KR20000014057A - 웨이퍼 이송장치 - Google Patents

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KR20000014057A KR1019980033266A KR19980033266A KR20000014057A KR 20000014057 A KR20000014057 A KR 20000014057A KR 1019980033266 A KR1019980033266 A KR 1019980033266A KR 19980033266 A KR19980033266 A KR 19980033266A KR 20000014057 A KR20000014057 A KR 20000014057A
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Abstract

목적 : 인입부 및 인출부 각각에 웨이퍼의 가장자리 양측에 적어도 2개 이상의 광센서를 구비하여 이에 의해 웨이퍼 이송시 인입부 및 인출부에 장착된 웨이퍼의 장착 유무 및 틀어짐 여부를 판단하여 미연에 공정 불량을 방지함에 있다.
구성 : 인입부 및 인출부 각각에 웨이퍼의 장착 유무 및 틀어짐 여부를 감지하기 위하여 웨이퍼의 가장자리 2개소에 각각 상부 및 하부에 발광부 및 수광부를 구비하여, 이들 광센서들로 부터 인입부 및 인출부 상에 웨이퍼가 장착되지 않았거나 웨이퍼가 틀어져 장착되어진 경우 이를 감지하여 웨이퍼 이송 장치의 작동을 정지시키는 제어부로 구성된다.
효과 : 인입부 및 인출부에 장착된 웨이퍼의 장착 유무 및 틀어짐 여부를 판단하여 웨이퍼 이송을 정지시킴으로써, 공정 불량의 발생 및 웨이퍼의 파손을 방지할 수 있다.

Description

웨이퍼 이송 장치
본 발명은 반응 챔버 내에서 반도체 웨이퍼를 처리하기 위하여, 미처리 웨이퍼를 반응챔버 내로 이송 또는 처리된 웨이퍼를 다음 공정으로 이송하기 위한 웨이퍼 이송 장치에 관한 것으로, 특히 웨이퍼 카세트로부터 웨이퍼를 인출하여 웨이퍼가 안착된 인입부 및 반응 챔버 내에서 인출된 웨이퍼를 웨이퍼 카세트로 이송시키기 위한 웨이퍼가 안착된 인출부를 구비한 웨이퍼 이송 장치에 관한 것이다.
웨이퍼의 기판 상에 막질을 코팅하기 위한 증착장치, 코팅된 막질을 식각하는 식각장치 및 웨이퍼를 세정하는 세정장치 등의 웨이퍼 처리장치는 미처리 웨이퍼가 장착된 웨이퍼 카세트(Cassette)로부터 웨이퍼를 인출하고 인출된 웨이퍼를 반응 챔버 내의 척(Chuck) 상에 장착하여 웨이퍼를 처리한다. 반응 챔버 내에서 처리된 웨이퍼는 다음의 공정을 진행하기 위하여 반응 챔버 내에서 인출되어 다음 공정의 진행을 위해 준비된 웨이퍼 카세트에 장착된다.
도 1은 일반적인 웨이퍼 이송 장치의 평면도를 도시한 개략적 구성도이다. 웨이퍼 이송 장치는 도시되지 않은 미처리 웨이퍼(W1)가 장착된 웨이퍼 카세트로부터 미처리 웨이퍼(W1)를 인출하여 반응 챔버로 이송시키기 위한 인입부(Loader)(10), 인입부(10)에 장착된 웨이퍼(W1)를 반응 챔버 내의 척(21) 상에 올려놓기 위한 셔틀(Shuttle)(20) 및 반응 챔버 내에서 처리된 웨이퍼를 다음 공정을 위해 준비된 웨이퍼 카세트로 이송시키기 위한 인출부(Unloader)(30)로 구성된다.
인입부(10)는 도시되지 않은 리니어 모터의 구동에 의하여 미처리 웨이퍼(W1)가 장착된 웨이퍼 카세트로부터 미처리 웨이퍼(W1)를 인출하여 웨이퍼(W1)가 안착되는 스파트라(Spatura)(11), 스파트라(11)에 웨이퍼가 안착되었는 지의 유무를 판단하는 도 3에 도시된 바와 같이 웨이퍼(W1)의 중앙 상부와 하부에 위치한 발광부(12)와 수광부(13)로 구성된 광센서 및 스파트라(11)에 안착된 미처리 웨이퍼(W1)를 셔틀(20)로 인계하기 위하여 웨이퍼(W1)를 수직방향으로 상승시키는 스테이지(Stage)(15)로 구성된다.
인출부(30)는 인입부(10)와 동일하게 처리된 웨이퍼(W2)를 셔틀(20)로부터 인계받기 위하여 수직 상승되는 스테이지(35), 처리된 웨이퍼(W2)를 장착하기 위한 스파트라(31) 및 발광부(32)와 수광부(33)를 구비하여 스파트라(31) 상에 웨이퍼의 장착 유무를 판단하는 광센서로 구성된다.
셔틀(20)은 도시되지 않은 리니어 모터의 구동에 의해 좌우로 이동되며, 셔틀(20)의 중앙에는 제 1 개구부(22), 좌측 및 우측에는 웨이퍼 보다 작은 직경을 갖는 제 2 개구부(23) 및 제 3 개구부(24)가 형성되어 있으며, 중앙의 제 1 개구부(22)에 웨이퍼를 처리하기 위한 반응 챔버가 위치하고 있으며, 셔틀(20)의 이동에 의해 인입부(10)에 위치한 미처리 웨이퍼(W1)를 셔틀(20) 좌측의 제 2 개구부(23) 상에 안착시켜 반응 챔버로 이송시키거나 반응 챔버로부터 처리된 웨이퍼(W2)를 셔틀(20) 우측의 제 3 개구부(24) 상에 안착시켜 인출부(30)로 이송시킨다.
따라서 도 1 내지 도 3에 의하여 웨이퍼 이송 장치의 동작을 살펴보면 다음과 같다.
도 2a에서 보는 바와 같이, 인입부(10)는 스파트라(11)를 리니어 모터의 구동에 의하여 이동시켜 미처리 웨이퍼(W1)가 장착된 웨이퍼 카세트로부터 미처리 웨이퍼(W1)를 인출하여 스파트라(11) 상에 장착시키고, 발광부(12) 및 수광부(13)로 구성된 광센서는 상기 웨이퍼의 장착 유무를 감지한다. 즉, 발광부(12)로 부터 발광된 빛을 수광부(13)에서 감지하지 못하면 미처리 웨이퍼(W1)는 스파트라(11) 상에 장착되어 있는 경우로 판단하고, 발광부(12)로 부터 발광된 빛을 수광부(13)에서 감지하면, 미처리 웨이퍼(W1)는 스파트라(11) 상에 없는 것으로 판단하여 웨이퍼 이송 장치를 정지시켜 그 원인을 찾아 교정토록 한다. 광센서의 감지가 정상이면 도 2b에서 보는 바와 같이, 스테이지(15)를 수직으로 상승시켜 미처리 웨이퍼(W1)를 스파트라(11)로부터 이탈시켜 상승시킨다. 한편, 셔틀(20)을 좌측으로 이동시켜 수직으로 상승된 스테이지(15) 상에 위치한 미처리 웨이퍼(W1)를 셔틀(20) 좌측의 제 2 개구부(23) 상에 장착시키고, 도 2c에서 보는 바와 같이, 제 2 개구부(23) 상에 안착된 미처리 웨이퍼(W1)가 반응 챔버 내의 척(21)의 상부에 위치하도록 셔틀(20)을 우측으로 이동시켜, 척(21)의 내주연에 위치한 핀(25)을 제 2 개구부(23) 가운데로 상승시켜 미처리 웨이퍼(W1)를 들어올린 후 셔틀(20)을 좌측으로 이동시켜 도 2d에서 보는 바와 같이, 셔틀(20)이 원래의 위치로 오면 핀(25)을 하강시켜 반응 챔버 내의 척(21) 상에 올려 놓는다. 척(21) 상에 올려진 미처리 웨이퍼(W1)는 공정 처리를 거치게 되며, 처리된 웨이퍼는 도 2e에서 보는 바와 같이, 핀(25)이 상승하여 셔틀(20)의 제 1 개구부(22)를 통하여 상승하며, 이때 셔틀(20)은 좌측으로 이동하여 핀(25)이 제 3 개구부(24)의 위치에 오게 되면, 핀(25)이 하강하여 처리된 웨이퍼(W2)는 셔틀(20)의 제 3 개구부(24) 위치에 장착된다. 도 2f에서 보는 바와 같이, 상기 처리된 웨이퍼(W2)를 장착한 셔틀(20)을 우측으로 이동시켜, 수직으로 상승된 스테이지(35)에 처리된 웨이퍼(W2)를 인계하고, 스테이지(35)는 도 2g에서 보는 바와 같이, 스테이지(35)를 수직 하강시켜 처리된 웨이퍼(W2)를 스파트라(31)상에 장착시킨다. 스파트라(31)는 하부에 고정된 미도시된 리니어 모터를 구동시켜 스파트라(31) 상에 위치한 처리된 웨이퍼(W2)를 다음 공정을 위해 준비된 웨이퍼 카세트 내에 장착한다.
실제의 작업에 있어서는, 미처리 웨이퍼(W1)와 처리된 웨이퍼(W2)가 동시에 셔틀(20)에 의해 이송작업을 한다. 즉, 셔틀(20)을 좌측으로 이동시켜 인입부(10)에 위치한 미처리 웨이퍼(W1)를 셔틀(20) 좌측의 제 2 개구부(23)에 올려 놓고 동시에 반응 챔버 내에서 처리된 웨이퍼(W2)를 셔틀(20) 우측의 제 3 개구부(24)에 올려 놓은 후, 셔틀(20)을 우측으로 이동시켜 셔틀(20) 좌측의 제 2 개구부(23)에 위치한 미처리 웨이퍼(W1)는 반응 챔버 내의 척(21)에 올려 놓고 동시에 셔틀(20) 우측의 제 3 개구부(24)에 위치한 처리된 웨이퍼(W2)는 인출부(30)로 이송된다.
이상에서 살펴본 바와 같이, 종래의 웨이퍼 처리 장치의 인입부 및 인출부에는 각각 이에 장착될 웨이퍼 중앙의 상부 및 하부에 발광부 및 수광부를 구비한 한 개의 광센서를 구비함으로써, 광센서에 의해 웨이퍼가 인입부 또는 인출부에 안착되었는지의 여부만을 판단할 수 있을 뿐이며, 인입부 및 인출부에 안착된 웨이퍼가 정상적인 위치로 안착되었는 지의 여부는 판단할 수 없는 문제점을 가지고 있다.
즉, 인입부 및 인출부에 안착된 웨이퍼가 정상적인 위치로부터 틀어질 경우 셔틀의 이동에 의해 인입부로부터 반응 챔버 내의 척으로 이송된 미처리 웨이퍼는 반응 챔버 내의 척 상에 안착될 때 정상적인 위치로부터 틀어지므로 웨이퍼 처리시 웨이퍼의 온도 상승을 방지하기 위한 웨이퍼 냉각시 웨이퍼가 틀어져서 척 상부에서 벗어난 웨이퍼의 부분은 냉각되지 못하며, 이로 인해 웨이퍼 처리시 플라즈마가 정상적인 위치에서 벗어난 부분의 웨이퍼 상에 집중되어 그 부위에 형성된 코팅된 막질을 식각하기 위한 마스크로 사용되는 포토 레지스트(Photo Resist)가 타버리는 등의 공정 불량의 원인이 될 수 있고, 웨이퍼 이송시 웨이퍼가 파손될 우려가 있다.
본 발명은 상기한 문제점을 해결하고자 하는 것으로서, 본 발명의 목적은 웨이퍼의 가장자리 양측에 웨이퍼 장착 유무 및 웨이퍼의 틀어짐 여부를 판단하는 적어도 2개 이상의 광센서를 구비한 인입부에 의해 웨이퍼 카세트로부터 인출한 미처리 웨이퍼가 인입부의 스파트라 상에 장착될 때 웨이퍼의 장착 유무 및 틀어짐 여부를 판단하므로서 이상 발생시 웨이퍼 이송 장치를 정지시켜 미연에 공정 불량의 발생을 방지할 수 있고, 웨이퍼의 파손을 방지할 수 있도록 하는 웨이퍼 이송 장치를 제공하는 데 있다.
본 발명의 다른 목적은 웨이퍼의 가장자리 양측에 웨이퍼 장착 유무를 판단하는 적어도 2개 이상의 광센서를 구비한 인출부에 의해 반응 챔버 내에서 처리된 웨이퍼(W2)를 인출하여 인출부의 웨이퍼 장착부에 웨이퍼가 장착되어질 때 2개의 광센서를 감지하여 인출부의 스파트라 상에 장착된 웨이퍼의 틀어짐 유무를 판단하므로서 웨이퍼의 틀어짐이 발생하면 웨이퍼 이송 장치를 정지시키고 처리된 웨이퍼가 인출부의 웨이퍼 장착부에 정상적인 위치에 놓여진 경우만 처리된 웨이퍼를 인출부로 부터 다음 공정을 위해 준비된 웨이퍼 카세트에 장착시킴으로써 후공정 진행시 공정 불량을 미연에 방지할 수 있고, 웨이퍼의 파손을 방지할 수 있는 웨이퍼 처리 장치를 제공하는 데 있다.
상기의 목적을 달성하기 위한 본 발명의 웨이퍼 처리 장치는 미처리 웨이퍼가 장착된 웨이퍼 카세트로 부터 미처리 웨이퍼를 인출하여 인출된 웨이퍼를 반응 챔버로 이송시키기 위한 인입부, 반응 챔버 내에서 처리된 웨이퍼를 다음 공정을 위해 준비된 웨이퍼 카세트로 이송시키기 위한 인출부 및 인입부에 위치한 미처리 웨이퍼를 반응 챔버 내의 척 상에 놓거나 반응 챔버 내에서 처리된 웨이퍼를 인출부로 이송시키는 셔틀을 구비한 웨이퍼를 처리하는 웨이퍼 처리 장치에 있어서,
인입부는 미처리 웨이퍼를 웨이퍼 카세트로부터 인출하여, 셔틀로 이송시키기 위하여 스파트라 및 스테이지를 구비하고 있으며, 장착된 미처리 웨이퍼의 외주연 적어도 2개소의 각각 상하부에 제 1 발광부, 제 1 수광부, 제 2 발광부, 제 2 수광부를 구성하여, 각각의 수광부는 각각의 발광부에서 발산된 빛을 감지할 수 있도록 하므로써, 스파트라 및 스테이지상에 미처리 웨이퍼의 장착 여부 및 틀어짐 여부를 감지하여, 미처리 웨이퍼가 장착되지 않았거나 장착된 웨이퍼가 틀어진 경우 웨이퍼 이송 장치의 작동을 정지시키는 제어부를 구비한 것을 특징으로 한다.
상기의 다른 목적을 달성하기 위한 본 발명의 웨이퍼 이송 장치는 미처리 웨이퍼가 장착된 웨이퍼 카세트로부터 미처리 웨이퍼를 인출하여 인출된 웨이퍼를 반응 챔버로 이송시키기 위한 인입부, 반응 챔버 내에서 처리된 웨이퍼를 다음 공정을 위해 준비된 웨이퍼 카세트로 이송시키기 위한 인출부 및 인입부에 위치한 미처리 웨이퍼를 반응 챔버 내의 척 상에 놓거나 반응 챔버 내에서 처리된 웨이퍼를 인출부로 이송시키는 셔틀을 구비한 웨이퍼를 처리하는 웨이퍼 처리 장치에 있어서,
인출부는 처리된 웨이퍼를 셔틀로부터 웨이퍼 카세트로 이송시키기 위하여 스파트라 및 스테이지를 구비하고 있으며, 장착된 처리된 웨이퍼의 외주연 적어도 2개소의 각각 상하부에 제 3 발광부, 제 3 수광부, 제 4 발광부, 제 4 수광부를 구성하여, 각각의 수광부는 각각의 발광부에서 발산된 빛을 감지할 수 있도록 하므로써, 스파트라 및 스테이지상에 처리된 웨이퍼의 장착 여부 및 틀어짐 여부를 감지하여, 처리된 웨이퍼가 장착되지 않았거나 장착된 웨이퍼가 틀어진 경우 웨이퍼 이송 장치의 작동을 정지시키는 제어부를 구비한 것을 특징으로 한다.
도 1은 웨이퍼 이송 장치의 개략적 구성도,
도 2a내지 도 2g는 웨이퍼가 이송되는 상태를 나타내는 측면도.
도 3는 도 1의 웨이퍼 이송 장치의 인입부 및 인출부의 종래의 광센서의 장착도.
도 4은 도 1의 웨이퍼 이송 장치의 인입부 및 인출부의 본 발명의 광센서의 장착도이다.
* 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 *
10 - 인입부 20 - 셔틀
30 - 인출부 11, 31 - 스파트라
12a, 12b, 32a, 32b - 제1발광부∼제4발광부
13a, 13b, 33a, 33b - 제1수광부∼제4수광부
15, 35 - 스테이지 40, 50 - 제어부
21 - 척 22 - 제1개구부
23 - 제2개구부 24 - 제3개구부
이하 본 발명의 바람직한 실시예를 첨부 도면에 따라 상세히 설명한다.
도 4는 도 1의 웨이퍼 처리 장치의 인입부 및 인출부 상에 구비된 본 발명에 의한 광센서 장착도이다.
본 발명의 웨이퍼 이송 장치는 미처리 웨이퍼(W1)가 장착된 웨이퍼 카세트로부터 미처리 웨이퍼(W1)를 인출하여 인출된 웨이퍼를 반응 챔버로 이송시키기 위한 인입부(10), 반응 챔버 내에서 처리된 웨이퍼(W2)를 다음 공정을 위해 준비된 웨이퍼 카세트로 이송시키기 위한 인출부(30) 및 인입부(10)에 위치한 미처리 웨이퍼(W1)를 반응 챔버 내의 척(21) 상에 놓거나 반응 챔버 내에서 처리된 웨이퍼(W2)를 인출부(30)로 이송시키는 셔틀(20)로 구성된다. 인입부(10)는 미처리 웨이퍼(W1)를 장착하는 웨이퍼 장착부인 스파트라(11)를 구비하여 스파트라(11)에 올려질 웨이퍼의 상부 및 하부 일측의 가장자리에 제 1 발광부(12a) 및 제 1 수광부(13a)로 구성된 제 1 광센서 및 웨이퍼의 상부 및 하부 타측의 가장자리에 제 2 발광부(13b) 및 제 2 수광부(13b)로 구성된 제 2 광센서를 구비하여 스파트라(11) 상에 미처리 웨이퍼(W1)의 장착 유무 및 스파트라(11) 상에 장착된 미처리 웨이퍼(W1)의 틀어짐을 감지하고, 제 1, 제 2 광센서들로부터 스파트라(11) 상에 미처리 웨이퍼(W1)가 장착되지 않았거나 장착된 웨이퍼(W1)가 틀어진 경우 웨이퍼 처리 장치의 작동을 정지시키는 제 1 제어부(40)로 구성된다. 인출부(30)는 반응 챔버 내에서 처리된 웨이퍼(W2)를 장착하는 웨이퍼 장착부인 스파트라(31)를 구비하여 스파트라(31)에 올려질 웨이퍼의 상부 및 하부 일측의 가장자리에 제 3 발광부(32a) 및 제 3 수광부(33a)로 구성된 제 3 광센서 및 웨이퍼의 상부 및 하부 타측의 가장자리에 제 4 발광부(32b) 및 제 4 수광부(33b)로 구성된 제 4 광센서를 구비하여 스파트라(31) 상에 처리된 웨이퍼(W2)가 장착되었는 지의 유무 및 스파트라(31) 상에 장착된 처리된 웨이퍼(W2)의 틀어짐을 감지하고, 제 3, 제 4 광센서들로 부터 스파트라(31) 상에 처리된 웨이퍼(W2)가 장착되지 않았거나 장착된 웨이퍼(W2)가 틀어진 경우 웨이퍼 처리 장치의 작동을 정지시키는 제 2 제어부(50)로 구성된다.
본 발명의 웨이퍼 이송 장치는 상기의 구성과는 달리 인입부(10)에만 웨이퍼의 틀어짐을 검출하는 두 개의 광센서들로 구성하고, 인출부(30)는 종래와 동일하게 웨이퍼의 존재 유무 만을 검출하는 하나의 광센서로 구성할 수도 있다.
또한 본 발명의 웨이퍼 이송 장치는 인입부(10)는 종래와 동일하게 웨이퍼의 존재 유무 만을 검출하는 하나의 광센서로 구성하고, 인출부(30)는 웨이퍼의 틀어짐을 검출하는 두 개의 광센서들로 구성할 수도 있다.
또한, 본 발명의 웨이퍼 이송장치는 인입부(10) 및 인출부(30)에 각각 2개 또는 그 이상의 광센서를 구비하여 정밀하게 웨이퍼의 존재 유무 및 웨이퍼의 틀어짐을 검출할 수 있도록 구성할 수 있다.
그러나 본 발명의 웨이퍼 이송 장치에 있어 인입부(10) 및 인출부(30) 모두가 웨이퍼의 틀어짐을 검출할 수 있는 2 개 또는 그 이상의 광센서로 구성되면 웨이퍼 처리 장치의 작동 불량을 보다 정확하게 검출할 수 있다.
상기 구성에 따른 본 발명의 웨이퍼 처리 장치의 동작은 다음과 같다.
도 1 및 도 2에 의한 본 발명의 웨이퍼 처리 장치의 인입부(10), 셔틀(20) 및 인출부(30)의 동작은 동일하므로 이의 동작은 생략하고, 도 4에 의거 인입부(10) 및 인출부(30)의 광센서들 및 제어부(40,50)의 동작에 대해 설명하면 다음과 같다.
인입부(10)는 미처리 웨이퍼가 장착된 웨이퍼 카세트로부터 미처리 웨이퍼(W1)를 인출하여 미처리 웨이퍼(W1)는 인입부의 스파트라(11) 상에 올려진다. 이때 스파트라(11) 상에 올려진 미처리 웨이퍼(W1)가 정상적인 위치에 장착되면 제 1 발광부(12a) 및 제 2 발광부(12b)로부터 발광된 빛은 각각 제 1 수광부(13a) 및 제 2수광부(13b)로 도달하지 못하므로 제 1 광센서 및 제 2 광센서는 모두 오프된다. 만약에 스파트라(11) 상에 올려진 미처리 웨이퍼(W1)가 정상적인 위치로부터 틀어지면 제 1 수광부(13a) 또는 제 2 수광부(13b) 중 하나의 광센서만이 온되며, 스파트라(11) 상에 웨이퍼가 없는 경우 제 1 수광부(13a) 및 제 2 수광부(13b)는 모두 온된다.
따라서 제어부(40)는 제 1 수광부(13a) 및 제 2 수광부(13b)의 온 또는 오프 를 감지하여 제 1 수광부(13a) 및 제 2 수광부(13b)가 모두 오프되었을 때에는 미처리 웨이퍼(W1)는 스파트라(11) 상에 정상적으로 올려진 경우이므로 웨이퍼 이송 장치는 인입부(10)의 스테이지(15)를 상승시키고 셔틀(20)을 이동시켜 인입부(10)에 올려진 미처리 웨이퍼(W1)를 반응 챔버 내로 이송시켜 웨이퍼를 처리한다.
만약에 제 1 수광부(13a) 및 제 2 수광부(13b)가 모두 온 되거나 제 1 수광부(13a) 또는 제 2 수광부(13b)들 중 어느 한 광센서만이 오프되면 제어부(40)는 웨이퍼 이송 장치를 정지시키고, 웨이퍼 이송 장치의 작동 불량의 원인을 찾아 이를 수정토록한다.
인출부(30)의 동작은 인입부(10)의 동작과 동일하게 제 3 발광부(32a) 및 제3 수광부(33a)로 구성된 제 3 광센서와 제 4 발광부(32b) 및 제 4 수광부(33b)로 구성된 제 4 광센서의 온 또는 오프를 감지하는 제어부(50)로 구성되며, 상기 감지된 결과에 따라 반응 챔버로 부터 인출된 처리된 웨이퍼(W2)가 인출부(30)의 스파트라(35)에 정상적인 위치에 올려져 있다면 미도시된 웨이퍼 카세트로 이송토록 하며, 만일, 스파트라(35)상에 처리된 웨이퍼(W2)가 없거나, 틀어짐이 발생한 경우에는 웨이퍼 이송 장치의 작동을 정지시켜 작동 불량의 원인을 찾아 이를 수정토록 한다.
본 발명의 웨이퍼 처리 장치는 인입부나 인출부 또는 인입부 및 인출부의 웨이퍼 장착부에 웨이퍼가 장착되어질 때 적어도 2개 이상의 광센서를 감지하여 웨이퍼 장착부에 장착된 웨이퍼의 틀어짐 유무를 판단하므로서 웨이퍼의 틀어짐이 발생하면 웨이퍼 이송 장치를 정지시켜 미연에 공정 불량의 발생을 방지할 수 있고, 웨이퍼의 파손을 방지할 수 있다.

Claims (2)

  1. 미처리 웨이퍼가 장착된 웨이퍼 카세트로부터 미처리 웨이퍼를 인출하여 인출된 웨이퍼를 반응 챔버로 이송시키기 위한 인입부, 반응 챔버 내에서 처리된 웨이퍼를 다음 공정을 위해 준비된 웨이퍼 카세트로 이송시키기 위한 인출부 및 상기 인입부에 안착된 미처리 웨이퍼를 반응 챔버 내의 척 상에 놓거나 반응 챔버 내에서 처리된 웨이퍼를 상기 인출부로 이송시키는 셔틀을 구비한 웨이퍼를 처리하는 웨이퍼 이송 장치에 있어서,
    상기 인입부는 미처리 웨이퍼를 장착하는 웨이퍼 장착부를 구비하여 상기 웨이퍼 장착부에 올려질 웨이퍼의 상부 및 하부 가장자리 일측에 적어도 2개 이상의 발광부 및 발광부로부터 발산된 빛의 유무를 감지하는 수광부를 구비하여 미처리 웨이퍼가 올려져 있는 지의 유무 및 웨이퍼의 틀어짐을 감지하여, 미처리 웨이퍼가 올려져있지 않았거나 웨이퍼가 틀어져 올려진 경우에는 웨이퍼 이송 장치의 작동을 정지시키는 제어부를 구비한 것을 특징으로 하는 웨이퍼 처리 장치.
  2. 미처리 웨이퍼가 장착된 웨이퍼 카세트로부터 미처리 웨이퍼를 인출하여 인출된 웨이퍼를 반응 챔버로 이송시키기 위한 인입부, 반응 챔버 내에서 처리된 웨이퍼를 다음 공정을 위해 준비된 웨이퍼 카세트로 이송시키기 위한 인출부 및 상기 인입부에 안착된 미처리 웨이퍼를 반응 챔버 내의 척 상에 놓거나 반응 챔버 내에서 처리된 웨이퍼를 상기 인출부로 이송시키는 셔틀을 구비한 웨이퍼를 처리하는 웨이퍼 이송 장치에 있어서,
    상기 인출부는 처리된 웨이퍼를 올려놓는 웨이퍼 장착부를 구비하여 상기 웨이퍼 장착부에 올려질 웨이퍼의 상부 및 하부 가장자리 일측에 적어도 2개 이상의 발광부 및 발광부로부터 발산된 빛의 유무를 감지하는 수광부를 구비하여 미처리 웨이퍼가 올려져 있는 지의 유무 및 웨이퍼의 틀어짐을 감지하여, 처리된 웨이퍼가 올려져있지 않았거나 웨이퍼가 틀어져 올려진 경우에는 웨이퍼 이송 장치의 작동을 정지시키는 제어부를 구비한 것을 특징으로 하는 웨이퍼 이송 장치.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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KR100510720B1 (ko) * 2002-10-25 2005-08-30 엘지.필립스 엘시디 주식회사 유리기판 파손감지 수단을 구비한 기판 이송장치
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