 라디칼 및 C1내지 C20지환족 라디칼로부터 선택된, 치환되거나 또는 비치환된 2가 라디칼이다.)
- 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 조성물이 0.1 내지 20 중량%의 축중합물을 포함하는 것을 특징으로 하는 장치.
- 제 3 항에 있어서, 조성물이 7.5 내지 70 중량%의 농도로 존재하는 유기 용매를 포함하는 것을 특징으로 하는 장치.
- 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 추진제 가스가 조성물의 15 내지 70 중량%로 존재하는 것을 특징으로 하는 장치.
- 삭제
- 삭제
- 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 조성물이 지방성 물질, 농조화제, 유연제, 발포방지제, 보습제, 발한방지제, 염기화제, 염료, 안료, 방향제, 보존제, 계면활성제, 탄화수소계 중합체, 실리콘, 휘발성 또는 비휘발성 실리콘, 폴리올, 단백질 및 비타민을 포함하는 군으로부터 선택된 통상적인 화장용 첨가제를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 장치.
- 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 조성물이 비이온성, 양이온성, 음이온성 또는 양쪽성 고정용 중합체를 포함하는 군으로부터 선택된 1종 이상의 추가적인 고정용 중합체를 포함하는 것을 특징으로 하는 장치.
- 헤어스타일을 형성하거나 또는 유지하기 위한 방법으로서, 제 1 항 또는 제 2 항에 따르는 장치의 사용을 포함하는 것을 특징으로 하는 모발 방법.
- 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 랙커 또는 에어로졸 스프레이의 제조를 위해 사용되는 것을 특징으로 하는 장치.
- 제 3 항에 있어서, 추진제 대 유기 용매의 중량비가 1.75 이상인 것을 특징으로 하는 장치.
- 제 8 항에 있어서, 축중합물이 폴리에틸실록산, 폴리메틸실록산 및 폴리페닐실록산을 포함하는 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 장치.
- 제 13 항에 있어서, 조성물이 1 내지 15 중량%의 축중합물을 포함하는 것을 특징으로 하는 장치.
- 제 24 항에 있어서, 조성물이 2 내지 8 중량%의 축중합물을 포함하는 것을 특징으로 하는 장치.
- 제 14 항에 있어서, 조성물이 10 내지 50 중량%의 농도로 존재하는 유기 용매를 포함하는 것을 특징으로 하는 장치.
- 제 26 항에 있어서, 조성물이 10 내지 25 중량%의 농도로 존재하는 유기 용매를 포함하는 것을 특징으로 하는 장치.
- 제 15 항에 있어서, 추진제 가스가 조성물의 25 내지 60 중량%로 존재하는 것을 특징으로 하는 장치.
- 제 28 항에 있어서, 추진제 가스가 조성물의 30 내지 50 중량%로 존재하는 것을 특징으로 하는 장치.
- 제 18 항에 있어서, 실리콘이 음이온성 실리콘인 것을 특징으로 하는 장치.
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