KR20000020777A - 반도체 소자 제조방법 - Google Patents
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 21
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims description 13
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims abstract description 9
- 229910021642 ultra pure water Inorganic materials 0.000 claims description 18
- 239000012498 ultrapure water Substances 0.000 claims description 18
- 239000000243 solution Substances 0.000 claims description 16
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 14
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 9
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 claims description 9
- WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M tetramethylammonium hydroxide Chemical compound [OH-].C[N+](C)(C)C WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 8
- DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N Tert-Butanol Chemical compound CC(C)(C)O DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 238000005406 washing Methods 0.000 claims description 5
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 claims description 3
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 claims description 3
- 238000001459 lithography Methods 0.000 abstract description 3
- 229910021641 deionized water Inorganic materials 0.000 description 4
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 2
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 239000008367 deionised water Substances 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Chemical compound O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
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- H01L21/02057—Cleaning during device manufacture
- H01L21/0206—Cleaning during device manufacture during, before or after processing of insulating layers
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- H01—ELECTRIC ELEMENTS
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- H01L21/027—Making masks on semiconductor bodies for further photolithographic processing not provided for in group H01L21/18 or H01L21/34
- H01L21/0271—Making masks on semiconductor bodies for further photolithographic processing not provided for in group H01L21/18 or H01L21/34 comprising organic layers
- H01L21/0273—Making masks on semiconductor bodies for further photolithographic processing not provided for in group H01L21/18 or H01L21/34 comprising organic layers characterised by the treatment of photoresist layers
- H01L21/0274—Photolithographic processes
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- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
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Abstract
본 발명은 웨이퍼상에 레지스트 패턴(Resist Pattern)을 형성하는 리소그라피(Lithography) 공정에서 레지스트 패턴의 에스펙트 비(aspect ratio)가 커지면서 패턴이 붕괴되는 현상을 해소하기 위한 것으로, 레지스트 패턴을 드라이 하는 과정에서 표면장력이 낮은 린스 용액을 사용하여 세척하는 것이다.
Description
본 발명은 반도체 제조방법에 관한 것으로, 특히 웨이퍼상에 레지스트 패턴(Resist Pattern)을 형성하는 리소그라피(Lithography) 공정에서 레지스트 패턴의 에스펙트 비(aspect ratio)가 커지면서 패턴이 붕괴되는 현상을 해소하기 위한 반도체 소자 제조방법에 관한것이다.
고집적 반도체소자에서 이용되는 레지스트 패턴 붕괴(Resist patten collapse) 현상은 크게 2가지로 나타난다.
첫 번째는 래지스트 패턴과 웨이퍼 기판과의 접착력(adheson)이 약하여 레지스트 패턴이 웨이퍼 기판으로부터 탈리(peeling)되는 것이고, 두 번째는 레지스트 패턴 자체가 물리적으로 단단하지 못하여 패턴이 휘어지거나 부러지는 것이다.
이러한 레지스트 패턴 붕괴 현상은 반도체 소자의 집적도가 높아질수록 더욱 문제점으로 대두되는데, 왜냐하면 레지스트 패턴의 에스펙트 비가 커질수록 패턴과 패턴의 간격이 좁아질수록 패턴 붕괴 현상은 더욱 심해지기 때문이다. 레지스트 패턴 붕괴 현상은 현상(development)공정 중에 발생한다. 현상공정은 먼저 현상액으로 처리하고, 초순수(deionized water)로 세척한 다음, 웨이퍼를 고속으로 회전하여 건조시키는 단계로 진행되는데, 초순수 세척이 끝나고 스핀 드라인(spin dry) 공정이 시작되는 순간에 레지스트 패턴이 쓰러진다. 레지스트 패턴이 쓰러지는 원인은 패턴간에 채워져 있던 초순수가 스핀 드라인 공정이 시작되면서 갑자기 증발하는 순간에 패턴과 패턴사이의 간격의 중앙쪽으로 인력이 작용하기 때문이며, 그 결과 레지스트 패턴은 인력을 견디지 못할 경우에 쓰러지게 된다. 패턴과 패턴사이의 간격의 중앙쪽으로 거리는 압력의 크기는 초순수 용액의 표면장력과 패턴의 에스펙트 비에 비례하고, 패턴 사이에서 초순수의 표면에서 형성되는 곡면의 반지름에 반비례한다.
이를 식으로 나타내면 다음과 같다.
붕괴 력(collapse force)=(표면 장력/곡면 반지름)×(패턴 높이/패턴 넓이)
=ρ[dyn/cm]/R[cm] × H[㎛]/W[㎛]
=ρ(H/RW)[dyn/cm2]
상기식에서 곡면 반지름(R)이 작다는 것은 패턴간 간격이 좁다는 것이며, 패턴 넓이가 작다는 것은 반도체 소자의 최소 선폭이 작음을 뜻한다. 에스펙트 비는 패턴높이(H)/패턴선폭(W)로 정의된다. (도3 참조)
여기서, 11은 기판, 12a은 레지스트 패턴, 15는 초순수 용액, 16은 붕괴력이 작용하는 방향을 도시한다.
반도체 소자 중에서도 특히 DRAM(Dynamic Random Access Memory)소자의 캐패시터(capacitor)를 제조하기 위한 마스크(MASK)공정에서 레지스트 패턴의 붕괴현상은 큰 문제이다. 왜냐하면, 캐패시터를 제조하기 위한 마스크상의 패턴모양이 섬(island)처럼 되어있고 그 패턴의 크기도 가장 작아서 웨이퍼기판과의 접촉 면적이 작기 때문이다.
도1a 내지 1c는 종래 기술에 의해 레지스트 패턴을 형성하는 단계를 도시한 단면도이다.
도1a는 웨이퍼 기판(1)위에 포토레지스트(2)를 도포하고 소프트 베이크(Soft Bake)를 실시한 다음에 마스크(3)를 씌워 광(4)으로 조사하는 것이다.
도1b는 상기 광이 조사된 포토레지스트(2)를 상온의 현상액에서 처리하여 레지스트 패턴(2a)을 형성한 것이다.
도1c는 표면장력이 낮은 린스(Rinse)용액을 사용하여 웨이퍼 기판(1)을 세척하고 스핀 드라이방식으로 웨이퍼를 건조시켜 현상공정을 완료한 것으로, 레지스트 패턴(2a)과 레지스트 패턴(2a) 사이에 채워져 있던 린스용액이 완전히 증발되는 순간에 레지스트 패턴(2a)이 물리적으로 단단치 못하면 도1c와 레지스트 패턴(2a)이 휘거나 잘라지는 문제가 발생됨을 도시한다.
본 발명은 리소그라피 공정에서 레지스트 패턴이 쓰러지는 것을 방지하는 반도체 제조방법을 제공하는데 그 목적이 있다.
도1a 내지 1c는 종래 기술에 의해 레지스트 패턴을 형성하는 단계를 도시한 단면도이다.
도2a 내지 2c는 본 발명에 의해 레지스트 패턴을 형성하는 단계를 도시한 단면도이다.
도3은 레지스트 패턴의 붕괴력을 설명하기 위해 레지스트 패턴 사이에 채워진 초순수 용액의 곡률 반경등을 도시한 도면.
〈도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명〉
1, 11 : 웨이퍼 기판 2, 12 : 포토레지스트
2, 12a : 레지스트 패턴 3, 13 : 마스크
상기 목적을 달성하기 위한 본 발명은 웨이퍼 기판 상부에 포토레지스트 패턴을 형성하는 반도체 소자 제조방법에 있어서,
기판 상부에 포토레지스트를 도포하고, 노광 공정을 진행하는 단계와,
상온의 초순수 용액으로 세척하는 단계와,
표면장력이 낮은 린스 용액으로 세척해주고, 스핀 드라이 공정으로 상기 초순수를 증발시켜 레지스트 패턴을 형성하는 단계를 포함한다.
상기 표면장력이 낮은 린스 용액은 이소프로필 알콜 (Isopropyl Alcohel) +DIW(초순수) 또는 t- 부틸 알콜(Butyl Alcohel) +DIW(초순수)의 혼합한 용액을 사용한다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명에 의한 레지스트 패턴 제조공정을 상세히 설명하기로 한다.
도2a 내지 도2D는 본 발명에 의해 레지스트 패턴을 형성하는 공정을 도시한 단면도이다.
도2a는 웨이퍼 기판(11)위에 포토레지스트(12)를 0.8㎛ 두께로 도포하고 소프트 베이크를 핫 플레이트(hot plate)에서 90℃의 온도로 90초간 실시한 다음에 마스크(13)를 씌우고 노광장비를 사용하여 광(14)을 조사하는 것이다.
도2b는 상기 광이 조사된 포토레지스트(12)를 포스트 노광 베이크(Post -Exposure Bake)를 핫 플레이트상에서 110℃/90초 조건에서 실시한 다음 , TMAH(Tetra Methyl Ammonium Hydroxide)로 60초간 처리하여 레지스트 패턴(12a)을 형성한 다음, 상온의 초순수 용액으로 세척하는 것이다.
도2c는 상온의 초순수 용액에 의한 세척을 끝낸다음, 표면장력이 낮은 린스 용액으로 예를들어 이소프로필 알콜 (Isopropyl Alcohel), t- 부틸 알콜(Butyl Alcohol), 글리세롤, 프르나미드(fornamide), 디아이소메탄(diiodomethane), 에틸렌글리콜 또는 아세틸알콜 들중 하나 이상의 용액과 DIW(초순수)의 혼합용액으로 기판을 세척해주고 웨이퍼 기판(11)을 3000∼4000 RPM에서 10∼20초간 회전시켜 초순수를 증발시킴으로써 최종적으로 레지스트 패턴(12a)이 쓰러짐이 없이 형성된 것으로, 이것은 상기 표면 장력이 낮은 린스 용액이 쉽게 증발되기 때문에 붕괴력(Collapse Force)이 작아지게 되어 레지스트 패턴이 그대로 유지되게 된다.
상기한 본 발명에 의하면 상기 레지스트 패턴을 드라이 하는 과정에서 표면장력이 낮은 린스 용액을 사용하여 세척하고 스핀 드라이 공정을 진행한다. 그로인하여 레지스트 패턴의 붕괴 없이 정상적인 공정을 진행할 수가 있으므로 반도체 수율이 향상된다.
Claims (4)
- 웨이퍼 기판 상부에 포토레지스트 패턴을 형성하는 반도체 소자 제조방법에 있어서,기판 상부에 포토레지스트를 도포하고, 노광 공정을 진행하는 단계와,상온의 초순수 용액으로 세척하는 단계와,표면장력이 낮은 린스 용액으로 세척해주고, 스핀 드라이 공정으로 상기 초순수를 증발시켜 레지스트 패턴을 형성하는 단계를 포함하는 반도체 소자 제조방법.
- 제1항에 있어서,상기 표면장력이 낮은 린스 용액은 이소프로필렌 알콜(Isopropyl Alcohel)과 초순수의 혼합용액 또는 t-부틸 알콜과 초순수 혼합용액인 것을 특징으로 하는 반도체 소자 제조방법.
- 제1항에 있어서,상기 스핀 드라이 공정은 3000∼4000 RPM에서 10∼20초간 회전시키는 것을 특징으로 하는 반도체 소자 제조방법.
- 제1항에 있어서,상기 노광 공정후에 포스트 노광 베이크 공정을 진행하고, TMAH(Tetra Methyl Ammonium Hydroxide) 처리 공정을 진행하는 단계를 더 포함하는 반도체 소자 제조방법.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019980039525A KR100546190B1 (ko) | 1998-09-23 | 1998-09-23 | 반도체 소자 제조방법 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019980039525A KR100546190B1 (ko) | 1998-09-23 | 1998-09-23 | 반도체 소자 제조방법 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR20000020777A true KR20000020777A (ko) | 2000-04-15 |
| KR100546190B1 KR100546190B1 (ko) | 2006-04-12 |
Family
ID=19551685
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1019980039525A KR100546190B1 (ko) | 1998-09-23 | 1998-09-23 | 반도체 소자 제조방법 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR100546190B1 (ko) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100381342B1 (ko) * | 2000-05-18 | 2003-04-26 | 한국철도기술연구원 | 경량전철용 측면상방향형 제3궤조 집전장치 |
| KR100393118B1 (ko) * | 2001-02-22 | 2003-07-31 | 현만석 | 반도체 소자의 레지스트 패턴 형성 방법 및 이 방법에서 사용되는 반도체 웨이퍼 세척액 |
| KR100802269B1 (ko) * | 2001-12-29 | 2008-02-11 | 주식회사 하이닉스반도체 | 반도체 세정장치 및 이를 이용한 세정방법 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR970003586A (ko) * | 1995-06-30 | 1997-01-28 | 김주용 | 반도체 웨이퍼 클리닝 방법 |
| KR970052694A (ko) * | 1995-12-29 | 1997-07-29 | 김주용 | 웨이퍼 세정방법 |
-
1998
- 1998-09-23 KR KR1019980039525A patent/KR100546190B1/ko not_active IP Right Cessation
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100381342B1 (ko) * | 2000-05-18 | 2003-04-26 | 한국철도기술연구원 | 경량전철용 측면상방향형 제3궤조 집전장치 |
| KR100393118B1 (ko) * | 2001-02-22 | 2003-07-31 | 현만석 | 반도체 소자의 레지스트 패턴 형성 방법 및 이 방법에서 사용되는 반도체 웨이퍼 세척액 |
| KR100802269B1 (ko) * | 2001-12-29 | 2008-02-11 | 주식회사 하이닉스반도체 | 반도체 세정장치 및 이를 이용한 세정방법 |
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR100546190B1 (ko) | 2006-04-12 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PA0109 | Patent application |
Patent event code: PA01091R01D Comment text: Patent Application Patent event date: 19980923 |
|
| PG1501 | Laying open of application | ||
| A201 | Request for examination | ||
| PA0201 | Request for examination |
Patent event code: PA02012R01D Patent event date: 20030707 Comment text: Request for Examination of Application Patent event code: PA02011R01I Patent event date: 19980923 Comment text: Patent Application |
|
| E902 | Notification of reason for refusal | ||
| PE0902 | Notice of grounds for rejection |
Comment text: Notification of reason for refusal Patent event date: 20050531 Patent event code: PE09021S01D |
|
| E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
| PE0701 | Decision of registration |
Patent event code: PE07011S01D Comment text: Decision to Grant Registration Patent event date: 20051229 |
|
| GRNT | Written decision to grant | ||
| PR0701 | Registration of establishment |
Comment text: Registration of Establishment Patent event date: 20060118 Patent event code: PR07011E01D |
|
| PR1002 | Payment of registration fee |
Payment date: 20060117 End annual number: 3 Start annual number: 1 |
|
| PG1601 | Publication of registration | ||
| PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20090102 Start annual number: 4 End annual number: 4 |
|
| PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20091222 Start annual number: 5 End annual number: 5 |
|
| FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20101224 Year of fee payment: 6 |
|
| PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20101224 Start annual number: 6 End annual number: 6 |
|
| LAPS | Lapse due to unpaid annual fee | ||
| PC1903 | Unpaid annual fee |