KR20000001966U - 현상 유니트 - Google Patents

Abstract

본 고안은 현상 유니트를 개시한다. 개시된 본 고안은, 현상 챔버(1)의 일측면에 웨이퍼 출입을 위한 개구부(13)가 형성된다. 챔버(1) 세정을 위한 압축 공기가 공급되는 인입구(11)가 챔버(1)의 상부에 형성되고, 인입구(11)는 압축 공기원(2)에 연결된다. 세정을 완료한 공기가 배기되는 인출구(12)가 챔버(1)의 하부에 형성된다. 현상 공정중에, 현상액에 포함된 염기성 기체 및 수분이 개구부(13)를 통해 유출되는 것을 방지하기 위해서, 개구부(13)측 챔버(1)의 상부에 압축 공기원(2)에 연결된 분사구(14)가 형성되고, 이 분사구(14)의 연직 하부 부분인 챔버(1)의 저면에 배기구(15)가 형성되어서, 분사구(14)에서 배기구(15)측으로 압축 공기가 분사되어, 개구부(13)를 차단하는 에어 커튼 작용을 하게 된다. 즉, 현상 공정 중에는 인입구(11) 및 인출구(12)는 폐쇄되고, 분사구(14)와 배기구(15)만이 개방되어서, 염기성 기체 및 수분이 개구부(13)를 통해 챔버(1) 외부로 유출되는 것이 방지된다.

Description

현상 유니트

본 고안은 현상 유니트에 관한 것으로서, 보다 구체적으로는 액정 패널에 소정의 집적회로 패턴을 형성하기 위한 포토리소그래피 공정중의 하나인 현상 공정에 사용되는 현상 유니트에 관한 것이다.

일반적으로, 반도체 제조에 있어서는, 포토리소그래피 방법을 이용하여 글래스에 집적회로의 패턴을 형성한다. 집적회로 소자들의 표면 구조를 결정하는 포토리소그래피 공정은 투명판에 그려진 마스터 패턴(master pattern)을 통해 빛을 쪼인 후, 현상액을 이용해서 현상(develop) 공정을 실행하면, 그 패턴이 웨이퍼에 나타나는 감광막 기술에서 발전된 것으로, 마스크에 자외선 등을 조사하여 웨이퍼의 표면에 도포되어 있는 감광막에 원하는 패턴을 선택적으로 복사하는 노광(expose) 공정을 포함한다.

이러한 현상 공정은 현상 유니트에서 실시되는데, 종래의 현상 유니트가 도 1에 사시도로 도시되어 있다.

도시된 바와 같이, 웨이퍼는 현상 유니트의 챔버(1)에서 현상되는데, 챔버(1)의 우측면에는 웨이퍼를 반송하는 로보트 암의 출입을 위한 개구부(13)가 형성되어 있다. 또한, 챔버(1) 내부를 세척하는 공기의 인입구(11)가 챔버(1)의 상부에, 인출구(12)는 챔버(1)의 하부에 설치되어 있다. 인입구(11)는 압축 공기원(2)에 연결되어 있다.

상기와 같이 구성되어서, 인입구(11) 및 인출구(12)가 폐쇄된 상태에서 현상 공정이 진행되고, 웨이퍼를 개구부(13)를 통해 반입 또는 반출하거나 현상액을 세척하는 중에 인입구(11) 및 인출구(12)가 개방되어, 압축 공기가 챔버(1)내로 공급된 후 인출구(12)를 통해 배기된다.

그런데, 현상 공정중에, 현상액에 포함된 염기성 기체 및 수분이 챔버(1) 내부에 흐르는 유체의 기류에 의해 개구부(13)를 통해 챔버(1) 외부로 유출되는 문제점이 있었다. 챔버(1) 외부로 유출된 염기성 기체는 다른 장비에 있는 웨이퍼의 패턴 형상을 나쁘게 하며, 수분은 감광막의 고착력을 약화시키게 된다.

따라서, 본 고안은 상기와 같은 문제점을 해소하기 위해 안출된 것으로서, 현상 공정중에 염기성 기체 및 수분이 개구부를 통해 챔버 외부로 유출되지 않도록 하여, 다른 웨이퍼의 패턴 형상이 나빠지고 감광막의 고착력이 약화되는 것을 방지할 수 있는 현상 유니트를 제공하는데 목적이 있다.

도 1은 종래의 현상 유니트를 나타낸 사시도

도 2는 본 고안에 따른 현상 유니트를 나타낸 사시도

- 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 -

1 - 현상 챔버 2 - 압축 공기원

11 - 인입구 12 - 인출구

13 - 개구부 14 - 분사구

15 - 배기구

상기와 같은 목적을 달성하기 위해 본 고안에 따른 현상 유니트는 다음과 같은 구성으로 이루어진다.

현상 챔버의 일측면에 웨이퍼 출입을 위한 개구부가 형성된다. 챔버 세정을 위한 압축 공기가 공급되는 인입구가 챔버의 상부에 형성되고, 인입구는 압축 공기원에 연결된다. 세정을 완료한 공기가 배기되는 인출구가 챔버의 하부에 형성된다. 현상 공정중에, 현상액에 포함된 염기성 기체 및 수분이 개구부를 통해 유출되는 것을 방지하기 위해서, 개구부측 챔버의 상부에 압축 공기원에 연결된 분사구가 형성되고, 이 분사구의 연직 하부 부분인 챔버의 저면에 배기구가 형성되어서, 분사구에서 배기구측으로 압축 공기가 분사되어, 개구부를 차단하는 에어 커튼 작용을 하게 된다. 즉, 현상 공정 중에는 인입구 및 인출구는 폐쇄되고, 분사구와 배기구만이 개방되어서, 염기성 기체 및 수분이 개구부를 통해 챔버 외부로 유출되는 것이 방지된다.

상기된 본 고안의 구성에 의하면, 개구부측 챔버의 상하부면에 압축 공기원에 연결된 분사구에서 분사되는 압축 공기가 염기성 기체 및 수분이 개구부로 유출되지 않도록 차단하는 에어 커튼 작용을 하게 된다.

이하, 본 고안의 바람직한 실시예를 첨부도면에 의거하여 상세히 설명한다.

도 2는 본 고안에 따른 현상 유니트를 나타낸 사시도이다.

도시된 바와 같이, 현상 챔버(1)의 우측면에는 웨이퍼 출입을 위한 개구부(13)가 형성된다. 현상 챔버(1)의 중앙 상부면에는, 챔버(1) 세정을 위한 압축 공기가 공급되는 인입구(11)가 형성되고, 따라서 인입구(11)는 압축 공기원(2)에 연결된다. 세정을 완료한 공기가 배출되는 인출구(12)는 인입구(11)의 연직 하부 부분인 챔버(1)의 하부면에 형성된다. 인입구(11)와 인출구(12)는 현상 공정 중에는 폐쇄된다.

한편, 개구부(13)측 챔버(1)의 상부면에는 상기 압축 공기원(2)에 연결된 분사구(14)가 형성되고, 이 분사구(14)의 연직 하부 부분인 챔버(1)의 하부면에 배기구(15)가 형성된다. 분사구(14)와 배기구(15)는 현상 공정 중에 개방된다.

상기와 같이 구성되어서, 현상 공정 중에는 인입구(11)와 인출구(12)는 폐쇄되고, 분사구(14)와 배기구(15)는 개방된다. 따라서, 분사구(14)로부터 압축 공기가 챔버(1)내로 분사되어 배기구(15)를 통해 배출되므로써, 압축 공기가 개구부(13)를 차단하는 에어 커튼 작용을 하게 된다. 그러므로, 현상 공정 중에, 현상액에 포함된 염기성 기체 및 수분이 압축 공기에 의해 차단되어, 개구부(13)를 통해 챔버(1)의 외부로 유출되지 않게 된다.

한편, 현상 공정 후에는, 반대로 인입구(11)와 인출구(12)는 개방되고, 분사구(14)와 배기구(15)는 폐쇄된다. 따라서, 인입구(11)를 통해 챔버(1)내로 공급된 압축 공기는 챔버(1)내를 세정하고, 인출구(12)를 통해 배출된다.

상기된 바와 같이 본 고안에 의하면, 현상 공정 중에 현상액에 포함된 염기성 기체 및 수분이 분사구(14)에서 분사되는 압축 공기에 의해 차단되므로, 염기성 기체 및 수분이 개구부(13)를 통해 챔버(1) 외부로 유출되어, 다른 웨이퍼의 패턴 형상을 나쁘게 하거나 감광막의 고착력을 약화시키는 것이 방지된다.

한편, 본 고안은 상술한 특정의 바람직한 실시예에 한정되지 아니하며, 청구범위에서 청구하는 본 고안의 요지를 벗어남이 없이 당해 고안이 속하는 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 누구든지 다양한 변경 실시가 가능할 것이다.

Claims (1)

1. 현상 공정이 실시되는 챔버의 일측면에 웨이퍼 출입을 위한 개구부가 형성되고, 상기 챔버 세정을 위한 압축 공기가 공급되는 인입구가 챔버의 중앙 상부면에 형성되며, 상기 인입구는 압축 공기원에 연결되고, 세정을 완료한 압축 공기가 배출되는 인출구가 상기 챔버의 하부면에 형성되어, 상기 인입구와 인출구는 현상 공정중에 폐쇄되는 현상 유니트에 있어서,

   상기 개구부측 챔버의 상부면에, 상기 압축 공기원에 연결된 분사구가 형성되고, 상기 분사구의 연직 하부 부분인 챔버의 하부면에, 상기 분사구에서 분사된 압축 공기가 배기되는 배기구가 형성되어, 상기 분사구와 배기구는 현상 공정 중에 개방되어, 현상액에 포함된 염기성 기체 및 수분이 상기 개구부를 통해 챔버 외부로 유출되지 않도록, 상기 분사구에서 분사되는 압축 공기가 상기 개구부를 차단하는 것을 특징으로 하는 현상 유니트.