KR100855877B1 - 기판 처리 장치 및 그 장치에서의 기판 정렬 방법 - Google Patents
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Abstract
Description
Claims (7)
- 반송챔버들 간의 기판 인계과정에서 기판을 정렬할 수 있는 기판 처리 장치에 있어서:기판이 일시적으로 놓여지는 스테이지를 갖는 버퍼챔버;상기 스테이지로부터 기판을 인출하여 공정 챔버로 제공하는 반송로봇이 구비된 반송 챔버;상기 버퍼챔버에 설치되며, 상기 스테이지에 놓여진 기판이 정상적으로 놓여졌을때 기판 가장자리를 감지하는 복수의 센서들을 갖는 센싱부;상기 센싱부의 센서들로부터 검출신호를 제공받아 기설정된 기판 위치와 일치하지 않는 경우에는 상기 반송로봇을 이용하여 기판의 위치를 보정하는 제어부를 포함하되;상기 제어부는 상기 스테이지로부터 기판을 들어올린 상태에서 상기 센서들이 기판의 가장자리를 모두 감지하도록 기판의 위치를 보정한 후 다시 상기 스테이지에 기판을 올려놓도록 상기 반송로봇을 제어하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
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- 반송챔버들 간의 기판인계 과정에서 기판을 정렬하는 기판 처리방법에 있어서:버퍼 챔버의 스테이지에 기판이 놓여지는 단계;기판이 상기 스테이지에 정상적으로 놓여졌을 때 기판 가장자리를 감지하는 복수의 센서들로부터 검출신호를 발생하는 단계;상기 검출신호를 통해 기판의 위치가 기설정위치로부터 틀어졌는지를 확인하는 단계;기판의 위치가 기설정위치로부터 틀어진 경우에는 반송 챔버에 위치하는 반송로봇을 이용하여 상기 센서들이 기판의 가장자리를 모두 감지하도록 기판의 위치를 보정한 후, 기판을 상기 스테이지에 내려놓는 보정단계;상기 스테이지에 놓여진 기판을 버퍼 챔버에서 인출하여 공정챔버로 로딩하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리방법.
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---|---|---|---|---|
JPH10144771A (ja) * | 1996-11-06 | 1998-05-29 | Sony Corp | 半導体製造装置 |
KR20010081006A (ko) * | 1998-11-17 | 2001-08-25 | 히가시 데쓰로 | 진공 처리 시스템 |
JP2005297072A (ja) * | 2002-05-30 | 2005-10-27 | Rorze Corp | 円盤状物の基準位置教示方法、位置決め方法および搬送方法並びに、それらの方法を使用する円盤状物の基準位置教示装置、位置決め装置、搬送装置および半導体製造設備 |
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