KR100369264B1 - 하나 이상의 폴리우레탄 및/또는 폴리우레아 단위 및폴리올을 함유하는 축중합물을 함유하는 헤어 조성물 - Google Patents

Abstract

본 발명은 화장용으로 허용가능한 매질 내에 하나 이상의 폴리우레탄 및/또는 폴리우레아 단위, 하나 이상의 폴리올, 유기 용매 및 추진제를 함유하는 다중 배열 중합체를 함유하는, 에어로졸 형태의 헤어 조성물에 관한 것이다. 또한 본 발명은 상기 조성물을 사용하는 헤어 스타일링 또는 헤어 드레싱 방법, 및 헤어드레싱 또는 헤어스타일링용 헤어 케어 제품을 만들기 위한 이들의 용도에 관한 것이다.

Description

하나 이상의 폴리우레탄 및/또는 폴리우레아 단위 및 폴리올을 함유하는 축중합물을 함유하는 헤어 조성물{HAIR COMPOSITION CONTAINING A POLYCONDENSATE COMPRISING AT LEAST A POLYURETHANE AND/OR POLYUREA UNIT AND A POLYOL}

본 발명은 에어로졸 형태로 포장되고, 화장용으로 허용가능한 매질 내에, 하나 이상의 폴리우레탄 및/또는 폴리우레아 단위, 하나 이상의 폴리올, 유기 용매 및 추진 기체를 함유하는 다중블록 중합체를 함유하는 헤어 조성물에 관한 것이다. 또한 본 발명은 이러한 조성물의 사용을 포함하는, 헤어스타일을 만들거나 유지시키는 방법뿐만 아니라, 헤어스타일을 유지시키거나 만들기 위한 헤어 제품의 제조를 위한 이들의 용도에 관한 것이다.

헤어스타일의 고정은, 이미 만들어진 형태를 유지시키거나 헤어의 형태를 만들고 동시에 그것을 고정시키는 것으로 구성되는 스타일링의 중요한 요소이다.

헤어스타일을 만들고/만들거나 유지시키기 위한 헤어 제품으로 화장품 시장에서 가장 일반적인 것은, 본질적으로 용액, 일반적으로 알코올성 또는 수성 용액, 및 하나 이상의 물질, 일반적으로는 헤어가 접착되게 하고 고정 물질로도 공지된 중합체 수지와 각종 화장용 보조제와의 혼합물로 구성되는 스프레이 조성물이다. 이 용액을, 예를 들어, 추진제를 사용하여 가압하에 적합한 에어로졸 용기 내로 포장할 수 있다.

에어로졸 기구에 의해 수득되는 분무의 질, 즉 본질적으로 노즐 출구 공간에 작은 방울의 분포는 사용되는 조성물의 화학적 구성에 크게 좌우된다. 따라서 가장 뛰어난 장점은 분무의 질이 더욱더 만족스럽게 하는 화장용 조성물 제형에 주어진다.

헤어스타일의 고정 및/또는 유지를 위한 조성물은 때때로 헤어의 화장 성질에 역효과를 일으키는 단점이 지닌다. 따라서, 헤어가 거칠어지고 자연적인 부드러움을 잃을 수 있다. 따라서, 헤어스타일을 잘 고정 및/또는 유지시키면서 동시에 양호한 화장 성질을 제공하는 스타일링 조성물이 추구된다.

특허 DE 195 41 326 에는, 수성-알코올성 매질 내에 폴리우레탄 단위를 고정 중합체로서 함유하는 중합체, 및 추진제를 함유하는, 에어로졸 장치로부터 분사되는 스타일링 조성물들이 기재되어 있다. 이러한 조성물들은 헤어스타일의 고정 면에서는 이미 만족스럽지만, 특히 이들이 헤어에 부여하는 화장 성질에 관해, 최적의 분무 질을 제공하면서 동시에 개선될 수 있다.

예상한 바와는 달리, 본 출원인은 하나 이상의 폴리우레탄 및/또는 폴리우레아 단위를 함유하는 축중합물과 어떤 특정한 조건을 조합함으로써 상기 언급된 요건들을 만족시킬 수 있다는 것을 뜻밖에 예상외로 발견하였다.

본 발명의 주제는 화장용으로 허용가능한 매질 내에, 조성물의 총중량에 대한 상대적인 중량비로 하기의 물질을 함유하는, 에어로졸 장치를 사용하여 적용되기 위한 헤어 조성물로, 0.01 내지 20 %의 하나 이상의 폴리올 또는 이들의 혼합물도 함유하고, 유기 용매에 대한 추진 기체의 중량비가 1.75 이상인 것을 특징으로하는 조성물이다:

(i) 0.1 내지 20 %의 하나 이상의 폴리우레탄 및/또는 폴리우레아 서열을 함유하는 축중합물;

(ii) 7.5 내지 70 %의 유기 용매;

(iii) 15 내지 85 %의 추진 기체.

본 발명을 위해, "폴리올"이라는 용어는 알킬 사슬 내에 두 개 이상의 히드록실 작용기를 갖는 선형, 가지형 또는 고리형, 포화 또는 불포화된 지방족 탄화수소 유형의 C₂내지 C₁₄화합물뿐만 아니라, 이러한 폴리히드록시알킬 화합물의 폴리에테르 유형의 중합체도 가리키는 것으로 이해된다.

본 발명의 또다른 주제는 이러한 에어로졸 장치를 사용하는 것을 포함하는, 헤어스타일을 만들거나 유지시키는 방법에 관한 것이다.

또한 본 발명의 또다른 주제는 헤어스타일을 유지시키거나 만들기 위한, 헤어 조성물의 제조를 위한 이러한 조성물의 용도에 관한 것이다.

본 발명의 구체적인 목표인 하나 이상의 폴리우레탄 및/또는 폴리우레아 서열을 함유하는 축중합물은 본 출원인의 소유인 특허 EP 0,751,162, EP 0,637,600, FR 2,743,297 및 EP 0,648,485 뿐만 아니라, BASF 사의 특허 EP 0,656,021 또는 WO 94/03510 및 National Starch 사의 EP 0,619,111에 기재되어 있는 것들이다.

본 발명에 따라 사용되는 축중합물은, 특히 유기 또는 무기 염기에 의한 중화 이후에, 화장용으로 허용가능한 매질 내에서 용해될 수 있거나, 또는 대안적으로는 이 매질 내에서 분산액을 형성할 수 있다. 이러한 경우에, 분산액은 축중합물이 분산액을 형성하고 이 분산액 중에서 유지되도록 하는, 0.05% 이상의 계면활성제를 함유할 수 있다.

본 발명에 따르면, 상기 분산액에서 어떠한 타입의 계면활성제도 사용될 수 있지만, 비이온성 계면활성제가 바람직하다. 분산액 내의 축중합물 입자의 평균 크기는 바람직하게는 0.1 내지 1 미크론이다.

예로서, 블록의 배열에 의해 축중합물이 형성될 수 있는데, 이 배열은 구체적으로 하기의 것들로부터 수득된다:

(1) 분자당 2 개 이상의 활성 수소 원자를 함유하는 하나 이상의 화합물;

(2) 산 라디칼 또는 그 염을 함유하는 하나 이상의 디올 또는 디올의 혼합물;

(3) 하나 이상의 디- 또는 폴리이소시아네이트.

유리하게는, 화합물 (1)은 디올, 디아민, 폴리에스테롤 및 폴리에테롤, 또는 이들의 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택된다.

바람직한 화합물 (1)은 선형 폴리에틸렌 및 폴리프로필렌 글리콜, 특히 촉매로서의 수산화나트륨의 존재 하에 에틸렌 옥시드 또는 프로필렌 옥시드의 물 또는 디에틸렌 또는 디프로필렌 글리콜과의 반응에 의해 수득되는 것들이다. 이러한 폴리글리콜은 일반적으로는 약 600 내지 2,000의 분자량을 갖는다.

다른 바람직한 유기 화합물은 메르캅토, 아미노, 카르복실 또는 히드록실 기를 갖는 것들이다. 이들 중에서, 더욱 구체적으로는, 폴리히드록시 화합물, 예컨대 폴리에테르 디올, 폴리에스테르 디올, 폴리아세탈 디올, 폴리아미드 디올, 폴리에스테르폴리아미드 디올, 폴리(알킬렌 에테르) 디올, 폴리티오에테르 디올 및 폴리카보네이트 디올을 들 수 있다.

바람직한 폴리에테르 디올은, 예를 들어, 에틸렌 옥시드, 프로필렌 옥시드 또는 테트라히드로푸란의 축중합 생성물, 그라프트되거나 블록일 수 있는 이들의 공중합 또는 축합 생성물, 예컨대 에틸렌 옥시드 및 프로필렌 옥시드의 축합물의 혼합물, 및 올레핀의 알킬렌 옥시드 축합물과의 고압에서의 중합 생성물이다. 예를 들어, 알킬렌 옥시드와 다가 알코올 예컨대 에틸렌 글리콜, 1,2-프로필렌 글리콜 및 1,4-부탄디올의 축합에 의해 적합한 폴리에테르를 제조한다.

폴리에스테르 디올, 폴리에스테르아미드 및 폴리아미드 디올은 바람직하게는 포화되고, 예를 들어, 포화 또는 불포화된 폴리카르복실산의 다가 알코올, 디아민 또는 폴리아민과의 반응으로부터 얻어진다. 예를 들어, 아디프산, 숙신산, 프탈산, 테레프탈산 및 말레산이 이러한 화합물을 제조하는데 사용될 수 있다. 폴리에스테르를 제조하는데 적합한 다가 알코올에는, 예를 들어, 에틸렌 글리콜, 1,2-프로필렌 글리콜, 1,4-부탄디올, 네오펜틸 글리콜 및 헥산디올이 포함된다. 또한, 예를 들어, 에탄올아민과 같은 아미노 알코올도 사용될 수 있다. 폴리에스테르아미드를 제조하는데 적합한 디아민은 에틸렌디아민 및 헥산메틸렌디아민이다.

예를 들어, 1,4-부탄디올 또는 헥산디올 및 포름알데히드로부터 적절한 폴리아세탈을 제조할 수 있다. 적절한 폴리티오에테르는, 예를 들어, 티오글리콜 단독의 축합 반응 또는 에틸렌글리콜, 1,2-프로필렌글리콜과 같은 다른 글리콜과의축합 반응 또는 기타 폴리히드록실화 화합물과의 축합 반응으로 제조될 수 있다. 이미 우레아 또는 우레탄 기를 함유하는 폴리히드록실화 화합물, 추가로 개질될 수 있는 천연 폴리올, 예를 들어, 카스터 오일 및 탄수화물을 사용할 수 있다.

더욱 바람직하게는, 군 (1)의 화합물은 폴리에스테롤, 특히 하나 이상의 (디)폴리올 (1_a)과 하나 이상의 산 (1_b)의 반응으로 형성되는 폴리에스테르 디올이다. (디)폴리올 (1_a)는 특히 네오펜틸 글리콜, 1,4-부탄디올, 헥산디올, 에틸렌 글리콜, 디에틸렌 글리콜, 프로필렌 글리콜, 부틸렌 글리콜, 네오펜틸 글리콜 및 (디)폴리에틸렌 글리콜로 이루어지는 군으로부터 선택된다. 산 (1_b)는 특히 프탈산, 이소프탈산, 아디프산 및 (폴리)락트산으로 이루어지는 군으로부터 선택된다.

특히 디메틸올프로판산 (DMPA) 또는 2,2-히드록시메틸카르복실산과 같은 히드록시카르복실산이 화합물 (2) 로서 사용될 수 있다. 일반적으로, 화합물 (2) 는 커플링 블록으로서 유용하다. 바람직한 화합물 (2) 는 하나 이상의 폴리((α-히드록시디올카르복실)산) 을 포함하는 것들이다.

본 발명에 따라 특히 바람직한 화합물 (2) 는 2,2-디(히드록시메틸)아세트산, 2,2-디히드록시메틸프로판산, 2,2-디히드록시메틸부티르산 및 2,2-디히드록시메틸펜타논산으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 것들이다.

디- 또는 폴리이소시아네이트 (3) 은 특히 헥사메틸렌 디이소시아네이트, 이소포론 디이소시아네이트 (IPDI), 톨루일렌 디이소시아네이트, 디페닐메탄 4,4'-디이소시아네이트 (DPMD) 및 디시클로헥실메탄 4,4'-디이소시아네이트 (DCMD), 메틸렌비스(p-페닐) 디이소시아네이트, 메틸렌비스(4-시클로헥실 이소시아네이트), 이소포론 디이소시아네이트, 톨루엔 디이소시아네이트, 1,5-나프탈렌 디이소시아네이트, 4,4'-디페닐메탄 디이소시아네이트, 2,2'-디메틸-4,4'-디페닐메탄 디이소시아네이트, 1,3-페닐렌 디이소시아네이트, 1,4-페닐렌 디이소시아네이트, 2,4- 및 2,6-톨루엔 디이소시아네이트의 혼합물, 2,2'-디클로로-4,4'-디이소시아네이토디페닐메탄, 2,4-디브로모-1,5-디이소시아네이토나프탈렌, 부탄 1,4-디이소시아네이트, 1,6-헥산 디이소시아네이트 및 1,4-시클로헥산 디이소시아네이트로 이루어지는 군으로부터 선택될 수 있다.

축중합물은 일반적으로 축중합 사슬을 연장하는 작용을 하는 부가 화합물 (4)를 사용하여 형성될 수 있다. 이러한 화합물 (4)는 특히, 포화 또는 불포화된 글리콜 예컨대 에틸렌 글리콜, 디에틸렌 글리콜, 네오펜틸 글리콜 또는 트리에틸렌 글리콜, 아미노 알콜 예컨대 에탄올아민, 프로판올아민 또는 부탄올아민, 헤테로고리형, 방향족, 지환족 및 지방족 1차 아민, 디아민, 카르복실산 예컨대 지방족, 방향족 또는 헤테로고리형 카르복실산, 예를 들어 옥살산, 숙신산, 글루타르산, 아디프산, 세박산 또는 테레프탈산, 및 아미노카르복실산으로 이루어지는 군으로부터 선택될 수 있다. 바람직한 화합물 (4) 는 지방족 디올이다.

또한 본 발명에 따른 축중합물은 실리콘 골격을 갖는 부가 화합물 (5), 예컨대 규소 원자에 그라프트된 탄화수소-기재 사슬을 임의 함유하는, 폴리실록산, 폴리알킬실록산 또는 폴리아릴실록산, 특히 폴리에틸실록산, 폴리메틸실록산 및 폴리페닐실록산으로부터 형성될 수 있다.

본 발명에 따른 조성물의 유리한 구현예에 따르면, 중합체의 폴리우레탄 및/또는 폴리우레아 서열은 하기 화학식 I에 해당되는 반복되는 기초단위를 갖는다:

-X-B-X-CO-NH-R-NH-CO-

(식 중:

- X 는 O 및/또는 NH 를 나타내고,

- B 는 2가 탄화수소-기재의 포화 또는 불포화된 라디칼이고,

- R 은 방향족 유형의 알킬렌 라디칼, C₁내지 C₂₀지방족 라디칼 또는 C₁내지 C₂₀지환족 라디칼로부터 선택되는 포화 또는 불포화된 2가 라디칼이다).

바람직하게는, 라디칼 B는 C₁내지 C₃₀라디칼이고 하나 이상의 카르복실산 작용기 및/또는 하나 이상의 술폰산 작용기를 함유하고, 이 카르복실산 및/또는 술폰산 작용기는 유리 형태이거나 무기 또는 유기 염기로 부분적 또는 전체적으로 중화된다.

라디칼 R은 유리하게는 하기 화학식에 해당되는 라디칼로부터 선택된다:

(식 중, b는 0 내지 3 의 정수이고, c는 1 내지 20, 바람직하게는 2 내지 12의 정수이다).

특히, 라디칼 R은 헥사메틸렌, 4,4′-비페닐렌메탄, 2,4- 및/또는 2,6-톨릴렌, 1,5-나프틸렌, p-페닐렌 및 메틸렌-4,4-비스-시클로헥실 라디칼, 및 이소포론에서 유도되는 2가 라디칼로부터 선택된다.

또한 유리하게는, 본 발명에 따라 사용되는 하나 이상의 폴리우레탄 및/또는 폴리우레아 서열을 함유하는 축중합물은 반복 기초단위가 예를 들어 하기의 화학식 ii에 해당되는 하나 이상의 폴리실록산 서열도 함유할 수 있다.

-X-P-X-CO-NH-R-NH-CO-

(식 중:

- P는 폴리실록산 분절이고,

- X는 O 및/또는 NH을 나타내고,

- R 은 방향족 유형의 알킬렌 라디칼, C₁내지 C₂₀지방족 라디칼 및 C₁내지 C₂₀지환족 라디칼로부터 선택되는 포화 또는 불포화된 2가 라디칼이다).

유리하게는, 폴리실록산 분절 P는 하기 화학식 III에 해당된다:

(식 중:

- 동일하거나 상이할 수 있는 라디칼 A는, 한편으로는, 에틸렌성 불포화가 없거나 실질적으로 없는 C₁내지 C₂₀1가 탄화수소-기재 라디칼, 다른 한편으로는 방향족 라디칼로부터 선택되고,

- Y는 2가 탄화수소-기재 라디칼을 나타내고,

- z는 폴리실록산 분절의 평균 분자량이 300 내지 10,000 이도록 선택되는 정수를 나타낸다)_.

일반적으로, 2가 라디칼 Y는 화학식 -(CH₂)_a- (식 중 a는 1 내지 10 일 수 있는 정수를 나타낸다)의 알킬렌 라디칼로부터 선택된다.

라디칼 A는 알킬 라디칼, 특히 메틸, 에틸, 프로필, 이소프로필, 부틸, 펜틸, 헥실, 옥틸, 데실, 도데실 및 옥타데실 라디칼, 시클로알킬 라디칼, 특히 시클로헥실 라디칼, 아릴 라디칼, 특히 페닐 및 나프틸, 아릴알킬 라디칼, 특히 벤질 및 페닐에틸, 및 톨릴 및 자일릴 라디칼로부터 선택된다.

본 발명에 따른 조성물은 조성물의 총중량에 대한 상대적 중량비로, 하나 이상의 폴리우레탄 및/또는 폴리우레아 서열을 함유하는 축중합물을 0.1 내지 20 %, 더욱 유리하게는 1 내지 15 %, 더더욱 유리하게는 2 내지 8 % 함유한다.

조성물의 총중량에 대한 상대적 중량비로 7.5 내지 70 %, 더욱 유리하게는 10 내지 50 %, 더더욱 바람직하게는 10 내지 25 %의 유기 용매가 사용된다.

본 발명에 따라, C₁내지 C₄저급 알코올 예컨대 에탄올, 이소프로판올, 아세톤, 메틸 에틸 케톤, 메틸 아세테이트, 부틸 아세테이트, 에틸 아세테이트, 디메톡시에탄 및 디에톡시에탄, 및 이들의 혼합물로 이루어지는 군으로부터 특히 선택된다.

본 발명에 따른 조성물의 유리한 구현예에 따르면, 이것은, 조성물의 총중량에 대한 상대적 중량비로, 25 내지 60 %, 더더욱 바람직하게는 30 내지 50 %의 추진 기체를 함유한다.

본 발명에 따라, 조성물에 가용성이거나 불용성인 기체, 예컨대 디메틸 에테르, 불소화 또는 비-불소화 탄화수소, 일반적인 액화 기체 또는 이러한 추진 기체들의 혼합물이 추진 기체로서 바람직하게 사용된다. 더욱 유리하게는, 디메틸 에테르가 사용된다.

조성물의 총중량에 대한 폴리올 또는 폴리올 혼합물의 상대적 중량비는 0.01내지 20 %, 더욱 유리하게는 0.01 내지 10 %, 더더욱 유리하게는 0.05 내지 5 %이다.

본 발명에 따라 사용되는 폴리올은 특히, C₂내지 C₁₂폴리올뿐만 아니라 폴리알킬렌 글리콜 예컨대 더욱 구체적으로 폴리에틸렌 글리콜 및 폴리프로필렌 글리콜로부터 선택될 수 있다.

바람직하게는, C₂내지 C₈폴리히드록시알칸 유도체가 폴리올로 사용된다. 유리하게는, C₃내지 C₅화합물, 더더욱 구체적으로는 글리세롤, 프로필렌 글리콜 또는 1,3-프로판디올이 선택된다.

또한 본 발명에 따른 조성물은 특히 지방 물질, 증점제, 연화제, 거품방지제, 습윤제, 발한방지제, 염기화제, 염료, 안료, 향료, 방부제, 계면활성제, 탄화수소-기재 중합체, 휘발성 또는 비휘발성 실리콘, 단백질 및 비타민으로부터 선택되는 통상적인 화장용 첨가제도 함유할 수 있다

가장 뛰어난 장점은, 방출되는 휘발성 유기 화합물의 양이 더욱더 작은, 본 발명에 따른 화장용 조성물의 제조에 주어진다.

특히, 본 발명의 폴리우레탄과 하나 이상의 다른 비이온성, 음이온성, 양이온성 또는 양쪽성 고정 중합체를 혼합하는 것이 유리할 수 있다.

본 발명에 따른 조성물의 유리한 구현예를 구성하는 하기의 비제한적 실시예의 도움으로 본 발명을 더 잘 이해할 수 있을 것이다.

본 발명에 따른 하기의 헤어 조성물을 제조한다.

- 락트산 폴리에스테르/에틸렌 글리콜

P(PMIS-FG) - 디메티롤 프로판산 (DPMA) -

이소포론 디이소시아네이트 축중합물 4 g

- 글리세롤 0.07 g

- 에탄올 15 g

- 디메틸 에테르 35 g

- 2-아미노-2-메틸-1-프로판올 중화될 때까지

- 미네랄제거수 qs 100 g

Claims (27)

1. 화장용으로 허용가능한 매질 내에, 조성물 총중량에 대한 상대적인 중량비로 하기의 것들을 함유하는, 에어로졸 장치를 사용하여 적용하기 위한 헤어 조성물로, 0.01 내지 20 %의 하나 이상의 폴리올 또는 이들의 혼합물도 함유하고, 유기 용매에 대한 추진 기체의 중량비가 1.75 이상인 것을 특징으로 하는 조성물:

   (i) 0.1 내지 20 %의 하나 이상의 폴리우레탄, 폴리우레아, 또는 폴리우레탄 및 폴리우레아 서열을 함유하고, (1) 분자당 2 개 이상의 활성 수소 원자를 함유하는 하나 이상의 화합물; (2) 산 라디칼 또는 그 염을 함유하는 하나 이상의 디올 또는 디올의 혼합물; 및 (3) 하나 이상의 디- 또는 폴리이소시아네이트를 사용하여 수득되는 블록(block)의 배열에 의해 형성되는 축중합물;

   (ii) 7.5 내지 70 %의 유기 용매; 및

   (iii) 15 내지 85 %의 추진 기체.
2. 삭제
3. 제 1 항에 있어서, 화합물 (1)이 디올, 디아민, 폴리에스테롤 및 폴리에테롤, 또는 이들의 혼합물로 이루어지는 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 조성물.
4. 제 2 항에 있어서, 화합물 (2)가 2,2-히드록시메틸 카르복실산인 것을 특징으로 하는 조성물.
5. 제 2 항에 있어서, 화합물 (3)이 헥사메틸렌 디이소시아네이트, 이소포론 디이소시아네이트, 톨루일렌 디이소시아네이트, 디페닐메탄 4,4'-디이소시아네이트, 디시클로헥실메탄 4,4'-디이소시아네이트, 메틸렌비스(p-페닐) 디이소시아네이트, 메틸렌비스(4-시클로헥실 이소시아네이트), 이소포론 디이소시아네이트, 톨루엔 디이소시아네이트, 1,5-나프탈렌 디이소시아네이트, 4,4'-디페닐메탄 디이소시아네이트, 2,2'-디메틸-4,4'-디페닐메탄 디이소시아네이트, 1,3-페닐렌 디이소시아네이트, 1,4-페닐렌 디이소시아네이트, 2,4- 및 2,6-톨루엔 디이소시아네이트의 혼합물, 2,2'-디클로로-4,4'-디이소시아네이토디페닐메탄, 2,4-디브로모-1,5-디이소시아네이토나프탈렌, 부탄 1,4-디이소시아네이트, 1,6-헥산 디이소시아네이트 및 1,4-시클로헥산 디이소시아네이트로 이루어지는 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 조성물.
6. 제 2 항에 있어서, 축중합물이, 규소 원자에 그라프트된 탄화수소-기재 사슬을 임의 함유하는, 폴리실록산, 폴리알킬실록산 또는 폴리알릴실록산으로 이루어지는 군으로부터 선택되고 실리콘 골격을 갖는 하나 이상의 부가 화합물로부터 형성되는 것을 특징으로 하는 조성물.
7. 제 1 항에 있어서, 축중합물의 폴리우레탄, 폴리우레아, 또는 폴리우레탄 및 폴리우레아 서열이 하기의 화학식 I' 에 해당되는 반복 기초단위를 갖는 것을 특징으로 하는 조성물 :

   -X'-B-X'-CO-NH-R-NH-CO-

   (식 중:

   - X' 는 0, NH, 또는 O 및 NH 를 나타내고,

   - B 는 2 가 탄화수소-기재의 포화 또는 불포화된 라디칼이고,

   - R 은 방향족 유형의 알킬렌 라디칼, C₁내지 C₂₀지방족 라디칼 또는 C₁내지 C₂₀지환족 라디칼로부터 선택되는 포화 또는 불포화된 2가 라디칼이다).
8. 제 7 항에 있어서, B가 C₁내지 C₃₀2가 탄화수소-기재 라디칼인 것을 특징으로 하는 조성물.
9. 제 7 항에 있어서, 라디칼 R이 헥사메틸렌, 4,4'-비페닐렌메탄, 2,4-톨릴렌, 2,6- 톨릴렌, 또는 2,4-톨릴렌 및 2,6-톨릴렌, 1,5-나프틸렌, p-페닐렌 및 메틸렌-4,4-비스-시클로헥실 라디칼 및 이소포론에서 유도되는 2가 라디칼로 이루어지는 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 조성물.
10. 제 1 항에 있어서, 축중합물이 하기 화학식 II' 에 해당되는 반복 기초단위를 갖는 것을 특징으로 하는 조성물 ;

    -X'-P-X'-CO-NH-R-NH-R-CO-

    (식 중:

    - P 는 폴리실록산 분절이고,

    - X' 는 0, NH, 또는 O 및 NH 을 나타내고,

    - R 은 방향족 유형의 알킬렌 라디칼, C₁내지 C₂₀지방족 라디칼 및 C₁내지 C₂₀지환족 라디칼로부터 선택되는 포화 또는 불포화된 2가 라디칼이다).
11. 제 1 항 내지 제 10 항 중 어느 한 항에 있어서, 상대적인 중량비로 1 내지 15 %의 축중합물을 함유하는 것을 특징으로 하는 조성물.
12. 제 1 항 내지 제 10 항 중 어느 한 항에 있어서, 10 내지 50 % 의 유기 용매를 함유하는 것을 특징으로 하는 조성물.
13. 제 1 항 내지 제 10 항 중 어느 한 항에 있어서, 추진 기체가 25 내지 60 %의 상대 중량 농도로 존재하는 것을 특징으로 하는 조성물.
14. 제 1 항 내지 제 10 항 중 어느 한 항에 있어서, 폴리올 또는 폴리올의 혼합물의 조성물의 총중량에 대한 중량비가 0.01 내지 10 %인 것을 특징으로 하는 조성물.
15. 제 1 항 내지 제 10 항 중 어느 한 항에 있어서, 폴리올이 알킬 사슬 상에 두 개 이상의 히드록실 작용기를 갖는 선형, 가지형 또는 고리형, 포화 또는 불포화된 지방족 탄화수소 유형의 C₂내지 C₁₄화합물, 및 이러한 폴리히드록시알킬 화합물의 폴리에테르 유형의 중합체로 이루어지는 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 조성물.
16. 제 15 항에 있어서, 폴리올이 C₂내지 C₁₂, 바람직하게는 C₂내지 C₈, 더욱 바람직하게는 C₃내지 C₅폴리히드록시알칸 유도체인 것을 특징으로 하는 조성물.
17. 제 1 항 내지 제 10 항 중 어느 한 항에 있어서, 지방 물질, 증점제, 연화제, 거품방지제, 습윤제, 발한방지제, 염기화제, 염료, 안료, 향료, 방부제, 계면활성제, 탄화수소-기재 중합체, 휘발성 또는 비휘발성 실리콘, 폴리올, 단백질 및 비타민으로부터 선택되는 통상적인 화장용 첨가제도 함유하는 것을 특징으로 하는 조성물.
18. 제 1 항 내지 제 10 항 중 어느 한 항에 있어서, 비이온성, 양이온성, 음이온성 양쪽성 고정 중합체로부터 선택되는 하나 이상의 추가적인 고정 중합체도 함유하는 것을 특징으로 하는 조성물.
19. 적합한 용기 내에 제 1 항 내지 제 10 항 중 어느 한 항에 따른 에어로졸 조성물을 함유하는 용기뿐만 아니라 조성물을 분사하기 위한 수단으로 구성되는 에어로졸 장치.
20. 삭제
21. 제 1 항 내지 제 10 항 중 어느 한 항에 있어서, 헤어스타일을 유지시키거나 만들기 위해, 헤어 제품의 제조에서 사용되는 것을 특징으로 하는 조성물.
22. 제 6 항에 있어서, 부가 화합물이 폴리에틸실록산, 폴리메틸실록산 및 폴리페닐실록산으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 조성물.
23. 제 11 항에 있어서, 상대적인 중량비로 2 내지 8 %의 축중합물을 함유하는 것을 특징으로 하는 조성물.
24. 제 12 항에 있어서, 10 내지 25 % 의 유기 용매를 함유하는 것을 특징으로 하는 조성물.
25. 제 13 항에 있어서, 추진 기체가 30 내지 50 %의 상대 중량 농도로 존재하는 것을 특징으로 하는 조성물.
26. 제 14 항에 있어서, 폴리올 또는 폴리올의 혼합물의 조성물의 총중량에 대한 중량비가 0.05 내지 5 % 인 것을 특징으로 하는 조성물.
27. 제 17 항에 있어서, 실리콘이 음이온성 실리콘인 것을 특징으로 하는 조성물.